JPH03275691A - 2,2’―ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)―6,6’―ジメチル―1,1’―ビフェニルを配位子とする錯体,およびその錯体を用いた有機カルボン酸とそのエステルの製造方法 - Google Patents

2,2’―ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)―6,6’―ジメチル―1,1’―ビフェニルを配位子とする錯体,およびその錯体を用いた有機カルボン酸とそのエステルの製造方法

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JPH03275691A JP2178519A JP17851990A JPH03275691A JP H03275691 A JPH03275691 A JP H03275691A JP 2178519 A JP2178519 A JP 2178519A JP 17851990 A JP17851990 A JP 17851990A JP H03275691 A JPH03275691 A JP H03275691A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、新規なホスフィン化合物に関するものである
。さらに、各種の有機合成反応、特に不斉水素化、不斉
異性化又は不斉シリル化等の各反応の触媒として用いら
れる。この新規なホスフィン化合物とロジウム、ルテニ
ウム又はパラジウム等の遷移金属との錯体及びそれらの
錯体を用いたカルボン酸とそのエステルの製造方法に関
するものである。
[従来技術] 金属錯体を触媒とする有機合成反応は古くから用いられ
、多くの目的のために活用されてきた。
特に不斉合成、すなわち不斉異性化反応、不斉水素化反
応等に用いられる不斉触媒について多くの報告がなされ
ている。
例えば1日本化学会編「化学総説32 有機金属錯体の
化学」 (昭和57年発行)の第237頁ないし第23
8頁や、J、D、Morr i son著rAsytn
metric  5ynthesis」第5巻(198
5年発行、Academ i cPress、Inc、
)に記載されているように、触媒性能を高めるために特
殊な構造のホスフィン化合物が多数開発されている。そ
れらの中でもロジウム、ルテニウム、パラジウム等の金
属元素にキラルな第3級ホスフィンを配位させた錯体の
中には不斉合成用触媒として優れた性能を持つものが多
い、中でも2.2°−ビス(ジフェニルホスフィノ)−
1,1’−ビナフチル(以下rBINAPJという。)
は優れたものの一つである(特開昭55−61937号
公報)。また、2.2°−ビス(ジフェニルホスフィノ
)−6゜6°−ジメチル−1,1’−ビフェニル(以下
「。
BTPHENPJという、)も不斉水素化に有効な触媒
成分となることが報告されている(特開昭63−135
397号公報)。
光学活性なカルボン酸の合成方法として、従来から採用
されている最も一般的な方法は、天然に由来する光学活
性なアルコールまたはアルデヒドを化学的に酸化して相
当するカルボン酸を得る方法、ラセミ体のカルボン酸を
光学活性なアミンで光学分割する方法、ラセミ体のカル
ボン酸をエステルに誘導した後に酵素または微生物の助
けを借りて部分加水分解を行ない、所望するカルボン酸
を得る方法などを挙げることができる。
このほか、不斉水素化を利用する方法としては、a、β
−不飽和カルポン酸をキラルな触媒の存在下に水素化し
て得ることができる。この場合には、目的とするカルボ
ン酸の種類によっては、じゅうぶんな結果を得ることも
できるが、一般にキラルな触媒の成分である光学活性な
ホスフィンの選択が重要で、汎用性の高いキシルホスフ
ィノ[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的、すなわち課題は、目的とする反応、また
