JPH0328811B2 - - Google Patents
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- JPH0328811B2 JPH0328811B2 JP57063378A JP6337882A JPH0328811B2 JP H0328811 B2 JPH0328811 B2 JP H0328811B2 JP 57063378 A JP57063378 A JP 57063378A JP 6337882 A JP6337882 A JP 6337882A JP H0328811 B2 JPH0328811 B2 JP H0328811B2
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- deflection
- data
- electron beam
- conversion circuit
- correction
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(1) 発明の技術分野
本発明は、比較的大きな領域に対して電子ビー
ムを偏向する第１の偏向（以下、大偏向と略記）
装置と、比較的小さな領域に対して電子ビームを
偏向する第２の偏向（以下小偏向と略記）装置の
両方を備えた電子ビーム露光装置を用いた電子ビ
ーム露光方法に関する。
ムを偏向する第１の偏向（以下、大偏向と略記）
装置と、比較的小さな領域に対して電子ビームを
偏向する第２の偏向（以下小偏向と略記）装置の
両方を備えた電子ビーム露光装置を用いた電子ビ
ーム露光方法に関する。
(2) 技術の背景
電子ビーム露光装置には電磁偏向方式や、静電
偏向方式がある。電磁偏向方式は、磁界によつて
ビームを偏向させる方式であり、大きな偏向を行
なうことができ、すなわち偏向利得が大きく、ま
た偏向精度も良かつた。しかしながら電磁偏向方
式は磁界を発生させるためにコイルを用いてお
り、前記コイルの影響によつて高速偏向を行なう
ことが困難であつた。静電偏向方式は高速偏向が
可能であり、さらに精度も良いが、偏向感度が低
いため大きな偏向を得ることが難しかつた。
偏向方式がある。電磁偏向方式は、磁界によつて
ビームを偏向させる方式であり、大きな偏向を行
なうことができ、すなわち偏向利得が大きく、ま
た偏向精度も良かつた。しかしながら電磁偏向方
式は磁界を発生させるためにコイルを用いてお
り、前記コイルの影響によつて高速偏向を行なう
ことが困難であつた。静電偏向方式は高速偏向が
可能であり、さらに精度も良いが、偏向感度が低
いため大きな偏向を得ることが難しかつた。
前記二つの偏向方式の欠点をおぎなう方法とし
て、電磁偏向方式と静電偏向方式の同時使用があ
る。
て、電磁偏向方式と静電偏向方式の同時使用があ
る。
第１図は前記電磁偏向方式と静電偏向方式を同
時に使用した電子ビーム露光装置の構成図であ
る。カソード１、グリツド２、アノード３より成
る電子銃４によつて発射した電子ビーム５は第１
スリツト６、第１レンズ７、ブランキング装置
８、第２スリツト９、第２レンズ１０、第３レン
ズ１１を通過して短形の電子ビームになる。前記
短形の電子ビームを電磁偏向器に、静電偏向器１
３で偏光させ対物レンズ１４を介して電子ビーム
Ｗに照射する。第１図に示した電子ビーム露光装
置は、比較的大面積を有する第１の領域（以下、
大領域と略記）に対して電子ビームを偏向し得る
電磁偏向器と、比較的小面積を有する第２の領域
（以下、小領域と略記）に対して電子ビームを偏
向する静電偏向器とを備え、前記電磁偏向器によ
つて、露光の基準位置を設定し、次いで前記基準
位置を基準として前記静電偏向器によつて電子ビ
ームを高速偏向させて露光処理を行なう特徴を有
している。
時に使用した電子ビーム露光装置の構成図であ
る。カソード１、グリツド２、アノード３より成
る電子銃４によつて発射した電子ビーム５は第１
スリツト６、第１レンズ７、ブランキング装置
