JPH0883740A - 電子線描画装置 - Google Patents

電子線描画装置

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JPH0883740A
JPH0883740A JP21903694A JP21903694A JPH0883740A JP H0883740 A JPH0883740 A JP H0883740A JP 21903694 A JP21903694 A JP 21903694A JP 21903694 A JP21903694 A JP 21903694A JP H0883740 A JPH0883740 A JP H0883740A
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JP
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deflector
electron beam
deflection
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drawing apparatus
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JP21903694A
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English (en)
Inventor
Yasunari Hayata
康成 早田
Yasuhiro Someta
恭宏 染田
Masahide Okumura
正秀 奥村
Masaaki Ando
公明 安藤
Hiroyuki Ito
博之 伊藤
Masayori Miyata
正順 宮田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】電子線描画装置の偏向電子ビーム位置の応答遅
れを正確かつ高速に補正する。 【構成】電子線描画装置において、偏向器10,33の
偏向データ15をデジタル演算部18を含む回路に入力
し、時刻又は時間を含む演算を行なった後、その出力を
偏向器33の偏向量にデジタル的あるいはアナログ的に
加算する。 【効果】電子ビーム位置の整定待ち時間が短縮しスルー
プットが向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子線描画装置、特に、
電子ビームの偏向及び焦点補正部の構成に関する。
【0002】
【従来の技術】電子線描画装置では電子ビームを磁場も
しくは電場により偏向し偏向位置を制御している。これ
らの偏向位置は制御計算機からの偏向データを電気信号
に変換し偏向器に加えるて制御する。データ発生から電
子ビームが所定の位置に安定するまで偏向駆動回路の応
答特性や渦電流、磁気余効等により時間を要する。従来
の電子線描画装置では、電子ビームが偏向位置に安定す
るまで待って描画を行ている。また、偏向位置に安定す
るまでの時間を短縮してものとして、ジャパンジャーナ
ルオブアプライドフィジクス31巻12号ビー1992
年4241頁から4247頁で安武等が明らかにしてい
る様に、主偏向器のデータをアナログフィルタに通して
副偏向器に加算する方式が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の主
偏向データをアナログフィルタに通して副偏向器に加算
するため、調整の自由度が限られ正確に応答特性を補正
できないことや、非常に短い応答から長時間の応答まで
幅広く補正する際に回路動作が不安定となる問題があっ
た。従って、本発明の目的は電子ビームの偏向や焦点補
正を正確かつ高速に行うことができる電子線描画装置を
実現することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の電子線描画装置は、偏向データを入力し、
時間関数を含む演算を行い偏向補正信号を得るデジタル
演算部を設け、上記偏向補正信号を偏向器の偏向データ
に加算し、複数の偏向器の少なくとも一部に加え、補正
したい偏向器、焦点補正器、非点補正器等の補正を行
う。デジタル演算部には偏向位置と偏向開始時刻から現
在時刻までの時間に相当する情報が必要となるが、過去
の複数の偏向について情報を用いることも有効である。
即ち、デジタル演算部の出力とステージ連続移動描画の
際のステージ追従補正データと加算した後、偏向器の偏
向量に加算する。更に入力の偏向データを複数の偏向器
の偏向データとすることにより複数の偏向器の応答特性
を同時に補正することも可能となる。デジタル演算とし
