JPH0331961Y2 - - Google Patents

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JPH0331961Y2
JPH0331961Y2 JP1984044366U JP4436684U JPH0331961Y2 JP H0331961 Y2 JPH0331961 Y2 JP H0331961Y2 JP 1984044366 U JP1984044366 U JP 1984044366U JP 4436684 U JP4436684 U JP 4436684U JP H0331961 Y2 JPH0331961 Y2 JP H0331961Y2
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liquid
protective layer
substrate
photoresist
tank
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JP1984044366U
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JPS60156562U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、保護層で被覆されたフオトレジスト
基板から、該保護層を完全に除去するための処理
装置に関するものである。
従来フオトレジスト基板は、銅張積層板を基層
として、その両面または片面にフオトレジスト層
と保護層とを順に積層した構成よりなり、これに
フオトマスクを通して紫外光などを露光したの
ち、保護層を除去し、ついで現像、エツチング処
理を行うのが一般的方法である。
しかして、従来の保護層としては、水または有
機溶剤に可溶な物質が使用れており、適当間隔を
おいて設けられた上下2列の回転ローラー群の間
をこれらフオトレジスト基版が搬送され、その間
にフオトレジスト基板の両面よりノズルを介して
水または有機溶剤を噴射して該保護層を溶解除去
する方法が知られている。
この方法によると、保護層の除去そのものは円
滑に行ない得るものの、液中に溶解した保護層物
質の濃度が時間の経過と共に上昇し、その廃棄処
理をいかにするかが新たな問題となつてきた。
本出願人は、かかる問題点を解決すべく検討し
た結果、保護層として水に対して溶溶解すること
なく膨潤するポリビニルアルコール系樹脂を用
い、該保護層を水と接触せしめるときは、保護層
が溶解することなく膨潤することにより容易に脱
落除去され、しかも水中にはポリビニルアルコー
ル系樹脂が溶解しないので、水の廃棄処理の問題
が解決されることを見出し、特許出願行つた。
ところが、この発明を前記のごとき処理装置を
使つて実施したところ、除去された保護フイルム
がときに下列の回転ローラーにまつわりついて連
続運転の防げとなつたり、保護層フイルムが基板
に付着したまま次工程の現像槽に搬入されるなど
の問題点が明らかとなつてきた。
本出願人は、かかる問題点を解決すべく検討を
重た結果本考案を完成するに至つたのである。
本考案の装置を第1図、第2図、第3図、第4
図、第5図、第6図、第7図及び第8図にもとづ
いて説明する。
第1図は、保護層に対て膨潤性を有する液体を
基板の搬送方向に対して逆流させる本考案の装置
の側面図、第2図及び第3図は保護層に対して膨
潤性を有する液体を基板の搬送方向に対して直角
方向に流動させる本考案の装置の側面図及び正面
図である。
第4図及び第5図は、本考案の装置における回
転プーリーによる基板の搬送方法を表す正面図、
第6図及び第7図は各々第4図及び第5図に対応
する平面図である。第第8図は液体または気体の
噴出孔を有する回転プーリーの構造を示す。
本考案の装置は、保護層に対して膨潤性を有す
る液体で満たされた槽1と、保護層で被覆された
フオトレジスト基板を該液体中に搬入する回転ロ
ール群またはエンドレスベルト2と、該液体中に
搬入された基板を両端から挟んで液体中を搬送す
る送り回転プーリー群3と、剥離した保護層を槽
1外へ排出するためのメツシユコンベア4と、槽
1中の該液体を基板の搬送方向に対して逆流また
は直角方向に流動させる装置とを組合わせてなる
ことを特徴とする保護層で被覆されたフオトレジ
スト基板から保護層を完全に剥離除去するための
フオトレジスト基板の処理装置である。
本考案の装置の特長は、上下2列の回転ローラ
ー群によりフオトレジスト基板が搬送される間に
該基板に対して液体を噴射する従来の装置に比較
して、保護層の剥離速度が早く、処理速度を上げ
ることまたは装置の小型化が可能なことであり、
また、搬送用回転ロールに剥離した保護フイルム
がまつわりつくこともないので、連続運転を妨げ
ないこと、更に保護フイルムは本考案の装置内で
完全に剥離除去されるので次工程の現像標に搬入
されるトラブルが防止されることである。
さらに本考案の装置を詳細に説明する。
フオトレジスト基板は、通常約20〜50cm×約10
〜30cm程度の4角形の自体保持性を有する板状物
であり、露光後送りローラーまたは溝付のラツク
により送られてくる。
本考案の装置では、先ず、保護層で被覆された
フオトレジスト基板を回転ロール群またはエンド
レスベルト2により保護層に対して膨潤性を有す
る液体で満たされた槽1中に搬入する。
回転ロール群の中の大部分のロールあるいはエ
ンドレスベルトは保護層に対して膨潤性を有する
液体中に浸漬されるので、これら材質は、該液体
に犯されないことが必要であり、ステンレス、硬
質塩ビ、ナイロン、硬質ゴム、テフロンなどが好
適である。
次いで、該基板を送り回転プーリーを用いて両
端から挟み該液体中を搬送し、この間に槽1中の
液体を基板の搬送方向に対して、逆流または直角
方向に流動させて保護層の膨潤と基板からの脱離
を促進させる。
送り回転プーリー及び回転プーリーによる基板