８、第２スリツト９、第２レンズ１０、第３レン
ズ１１を通過して短形の電子ビームになる。前記
短形の電子ビームを電磁偏向器に、静電偏向器１
３で偏光させ対物レンズ１４を介して電子ビーム
Ｗに照射する。第１図に示した電子ビーム露光装
置は、比較的大面積を有する第１の領域（以下、
大領域と略記）に対して電子ビームを偏向し得る
電磁偏向器と、比較的小面積を有する第２の領域
（以下、小領域と略記）に対して電子ビームを偏
向する静電偏向器とを備え、前記電磁偏向器によ
つて、露光の基準位置を設定し、次いで前記基準
位置を基準として前記静電偏向器によつて電子ビ
ームを高速偏向させて露光処理を行なう特徴を有
している。
(3) 従来技術と問題点
比較的大きな領域に対して電子ビームを偏向す
る大偏向方式と比較的小さな領域に対して電子ビ
ームを偏向する小偏向方式の両方を備えた電子ビ
ーム露光装置を用いて大きい範囲を高精度で露光
するには、ビツト数の多いデジタル−アナログ変
換回路（以下、DACと略記）が必要であるが、
市販のDACとしては高々18ビツトのものしか入
手できない。18ビツトのDACを用いて、10mmの
フイールドに対して電磁偏向器を用いてビーム偏
向を行なう場合には、DACの1LSBは0.05ｍに対
応することになる。次に、18ビツト以下のDAC
を用いた従来の電子ビームの偏向補正方法を説明
する。第２図は従来の電子ビームの偏向補正方法
を示す図である。尚、10mmフイールドに対して大
領域用DACを用いてビームを電磁偏向し、0.2mm
フイールドに対して小領域用DACを用いてビー
ムを静電偏向するものとする。
る大偏向方式と比較的小さな領域に対して電子ビ
ームを偏向する小偏向方式の両方を備えた電子ビ
ーム露光装置を用いて大きい範囲を高精度で露光
するには、ビツト数の多いデジタル−アナログ変
換回路（以下、DACと略記）が必要であるが、
市販のDACとしては高々18ビツトのものしか入
手できない。18ビツトのDACを用いて、10mmの
フイールドに対して電磁偏向器を用いてビーム偏
向を行なう場合には、DACの1LSBは0.05ｍに対
応することになる。次に、18ビツト以下のDAC
を用いた従来の電子ビームの偏向補正方法を説明
する。第２図は従来の電子ビームの偏向補正方法
を示す図である。尚、10mmフイールドに対して大
領域用DACを用いてビームを電磁偏向し、0.2mm
フイールドに対して小領域用DACを用いてビー
ムを静電偏向するものとする。
同図に於いて、１５はデータ発生装置、１８は
18ビツトのDAC、２０は補正変換回路、２３は
16ビツトのDAC、２６は増幅器、２７は電磁偏
向器、３０は小領域変換回路、３３は14ビツトの
DAC、３５は増幅器、３６は静電偏向器をそれ
ぞれ示す。
18ビツトのDAC、２０は補正変換回路、２３は
16ビツトのDAC、２６は増幅器、２７は電磁偏
向器、３０は小領域変換回路、３３は14ビツトの
DAC、３５は増幅器、３６は静電偏向器をそれ
ぞれ示す。
データ発生装置１５は10mmフイールド内の位置
座標を0.05μｍ単位で表わした18ビツトの大領域
データ出力（Ｘ、Ｙ）１６を形成し、DAC１８
の入力１７として転送する。一方、データ発生装
置１５の大領域データ出力（Ｘ、Ｙ）１６は補正
変換回路２０の入力１９にも入り、補正変換回路
２０の変換出力（Ox、OY）２１はDAC２３の入
力２２に入る。前記DAC１８の出力２４及び前
記DAC２３の出力２５は増幅器２６を介してア
ナログ量で加熱され、電磁偏向器２７に接続され
る。また前記データ発生装置１５の小領域データ
出力（ｘ、ｙ）２８は0.2mmフイールドを0.0125
ｍ単位で表す14ビツトのデータで小領域変換回路
３０の入力２９に入り、小領域変換回路３０の出
力（x′、y′）３１はDAC３３の入力３２に入り、
更にDAC３３の出力３４は増幅器３５を介して
静電偏向器３６に接続される。
座標を0.05μｍ単位で表わした18ビツトの大領域
