JPH03283552A - 混成集積回路基板 - Google Patents
混成集積回路基板Info
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- JPH03283552A JPH03283552A JP2083862A JP8386290A JPH03283552A JP H03283552 A JPH03283552 A JP H03283552A JP 2083862 A JP2083862 A JP 2083862A JP 8386290 A JP8386290 A JP 8386290A JP H03283552 A JPH03283552 A JP H03283552A
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は半導体チップを実装した混成集積回路基板に関
する。
する。
(従来の技術)
近年、回路パターンを有する回路基板本体に1c9Ls
lなどの半導体チップを実装した混成集積回路基板が各
種の分野に多用されている。
lなどの半導体チップを実装した混成集積回路基板が各
種の分野に多用されている。
従来の混成集積回路基板としては第3図及び第4図に示
す構成のものが知られている。第3図は混成集積回路基
板を示す断面図であり、第4図は第3図の混成集積回路
基板の保護樹脂層及びダム用枠を省略した平面図である
。回路基板本体】1は、絶縁基材I2上に回路パターン
13を形成した構造になっている。半導体チップ15は
、前記本体11の所望の回路パターン(ダイパッド)に
ダイボンディングされている。ワイヤ16は、前記本体
11の回路パターン13と前記チップ15上面の電極パ
ッドとを結線している。ダム用枠17は、前記チップ1
5及びワイヤ16周辺の前記本体ll上に接着層18を
介して固定されている。前記ダム用枠17の固定は、エ
ポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂などの液状樹脂を例え
ばデイスペンサーなどの装置を用いて描画しながら塗布
して前記チップ15及びワイヤ16周辺の前記本体ll
上に接着層18を形成し、この接着層18上にダム用枠
17を載置した後、該接着層18を熱などで硬化して接
芒する方法により行われる。保護樹脂層20は、前記ダ
ム用枠17で囲まれた前記本体11上に前記チップ15
及びワイヤ16を封止するように設けられている。前記
保護樹脂層20は、エポキシ系樹脂などの保護用液状樹
脂を前記ダム周枠17内にコーティングなどにより充填
した後、該液状樹脂を熱硬化して形成される。
す構成のものが知られている。第3図は混成集積回路基
板を示す断面図であり、第4図は第3図の混成集積回路
基板の保護樹脂層及びダム用枠を省略した平面図である
。回路基板本体】1は、絶縁基材I2上に回路パターン
13を形成した構造になっている。半導体チップ15は
、前記本体11の所望の回路パターン(ダイパッド)に
ダイボンディングされている。ワイヤ16は、前記本体
11の回路パターン13と前記チップ15上面の電極パ
ッドとを結線している。ダム用枠17は、前記チップ1
5及びワイヤ16周辺の前記本体ll上に接着層18を
介して固定されている。前記ダム用枠17の固定は、エ
ポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂などの液状樹脂を例え
ばデイスペンサーなどの装置を用いて描画しながら塗布
して前記チップ15及びワイヤ16周辺の前記本体ll
上に接着層18を形成し、この接着層18上にダム用枠
17を載置した後、該接着層18を熱などで硬化して接
芒する方法により行われる。保護樹脂層20は、前記ダ
ム用枠17で囲まれた前記本体11上に前記チップ15
及びワイヤ16を封止するように設けられている。前記
保護樹脂層20は、エポキシ系樹脂などの保護用液状樹
脂を前記ダム周枠17内にコーティングなどにより充填
した後、該液状樹脂を熱硬化して形成される。
しかしながら、従来の混成集積回路基板では接着層18
上にダム用枠17を載置すると、該接着層1Bの流動性
により該ダム用枠17が所定の位置からずれてしまう。
上にダム用枠17を載置すると、該接着層1Bの流動性
により該ダム用枠17が所定の位置からずれてしまう。
ダム用枠17は、混成集積回路基板への高密度実装を図
る観点から、寸法の小さいものが用いられており、これ
に伴ってダム用枠17の内側面とその内側のワイヤ16
がボンディングされる回路パターン13部分とが近接さ
れる。かかるダム用枠17の=J法及びその内側部材と