の搬送方法としては、第4図、第5図、第6図及
び第7図に示した構造の回転プーリー及び搬送方
法がいずれも採用し得るが、これらに限定される
ものではない。また、膨潤・剥離したフイルム状
の保護層が回転プーリーに付着してまつわり付く
ことを完全に防止するために第8図に示す如くプ
ーリーを中空構造として側面に液体または気体の
噴出孔を設けた構造とすることもできる。
送り回転プーリーの材質は、耐蝕性、耐摩耗性
の必要性からステンレス、硬質塩ビ、ナイロン、
硬質ゴム、テロンが好ましい。
基板の巾に変更に対する2列の送り回転プーリ
ー間距離の調節は中央より左右に逆方向のネジ構
造を有する間隔調節バーを用いて、2列の送り回
転プーリー群3を固定するバー間の距離を適宜変
更して行うことができる。
基板から脱離したフイルム状の保護層は、液流
によつてメツシユ・コンベア4に搬送され捕捉さ
れて系外に排出され受器に集められる。
基板から脱離したフイルム状の保護層が基板に
再付着して同伴されることを防止しあるいはメツ
シユ・コンベア4に確実に捕捉されるように適当
な位置に邪魔板6を設けることも有効である。
基板から脱離したフイルムの保護層を分離・除
去した保護層に対して膨潤性を有する液体は、ポ
ンプ7により循環・再使用される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、保護層に対して膨潤性を有する液体
を基板の搬送方向に対して逆流させる本考案の装
置の側面図、第2図及び第3図は保護層に対して
膨潤性を有する液体を基板の搬送方向に対して直
角方向に流動させる本考案の装置の側面図及び正
面図であり、1は上記液体で満たされた槽、2は
保護層で被覆されたフオトレジスト基板8を上記
槽1中に搬入するための回転ロール群またはエン
ドレスベルト、3は液体中に搬入された基板を両
端から挟んで該液体中を搬送する送り回転プーリ
ー群、4は基板から脱離したフイルム状の保護層
を捕捉して系外に排出するメツシユ・コンベア、
5は保護層が剥離除去された基板を次工程に搬送
するための回転ローラー、6は邪魔板、4はポン
プである。第4図、第5図は本考案における送り
回転プーリーによる基板の搬送方法を示す正面
図、第6図及び第7図は、各々第4図及び第5図
に対応する平面図である。第8図は、液体または
気体の噴出孔を有する回転プーリーを示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 保護層で被覆されたフオトレジスト基板を、該
    保護層に対して膨潤性を有する液体中に導き該液
    体中を搬送する間に、該液体を基板の搬送方向に
    対して逆流または直角方向に流動させることによ
    つて該保護層を剥離する装置において、保護層に
    対して膨潤性を有する液体で満たされた槽1と保
    護層で被覆されたフオトレジスト基板を該液体中
    に搬入する回転ロール群またはエンドレスベルト
    2と、該液体中に搬入された基板を両端から挟ん
    で該液体中を搬送する送り回転プーリー群3と、
    槽1中の該液体を基板の搬送方向に対して逆流ま
    たは直角方向に流動させる装置7及び剥離された
    保護層を捕捉し槽1外へ排出するために、搬送面
    が膨潤性を有する液体の流動方向と対向する様に
    配置されたメツシユコンベア4とを組合わせてな
    ることを特徴とする保護層で被覆されたフオトレ
    ジスト基板から、保護層を完全に剥離除去するた
    めのフオトレジスト基板の処理装置。
JP4436684U 1984-03-27 1984-03-27 フオトレジスト基板の処理装置 Granted JPS60156562U (ja)

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JP4436684U JPS60156562U (ja) 1984-03-27 1984-03-27 フオトレジスト基板の処理装置

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JP4436684U JPS60156562U (ja) 1984-03-27 1984-03-27 フオトレジスト基板の処理装置

Publications (2)

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JPS60156562U JPS60156562U (ja) 1985-10-18
JPH0331961Y2 true JPH0331961Y2 (ja) 1991-07-08

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ID=30556869

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58178348A (ja) * 1982-04-13 1983-10-19 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5943730Y2 (ja) * 1979-04-14 1984-12-26 東京応化工業株式会社 ポジ型ホトレジスト現像装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58178348A (ja) * 1982-04-13 1983-10-19 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成法

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JPS60156562U (ja) 1985-10-18

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