その時に用いる反応基質において1選択性、持続性等の
面で十分な効果が得られる。従来の触媒性能を画期的に
高める新しいホスフィン化合物を開発することである。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは、優れた触媒性能を付与するホスフィン化
合物の開発を四指して鋭意研究を行い、軸性不斉を有す
る第3級ホスフィン化合物について検討を加えたところ
、2.2°−ビス(ジシクロへキシルホスフィノ)−6
,6°−ジメチル−1、lo−ビフェニルが、不斉合成
における立体選択性すなわち光学収率を著しく高めるこ
とを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。
(ビフェニル化合物) すなわち本発明は1次式 はいまだに多くは知られていない。
で表わされる新規なホスフィン化合物2.2゜−ビス(
ジシクロヘキシルホスフィノ)−6゜6゛−ジメチル−
1,ビービフェニル(以下rBIcHEPJという。)
を提供するものである。
(錯  体) 本発明はまた、BICHEPとロジウム、ルテニウム又
はパラジウムとの新規な錯体を提供するものである。
(BICHEPの製造方法) 本発明の新規なホスフィン化合物BICHEPは、例え
ば言下らによって日本化学会第58春季年会の講演予稿
集II (1989年)の第1492頁に発表された方
法に従って合成される。
すなわち、オルトトルイジン(2)を無水酢酸と処理し
てアミノ基をアセチル化して、N−アセチル−オルトト
ルイジン(3)とする。
次に、硝酸を用いてニトロ化反応を行って、2−アセチ
ルアミノ−3−ニトロトルエン(4)とした後に、塩酸
水で加水分解を行って、2−アミノ−3−ニトロトルエ
ン(5)を得る。
2−アミノ−3−ニトロトルエン(5)を、硫酸の存在
下に亜硝酸ナトリウムによりジアゾ化し、続いてヨウ化
カリウムの水溶液で処理することによって粗の2−ヨー
ド−3−ニトロトルニジ(6)を得る。このものを、エ
タノールから再結晶を行って淡黄色の純粋なものとする
2−ヨード−3−二トロトルエン(6)を、銅粉末の存
在下に200℃で10時間攪拌して反応させた後、ベン
ゼンを溶媒とするソックスレー抽出により、6.6°−
ジメチル−2,2°−ジニトロ−1,lo−ビフェニル
(7)を得る。
6.6°−ジメチル−2,2゛−ジニトロ−1,1’−
ビフェニル(7)は、ラネーニッケル−W2型触媒の共
存下に抱水ヒドラジンを水素源とする水素化により、6
,6゛−ジメチル−2゜2°−ジアミノビフェニル(8
)へと誘導される。
触媒を除去した後、溶媒を減圧下に除いて、淡黄色の6
.6゛−ジメチル−2,2°−ジアミノビフェニル(8
)を得る。
次に、47%臭化水素酸に6.6°−ジメチル−2,2
°−ジアミノビフェニル(8)を溶解し、水冷下(0℃
)に亜硝酸ナトリウムの水溶液をゆっくり滴下し、−5
℃〜−3℃で2.5時間攪拌する。この溶液を、別に用
意した臭化第一銅の47%臭化水素酸還流液中に徐々に
加え、添加後さらに2.5時間加熱、還流する。
反応液中に、塩化メチレンと水を加え、攪拌した後、有
機層を濃縮して黒色の粗結晶を得る。これを2回、カラ
ムクロマトグラフィーで精製して白色の結晶6.6°−
ジメチル−2,2°−ジブロム−1,lo−ビフェニル
(9)を得る。
得られた2、2°−ジブロム−6,6°−ジメチル−1
,1’−ビフェニル(9)をテトラヒドロフランに溶か
し、−78℃に冷却した後、しert−ブチルリチウム
のヘキサン溶l夜をゆっくり滴下する。滴下後、液温を
一45℃に昇瓜し、さらに4時間反応する。再び、−7
8℃に冷却してから、ジシクロヘキシルホスフィン酸ク
ロリド(10〉のテトラヒドロフラン溶液を加える。
自然昇温により室温まで戻してから、さらに3時間加熱
、還流を行う、その後、溶媒を減圧留去し、トルエンを
加えてから2Nカセイソーダで洗浄し、続いて水で洗浄
した後に濃縮し、アセトンから再結晶を行い、白色結晶