データ出力（Ｘ、Ｙ）１６を形成し、DAC１８
の入力１７として転送する。一方、データ発生装
置１５の大領域データ出力（Ｘ、Ｙ）１６は補正
変換回路２０の入力１９にも入り、補正変換回路
２０の変換出力（Ox、OY）２１はDAC２３の入
力２２に入る。前記DAC１８の出力２４及び前
記DAC２３の出力２５は増幅器２６を介してア
ナログ量で加熱され、電磁偏向器２７に接続され
る。また前記データ発生装置１５の小領域データ
出力（ｘ、ｙ）２８は0.2mmフイールドを0.0125
ｍ単位で表す14ビツトのデータで小領域変換回路
３０の入力２９に入り、小領域変換回路３０の出
力（x′、y′）３１はDAC３３の入力３２に入り、
更にDAC３３の出力３４は増幅器３５を介して
静電偏向器３６に接続される。
補正変換回路２０では大領域に於ける、あらか
じめ求められ、前記補正変換回路２０にセツトさ
れている偏向利得補正係数、回転補正係数、台形
歪係数、シフト量等補正係数を用いて(1)、(2)式に
示す補正データの計算をデジタルで行なう。
じめ求められ、前記補正変換回路２０にセツトさ
れている偏向利得補正係数、回転補正係数、台形
歪係数、シフト量等補正係数を用いて(1)、(2)式に
示す補正データの計算をデジタルで行なう。
Ox＝G1・Ｘ＋R1・Ｙ＋H1・Ｘ・Ｙ
＋η（Ｘ、Ｙ）＋O1 (1)
Oy＝G2・Ｙ＋R2・Ｘ＋H2・Ｘ・Ｙ
＋ξ（Ｘ、Ｙ）O2 (2)
(1)、(2)式においてＸ、Ｙはデータ発生装置より
発生するＸ軸方向、Ｙ軸方向の偏向データ、
（Ox、OY）は変換後の偏向補正データで、0.0125
ｍ単位で表す16ビツトのデータ、G1、G2は偏向
利得補正係数、R1、R2は回転補正係数、H1、H2
は台形歪係数、O1、O2はシフト量、η（Ｘ、Ｙ）、
ξ（Ｘ、Ｙ）は大領域における上記以外の歪補正
係数である。
発生するＸ軸方向、Ｙ軸方向の偏向データ、
（Ox、OY）は変換後の偏向補正データで、0.0125
ｍ単位で表す16ビツトのデータ、G1、G2は偏向
利得補正係数、R1、R2は回転補正係数、H1、H2
は台形歪係数、O1、O2はシフト量、η（Ｘ、Ｙ）、
ξ（Ｘ、Ｙ）は大領域における上記以外の歪補正
係数である。
前記偏向データ即ちＸ、Ｙ及び前記偏向補正デ
ータ即ちOx、OYはDAC１８及び２３によつてそ
れぞれアナログ量に変換され、更に増幅器２６に
よつて増幅且つアナログ量で加算即ちＸ＋Ox、
Ｙ＋OYとされて、電磁偏向器２７に入る。
ータ即ちOx、OYはDAC１８及び２３によつてそ
れぞれアナログ量に変換され、更に増幅器２６に
よつて増幅且つアナログ量で加算即ちＸ＋Ox、
Ｙ＋OYとされて、電磁偏向器２７に入る。
また、データ発生装置１５により発生した小領
域偏向データは小領域変換回路３３に入る。この
時同時に、前記大領域偏向データで指定された小
領域の各補正係数すなわち前記指定された小領域
の偏向利得補正係数、回転補正係数、台形歪係
数、シフト量がデータ発生装置より小領域変換回
路に入る。
域偏向データは小領域変換回路３３に入る。この
時同時に、前記大領域偏向データで指定された小
領域の各補正係数すなわち前記指定された小領域
の偏向利得補正係数、回転補正係数、台形歪係
数、シフト量がデータ発生装置より小領域変換回
路に入る。
小領域変換回路では前記補正係数を用いて(3)、
(4)式に示す変換を行なう。
(4)式に示す変換を行なう。
X′＝ｘ＋g1・ｘ＋r1.y＋h1・ｘ・ｙ＋O1 (3)
y′＝ｙ＋g2・ｙ＋r2・ｘ＋h2・ｘ・ｙ＋O2(4)
(3)、(4)式において、ｘ・ｙはデータ発生装置よ
り発生する小領域のｘ軸、ｙ軸方向の偏向デー
タ、x′、y′は変換後の偏向データ、g1、g2は偏向
利得補正係数、r1、r2は回転補正係数、h1、h2は
台形歪係数、O1、O2はシフト量である。前記補
正係数すなわちg1、g2、r1、r2、h1、h2、O1、O2
はそれぞれの小領域によつて異つている。前記補
正された偏向データ、すなわちx′，y′はデジタル