の位置関係から、前述したようにダム用枠17が所定の
位置からずれると、該ダム用枠17の内側面が前記回路
パターン13にボンディングされたワイヤ16に接触し
て断線に至るという問題を生じる。
る観点から、寸法の小さいものが用いられており、これ
に伴ってダム用枠17の内側面とその内側のワイヤ16
がボンディングされる回路パターン13部分とが近接さ
れる。かかるダム用枠17の=J法及びその内側部材と
の位置関係から、前述したようにダム用枠17が所定の
位置からずれると、該ダム用枠17の内側面が前記回路
パターン13にボンディングされたワイヤ16に接触し
て断線に至るという問題を生じる。
なお、前記接る層18の流動性を抑制するために粘性の
高い液状樹脂を用いて接着層を形成することが考えられ
るが、粘性が高いことによる塗布作業能率の著しい低下
を招き、実際に採用するのが困難である。
高い液状樹脂を用いて接着層を形成することが考えられ
るが、粘性が高いことによる塗布作業能率の著しい低下
を招き、実際に採用するのが困難である。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、従来の問題点を解決するためになされたもの
で、ダム用枠が精度よく位置決めされ、該ダム用枠の内
側の回路パターンにボンディングされたワイヤの切断等
を防止した高信頼性の混成集積回路基板を提供しようと
するものである。
で、ダム用枠が精度よく位置決めされ、該ダム用枠の内
側の回路パターンにボンディングされたワイヤの切断等
を防止した高信頼性の混成集積回路基板を提供しようと
するものである。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、絶縁及村上に回路パターンを有すると共に該
回路パターンの外部接続領域を除く表面に保護被膜を有
する回路基板本体と、前記本体の所望の回路パターンに
ダイボンディングされた半導体チップと、前記本体の回
路パターンと前記チップ上面の電極パッドとを結線する
ワイヤと、前記チップ及びワイヤ周辺の前記本体上に形
成された枠状の接着層と、前記本体上に前記接着層を介
して固定されたダム用枠と、前記ダム用枠で囲まれた前
記本体上に前記チップ及びワイヤを封止するように設け
られた保護樹脂層とを具備した混成集積回路基板におい
て、前記接着層が形成されるべき前記保護被膜の枠状領
域における各辺部の一部に開口部を少なくとも形成した
ことを特徴とする混成集積回路基板である。
回路パターンの外部接続領域を除く表面に保護被膜を有
する回路基板本体と、前記本体の所望の回路パターンに
ダイボンディングされた半導体チップと、前記本体の回
路パターンと前記チップ上面の電極パッドとを結線する
ワイヤと、前記チップ及びワイヤ周辺の前記本体上に形
成された枠状の接着層と、前記本体上に前記接着層を介
して固定されたダム用枠と、前記ダム用枠で囲まれた前
記本体上に前記チップ及びワイヤを封止するように設け
られた保護樹脂層とを具備した混成集積回路基板におい
て、前記接着層が形成されるべき前記保護被膜の枠状領
域における各辺部の一部に開口部を少なくとも形成した
ことを特徴とする混成集積回路基板である。
(作用)
本発明によれば、ワイヤが結線され、ダイボンディング
された半導体チップ周囲の回路基板本体上に被覆された
保護被膜の特定箇所、つまり接着層が形成されるべき前
記保護被膜の枠状領域における各辺部の一部に開口部を
少なくとも形成し、この開口部を含む領域に枠状の接着
層を形成し、史に該接着層を介して前記本体上にダム用
枠を固定することによって、前記開口部に充填された接
着層箇所での横方向への流動性を該開口部の段差部で抑
制でき、ダム用枠の位置ずれを防止できる。
された半導体チップ周囲の回路基板本体上に被覆された
保護被膜の特定箇所、つまり接着層が形成されるべき前
記保護被膜の枠状領域における各辺部の一部に開口部を
少なくとも形成し、この開口部を含む領域に枠状の接着
層を形成し、史に該接着層を介して前記本体上にダム用
枠を固定することによって、前記開口部に充填された接
着層箇所での横方向への流動性を該開口部の段差部で抑
制でき、ダム用枠の位置ずれを防止できる。
つまり、枠状の接着層における少なくとも4つの辺部の
一部はその流動性が前記開口部により抑制されて初期位
置を維持されているため、前記接着層上にダム用枠を載
置した際、流動性か阻止されて初期位置が維持された接
着層部分によりダム用枠の位置ずれを防止できる。した
がって、従来のようにダム用枠の位置ずれに伴ってダム
用枠の内側面がその内側の回路パターンにボンディング