の2.2°−ビス(ジシクロへキシルホスホニル)−6
,6°−ジメチル−1,1゛−ビフェニル(11)を得
る。ラセミ体の2.2°−ビス(ジシクロへキシルホス
ホニル)−6,6°−ジメチル−1,l。
−ビフェニル(11)を酢酸エチルとクロロホルムの混
合溶媒に加熱溶解し、(−)−ジベンゾイル酒石酸の熱
酢酸エチル溶液を加えて静置すると、結晶が析出してく
る。析出結晶を再結晶して、結晶物の旋光度が一定値を
示すまで、この操作を繰返す。
精製結晶をトルエン中に恕濁しておき、2Nカセイソー
ダを加えて、遊離のホスフィンオキシト(12)に導い
た後、クロロホルム−酢酸エチルで再結晶を行い、純粋
な2.2°−ビス−(ジシクロへキシルホスホニル)−
6,6°−ジメチル−1,1゛−ピフェニル(12)を
得る。
光学的に純粋な2.2°−ビス(ジシクロへキシルホス
ホニル)−6,6°−ジメチル−1゜1“−ピフェニル
(12)([α]志’−75.3度)にキシレン及びト
リエチルアミンを加えてから、水冷下にトリクロロシラ
ンを加える。120℃で2時間及び130℃で2時間加
熱し、その後に室温まで冷却し、30%カセイソーダを
加えて固形物を全て溶解し、塩化メチレンを加えてから
60℃で2時間還流する。有機層を取出し、乾燥後、溶
媒を留去してメタノールから再結晶を行い、BICHE
Pの無色結晶を得る。
(8体の製造方法) 本発明のBICHEPは、ロジウム、ルテニウム、パラ
ジウム等の金属元素と錯体を形成する。
例えば [Rh (NBD)(BTCHEP)] X(ただし、
式中の NBDは、ノルボルナジェンを示し、 XはCl2O,、BF、又はPF、を示す。)は、ビー
、ボスニッチ(B、Bosn i ch)らによるジャ
ーナル・才ブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ−
(J、A、C,S、)[生1゜6262 (1977)
]に記載されている方法によって合成される。
すなわち、[Rh (NBD)Cj!] zとNBDを
塩化メチレン中に溶解し、そこへAgCJ20゜AgB
F、又はA g P F aを加え、1時間攪拌し、銀
塩を濾過した後、溶液を濃縮することによって[Rh 
(NBD)z ] Xを合成する。コノ錯体に塩化メチ
レン中、BICHEPを加え、1時間攪拌し、溶液を濃
縮して[Rh (NBD)(BICHEP)] Xが合
成サレル。
マタ、[Rh (BICHEP)、]X (ただし1式
中のXは前記と同一のものである。)は。
特開昭60−61587号公報に記載の方法で合成され
る。
BICHEPのその他の使用方法としては。
[Rh (NBD)Cぶ]2とBICHEPを反応使用
時にテトラヒドロフラン、塩化メチレン、エタノール、
メタノール等の単独又はこれらの混合溶媒中で反応させ
て、そのまま使用することもできる。
(カルボン酸及びそのエステルの製造方法)本発明はさ
らに、上記の錯体を用いて光学活性カルボン酸及びその
エステルを製造する方法を提供するものである。
本発明において、光学活性カルボン酸及びそのエステル
を製造する方法は、2.2°−ビス(ジシクロヘキシル
ホスフィノ)−6,6°−ジメチル−1,1’ −ピフ
ェニルを配位子とするロジウム、ルテニウム又はパラジ
ウム錯体を触媒として、一般式 (ただし、式中の Rは水素原子又は低級アルキル基であり、R1は低級ア
ルキル基、CHtCOOR″ (ただし、式中のR1は
水素原子又は低級アルキル基である。)又はNHR’ 
 (ただし1式中のR′はホルミル基、アセチル基、ベ
ンゾイル基又はクロルアセチル基である。)であり。
R2は水素原子、低級アルキル基又はフェニル基である
。) で表わされる不飽和化合物を水素化することによって行
うことができる。
すなわち該α、β−不飽和カルボン酸と前記触媒及び溶
媒を窒素雰囲気下に耐圧容器に入れ、水素を充填して反
応を開始する。
α、β−不飽和カルボン酸1モルに対する触媒の使用量
は、0.02ないし0.0001モル、好ましくは0.
