JPS59142551A - フオトレジスト基板の処理装置 - Google Patents
フオトレジスト基板の処理装置Info
- Publication number
- JPS59142551A JPS59142551A JP1672083A JP1672083A JPS59142551A JP S59142551 A JPS59142551 A JP S59142551A JP 1672083 A JP1672083 A JP 1672083A JP 1672083 A JP1672083 A JP 1672083A JP S59142551 A JPS59142551 A JP S59142551A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- protective layer
- photoresist substrate
- roller
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフォトレジスト基板からその保護層を除去する
だめの改良された処理装置に関するものである。
だめの改良された処理装置に関するものである。
従来フォトレジスト基板は銅張積層板を基層とし、その
片面または両面にレジストインキ層と保護層とを順に積
層した構成よりなり、これにパターンを露光した後、保
護層を除去し、ついで現像、エツチング処理するのが一
般的方法である。
片面または両面にレジストインキ層と保護層とを順に積
層した構成よりなり、これにパターンを露光した後、保
護層を除去し、ついで現像、エツチング処理するのが一
般的方法である。
しかして従来５の保殺層としては水または有機溶剤に可
溶性の物質が使用されており、適当間隔を置いて設けら
れた上下２列の回転ローラーの間をこれらフォトレジス
ト基板が搬送され、その間にフォトレジスト基板の上下
両面よりノズルから水または有機溶剤等の液体を噴射し
て前記保護層を溶解除去する方法が知られていた。この
方法によると保護層の除去そのものは円滑に行ないうる
ものの、液中に保＠層物質が溶解し、時間の経過ととも
にその酸度が上昇し、廃棄処理をいかにするかが新たな
問題となっている。
溶性の物質が使用されており、適当間隔を置いて設けら
れた上下２列の回転ローラーの間をこれらフォトレジス
ト基板が搬送され、その間にフォトレジスト基板の上下
両面よりノズルから水または有機溶剤等の液体を噴射し
て前記保護層を溶解除去する方法が知られていた。この
方法によると保護層の除去そのものは円滑に行ないうる
ものの、液中に保＠層物質が溶解し、時間の経過ととも
にその酸度が上昇し、廃棄処理をいかにするかが新たな
問題となっている。
本出願人はかかる問題点を解決すべく検討を重ねた結果
、保護層として水に対して溶解するととなく膨潤するポ
リビニルアルコール系樹脂を用い、これを水と接触せし
めるときは保護層が溶解することなく膨潤することによ
り容易に脱落除去され、しかも水中にはポリビニルアル
コール系樹脂が溶解しないので水の廃棄処理の問題が解
決されることを見出し特許出願（特許５７−８６８９９
）を行なった。ところがこの発明を前記のごとき処理装
置を使って実施したところ、除去された保護フィルム片
がときに回転ローラーにまつわり付き、連続運転の妨げ
となるという別の問題点が明らかとなった。
、保護層として水に対して溶解するととなく膨潤するポ
リビニルアルコール系樹脂を用い、これを水と接触せし
めるときは保護層が溶解することなく膨潤することによ
り容易に脱落除去され、しかも水中にはポリビニルアル
コール系樹脂が溶解しないので水の廃棄処理の問題が解
決されることを見出し特許出願（特許５７−８６８９９
）を行なった。ところがこの発明を前記のごとき処理装
置を使って実施したところ、除去された保護フィルム片
がときに回転ローラーにまつわり付き、連続運転の妨げ
となるという別の問題点が明らかとなった。
本発明者はかかる問題点を解決すべく検討を重ねた結果
、本発明に到達したものである。
、本発明に到達したものである。
本発明の装置の全体を第１図にもとづいて説明するＯ
フォトレジスト基板６は装置の入口６よす入り、上列回
転ローラー１および下列回転ローラー２の間に挾まれて
出ロアより搬出される。搬送される間にノズル群４およ
び５から液体が噴射され、そのためフォトレジスト基板
表面に積層されている保護層は膨潤してフォトレジスト
基板６から脱離し、液体と共に落下して８に集合し、液
体のみは分離すれてポンプ９よりノズル群４および５に
循環する。保護層を脱離したフォトレジスト基板は７よ
り取出される。ただし図面はその一例を示すにすぎず、
必らずしもこれに限定されるものではない。
転ローラー１および下列回転ローラー２の間に挾まれて
出ロアより搬出される。搬送される間にノズル群４およ
び５から液体が噴射され、そのためフォトレジスト基板
表面に積層されている保護層は膨潤してフォトレジスト
基板６から脱離し、液体と共に落下して８に集合し、液
体のみは分離すれてポンプ９よりノズル群４および５に
循環する。保護層を脱離したフォトレジスト基板は７よ
り取出される。ただし図面はその一例を示すにすぎず、
必らずしもこれに限定されるものではない。
フォトレジスト基板は通常約２０〜５０Ｇ×約１０〜５
０σ程度の四角形の自体保持性を有するシート状物であ
り、これは回転ローラー１および２の間に挾まれてその
回転力により装置内を搬送される。したがって回転ロー
ラーの間隔はフォトレジスト基板の大きさによって決定
され、少なくともフォトレジスト基板の中以下の間隔嬢
必要となる。一般に下列ローラー２が動力により回転駆
動され、上列ローラー１は自重により回転ローラー２上
に載置され、互いに反対方向に回転する。
０σ程度の四角形の自体保持性を有するシート状物であ
り、これは回転ローラー１および２の間に挾まれてその
回転力により装置内を搬送される。したがって回転ロー
