JPS6277494A - プリント基板のメツキ装置 - Google Patents

プリント基板のメツキ装置

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JPS6277494A
JPS6277494A JP21620585A JP21620585A JPS6277494A JP S6277494 A JPS6277494 A JP S6277494A JP 21620585 A JP21620585 A JP 21620585A JP 21620585 A JP21620585 A JP 21620585A JP S6277494 A JPS6277494 A JP S6277494A
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JP
Japan
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printed circuit
circuit board
plating
hole
holes
Prior art date
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Pending
Application number
JP21620585A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Kato
浩二 加藤
Ryoji Koshio
小塩 良次
Fumitaka Hayata
早田 文隆
Noriharu Sasaki
佐々木 典令
Toshio Yamadera
山寺 利夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Plant Technologies Ltd
Original Assignee
Hitachi Plant Technologies Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Plant Technologies Ltd filed Critical Hitachi Plant Technologies Ltd
Priority to JP21620585A priority Critical patent/JPS6277494A/ja
Publication of JPS6277494A publication Critical patent/JPS6277494A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/241Reinforcing the conductive pattern characterised by the electroplating method; means therefor, e.g. baths or apparatus
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0085Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
    • H05K3/0088Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor for treatment of holes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はプリント基板のメッキ装置に係り、特に、多数
のスルーホールを有するプリント基板に通用するのに最
適なプリント基板のメッキ装置に関する= 〔発明の背景〕 電子機器等に用いられるプリント基板は、両面又は多層
にプリント基板を設けた場合、両面又は多層間の回路は
スルーホールを用いて接続されるが、このスルーホール
内のメッキは、電子回路の誤動作や不動作を防止するた
めには確実且つ十分に行なわていることが要求される。
特に、スルーホールのメツキネ良は外部から識別するこ
とが難しく、部品等を装着した後ではチェックの方法が
無いため、充分なメッキを事前に施すことは極めて重要
である。
近年、プリント基板に対する需要が広範囲になり、且つ
経済性、信頼性に優れた高密度で高精度のプリント基板
が要求されている。例えば、高密度化に対しては、アス
ペクト比(プリント基板の厚さ/スルーホール径)が従
来の1〜2に対し、5或いは10程度の高アスペクト比
を有する基板が要求されている。このような極めて小径
のスル−ホール内部をメッキする方法としては、無電解
による化学メッキがある。かかる、化学メッキでは、数
10μmのメッキ厚を得るためには長時間を要すること
から、最初にスルーホール内部の絶縁部に無電解メッキ