01ないし0.001モルである。
溶媒は、一般に溶媒として用いられるメタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類若し
くはテトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン等を単独
又は混合して使用される。
その使用量は、α、β−不飽和カルボンi!!1モル当
たno、5ないし20I2である。
反応水素圧力は1通常音ないし100 kg/c−で実
施される。
反応温度は、5ないし70℃好ましくは10ないし30
℃である。
反応時間は、予定量の圧力になるまで行い、反応温度に
もよるが、通常は10分ないし20時間である。
反応後溶媒を留去して残留物を中和し、次いでクロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロルメタン等で触媒を抽出除去
し、再び鉱酸により酸性としたのち、エーテル、クロロ
ホルム、ジクロルメタン、ベンゼン、トルエン、酢酸エ
チル等で抽出すれば、光学活性カルボン酸又はそのエス
テルが得ら9る。
[実  施  例] 以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明する
が、本発明はこれらの実施例によって何ら限Tされるも
のではない。
なお、高速液体クロマトグラフィーは、■日算製作新製
の日立L−6000を使用した。また。
’HN M RはBruker社製のAM−400型(
400MHz)を、IRは日本分光工業■製のI R−
810型を、旋光度は日本分光工業■製のD I P−
4型を、融点は■横木製作新製のミクロ融点測定装置を
それぞれ用いて測定した。
実施例! 〔2−アセチルアミノ−3−ニトロトルエン(4)の合
成〕 攪拌機、アリーン冷却管及び同圧滴下ロート付きのlJ
2三ツロフラスコに無水酢酸650mJl (6,9m
oJすを入れ、滴下ロートよりオルトトルイジン(2)
107g (107mIl。
1moJ+)をゆっくりと加える。滴下終了後1反応溶
液を12ないし13℃に冷し、この温度を保ちながら7
0%硝酸126mn (2moI2)をゆっくりと加え
る。反応の進行に伴い、アセトトルイドが再溶解、沈殿
し、溶液は暗赤色となり、ニトロ化合物が分離する。そ
の後、溶液を攪拌しながら34の氷水中にあける。
乳黄色の2−アセチルアミノ−3−ニトロトルエン(4
)及びその異性体である2−アセチルアミノ−5−ニト
ロトルエンが沈殿し、これをブフナロートに集める。5
00mAの氷水で4回洗浄後、アスピレータ吸引により
乾燥させる。
得られた2−アセチルアミノ−3−ニトロトルエン(4
)と2−アセチルアミノ−5−ニトロトルエンの混合物
の収率は81%、融点は142゜2〜143℃であった
実施例2 〔2−アミノ−3−ニトロトルエン(5)の合成] 湿った2−アセチルアミノ−3−ニトロトルエン(4)
と2−アセチルアミノ−5−二トロトルエンの混合物を
水蒸気蒸留装置に入れ、濃塩酸300m12を加える。
加熱、沸騰させるとすぐに加水分解する、蒸留液が36
氾集まるまで沸騰を続ける。蒸留液を冷却すると、橙色
針状晶の2−アミノ−3−ニトロトルエン(5)が得ら
れる。
この(5)の収率は46%、融点は92.8〜93.2
℃であた。
実施例3 [2−ヨード−3−ニトロトルエン(6)の合成] 500mJ!三ツロフラスコに2−アミノ−3−ニトロ
トルエン(5)をl IOg (0,72モル)採り、
濃硫酸260mAを加え、0℃で攪拌する。これに亜硝
酸ナトリウム74.8g (1,08moA)を45分
間かけて加え、0℃で4時間攪拌する。溶液は暗茶色の
懸濁液となる。