ては偏向データと時間の関数式より計算する方式や、そ
の関係をメモリに格納して演算する方式を用いる。
【0005】特に、偏向器に主偏向器として電磁コイル
を用い、副偏向器に静電型偏向器を用い、主偏向器の偏
向遅れを、主偏向器の偏向データを用いて時間的に変動
する偏向補正信号をデジタル演算部で得て、これを静電
型偏向器のデータにデジタル又はアナログ的に加算して
主偏向器の補正を行うことが有効である。
【0006】
【作用】電子線描画装置では、偏向フィールドを大きく
分けた複数の主フィールドと、主フィールドを細分した
複フィールドと、必要によって複フィールドを更に細分
してした副副フィールドのように段階的細分して、上記
各種フィールド毎に適した偏向器を設け、偏向速度と、
偏向精度の向上を行っている。しかし偏向量の大きい場
合の偏向器及びその駆動回路の特性は図1(a)の曲線
aに示すように、偏向開始の時点t0から時点t1では急
速に目標の偏向点に近づくが、時点t1から目標の偏向
点に整定する時点tsまで時間を要し、しかもD/A変
換器の特性、偏向器の渦電流や磁気余効によって複雑な
時間関数の変化をする。本発明は補正対象の偏向器のデ
ータを用いて期間t1〜tsにおける目標点と特性1の
差(応答遅れ)に相当する偏向器の制御信号即ち補正信
号bを作り、動作速度の早い副偏向器に加える。そのた
め、時点t1近くで偏向位置が整定され描画が開始でき
る。また、逆に図1(b)のように遅れ分副偏向で相殺
することにより整定を早めることもできる。
【0007】上記補正信号bを作る回路をディジタル演
算回路で構成するため、種々の原因による応答特性に対
応することができる。また、過去の複数の偏向情報を演
算にも用いることで、複数の偏向時間にまたがる長時間
応答にも対応できる。逆にデジタル演算はメモリを用い
た場合で数百nsec、DSP等の専用演算回路を用い
た関数計算でもμsecオーダーで計算が可能であり、
短時間の応答にも対処できる。更に、複数の偏向器の偏
向データを取り扱うことも可能であり、3段偏向等偏向
器の多い場合の種々の応答をまとめて補正することがで
きる。
【0008】また、応答特性は簡単な場合は偏向距離に
比例し、偏向方向に対称性を持つ。しかし、複雑な場合
は偏向方向に非対称性を持つこともあり、この場合は従
来のアナログ的な補正では全く対応できない。デジタル
演算では演算方法の自由度が高いために、こうした状況
にも正確に対応することができる。更に、他の光学要素
の場合、例えば焦点補正器はレンズコイルとの干渉によ
り長時間の磁気応答遅れが生じる。これは焦点変化に伴
う電子ビーム位置の変化の整定遅れの原因となる。従っ
て、焦点補正器の制御データ及びその時刻と現在時刻に
よりデジタル演算を行い、電子ビーム位置を偏向器によ
り追従すれば、偏向器の場合と同様に正確な補正が可能
となる。
【0009】
【実施例】
<実施例1>図2は本発明によるに電子線描画装置の第
1の実施例の構成を示す図である。電子源1からの電子
ビームは第1アパーチャ2、転写レンズ3、可変成形偏
向器4、第2アパーチャ5、縮小レンズ6よって整形さ
れ、主偏向器10、副偏向器33及び対物レズ8からな
る偏向部によって偏向され、試料9の面上に照射され
る。
【0010】制御計算機12からの偏向データ15及び
16がそれそれデジタルアナログ変換13及び14に加
えられ、更に後段の増幅器(図示せず)により偏向用の
電圧や電流に変換されて偏向器10及び33に加えられ
る。デジタルデータ15、16は描画位置をもとにステ
ップ状に変化するが実際の電子ビームの偏向位置はアナ
ログ回路の遅延や渦電流等により除々に変化する。補正
したい偏向器10の偏向データ15はデジタル演算部1
8にも送られる。
【0011】デジタル演算部18では実際の電子ビーム
の偏向の遅れ、即ち図1の目標偏向点と曲線aの間の時
間の関数である補正信号bを演算によって求め、他の偏
向データ16に加える。補正信号が加えられた偏向デー
タ16はD/A変換器14でアナログ信号に変換され副
偏向器33にられる。副偏向器33は動作速度が早いた
め、偏向器10の遅れを補正し、電子ビームを目標偏向
点に整定できる。
【0012】図3は、上記実施例による偏向補正の効果
を示す特性図で、(a)は補正を行わない場合、(b)
は本発明の実施例によって補正を行った場合を示す。図
において横軸は応答時間、縦軸は変位を表す。上記変位
の測定は図4の様に十字の金ワイヤー27を電子ビーム
29の下に移動してファラデーカップ28により透過電
流量を測定して求めた。電子ビームが動くと電流量が変
化する事を利用して電子ビームの移動量を測定した。X
Y2方向のエッジを用いることにより2方向のビームの