によって約0.5μmの厚さにし、その後に電気メッキ
で約35μmの厚さにする処理が施されている。しかし
、スルーホールの径が極めて小さいため、メッキ液の供
給が不十分となり、メッキ厚が不均一になるという問題
がある。
また、電気メッキを高速化し、量産性を高めるためには
、電流密度を大きくすることによって達成されるが、メ
ッキ反応(電極反応)においては限界電流密度があるた
め、この値以上に大きくすることができない。この限界
電流密度は電解条件によって変わることから、最適電解
条件を選定し、限界電流密度を大きくしてやることによ
り、高速化を図ることができる。電気メツキ反応におけ
る限界電流密度idは、金属イオンの拡散に基づく濃度
分極によって決り、次式で表わされる。
i d=nxFxDXC/δ 但し、 n:金属イオンの荷電数(e q u i v/mo 
I)F:ファラデ一定数 (Coul/equiv)D
:金属イオンの拡散係数(CJ1/ s e c )C
:バルクの金属イオン濃度(mol/c♂)δ:拡散層
の厚さくan) 前記の式より明らかなように、限界電流密度idを大き
くするためには、Cを大きくするか、もしくはδを小さ
くすることによって実現できる。Cはメッキ液中の金属
イオンが上限に設定されているので、変えることはでき
ず、δのみを小さくすることが可能である。このδはメ
ッキ液を攪拌することによって実現できる。
この問題及び前記メッキ厚の不均一の問題を解決するた
め、従来、バブリング装置を設けたプリント基板のメン
キ装置が用いられる。第8図は従来のメッキ装置で、図
に示すようにメッキ電解槽10には調整した酸性硫酸銅
液(CuSOn75g / 12 、Hz S Oaを
190g/j!、その他の添加剤)等によるメッキ液1
2が満され、電解槽10の中央にプリント基板14がメ
ッキ液12に浸され、クランプ治具16によって係止さ
れる。又、基板14はクランプ治具16を介して電源1
8の陰極に接続される。一方、槽10内の両側面の付近
にチタンバスケットで形成され銅ボールが挿入される陽
極板20が設けられ、電源18に接続される。これによ
り、電流が陽極板20からプリント基板14に流れ、プ
リント基板14が電気メッキされる。又、この時に槽1
0の底面に設けたバブリング攪拌袋W22によってメッ
キ液は攪拌される。
又、プリント基板14は、第9図に示すように、エポキ
シ樹脂等を用いた絶縁板24(内部に銅箔26が多層に
形成されている)にスルーホール28が形成され、その
外表面及びスルーホール28内には化学銅メッキ層30
が施され、更に、該メッキ層30の表面に電気銅メッキ
層32が施される。
しかしながら、前記装置による場合には、スルーホール
28内のメッキ厚は、化学銅メッキ層30が一定である
のに対し、電気銅メッキ132は、メッキ液の移動が無
いためにスルーホール28のエツジ部にメッキが集中し
、厚みが不均一になる。又、プリント基板に垂直あるい
は斜め方向から高速水流を噴射したり、プリント基板に
機械的振動を加え、槽内でプリント基板を揺動させたり
、槽内で超音波振動を発生させ、プリント基板の表面の
液を振動させたりしても不具合は解消されない。
〔発明の目的〕
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ス
ルーホール内のメッキを均一に且つ高速に行なうことの
できるプリント基板のメッキ装置を提案することを目的
としている。
〔発明の概要〕 本発明は前記目的を達成する為に、プリント基板を移動
させながら直流電圧を印加して電気メッキを施すプリン
ト基板のメッキ装置に於いて、前記プリント基板を保持
して移動方向に沿って移動させるコンベアと、プリント
基板の移動方向に沿ってプリント基板の両側に配置した
電解セルとから構成され、電解セルの側面にプリント基
板のスルーホール内に向けてスプレするメッキ液のノズ
ル孔を形成すると共に両側のノズル孔はプリント基板の
スルーホールと交互に位置合わせされていることを特徴
とする。
〔実施例〕
以下、添付図面に従って本考案に係るプリント基板のメ
ッキ装置の好ましい実施例を詳説する。
第1図は本発明に係るプリント基板のメッキ装置の斜視
図である。第1図で示すようにプリント基板のメッキ装
置には相互に対向して筐体状の電解セル36Lと電解セ
ル36Rとが設けられる。
各電解セル36L、36L、36L・・・、36R13
6R136R・・・は連設され、電解セル36Lと電解
セル36Rとの離間部はプリント基板14の移動通路3
4を形成する。各電解セル36L、36Rには供給管3
8が接続され、メッキ液12は供給管38から各電解セ
ル36L、36R内に供給される。各電解セル36L、
36R間の移動通路34に面する側壁には多数のノズル
孔40が上下及び横方向に一定間隔に形成され、供給メ