その後、この反応混合物を312の氷水中にあけ、53
重量%ヨウ化カリウム水溶液1ilを加える。80℃で
10時間攪拌後、亜硫酸水素ナトリウム100gで処理
する。上澄み液を除き、不溶物をジクロロメタン500
rnJ2で3回抽出する。
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和洗浄し、
蒸留水で洗浄する。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
留去にて黄褐色の粗結晶を得る。
99%エタノール150+nJ2から再結晶して、淡黄
色方状晶の2−ヨード−3−ニトロトルエン(6)を得
る。
この(6)の収率は84%(再結晶濾液からの二次晶を
含む、)、融点は64.8〜65.2℃であった。
実施例4 [2,2°−ジニトロ−6,6° −ジメチル−2,2
゛−ジニトロビフェニル(7)の合成〕冷却管を付した
スリ付ナス型フラスコに2−ヨード−3−二トロトルエ
ン(6)及びこれと等重量の銅粉末を入れ、油浴にて2
00℃で10時間攪拌する。その後、ソックスレー抽出
装置を用いてベンゼンで抽出する。溶媒を減圧留去し、
粗結晶を得る。これを99%エタノールから再結晶して
黒色針状晶の6.6°−ジメチル−2,2°−ジニトロ
−1,1’−ビフェニル(7)を得る。この(7)の収
率は73%、融点は107.4〜108.3℃であった
実施例5 〔6,6°−ジメチル−2,2°−ジアミノ−1,1’
−ビフェニル(8)の合成〕 上部に三方コックを付けたアリーン冷却管付き500m
1ナス型フラスコを減圧乾燥及び窒素置換する。これに
6.6°−ジメチル−2,2゛ジニトロ−1,ビービフ
ェニル(7)を13.6g (50mmoj2)入れ、
あらかじめ窒素置換を行なったあたたかい99%エタノ
ール120mAに溶解し、攪拌する。抱水ヒドラジン3
5mぶ(0,7mo忍〉を窒素置換して加え、ラネーニ
ッケル−W2触媒3mぶをエタノールサスペンションと
して注射器を用いて活性を保ちながら少しずつ加える。
その後、全てのヒドラジンが消費されるまで油浴で加熱
還流する。
反応終了後、セライト濾過により触媒を除き、溶媒を減
圧留去して淡茶色方状晶の6.6°−ジメチル−2,2
”−ジアミノ−1,1゛−ビフェニル(8)を得る。
この(8)の収率は96,3%、融点は132.5〜1
33.8℃であった。
実施例6 [6,6°−ジメチル−2,2°−ジブロム−1,1’
−ビフェニル(9)の合成] 47%臭化水素at 2、8 m 12 (24m m
 o A )に6.6°−ジメチル−2,2°−ジアミ
ノ−1,1’−ビフェニル(8)を1.0g (4,7
6mmoβ)溶かし、水浴で0℃に冷す。
そこへ亜硝酸ナトリウム655mgを水1.2m4に溶
かしたものを10分間かけてゆっくりと加える。
その後、−5〜−3℃で2.5時間攪拌する、この溶液
を臭化第一銅(73−7mg、5mm0k)の47%臭
化水素#(1,5mJ2.13mmon)還流溶液中へ
徐々に加え、さらに2.5時間還流する。反応生成物に
ジクロロメタン30mβと蒸留水20rn12を加え、
有機層を十分に抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
、蒸留水、飽和硝酸カリウム水溶液の順で各々10m氾
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
その後、溶媒を減圧留去すると黒色油状体の粗結晶が得
られる。これを2回カラムクロマトグラフィーで精製す
ることにより、白色結晶の6゜6°−ジメチル−2,2
°−ジブロム−1,1゜−ビフェニル(9)を得る。
この(9)の収率は47%で、融点は90.0〜92.