−アナログ変換回路３３によつてアナログ値に変
換され、さらに増幅器３５によつて増幅されて静
電偏向器３６へ入る。
り発生する小領域のｘ軸、ｙ軸方向の偏向デー
タ、x′、y′は変換後の偏向データ、g1、g2は偏向
利得補正係数、r1、r2は回転補正係数、h1、h2は
台形歪係数、O1、O2はシフト量である。前記補
正係数すなわちg1、g2、r1、r2、h1、h2、O1、O2
はそれぞれの小領域によつて異つている。前記補
正された偏向データ、すなわちx′，y′はデジタル
−アナログ変換回路３３によつてアナログ値に変
換され、さらに増幅器３５によつて増幅されて静
電偏向器３６へ入る。
しかしながら、上記電子ビームの偏向補正方法
では、大領域でDAC１８の出力２４とDAC２３
の出力２５とをアナログ値で加算している為、ア
ナログ回路が複雑になるばかりでなく、アナログ
回路の素子の温度が上昇するに伴つて、アナログ
値が不安定となり、大領域に於いて高精度な電子
ビームの偏向が行なえないという欠点を有してい
る。そしてこの欠点は大領域を分割した小領域内
の偏向感度をも低下させる。
では、大領域でDAC１８の出力２４とDAC２３
の出力２５とをアナログ値で加算している為、ア
ナログ回路が複雑になるばかりでなく、アナログ
回路の素子の温度が上昇するに伴つて、アナログ
値が不安定となり、大領域に於いて高精度な電子
ビームの偏向が行なえないという欠点を有してい
る。そしてこの欠点は大領域を分割した小領域内
の偏向感度をも低下させる。
(4) 発明の目的
本発明は前記問題点を解決するものであり、そ
の目的とするところは大領域にわたつて精度が良
く、高速偏向が可能な電子ビーム露光装置を実現
する電子ビームの偏向補正方法を提供することに
ある。
の目的とするところは大領域にわたつて精度が良
く、高速偏向が可能な電子ビーム露光装置を実現
する電子ビームの偏向補正方法を提供することに
ある。
(5) 発明の構成
本発明は、比較的大面積を有する第１の領域に
対して電子ビームを偏向し得る第１のビーム偏向
手段と、比較的小面積を有する第２の領域に対し
て電子ビームを偏向する第２のビーム偏向手段と
を備え、前記第１のビーム偏向手段によつて、露
光の基準位置を設定し、次いで前記基準位置を基
準として前記第２のビーム偏向手段によつて所望
の露光処理を行なう方法に於いて、前記第１の偏
向手段における位置情報の余剰分を前記第２のビ
ーム偏向手段の制御情報にデジタル量として加算
して、かかる第２のビーム偏向手段を制御するこ
とを特徴とするものである。
対して電子ビームを偏向し得る第１のビーム偏向
手段と、比較的小面積を有する第２の領域に対し
て電子ビームを偏向する第２のビーム偏向手段と
を備え、前記第１のビーム偏向手段によつて、露
光の基準位置を設定し、次いで前記基準位置を基
準として前記第２のビーム偏向手段によつて所望
の露光処理を行なう方法に於いて、前記第１の偏
向手段における位置情報の余剰分を前記第２のビ
ーム偏向手段の制御情報にデジタル量として加算
して、かかる第２のビーム偏向手段を制御するこ
とを特徴とするものである。
(6) 発明の実施例
以下、本発明の実施例を用いて詳細な説明を行
なう。第３図は本発明の実施例を示す。
なう。第３図は本発明の実施例を示す。
同図に於いて、３７はデータ発生装置、４０は
大領域変換回路、４３は18ビツトのDAC、４５
は増幅器、４６は電磁偏向器、４９は小領域変換
回路、５２はデジタル加算器、５５は14ビツトの
DAC、５７は増幅器、５８は静電偏向器、１０
１は20ビツトのレジスタをそれぞれ示す。
大領域変換回路、４３は18ビツトのDAC、４５
は増幅器、４６は電磁偏向器、４９は小領域変換
回路、５２はデジタル加算器、５５は14ビツトの
DAC、５７は増幅器、５８は静電偏向器、１０
１は20ビツトのレジスタをそれぞれ示す。
本発明によれば、データ発生装置３７の大領域
データ出力（Ｘ、Ｙ）３８は、大領域変換回路４
０の入力３９に入る。