ッキ液12はノズル孔40から移動通路34のプリント
基板14に向けてスプレされる。プリント基板14はク
ランプ16の下端部に挟持され、クランプ16の上端は
移動コンベア41に保持される。コンベア41はプリン
ト基板14の移動通路34に沿って上方に架設され、複
数枚のプリント基板14を連続又は間欠的に第1図に示
す矢印Aの方向に移動させてメッキ処理をする。
第2図は第1図のn−n線に沿う断面図で、プリント基
板14は第1図に於ける連設された電解セルのうち第1
番目(左端)の電解セル36Lと電解セル36Rとの間
に位置している。第2図に示すように左側の電解セル3
6Lのノズル孔40はプリント基板14の上下及び横方
向に沿って一定間閑に形成されたスルーホール2Bに対
向して配置されており、電解セル36Lからのスプレメ
ッキ液12はスルーホール28にスプレされる。
スルーホール28にスプレされたメッキ液12には第3
図に詳細に示すようにスルーホール28内で左から右方
向に通流する。一方、電解セル36Rのノズル孔40は
第2図に示すように基板14のスルーホール28からず
らして配置されているので、電解セル36Rからのスプ
レメッキ液12はスルーホール28内にスプレされない
第4図は第1図のIV−IV線に沿う断面図で、プリン
ト基板14は第1図に於いて連設された電解セルのうち
2番目の電解セル36L、36Rとの間に位置している
。第4図に示すように左側の電解セル36Lのノズル孔
40は基板14のスルーホール28からずらして配置さ
れている。このため電解セル36Lからのスプレメッキ
液12はスルーホール28内にスプレされない。一方、
右側の電解セル36Rのノズル孔40はスルーホール2
8に対向して配置され、電解セル36Rからのスプレメ
ッキ液12はスルーホール28内にスプレされて右から
左方向に通流する。
このような第1図に於ける1番目の電解セル36L、3
6Rの構成と2番目の電解セル36L、36Rとの関係
は後段の連設電解セル36L、36L・・・、36R1
36R・・・に於いても通用され、3番目以降の電解セ
ル36L、36Rは交互にノズル孔40がずらして配置
されている。
これにより、一定の速度で移動するプリント基板14の
スルーホール28は左側と右側とから交互に周期的にス
プレメッキ液12を受け、メッキ液12は交互に液流方
向を反転してスルーホール28内を通流することになる
尚、プリント基板14は連続的又は間欠的に複数枚移動
処理されるが、移動コンベア32に吊り下げられた基板
14は1つ置きに吊り下げ位置が一定に低くしてあり、
スルーホール28の高さは1つ置きに変えである。この
ように基板14を1つ置きに変えたのは、第1図に於け
る1番目の右側の電解セル36R及び2番目の左側の電
解セル36Lの利用されなかったスプレメッキ液12を
高さを変えて低(した基板14のスルーホール28に適
用するためである。
又、プリント基板14の移動通路34に沿って下方には
調整槽42が設けられ、調整槽42にはスルーホール2
8を通流したメッキ液12が流れ落ちる。調整槽42の
メッキ液には回収管44を介して図示しない吸引ポンプ
に吸引されて吸引ポンプから再び供給管38を通って各
電解セル36L、36Rに供給されている。
電解セル36L、36R内にはチタンバスケット20が
配置され、バスケット20内には銅ボールが収納されて
いる。このバスケット20は図示しない電源に接続され
、バスケット20は銅ボールと共に陽極に荷電される。
一方、移動コンベア32の下方にはカーボンブラシ46
が通路34に沿って所定間隔に設けられ、カーボンブラ
シ46は図示しない電極の陰極に接続されている。基板
14のクランプ16は移動に際してカーボンブラシ46
と摺接し、この摺接によってプリント基板14は移動し
ながらクランプ16及びブラシ46を介して陰極に荷電
される。
このように通電された状態でスプレメッキ液12がスル
ーホール28内に吹きつけられて通流されると、スルー
ホール28内はメッキされる。
前記の如く構成された本発明によればプリント基板14
はコンベア41によって移動通路34を移動し、プリン
ト基板14のスルーホール28は基板14の移動と共に
メッキが施される。移動する基板14のスルーホール2
8内には左側と右側とから交互に電解セル36L、36
Rのメッキ液がスプレされる。左側からのスプレメッキ
液12はスルーホール28内を左から右方向に通流し、
右側からのスプレメッキ液12はスルーホール28内を
右から左方向に通流する。これにより、一定の速度で移
動通路34を移動するプリント基板14に於いてメッキ
液12は第5図に示すようにスルーホール28内を周期
的に反転されて往復流通される。このようなメッキ液1
2の周期的往復流れは、スルーホール28内の拡散層δ
を減少させ、電気メッキを均一、且つ高速に行うことが