3℃であった。
(カラムクロマトグラフィーの条件) 第1回目 カラム:シリカゲル(200メツシュ通過品)29 g
、 φ l  8mm 溶媒 :ベンゼンーヘキサン (容量比1:10)混合溶媒 回収区分:50〜210mA TLC:Rf  O,87,ベンゼン100%結晶状態
:赤橙色結晶 カラム回収率:87% 第2回目 カラム:シリカゲル(200メツシュ通過品)15g 
、 φ l  8mm 溶媒 :ベンゼンーヘキサン(1: 20)混合溶媒 回収区分:50〜90mぶ TLC:Rf  0.52.5%ベンゼン−ヘキサン 結晶状態:白色結晶 カラム回収率:58% なお、カラム量、溶媒濃度等を考慮すれば、1回のカラ
ムクロマトグラフで精製できる。
m、p、:87〜93℃ ’H−NMR(δppmcDcA   )2.0 (S
、−CH,,6H) 7.0〜7.5 (m、−Ph、6H)  MS(M/
e)338.340.342 実施例7 〔2,2°−ビス(ジシクロへキシルホスホニル)−6
,6°−ジメチル−1,1’ −ビフェニル(l I)
の合成] ジムロート冷却管付き100mj2ニロナス型フラスコ
を乾燥、窒素置換を行った後、6,6゜ジメチル−2,
2゛−ジブロム−1,1’ −ビフェニル(9)を1.
OOg (2,94mmol)と乾燥テトラヒドロフラ
ン(これをTHFと略記することがある。)10mI2
を入れ、室温で攪拌し、よく溶かす。ドライアイス−メ
タノールを用いて、フラスコを限度まで(−78℃)冷
却する。その温度で、ターシャリ−ブチルリチウム13
m1 (22,1mmon)をゆっくり1滴ずつ2時間
かけて滴下する。
その後、ゆっくり昇温して一45℃前後を保ち、4時間
以上反応させた後、再び一78℃に冷却し、ジシクロへ
キシルホスフィン酸クロリド5.50g (22,2m
mo2)を乾燥THF20mAによく溶かしたものを滴
下する。
その後、−夜攪拌する。このとき、デユワ−瓶は付けた
ままにしておき、自然昇温させ、室温まで反応させた後
、3時間加熱還流を行う。その後、溶媒を減圧留去し、
トルエン20mJ2を加えてよく溶かす。その際、白色
の不溶物が出現するので、これを濾別する。
トルエン溶液を蒸留水で2回、2Nカセイソーダで3回
、さらに蒸留水で1回洗浄する。その後、炭酸カリウム
を適量加え、乾燥させる。綿栓濾過により、炭酸カリウ
ムを分別し、溶媒を減圧留去した後、アセトン約10m
1を加え、ドライヤーで軽く温めながらよく攪拌すると
、白色結晶が析出する。これを濾別して新規化合物であ
る2、2°−ビス(ジシクロへキシルホスボニル)−6
,6°−ジメチル−1,!゛−ビフエニル11得る。
この(11)の収率は39.3%、融点は270〜27
7℃であった。
’H−NMR(δ ppm、CCR,)0.8〜2.2
 (m、−CH3Cy。
50H〉 7.0〜7.4  (m、−Ph、6l−1)”P−N
MR(δ  ppm、ccl   )(H,PO,外部
基準〉 44、4 MS : M/e   606  (M′″ )I R
: 2940crn−’    VCH3 2860cm−’    vcH2(cyc l o)
1450cm−’    ν P−Ph1180cm−
’    vP=O 実施例8 〔2,2°−ビス(ジシクロへキシルホスホニル)−6
,6’−ジメチル−1,lo−ビフェニルの光学分割〕 アリーン冷却管付き100mk二ロナ二型ナススコにラ
セミ体である2、2°−ビス(ジシクロへキシルホスホ
ニル)−6,6°−ジメチル−1、lo−ビフェニル(
11)を692.5mg(1,143mmoj2)入れ
、酢酸エチル50m2とクロロホルム2.5mAを加え
、加熱還流して溶解する。酢酸エチルとクロロホルムの
