JPH03285098A - 電気めっき装置 - Google Patents
電気めっき装置Info
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- JPH03285098A JPH03285098A JP8340690A JP8340690A JPH03285098A JP H03285098 A JPH03285098 A JP H03285098A JP 8340690 A JP8340690 A JP 8340690A JP 8340690 A JP8340690 A JP 8340690A JP H03285098 A JPH03285098 A JP H03285098A
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- jig
- plating
- cathode
- plated
- cathodic
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- Pending
Links
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 6
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- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電気めっき装置に関し、特に、平面的に形成
された基板上にめっきを行う電気めっき装置に関する。
された基板上にめっきを行う電気めっき装置に関する。
［従来の技術］
従来の電気めっき装置としては、例えば、プリント基板
、薄膜ヘッド等の平面的に形成された基板上にスパッタ
リング等により導電性の下地膜を形成し、フォトレジス
ト等で形成したパターンの穴を通して電気めっきを行う
パターンめっき法が行われている。このパターンめっき
法の攪拌にはカソードロッカー及び空気撹拌等の方法が
用いられており、特に空気撹拌による方法は安価で効果
的方法であることから頻繁に用いられている。
、薄膜ヘッド等の平面的に形成された基板上にスパッタ
リング等により導電性の下地膜を形成し、フォトレジス
ト等で形成したパターンの穴を通して電気めっきを行う
パターンめっき法が行われている。このパターンめっき
法の攪拌にはカソードロッカー及び空気撹拌等の方法が
用いられており、特に空気撹拌による方法は安価で効果
的方法であることから頻繁に用いられている。
この空気撹拌による方法は第２図に示すようにめっき槽
ｌ内に満たされためっき液７中に夫々平板状に形成した
カソード治具２とアノード４を互いに対向して配置し、
被めっき部材である基板３をカソード治具２に取付ける
。このカソード治具２の下方、即ち、めっき槽ｌの底部
に空気撹拌用の穴が形成されたバイブロが配置される。
ｌ内に満たされためっき液７中に夫々平板状に形成した
カソード治具２とアノード４を互いに対向して配置し、
被めっき部材である基板３をカソード治具２に取付ける
。このカソード治具２の下方、即ち、めっき槽ｌの底部
に空気撹拌用の穴が形成されたバイブロが配置される。
このバイブロの穴からめっき槽１内に空気の抱８を噴出
し空気の浮上刃を利用してめっき液７を撹拌させる。こ
のアノード４側に電源５の＋側電極、カソード２側に電
源５の一側電極が接続されてめっき処理がなされる。
し空気の浮上刃を利用してめっき液７を撹拌させる。こ
のアノード４側に電源５の＋側電極、カソード２側に電
源５の一側電極が接続されてめっき処理がなされる。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、従来のような空気撹拌を用いた電気めっ
き装置では、バイブロから噴出する空気８が基板３の下
方で第２図に示すように基板３の近傍を流れるが、上方
に浮上するに伴なって徐々に基板３から離れる。したが
って、空気の泡８がめつき液に及ぼす影響が基板３の上
下面で異なりカソード表面上におけるめっき液の流れを
全面に亙って均一にすることができなくなり、めっき膜
の膜厚分布等が基板３内で不均一になる欠点がある。
き装置では、バイブロから噴出する空気８が基板３の下
方で第２図に示すように基板３の近傍を流れるが、上方
に浮上するに伴なって徐々に基板３から離れる。したが
って、空気の泡８がめつき液に及ぼす影響が基板３の上
下面で異なりカソード表面上におけるめっき液の流れを
全面に亙って均一にすることができなくなり、めっき膜
の膜厚分布等が基板３内で不均一になる欠点がある。
本発明は上記欠点に鑑みてなされたもので、被めっき部
材の全面に亙って均等な厚さのめっき膜を形成できる電
気めっき装置を提供することを目的とする。
材の全面に亙って均等な厚さのめっき膜を形成できる電
気めっき装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段１
本発明は、めっき槽と、被めっき部材を担持したカソー
ドと、前記カソードと対向して配置されたアノードと、
前記カソードの下端部下方に空気発生手段とを備えた電
気めっき装置であって、前記カソード面が前記めっき槽
内のめっき液の水平面に対して傾斜して配置するように
したものである。
ドと、前記カソードと対向して配置されたアノードと、
前記カソードの下端部下方に空気発生手段とを備えた電
気めっき装置であって、前記カソード面が前記めっき槽
内のめっき液の水平面に対して傾斜して配置するように
したものである。
［実施例］
次に、本発明の実施例について第１図を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図において、第２図と同一構成のものについては同
じ符号で示している。
じ符号で示している。
図において、めっき槽１内に満たされためっき液７の中
にアノード４とカソード治具２が略平行に配置して置か
れている。めっき処理がなされる基板３は、めっきが施
される面がカソード治具４と路間−の面となるようにカ
ソード治具２に固定されている。このカソード治具２及
び基板３の表面とめっき液７の液面とのなす角θは約３
０゜で固定されている。この傾斜されたカソード治具２
の下端部２ａの下方にめっき液７の撹拌用の空気を噴出
する穴を形成したバイブロをめっき槽ｌの底部に配置し