データ出力（Ｘ、Ｙ）３８は、大領域変換回路４
０の入力３９に入る。
ここで大領域データ出力（Ｘ、Ｙ）３８は
0.05μｍ単位で10mmまでを表わすデータであるか
ら18ビツト長データで十分である。しかしなが
ら、大領域変換回路は、第(1)式、第(2)式と同様の
演算を行ない、もとのＸ、Ｙデータに加算するよ
うに形成されており、式で表わせば、 X′＝Ｘ＋G1X＋R1Y＋H1XY＋η（Ｘ、Ｙ）＋O1
(5) Y′＝Ｙ＋G2Y＋R2X＋H2XY＋ξ（Ｘ、Ｙ）＋O2
(6) となる。ここではＸ、Ｙは入力の18ビツトデー
タ、R1、R2は回転補正係数、G1、G2は偏向利
得、H1、H2は台形歪係数、O1、O2はシフト量、
η（Ｘ、Ｙ）、ξ（Ｘ、Ｙ）は大領域における上記
以外の歪み補正関数である。
0.05μｍ単位で10mmまでを表わすデータであるか
ら18ビツト長データで十分である。しかしなが
ら、大領域変換回路は、第(1)式、第(2)式と同様の
演算を行ない、もとのＸ、Ｙデータに加算するよ
うに形成されており、式で表わせば、 X′＝Ｘ＋G1X＋R1Y＋H1XY＋η（Ｘ、Ｙ）＋O1
(5) Y′＝Ｙ＋G2Y＋R2X＋H2XY＋ξ（Ｘ、Ｙ）＋O2
(6) となる。ここではＸ、Ｙは入力の18ビツトデー
タ、R1、R2は回転補正係数、G1、G2は偏向利
得、H1、H2は台形歪係数、O1、O2はシフト量、
η（Ｘ、Ｙ）、ξ（Ｘ、Ｙ）は大領域における上記
以外の歪み補正関数である。
ここで偏向利得、回転補正係数、台形歪の補正
データはＸ、Ｙに乗算される為Ｘ、Ｙの入力18ビ
ツトデータはX′、Y′となつた時にはビツト数が
増加する。例えば乗算係数が16ビツトあれば乗算
結果は34ビツトとなる。しかし、元々のＸ、Ｙデ
ータが0.05μｍ単位であれば、実用上は0.05μｍ未
満の桁を数桁とれば十分でありここでは、0.025μ
ｍと、0.0125μｍの桁即ち２桁余計にとる事とす
る。すると、X′、Y′は20ビツトデータとなる。
データはＸ、Ｙに乗算される為Ｘ、Ｙの入力18ビ
ツトデータはX′、Y′となつた時にはビツト数が
増加する。例えば乗算係数が16ビツトあれば乗算
結果は34ビツトとなる。しかし、元々のＸ、Ｙデ
ータが0.05μｍ単位であれば、実用上は0.05μｍ未
満の桁を数桁とれば十分でありここでは、0.025μ
ｍと、0.0125μｍの桁即ち２桁余計にとる事とす
る。すると、X′、Y′は20ビツトデータとなる。
そこで大領域変換回路４０の変換出力４１は、
いつたん20ビツトのレジスタ１０１に格納され
る。レジスタ１０１のビツトの重みは最小ビツト
が0.0125μｍであり、下２ビツトは0.05μｍ未満の
データであり、上18ビツトは10mmフイールドを
0.05ｍ単位で表す0.05μｍ以上のデータである。
いつたん20ビツトのレジスタ１０１に格納され
る。レジスタ１０１のビツトの重みは最小ビツト
が0.0125μｍであり、下２ビツトは0.05μｍ未満の
データであり、上18ビツトは10mmフイールドを
0.05ｍ単位で表す0.05μｍ以上のデータである。
その内0.05μｍ以上のデータ（X′0.05、Y′0.05）
がDAC４３の入力４２に入り、更に前記DAC４
３の出力４４は増巾器４５を介して電磁偏向器４
６に接続される。
がDAC４３の入力４２に入り、更に前記DAC４
３の出力４４は増巾器４５を介して電磁偏向器４
６に接続される。
また前記データ発生装置３７の小領域データ出
力（ｘ、ｙ）４７は小領域変換回路４９の入力４
８に入り、小領域変換回路４９の変換出力（x′、
y′）５０は大領域変換回路４０の変換出力（X′、
Y′）４１のデータをレジスタ１０１で受け、レ
ジスタ１０１の0.05μｍ未満のビツト（下位２ビ
ツト）をデータ（X″、Y″）５１としたものとデ
ジタル加算器５２でデジタルの値で加算される。
力（ｘ、ｙ）４７は小領域変換回路４９の入力４
８に入り、小領域変換回路４９の変換出力（x′、
y′）５０は大領域変換回路４０の変換出力（X′、