動きが測定できる。
【0013】(a)の補正前では0.1μmの大きさで
10msecオーダーの応答遅れにより電子ビームが徐
々に戻る様子を示している。なお、偏向器の偏向量は5
mmである。(b)の補正後のものは、上記補正前の応
答時間と変位の関係をデジタル演算部18に記憶させて
補正を行った結果である。図から明らかなように応答遅
れがほとんど観測されていない。テストパターンを描画
した結果主偏向接続で0.07μmの精度を得るために
は補正なしでは主偏向のたびに10msecの整定待ち
が必要であったのに対して上記補正を行った場合、25
0μsecの整定待ちで十分であった。
【0014】<実施例2>図5は本発明によるに電子線
描画装置の第2の実施例の構成を示す図である。同図に
おいて、実施例1と同じ構成機能部には図1の番号を付
してその説明を省く(以下の実施例についても同様であ
る。)。実施例1との違いは副偏向器33が主偏向器1
0より電子源側の副偏向器11と試料側の副副偏向器1
9に分けられ、ディジタル演算部18からの補正信号が
D/A変換器22でアナログ信号に変換された後副福偏
向器19の偏向データ16をD/A変換器14で変換さ
れたアナログ信号に加えられている点である。主偏向器
10は電磁偏向器であり、副偏向器11、副副偏向器1
9は静電偏向器で構成されている。主偏向器10、副偏
向器11、副副偏向器19の順で偏向サイズ(フィール
ド)は小さくなり、偏向速度は高速なる。この中で電磁
偏向器10は渦電流などの応答遅れの要因があり偏向に
よる電子ビームの位置整定に時間を要する。静電偏向器
11及び19の方が位置整定が早い。
【0015】デジタル演算部18では、偏向データ15
と偏向時の時刻を入力し偏向の遅れ量を実時間で計算す
る。図6はデジタル演算部18の構成を示す図で本実施
例では演算ユニット23を10個用意して順にデータを
入力する。偏向の数が10を越えると初めの偏向データ
が上書きされる。これにより長い応答にも対処すること
ができる。演算ユニット23には偏向遅れが時間と量の
関係で記憶されており経過時間に従い各々出力する。最
終的な出力はこれら複数の計算結果を加算して行う。演
算ユニット23の数はどこまで長時間の応答に対処する
かで決まり、場合によっては1つでもよい。
【0016】図7及び図8はそれぞれ実施例2における
補正を行わない場合及び補正を行った場合の電子ビーム
位置変化量を示す。図7及び8において、第1ないし第
4象限の4つの図はそれぞれ偏向中心から4隅に偏向し
た場合の応答遅れを示している。図7の場合第1及び第
3象限の遅れが大きいことがわかる。これは電子鏡体の
製作上の不均性によるものであり、偏向方向によって補
正量を変えなければならない。デジタル演算であれば従
来のアナログ方式と異なり、このような複雑な応答も補
正が可能である。図8より本実施例の改善効果が明らか
である。 <実施例3>図9は本発明によるに電子線描画装置の第
3の実施例の構成を示す図である。本実施例の電子光学
系は実施例2と同様に主偏向器10、副偏向器11及び
副副偏向器19をもつが、ディジタル演算部18の出力
を主偏向10の偏向データ15に加算し、それをD/A
変換器13でアナログ信号に変換して主偏向器10に加
えている。主偏向器は補正入力に対しても応答遅れが生
じるが補正量に対して非常に小さいため事実上問題とな
らない。
【0017】<実施例4>図10は本発明によるに電子
線描画装置の第4の実施例の構成を示す図である。本実
施例は実施例2に比べ、デジタル演算部18の入力とし
て副偏向器11の偏向データ20も加えている。本実施
例は主偏向器10のみならず、副偏向器11の応答遅れ
が問題となる装置に実施される。特に本実施例では、副
偏向器11の電圧は200V(精度17bit)で偏向
距離が大きいものであり、アナログ回路の応答遅れが生
じているので、主偏向器10及び副偏向器11の応答遅
れをデジタル演算部18により求め、応答速度の早い副
副偏向器19によって偏向の遅れを補正している。デジ
タル演算部18では偏向データ20及び偏向データ15
によって副偏向器11及び主偏向器10の応答遅れに対
応する応答遅れに対する補正信号を求め、D/A器22
によってアナログ信号にし、D/A器14による偏向デ
ータ16のアナログ信号に加算し、最終的に副副偏向器
19に加える。
【0018】図11は実施例4による補正の効果を示す
応答特性の測定結果を示す。特に副偏向器11に最大偏
向電圧200V(精度17bit)より、X方向に50
0μmの偏向を行った場合における電子ビーム偏向位置
のX方向の応答遅れを示す。測定方法は図5で説明した
方法と同じ方法による。図中、白丸及び黒丸はそれぞれ