ている。したがって、このバイブロにはめっき時に清浄
空気若しくはチッ素ガスが通され、発生した泡８がカソ
ード治具２の下端部２ａの下面から上端部２ｂの下面に
沿って流れる。このアノード４側に電源５の＋側電極、
カソード治具２側に電源５の一側電極が接続されて直流
若しくはパルス電流を印加することによりめっき処理が
なされる。
にアノード４とカソード治具２が略平行に配置して置か
れている。めっき処理がなされる基板３は、めっきが施
される面がカソード治具４と路間−の面となるようにカ
ソード治具２に固定されている。このカソード治具２及
び基板３の表面とめっき液７の液面とのなす角θは約３
０゜で固定されている。この傾斜されたカソード治具２
の下端部２ａの下方にめっき液７の撹拌用の空気を噴出
する穴を形成したバイブロをめっき槽ｌの底部に配置し
ている。したがって、このバイブロにはめっき時に清浄
空気若しくはチッ素ガスが通され、発生した泡８がカソ
ード治具２の下端部２ａの下面から上端部２ｂの下面に
沿って流れる。このアノード４側に電源５の＋側電極、
カソード治具２側に電源５の一側電極が接続されて直流
若しくはパルス電流を印加することによりめっき処理が
なされる。
上記構成からなる電気めっき装置により基板３に対して
めっき処理をするには、めっき槽ｌ内にめっき液を満た
してアノード４とカソード治具２間に電流を供給する。
めっき処理をするには、めっき槽ｌ内にめっき液を満た
してアノード４とカソード治具２間に電流を供給する。
そして、バイブロに形成された穴から空気を噴出させる
ことによってめっき液７を撹拌させ空気の泡８がカソー
ド治具・２の下面に沿って流れることにより基板３の全
面に亙って均一な膜厚でめっき膜が形成される。
ことによってめっき液７を撹拌させ空気の泡８がカソー
ド治具・２の下面に沿って流れることにより基板３の全
面に亙って均一な膜厚でめっき膜が形成される。
なお、上記実施例ではめっき液７の液面とカソード治具
２のなす角とが３０″としたが、２０″〜６０＠の範囲
であればよい。
２のなす角とが３０″としたが、２０″〜６０＠の範囲
であればよい。
［発明の効果］
以上説明したように本発明は、被めっき部材な担持した
カソードを傾斜させるようにしたので、撹拌された空気
の泡が被めっき部材が担持されたカソードの面に沿って
流れるので均一な膜厚でめっき膜を形成できる効果があ
る。
カソードを傾斜させるようにしたので、撹拌された空気
の泡が被めっき部材が担持されたカソードの面に沿って
流れるので均一な膜厚でめっき膜を形成できる効果があ
る。
第１図は本発明の一実施例である電気めっき装置の断面
図、第２図は従来の電気めっき装置の断面図である。 ｌ・・・めっき槽、２・・・カソード治具、３・・・基
板、４・・・アノード、５・・・電源、６・・・パイプ
、７・・・めっき液、８・・・空気の泡。
図、第２図は従来の電気めっき装置の断面図である。 ｌ・・・めっき槽、２・・・カソード治具、３・・・基
板、４・・・アノード、５・・・電源、６・・・パイプ
、７・・・めっき液、８・・・空気の泡。
Claims (2)
- （１）めっき槽と、被めっき部材を担持したカソードと
、前記カソードと対向して配置されたアノードと、前記
カソードの下端部下方に空気発生手段とを備えた電気め
っき装置であつて、前記カソード面が前記めつき槽内の
めっき液の水平面に対して傾斜して配置されるようにし
たことを特徴とする電気めっき装置。 - （２）前記カソード面とめっき液の水平面とのなす角は
２０゜から６０゜であることを特徴とする請求項１記載
の電気めっき装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8340690A JPH03285098A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 電気めっき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8340690A JPH03285098A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 電気めっき装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03285098A true JPH03285098A (ja) | 1991-12-16 |
Family
ID=13801549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8340690A Pending JPH03285098A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 電気めっき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03285098A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1061157A1 (en) * | 1998-03-02 | 2000-12-20 | Ebara Corporation | Substrate plating device |
| JP2019044233A (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-22 | フソー株式会社 | めっき処理装置、めっき処理方法、及びめっき対象物の保持具 |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP8340690A patent/JPH03285098A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1061157A1 (en) * | 1998-03-02 | 2000-12-20 | Ebara Corporation | Substrate plating device |
| JP2019044233A (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-22 | フソー株式会社 | めっき処理装置、めっき処理方法、及びめっき対象物の保持具 |
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