されたワイヤに接触して断線に至らしめるという問題を
解消でき、該ダム用枠内に保護樹脂層を設けることによ
って半導体チップ及びワイヤが良好に封止された高信頼
性の混成集積回路基板を得ることができる。
一部はその流動性が前記開口部により抑制されて初期位
置を維持されているため、前記接着層上にダム用枠を載
置した際、流動性か阻止されて初期位置が維持された接
着層部分によりダム用枠の位置ずれを防止できる。した
がって、従来のようにダム用枠の位置ずれに伴ってダム
用枠の内側面がその内側の回路パターンにボンディング
されたワイヤに接触して断線に至らしめるという問題を
解消でき、該ダム用枠内に保護樹脂層を設けることによ
って半導体チップ及びワイヤが良好に封止された高信頼
性の混成集積回路基板を得ることができる。
(実施例)
以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例を示す混成集積回路基板の断
面図であり、第2図は第1図の混成集積回路基板のダム
用枠及び接着層を省略した平面図である。回路基板本体
lは、絶縁基材2上に回路パターン3が形成されている
と共に該回路パターン3の外部接続領域を除く表面に保
護被膜であるソルダーレジスト層4を形成した構造にな
っている。半導体チップ5は、前記本体1の所望の回路
パターン(ダイパッド)にダイボンディングされている
。ワイヤ6は、前記本体lの回路パターン3と前記チッ
プ5上面の電極パッドとを結線している。ダム用枠7は
、前記チップ5及びワイヤ6周辺の前記本体l上に接着
層8を介して固定されている。前記ダム用枠7の固定は
、エポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂などの液状樹脂を
例えばデイスペンサーなどの装置を用いて描画しながら
塗布して前記チップ5及びワイヤ6周辺の前記本体l上
に接着層8を形成し、この接着層8上にダム用枠7を載
置した後、該接着層8を熱などで硬化して接着する方法
により行われる。枠状の開口部9は、前記ソルダーレジ
スト層4に前記接着層8を全て充填するように形成され
ている。保護樹脂層10は、前記ダム用枠7で囲まれた
前記本体1上に前記チップ5及びワイヤ6を封止するよ
うに設けられている。前記保護樹脂層lOは、エポキシ
系樹脂などの液状樹脂をコーティングなどにより充填し
た後、該液状樹脂を熱硬化して形成される。
面図であり、第2図は第1図の混成集積回路基板のダム
用枠及び接着層を省略した平面図である。回路基板本体
lは、絶縁基材2上に回路パターン3が形成されている
と共に該回路パターン3の外部接続領域を除く表面に保
護被膜であるソルダーレジスト層4を形成した構造にな
っている。半導体チップ5は、前記本体1の所望の回路
パターン(ダイパッド)にダイボンディングされている
。ワイヤ6は、前記本体lの回路パターン3と前記チッ
プ5上面の電極パッドとを結線している。ダム用枠7は
、前記チップ5及びワイヤ6周辺の前記本体l上に接着
層8を介して固定されている。前記ダム用枠7の固定は
、エポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂などの液状樹脂を
例えばデイスペンサーなどの装置を用いて描画しながら
塗布して前記チップ5及びワイヤ6周辺の前記本体l上
に接着層8を形成し、この接着層8上にダム用枠7を載
置した後、該接着層8を熱などで硬化して接着する方法
により行われる。枠状の開口部9は、前記ソルダーレジ
スト層4に前記接着層8を全て充填するように形成され
ている。保護樹脂層10は、前記ダム用枠7で囲まれた
前記本体1上に前記チップ5及びワイヤ6を封止するよ
うに設けられている。前記保護樹脂層lOは、エポキシ
系樹脂などの液状樹脂をコーティングなどにより充填し
た後、該液状樹脂を熱硬化して形成される。
このような構成によれば、回路基板本体1上のソルダー
レジスト層4に枠状の前記開口部9を設け、この開口部
9内に接着層8を形成し、更に該接着層8を介して前記
本体1上にダム用枠7が固定されるように設けることに
よって、前記接着層8の横方向への流動が前記開口部9
の段差部で抑制でき、ダム用枠7の位置ずれを防止でき
る。その結果、ダム用枠の位置ずれによるワイヤ6の切
断等を防止できる。
レジスト層4に枠状の前記開口部9を設け、この開口部
9内に接着層8を形成し、更に該接着層8を介して前記
本体1上にダム用枠7が固定されるように設けることに
よって、前記接着層8の横方向への流動が前記開口部9
の段差部で抑制でき、ダム用枠7の位置ずれを防止でき