補正前及び補正後の測定結果を示す。図から明らかなよ
うに補正前は100μsec程度の遅れが生じている
が、補正後は黒丸で示すように補正の結果遅れを10μ
sec程度に短縮することができた。実施例4において
は、以上の補正の結果主偏向待ち200μsec、副偏
向待ち10μmでそれぞれ、0.05μmと0.04μm
の接続精度を得ることができた。
【0019】<実施例5>図12は本発明によるに電子
線描画装置の第5の実施例の構成を示す図である。本実
施例は電子光学系は電磁主偏向10と静電副偏向11の
2段からなる。焦点補正コイル30が対物レンズ8の磁
場内にあり、主偏向量の2次関数で焦点補正を行う。偏
向された電子ビームは偏向量と電磁補正量の積の位置変
化を起こす。焦点補正の電磁コイル30は対物レンズ8
との干渉で応答遅れを生じやすい。その結果、電子ビー
ムの偏向位置の遅れの原因になる。補正は偏向データ1
5より電磁補正量を計算し、電磁補正量の変化量と偏向
データ及び時間より補正量を計算する。補正は副偏向器
11にアナログ的に加算する。以上の結果0.1μmの
精度を実現するための主偏向の整定待ち時間を補正前の
10msecから1msecへと短縮することができ
た。
【0020】図13は上記各実施例に適用されるディジ
タル演算回路の一実施例の構成を示すブロック図であ
る。主偏向器用のX偏向データ41、Y偏向データ42
及び偏向時刻データ43はデータ入力部24に加えられ
る。演算ユニット51は、X及びYで分離しており各々
複数個づつある。偏向データは順番に入力される。偏向
命令が生じると最後に計算を開始した演算ユニットの次
の2つの演算ユニットにX偏向データ52、Y5偏向デ
ータ3を読み込む。データを読み込むべき演算ユニット
51が既に計算を行っている場合は計算を中止してデー
タを読み込む。1つ目の演算ユニットは前回のデータと
差がある場合に計算を開始する。2つ目の演算ユニット
はデータを記憶して待機する。各ユニットの演算結果は
積算ユニット44により加算されX補正出力45及びY
補正出力46として出力される。
【0021】デジタル演算部は時間と補正量に関して、
例えば次の式で計算を行う。 ΔX=0.00005*X*{log(TーT0)ーl
og(T0)} 但し、Xは主偏向の変化量、ΔXは補正量、Tは偏向時
刻と現在時刻の差、T0は初期待ち時間である。この式
は磁性体のディスアコモデーションを表わす式である。
時間依存性が長時間に及ぶために演算ユニットを20設
けている。本実施例ではこの関係式をDSP47により
計算したが、実施例2と同様にメモリに時間と補正量の
関係を記憶させておいても良い。この結果補正前の主偏
向接続誤差0.1μm(主偏向整定待ち時間1mse
c)を補正により0.06μmへと低減することが出来
た。また本実施例では演算結果を元データにデジタル的
に加算している。これは主偏向のアナログ回路が20b
itの精度で偏向するためにアナログ的に加算すること
が回路の不安定性の原因となることを防ぐためである。
本実施例では上記の式で補正が可能であったが場合によ
っては種々の応答要因が存在するために、より複雑な式
で補正する必要が生じる可能性もある。
【0022】
【発明の効果】以上の様に本発明によれば、電子光学素
子による電子ビーム位置の応答遅れを正確に補正するこ
とができる。これにより電子ビーム位置整定の待ち時間
を低減することが可能となり、電子ビーム描画装置のス
ループットの向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による電子線描画装置の作用を説明する
特性図
【図2】本発明による電子線描画装置の実施例1の構成
を示す図
【図3】本発明による電子線描画装置の実施例1におけ
る電子ビーム位置変化図
【図4】電子ビーム位置変化位置の測定器の要部構成図
【図5】本発明による電子線描画装置の実施例2の構成
を示す図
【図6】図2の演算部18の構成図
【図7】本発明による電子線描画装置の実施例2におい
て補正を行わない場合の電子ビーム位置変化図
【図8】本発明による電子線描画装置の実施例2におい
て補正を行った場合の電子ビーム位置変化図
【図9】本発明による電子線描画装置の実施例3の構成
を示す図
【図10】本発明による電子線描画装置の実施例4の構
成を示す図
【図11】実施例4の電子ビーム位置変化図
【図12】本発明による電子線描画装置の実施例5の構
成を示す図
【図13】本発明の実施例に使用されるディジタル演算
部の構成図
【符号の説明】
1:電子源 25:出力部 2:第1アパーチャー 27:金ワイヤ 3:転写レンズ 28:ファラデーカ