Y′）４１のデータをレジスタ１０１で受け、レ
ジスタ１０１の0.05μｍ未満のビツト（下位２ビ
ツト）をデータ（X″、Y″）５１としたものとデ
ジタル加算器５２でデジタルの値で加算される。
そして前記デジタル加算器５２の出力５３は
0.2mmのフイールドを0.0125ｍ単位で表す14ビツ
トのデータでDAC５５の入力５４に入り、DAC
５５の出力５６は増幅器５７を介して静電偏向器
５８に接続される。尚、X′、Y′はX′0.05＋X″、
Y′＝Y′0.05＋Y″の関係を示す。
0.2mmのフイールドを0.0125ｍ単位で表す14ビツ
トのデータでDAC５５の入力５４に入り、DAC
５５の出力５６は増幅器５７を介して静電偏向器
５８に接続される。尚、X′、Y′はX′0.05＋X″、
Y′＝Y′0.05＋Y″の関係を示す。
大領域変換回路４０では(5)、(6)式に示すデータ
の補正を行なう。
の補正を行なう。
X′＝Ｘ＋G1・Ｘ＋R1・Ｙ＋H1・Ｘ・Ｙ＋η（Ｘ、
Ｙ）＋O1 (5) Y′＝Ｙ＋G2・Ｙ＋R2・Ｘ＋H2・Ｘ・Ｙ＋ξ（Ｘ、
Ｙ）＋O2 (6) (5)、(6)式に於いて、X′、Y′は変換後の偏向デ
ータを示す。
Ｙ）＋O1 (5) Y′＝Ｙ＋G2・Ｙ＋R2・Ｘ＋H2・Ｘ・Ｙ＋ξ（Ｘ、
Ｙ）＋O2 (6) (5)、(6)式に於いて、X′、Y′は変換後の偏向デ
ータを示す。
補正された偏向データ即ち（X′、Y′）の内
0.05μｍ以上のデータ（X′0.005、Y′0.005）は
DAC４３によつてアナログの値に変換され、更
に増幅器４５によつて増幅されて、電磁偏向器４
６に入る。前記動作によつて大領域中の小領域の
位置が設定される。
0.05μｍ以上のデータ（X′0.005、Y′0.005）は
DAC４３によつてアナログの値に変換され、更
に増幅器４５によつて増幅されて、電磁偏向器４
６に入る。前記動作によつて大領域中の小領域の
位置が設定される。
またデータ発生装置３７より発生した小領域偏
向データは小領域変換回路４９に入る。小領域変
換回路では前記(3)、(4)式に示す変換を行なう。前
記補正された偏向データ、即ち（x′、y′）と大領
域変換回路４０で補正された偏向データ（X′、
Y′）内の0.05未満のデータ（X″、Y″）とはデジ
タル加算器５２で加算され、DAC５５によつて
変換され、更に増幅器５７によつて増幅されて静
電偏向器５８へ入力される。
向データは小領域変換回路４９に入る。小領域変
換回路では前記(3)、(4)式に示す変換を行なう。前
記補正された偏向データ、即ち（x′、y′）と大領
域変換回路４０で補正された偏向データ（X′、
Y′）内の0.05未満のデータ（X″、Y″）とはデジ
タル加算器５２で加算され、DAC５５によつて
変換され、更に増幅器５７によつて増幅されて静
電偏向器５８へ入力される。
前記動作は電磁偏向器４６によつて大きく電子
ビームを偏向させ、ついで高速で静電偏向させ
て、大領域にわたつて高速で高精度な電子ビーム
の偏向補正及び露光を行うことができ、しかも前
記補正偏向データ（x′、y′）と（X″、Y″）とは
デジタルの値で加算されている為、回路はアナロ
グ回路ほど複雑になることはなく、安定で高精度
な電子ビームの偏向が行なうことができる。
ビームを偏向させ、ついで高速で静電偏向させ
て、大領域にわたつて高速で高精度な電子ビーム
の偏向補正及び露光を行うことができ、しかも前
記補正偏向データ（x′、y′）と（X″、Y″）とは
デジタルの値で加算されている為、回路はアナロ
グ回路ほど複雑になることはなく、安定で高精度
な電子ビームの偏向が行なうことができる。
(7) 発明の効果
本発明を用いることにより電磁偏向方式と静電
偏向方式の二つを用いた従来得られなかつた大領
域にわたつて高精度な偏向が可能となる電子ビー
ム偏向装置を得ることができる。
偏向方式の二つを用いた従来得られなかつた大領
域にわたつて高精度な偏向が可能となる電子ビー
ム偏向装置を得ることができる。