る。その結果、ダム用枠の位置ずれによるワイヤ6の切
断等を防止できる。
また、開口部9を枠状にすれば、回路パターン30段差
によって絶縁基材2とダム用枠7との両部月間に生じる
空隙を前記開口部9全体に充填された接着層8で十分に
埋めることができるため、該部材間からの保護樹脂層l
Oを形成する際の液状樹脂の漏れ出しも防止できる。更
に、回路基板本体lの表面から半導体チップ5までの間
に接着層8、ソルダーレジスト層4の一部及び保護樹脂
層10の3層の樹脂をコートした構成であるため、前記
本体1の表面から半導体チップ5への水分などの浸透を
十分に防11−することができる。
によって絶縁基材2とダム用枠7との両部月間に生じる
空隙を前記開口部9全体に充填された接着層8で十分に
埋めることができるため、該部材間からの保護樹脂層l
Oを形成する際の液状樹脂の漏れ出しも防止できる。更
に、回路基板本体lの表面から半導体チップ5までの間
に接着層8、ソルダーレジスト層4の一部及び保護樹脂
層10の3層の樹脂をコートした構成であるため、前記
本体1の表面から半導体チップ5への水分などの浸透を
十分に防11−することができる。
更に、前述した接着層8を形成する際の液状樹脂として
比較的粘性の低いものを用いることもできるため、塗布
性などが阻害されず、接着層8を効率よく形成すること
が可能となる。
比較的粘性の低いものを用いることもできるため、塗布
性などが阻害されず、接着層8を効率よく形成すること
が可能となる。
なお、前記実施例では開口部を枠状にしたが、これに限
定されない。例えば第5図に示すように接着層が形成さ
れるべきソルダーレジスト層の枠状領域8aにおける各
辺部の中央部にのみ4つの開口部9を形成した構成、又
は第6図に示すようにソルダーレジスト層の枠状領域8
aにおける各辺部のコーナ一部にのみ4つの開口部9を
形成した構成にしてもよく、要は前記ソルダーレジスト
層の枠状領域における各辺部の一部に開口部を少なくと
も形成すれば前述した実施例と同様にダム用枠の位置す
れを防止できる。
定されない。例えば第5図に示すように接着層が形成さ
れるべきソルダーレジスト層の枠状領域8aにおける各
辺部の中央部にのみ4つの開口部9を形成した構成、又
は第6図に示すようにソルダーレジスト層の枠状領域8
aにおける各辺部のコーナ一部にのみ4つの開口部9を
形成した構成にしてもよく、要は前記ソルダーレジスト
層の枠状領域における各辺部の一部に開口部を少なくと
も形成すれば前述した実施例と同様にダム用枠の位置す
れを防止できる。
[発明の効果]
以上詳述した如く、本発明によればダム用枠か精度よく
位置決めされ、該ダム用枠の内側の回路パターンにボン
ディングされたワイヤの切断等を防止して信頼性か向上
した高密度実装可能な混成集積回路基板を提供すること
ができる。
位置決めされ、該ダム用枠の内側の回路パターンにボン
ディングされたワイヤの切断等を防止して信頼性か向上
した高密度実装可能な混成集積回路基板を提供すること
ができる。
第1図は本発明の一実施例を示す混成集積回路基板の断
面図、第2図は第1図の混成集積回路基板の一部を省略
した平面図、第3図は従来の混成集積回路基板を示す断
面図、第4図は第3図の混成集積回路基板の一部を省略
した平面図、第5図及び第6図はそれぞれ本発明の他の
実施例の混成集積回路基板における開口部の形態を示す
平面図である。 l・・・回路基板本体、2・・・絶縁基材、3・・・回
路パターン、4・・・ソルダーレジスト層(保護被膜)
、5・・・半導体チップ、 6・・・ワイヤ、 7・・・ダム用枠、 8・・・接着層、 9・・・開口部、 lO・・・保護樹脂層。
面図、第2図は第1図の混成集積回路基板の一部を省略
した平面図、第3図は従来の混成集積回路基板を示す断
面図、第4図は第3図の混成集積回路基板の一部を省略
した平面図、第5図及び第6図はそれぞれ本発明の他の
実施例の混成集積回路基板における開口部の形態を示す
平面図である。 l・・・回路基板本体、2・・・絶縁基材、3・・・回
路パターン、4・・・ソルダーレジスト層(保護被膜)
、5・・・半導体チップ、 6・・・ワイヤ、 7・・・ダム用枠、 8・・・接着層、 9・・・開口部、 lO・・・保護樹脂層。
Claims (1)
- 絶縁基材上に回路パターンを有すると共に該回路パタ
ーンの外部接続領域を除く表面に保護被膜を有する回路
基板本体と、前記本体の所望の回路パターンにダイボン
ディングされた半導体チップと、前記本体の回路パター
ンと前記チップ上面の電極パッドとを結線するワイヤと
、前記チップ及びワイヤ周辺の前記本体上に形成された
枠状の接着層と、前記本体上に前記接着層を介して固定