量は、溶液がほぼ透明になる程度に加減する。
次に、(−)−ジベンゾイル酒石酸409゜5mg (
1,143mmoI2)を熱酢酸エチルに溶解させたも
のを油浴から出したフラスコにすぐに入れ、数秒攪拌し
て静置すると、30秒程度で結晶が析出してくる。−晩
放it後、濾別する。難溶性ジアステレオマー[異符合
塩、  (+ l +−1塩]、易溶性ジアステレオマ
ー[同符合塩、  (−H−)塩コともに旋光度を測定
する。
旋光度が後に掲げる数値と大差がなかったならば、以下
のように中和し、光学活性なジホスフィンオキシドを得
る。2Nカセイソーダとトルエンをそれぞれ約40mβ
ずつ加え、攪拌しながらよく溶かす。これを分液し、カ
セイソーダ層をさらにトルエン約20mfiで2〜3回
抽出を行う。
トルエン層に炭酸カリウムを適量加え、乾燥させる。綿
栓濾過の後、溶媒を減圧留去して (+)あるいは [
−1−2,2’−ビス(ジシクロへキシルホスホニル)
−6,6’−ジメチル−1,1’ビフエニル(12)を
得る。
得られた光学活性体(I2)は、酢酸エチルとクロロホ
ルムを用いて結晶の比旋光度の変動が見られなくなるま
で再結晶を繰返す。
(+)体 [a]o+72.7゜ [α]4ss +tss、O’ (−)   体    [a ]  。  −75、3
[α]。*   155.0゜ 実施例9 〔光学活性な2.・2°−ビス〈ジシクロへキシルホス
フィノ)−6,6°−ジメチル−1,1’ビフエニル(
BICHEP)の合成〕 光学活性なジホスフィンオキシド(12)のうち(−)
のエナンチオマー[a]、−75,3゜(光学純度:9
8.7%)215mg(0,355mmoA)を5mA
のミニナートバルブに入れ、容器内をアルゴンで置換す
る。溶媒として無水キシレン3m2を加え、(−)体の
ジホスフィンオキシド(12)のほぼ半量が溶解するま
で加熱する。この時、加熱によるラセミ化を防ぐため、
溶液温度が100℃を越えないように注意する。その後
、容器を室温になるまで放冷する。水冷しておいたシリ
ンジで、トリクロロシラ〉0.43mj2 (4,17
mmoj2)を注入する。この時、トリクロロシランの
入っているシュレンク管は氷冷しておかねばならない。
注入後は容器ごとよく攪拌する。さらにこれを水浴中で
数分間冷却し、トリエチルアミン0.52mJ2 (3
,73mmoj!を加えると、溶液は黄色を呈し、固化
してくるので、ここで均一のゲル状になるまで再び攪拌
する。この状態で油浴中で。
120℃で4時間、さらに130℃で2時間反応させる
。その後、室温まで放冷し、簡易型グローブボックスを
用いて窒素下でキシレン数rnAを加え、窒素下のシュ
レンク管に移す。
30%カセイソーダ(窒素置換済のもの)5mぶを加え
、固体の生成物を全て溶かし、さらに塩化メチレン5m
j+を加えた後に60℃で2時間還流させた。上層の有
機層をシリンジで分液し、さらに水槽を塩化メチレン5
mAで2回抽出した。
得られた有機層に硫酸ナトリウムを適量加え、乾燥させ
た後、溶媒を真空留去する。
得られた粗製物をショートカラム(S IOgMerc
k  Kieselgel  60.18mm、5cm
)を通しく展開溶媒はべ)ゼシ)、未反応のジホスフィ
ンオキシド(12)を除去した。溶出溶液は、真空留去
により溶媒を除去し、活性体である(−)−BICHE
P  162mgの白色固体を得た。
収率は61.9%で、旋光度 [α]乙0105.9”
  (C=0.816.CHa cx2)であった。
さらに、以上のようにして得られた活性体BICHEP
を、再結晶を繰返すことにより優先的に一方のエナンチ
オマーの晶出を行い、その光学純度を高めた。