ラーの間隔はフォトレジスト基板の大きさによって決定
され、少なくともフォトレジスト基板の中以下の間隔嬢
必要となる。一般に下列ローラー２が動力により回転駆
動され、上列ローラー１は自重により回転ローラー２上
に載置され、互いに反対方向に回転する。
上下ローラー１および２は対に設置するのが通常である
が、これに限定されるものではなく上列ローラー１の一
部は有害することができる。第１図は上列ローラ−１０
半分を有害した場合を示している。回転ローラー１およ
び２の材質は何れも金属（ステンレス、アルミニタム等
）、プラスチックス（ゴム、塩化ビニル樹脂、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）などが採用さ
れる。下列回転ローラー２は第２図に示すように内部が
空洞になっており、かつその表面に空洞部からローラー
表面に貫通する小孔１２が適当間隔を置いて設けられて
いる。そしてローラー２の一端よシ加圧した液体がロー
ラー空洞内部に導入され、小孔１０を経てローラー２の
表面に噴出する。噴出する際の液流および圧力によって
脱離した保護層がローラー表面にまつわり付いたとして
も直ちに除去されるのである。小孔の径は通常０．６〜
３餌、好ましくは１，０〜２．０間の範囲から選択され
その間隔は１〜１０硼の範囲から適当な値が選択される
。ローラー２の空洞内に導入する液体は一般に０．０５
〜２即／−の範囲で加圧される。上列ローラー１と下列
ローラー２とは同一の径であってもよいが、上列ローラ
ー１を１列ローラー２よりも１．１〜２倍程度にするこ
とが膨潤したフィルムの上列ローラー１への巻付きを防
ぐ点で好ましい。
が、これに限定されるものではなく上列ローラー１の一
部は有害することができる。第１図は上列ローラ−１０
半分を有害した場合を示している。回転ローラー１およ
び２の材質は何れも金属（ステンレス、アルミニタム等
）、プラスチックス（ゴム、塩化ビニル樹脂、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）などが採用さ
れる。下列回転ローラー２は第２図に示すように内部が
空洞になっており、かつその表面に空洞部からローラー
表面に貫通する小孔１２が適当間隔を置いて設けられて
いる。そしてローラー２の一端よシ加圧した液体がロー
ラー空洞内部に導入され、小孔１０を経てローラー２の
表面に噴出する。噴出する際の液流および圧力によって
脱離した保護層がローラー表面にまつわり付いたとして
も直ちに除去されるのである。小孔の径は通常０．６〜
３餌、好ましくは１，０〜２．０間の範囲から選択され
その間隔は１〜１０硼の範囲から適当な値が選択される
。ローラー２の空洞内に導入する液体は一般に０．０５
〜２即／−の範囲で加圧される。上列ローラー１と下列
ローラー２とは同一の径であってもよいが、上列ローラ
ー１を１列ローラー２よりも１．１〜２倍程度にするこ
とが膨潤したフィルムの上列ローラー１への巻付きを防
ぐ点で好ましい。
つぎに上部ノズル群４および下部ノズル群５について説
明する。
明する。
本発明でいうノズルはパイプに単に小孔を穿っただげ４
よく、また所謂液体を噴霧状に噴射するノズルであって
もよい。上部ノズル群４は主としてフォトレジスト基板
６の表面に液体を噴射するノズル群４′と主として上列
回転ローラー１の表面に液体を噴射するノズル群４“と
に分ける。そして４′はフルコーン型（円錐形）ノズル
を４“はフラット型（線状）ノズルを用い、かつ４“は
噴射させた液体回転ローラー１の表面、なかんづくその
回転前面部に当るような角度を有するのが望ましい。
よく、また所謂液体を噴霧状に噴射するノズルであって
もよい。上部ノズル群４は主としてフォトレジスト基板
６の表面に液体を噴射するノズル群４′と主として上列
回転ローラー１の表面に液体を噴射するノズル群４“と
に分ける。そして４′はフルコーン型（円錐形）ノズル
を４“はフラット型（線状）ノズルを用い、かつ４“は
噴射させた液体回転ローラー１の表面、なかんづくその
回転前面部に当るような角度を有するのが望ましい。
それによって上部ローラーへの膨潤フィルムの巻付きを
防止するという効果を奏しうる。また下部ノズル群５は
特に限定はないが通常はフルコーン型ノズルを用い、主
としてフォトレジスト基板乙の表面に噴射する。下部ノ
ズル群５は装置の全中にわたって設ける必要はなく、前
半部のみでも差支えない。かくして脱離、除去した保護
層は液体とともに落下して８に集められ、ついで金網、
多孔板等によって保護層と液体とに分離し、液体はポン
プ９によってノズル４および５に循環使用する。
防止するという効果を奏しうる。また下部ノズル群５は
特に限定はないが通常はフルコーン型ノズルを用い、主
としてフォトレジスト基板乙の表面に噴射する。下部ノ
ズル群５は装置の全中にわたって設ける必要はなく、前
半部のみでも差支えない。かくして脱離、除去した保護
層は液体とともに落下して８に集められ、ついで金網、
多孔板等によって保護層と液体とに分離し、液体はポン
プ９によってノズル４および５に循環使用する。
第１図は本発明の処理装置の全体を示す図であり、１け
上列回転ローラー、２は下列回転ローラー、６は７オト
レジスト基板、４は上部ノズル群、５は下部ノズル群、
６はフォトレジスト基板の入口、７はフォトレジスト基
板の出口、８は脱離した保護層の収集部、９は液体循環
ポンプを示す。 また第２図は下列回転ローラーの見取図であり、１２は
液体噴出用小孔を示す。 特許出願人 日本合成化学工業株式会社金属化学工業
株式会社 手続補正書働側 昭和５８年６月２日 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１６７２０号 ２、発明の名称 ７オトレジスト基板の処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市北区野崎町９番６号４、補正命令