できる。
例えばアスペクト比2のプリント基板14を用いスルー
ホール28内の通流方向反転周期を15sec、電流密
度10A/drrr、メッキ時間を20分として電気メ
ッキを行なうと、約35μm厚の均一な電気メツキ層が
スルーホール内28に形成され、従来の装置に比べて3
倍以上の高速化が図れる。
第6図は本発明に係るプリント基板のメッキ装置の第2
実施例を示す斜視図である。第5図に示すように電解セ
ル36Lと電解セル36Rとはプリント基板14の移動
通路側方に位置をずらして交互に配置され、電解セル3
6Lと電解セル36Rとは相互に対向しないように設け
られている。
電解セル36Lは第7図の断面図に示すようにノズル孔
40がプリント基板14のスルーホール28に対向する
ように電解セル36Lの側面に形成され、ノズル孔40
からのスプレメッキ液12は基板14の全てのスルーホ
ール28にスプレされ、スルーホール28内にメッキ液
12が通流される。又、電解セル36Rは電解セル36
Lと同様にノズル孔40がすべての全てのスルーホール
28に対向配置され、メッキ液12が全てのスルーホー
ル28にスプレされて流通される。このような構成に於
いて、スルーホール28内でメッキ液12は周期的に通
流方向が反転されるので、スルーホール28内の拡散層
δは小さくなり、第1実施例と同様にスルーホール28
内は均−且つ高速でメッキされる。
以上においては、プリント基板のスルーホールにメッキ
する場合を例に説明したが、スルーホール以外の物、例
えば、金属板、プラスチック板等に対するメッキにも適
用可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明に係るプリント基板のメッキ
装置によれば、プリント基板のスルーホール内にメッキ
液を強制的に流通することができるので、プリント基板
のスルーホール内均−な厚みのメッキを施すことができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示−す斜視図、第2図
は第1図のn−n線に沿う断面図、第3図は第2図のA
部の部分拡大断面図、第4図は第1図のIV−IV線に
沿う断面図、第5図は第1の実施例によるメッキ処理の
説明図、第6図は本発明の第2の実施例を示す斜視図、
第7図は第6図の■−■線に沿う断面図、第8図は従来
のメッキ装置の断面図、第9図は従来のメッキ装置によ
るメッキ処理の説明図である。 12・・・メッキ液、  14・・・プリント基板、 
 28・・・スルーホール、 34・・・移動通路、 
36L、36R・・・電解セル、 40・・・ノズル孔
、 41・・・移動コンベア、  46・・・カーボン
ブラシ。 日立プラント建設株式会社 第4図 第5図 第7図 第8図 第9図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  プリント基板を移動させながら直流電圧を印加して電
    気メッキを施すプリント基板のメッキ装置に於いて、前
    記プリント基板を保持して移動方向に沿って移動させる
    コンベアと、プリント基板の移動方向に沿ってプリント
    基板の両側に配置した電解セルとから構成され、電解セ
    ルの側面にプリント基板のスルーホール内に向けてスプ
    レするメッキ液のノズル孔を形成すると共に両側のノズ
    ル孔はプリント基板のスルーホールと交互に位置合わせ
    されていることを特徴とするプリント基板のメッキ装置
JP21620585A 1985-10-01 1985-10-01 プリント基板のメツキ装置 Pending JPS6277494A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100349582B1 (ko) * 2000-10-02 2002-08-24 이범형 피씨비단자부 금도금장치
WO2003033774A1 (fr) * 2001-10-15 2003-04-24 Marunaka Kogyo Co., Ltd. Dispositif de plaquage par transfert immerge pourvu de tubes de projection de fluide de plaquage
KR100633043B1 (ko) 2004-09-16 2006-10-11 주식회사 티케이씨 구리 도금장치
JP2007180359A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Shinko Electric Ind Co Ltd スルーホールの充填方法

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