第１図は電子ビーム露光装置を示す図、第２図
は従来の電子ビーム露光方法における偏向制御系
を示す図、第３図は本発明による電子ビーム露光
方法における偏向制御系の実施例を示す図であ
る。 １５，３７……データ発生装置、１８，２３，
３３，４３，５５……DAC、２０……補正変換
回路、２７，４６……電磁偏向器、２６，３５，
４５，５７……増幅器、３０，７９……小領域変
換回路、３８，５８……静電偏向器、４０……大
領域変換回路、５２……デジタル加算器、１０１
……レジスタ。
は従来の電子ビーム露光方法における偏向制御系
を示す図、第３図は本発明による電子ビーム露光
方法における偏向制御系の実施例を示す図であ
る。 １５，３７……データ発生装置、１８，２３，
３３，４３，５５……DAC、２０……補正変換
回路、２７，４６……電磁偏向器、２６，３５，
４５，５７……増幅器、３０，７９……小領域変
換回路、３８，５８……静電偏向器、４０……大
領域変換回路、５２……デジタル加算器、１０１
……レジスタ。
Claims (1)
- １ 比較的大面積を有する第１の領域に対して電
子ビームを偏向し得る第１のビーム偏向手段と、
比較的小面積を有する第２の領域に対して電子ビ
ームを偏向する第２のビーム偏向手段とを備え、
前記第１のビーム偏向手段によつて、露光の基準
位置を設定し、次いで前記基準位置を基準として
前記第２のビーム偏向手段によつて所望の露光処
理を行なう方法に於いて、データ発生装置から出
力された後に該データ発生装置の出力データの偏
向補正を行なうための変換回路を経た、前記第１
の偏向手段に対する位置情報の余剰分を前記第２
のビーム偏向手段の制御情報にデジタル量として
加算して、かかる第２のビーム偏向手段を制御す
ることを特徴とする電子ビーム露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57063378A JPS58180024A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 電子ビ−ム露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57063378A JPS58180024A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 電子ビ−ム露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58180024A JPS58180024A (ja) | 1983-10-21 |
| JPH0328811B2 true JPH0328811B2 (ja) | 1991-04-22 |
Family
ID=13227568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57063378A Granted JPS58180024A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 電子ビ−ム露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58180024A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6662654B2 (ja) * | 2016-02-12 | 2020-03-11 | 東方晶源微電子科技（北京）有限公司 | 画像取得方法及び電子ビーム検査・測長装置 |
-
1982
- 1982-04-16 JP JP57063378A patent/JPS58180024A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58180024A (ja) | 1983-10-21 |
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