の日付（発送日） 昭和５８年５月３１日 ５、補正の対象 図面 ６、補正の内容 図面の浄書（内容に変更なし） 以上 手続補正書（自制 御、事件の表示 昭和５８年特許願第１６７２０号 ２、発明の名称 ７オトレジスト基板の処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市北区野崎町９番６号４、補正の対
象 明細書の図面の簡単な説明の欄及び図面５、補正の内容 １、明細書第７ページ第１５行の「１２」を「１０」と
訂正する。 ２、別紙の通り、図面を訂正する。
上列回転ローラー、２は下列回転ローラー、６は７オト
レジスト基板、４は上部ノズル群、５は下部ノズル群、
６はフォトレジスト基板の入口、７はフォトレジスト基
板の出口、８は脱離した保護層の収集部、９は液体循環
ポンプを示す。 また第２図は下列回転ローラーの見取図であり、１２は
液体噴出用小孔を示す。 特許出願人 日本合成化学工業株式会社金属化学工業
株式会社 手続補正書働側 昭和５８年６月２日 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１６７２０号 ２、発明の名称 ７オトレジスト基板の処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市北区野崎町９番６号４、補正命令
の日付（発送日） 昭和５８年５月３１日 ５、補正の対象 図面 ６、補正の内容 図面の浄書（内容に変更なし） 以上 手続補正書（自制 御、事件の表示 昭和５８年特許願第１６７２０号 ２、発明の名称 ７オトレジスト基板の処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市北区野崎町９番６号４、補正の対
象 明細書の図面の簡単な説明の欄及び図面５、補正の内容 １、明細書第７ページ第１５行の「１２」を「１０」と
訂正する。 ２、別紙の通り、図面を訂正する。
Claims (1)
- 適当間隔を置いて設けた上下回転ローラー１および２の
間を表面が保護層で被覆されたフォトレジスト基板己が
搬送され、その間に７オトレシスト基板６の上下両ｉ工
Ｉよりノズル群４．５から液体を噴射して保護層を脱離
除去するフォトレジスト基板の処理装置において、下列
回転ローラー２はその表面に液体噴出用小孔を有するこ
と、上面ノズル群４は主としてフォトレジスト基板乙の
表面に噴射するノズル４′と主として回転ローラー１の
表面に噴射するノズル４“とからなることを特徴とする
フォトレジスト基板の処理装置、）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1672083A JPS59142551A (ja) | 1983-02-02 | 1983-02-02 | フオトレジスト基板の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1672083A JPS59142551A (ja) | 1983-02-02 | 1983-02-02 | フオトレジスト基板の処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59142551A true JPS59142551A (ja) | 1984-08-15 |
| JPH0256656B2 JPH0256656B2 (ja) | 1990-11-30 |
Family
ID=11924096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1672083A Granted JPS59142551A (ja) | 1983-02-02 | 1983-02-02 | フオトレジスト基板の処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59142551A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH021864A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版処理装置 |
| WO1996020434A1 (en) * | 1994-12-27 | 1996-07-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method and apparatus for treating developer for pigment-containing nonsilver photosensitive material, and automatic developing machine |
-
1983
- 1983-02-02 JP JP1672083A patent/JPS59142551A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH021864A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版処理装置 |
| WO1996020434A1 (en) * | 1994-12-27 | 1996-07-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method and apparatus for treating developer for pigment-containing nonsilver photosensitive material, and automatic developing machine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0256656B2 (ja) | 1990-11-30 |
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