ップ 4:可変成形偏向器 29:矩形ビーム像 5:第2アパーチャー 30:電磁コイル 6:縮小レンズ 31:焦点補正デー
タ 8:対物レンズ 32:副偏向器 9:試料 33:副偏向器 10:主偏向器 40:データ入力
部 11:副偏向器 41:X偏向デー
タ 12:制御計算機 42:Y偏向デー
タ 13:デジタルアナログ変換 43:偏向時刻 14:デジタルアナログ変換 44:積算部 15:偏向データ 45:X補正出力 16:偏向データ 46:Y補正出力 17:クロック 47:DSP 18:デジタル演算部 48:時計 19:副偏向器 49:前回データ 20:偏向データ 50:今回データ 21:デジタルアナログ変換 51:演算ユニッ
ト 23:演算ユニット 52:X偏向デー
タ 24:入力部 53:Y偏向デー
フロントページの続き (72)発明者 安藤 公明 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 伊藤 博之 茨城県勝田市市毛882番地 株式会社日立 製作所計測器事業部内 (72)発明者 宮田 正順 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の偏向器のそれぞれに対応する複数の
    偏向データの電気信号によって電子ビームを偏向する偏
    向部をもつ電子線描画装置において、上記複数の偏向デ
    ータの一部を用い偏向器の時間を含む応答特性の補正信
    号をデジタル演算によって得るデジタル演算部と、上記
    デジタル演算部の補正信号を複数の偏向データの少なく
    とも1つに加算するする手段をもつことを特徴とする電
    子線描画装置。
  2. 【請求項2】上記複数の偏向器が電磁コイルによる主偏
    向器及び静電偏向器による副偏向器をもち、上記デジタ
    ル演算部へ入力される偏向データが上記主偏向器の偏向
    データであり、上記補正信号を加算する手段が上記が副
    偏向器の偏向データに上記補正信号を加算する手段であ
    ることを特徴とする請求項1記載の電子線描画装置。
  3. 【請求項3】上記副偏向器が第1の副偏向器と第1の副
    偏向器より高速の第2の副偏向器をもち、上記補正信号
    を加算する手段が第2の副偏向器の偏向データに上記補
    正信号を加算する手段であることを特徴とする請求項2
    記載の電子線描画装置。
  4. 【請求項4】上記デジタル演算部へ入力される偏向デー
    タに更に第1の副偏向器の偏向データを入力する要に要
    に構成されたことを特徴とする請求項2記載の電子線描
    画装置。
  5. 【請求項5】上記デジタル演算部は偏向器の偏向データ
    と時間の関係をメモリに記憶させそれを用いて出力を計
    算する手段で構成されたことを特徴とする請求項1ない
    し4のいずれかに記載された電子線描画装置。
  6. 【請求項6】上記補正信号を加算する手段が上記デジタ
    ル演演部での演算後の出力とステージ連続移動描画の際
    のステージ追従補正データとを加算し偏向器の偏向デー
    タに加算する手段で構成されたことを特徴とする請求項
    1ないし4のいずれかに記載された電子線描画装置。
  7. 【請求項7】上記加算する手段が上記デジタル演演部で
    の演算後の出力のアナログ信号と上記ステージ追従補正
    データのアナログ信号を加算するように構成されたこと
    を特徴とする請求項6に記載された電子線描画装置。
  8. 【請求項8】焦点補正器の制御データを電気信号に変換
    し焦点補正器に加える手段及び複数の偏向器の制御デー
    タをそれぞれ電気信号に変換し上記複数の偏向器に加え
    る手段をもつ電子線描画装置において、上記複数の偏向
    器の一部の制御データを入力し時間を含む行い上記焦点
    補正器の補正信号を得るデジタル演算部と、上記デジタ
    ル演算部の出力を上記偏向器の制御データに加算する手
    段をもつことを特徴とする電子線描画装置。
  9. 【請求項9】上記加算する手段が上記デジタル演算部の
    出力をアナログ信号に変換した信号と上記偏向器の制御
    データをアナログ信号に変換した信号を加算するように
    構成されたことを特徴とする請求項8に記載された電子
    線描画装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH08138602A (ja) * 1994-11-08 1996-05-31 Hitachi Ltd 電子線装置
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