されたダム用枠と、前記ダム用枠で囲まれた前記本体上
に前記チップ及びワイヤを封止するように設けられた保
護樹脂層とを具備した混成集積回路基板において、前記
接着層が形成されるべき前記保護被膜の枠状領域におけ
る各辺部の一部に開口部を少なくとも形成したことを特
徴とする混成集積回路基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2083862A JPH03283552A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 混成集積回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2083862A JPH03283552A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 混成集積回路基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03283552A true JPH03283552A (ja) | 1991-12-13 |
Family
ID=13814490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2083862A Pending JPH03283552A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 混成集積回路基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03283552A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6020219A (en) * | 1994-06-16 | 2000-02-01 | Lucent Technologies Inc. | Method of packaging fragile devices with a gel medium confined by a rim member |
KR20000015580A (ko) * | 1998-08-31 | 2000-03-15 | 김규현 | 반도체 패키지용 써킷테이프 |
US6709614B1 (en) * | 1998-01-07 | 2004-03-23 | Henniges Elastomer- Und Kunststofftechnik Gmbh & Co. Kg | Method for producing a connection between a component and a structural element |
KR100505391B1 (ko) * | 1997-12-16 | 2005-11-14 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체패키지및그제조방법 |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP2083862A patent/JPH03283552A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6020219A (en) * | 1994-06-16 | 2000-02-01 | Lucent Technologies Inc. | Method of packaging fragile devices with a gel medium confined by a rim member |
KR100505391B1 (ko) * | 1997-12-16 | 2005-11-14 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체패키지및그제조방법 |
US6709614B1 (en) * | 1998-01-07 | 2004-03-23 | Henniges Elastomer- Und Kunststofftechnik Gmbh & Co. Kg | Method for producing a connection between a component and a structural element |
KR20000015580A (ko) * | 1998-08-31 | 2000-03-15 | 김규현 | 반도체 패키지용 써킷테이프 |
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