その比旋光度が変化しなくなるまで再結晶操作を繰返し
、そこで得られた比旋光度を光学純度100%のエナン
チオマーのB I CHEPの比旋光度とした。
その手順は以下に示すとおりである。
還元で得られた光学活性体ジホスフィンオキシ1’ (
12)の(+)エナンチオマーを窒素下のシュレンク管
(攪拌子入り〉に入れる。そこに溶媒として、窒素置換
済の酢酸エチルを温めた状態で少量ずつよく攪拌しなが
ら加える。固体が全て溶解した時点で攪拌を止め、室温
まで放冷した後、冷蔵庫(−3℃)に入れ、30分程度
冷却すると、半透明のBICHEPの結晶が得られた。
これを、窒素雰囲気下にシリンジを用いて溶媒を除去し
、結晶とともに残っている溶媒を真空留去し、乾燥させ
た。得られた結晶を塩化メチレンを溶媒として、旋光針
により、その比旋光度を測定した。
一方、(=)−BICHEPも同様の操作により光学的
に純粋な結晶を得た。
[α13°j−tx  9.so (c =0.826
、CH,C11N )。
したがって、この光学活性体の光学純度100%の比旋
光度は(+)又は(−)の119.7゜と決定した。(
小数点以下−桁は旋光針の誤差範囲内である。) (BICHEPの性状) mp=178〜182℃ ’H−NMR(δ ppm、CCf2m >0.8−2
.2 (m、−CHJ、−Cy。
50H) 7.1〜7.3 (m、−Ph、6H)”P−NMR(
δ p p m  CDw Cilz 、外部標準85
% HJr’o、)−9,67M5 : 574 (M
″″) 実施例10 〔ノルボルナジェン(2,2°−ビス(ジシクロヘキシ
ルホスフィ/)−6,6’ −ジメチル−1,1’−ビ
フェニル)ロジウム過塩素酸錯体([Rh (NBD)
(BICHEP)] CぶO,)(13)の合成〕 (R)−(−)−BICHEP  357mg (0,
621mmo2)及び[Rh (NBD)2コCf10
.238mg(0,6+5mmou)を窒素下でシュレ
ンク反応容器に採り、乾燥ジクロロメタン30m1を加
え、室温にて5時間攪拌し、反応させた。反応溶液は5
茶色から徐々に橙色に変化した。
得られた橙色溶液を窒素下においてセライト濾過し、不
溶物を除去した。真空下で溶媒を留去し、生成した橙色
結晶を乾燥ジエチルエーテル20m4で3回洗浄し、真
空乾燥して黄橙色結晶の[Rh (B ICHEF’)
 (NBD) ] CI0゜488mg (0,564
mmoj2.92%収率)を得た。
([Rh (B ICHEP)(’NBD)] Cぶ0
4の性状) ’H−NMR(δ p pm、CDz CAz ):δ
1.68 (m、CHa 、2H)  1.94(s、
C旦、、6H) 0.88−2.14 (m、C,旦0.44H)、3.
62 (br、C旦、2H)4.52 (br、=C旦
、2H)  4.67(br、=CH,2H)、7.3
3−7.50(m、  Ph、  6H) 実施例11 〔ノルボルナジェン(2,2°−ビス(ジシクロヘキシ
ルホスフィノ)−6,6’ −ジメチル−1,1’−ビ
フェニル)ロジウムクロリド錯体(Rh (BICHE
P)(NBD)C℃)の合成] 窒素置換したシュリンクにB I CHEr”113.
0mg (0,197mmo℃)をいれる5これとは別
のシュリンクに[Rh (NBD)CAI  を44.
3mg (0,096mmoJ)いれ、窒素置換を行い
、塩化メチレニ6mAに溶解させる。このとき溶液は茶
黄色となる。この溶液な先に用意したBICHEPをい
れているシュリンクに、窒素下でカニュラーを用いて移
すと系は赤色溶液となる。この後、3時間室温で攪拌し
1反応路T後溶媒を留去し、トルエン1m2−ヘキサン
3mjitによる再沈澱によって、得られた固体を真空
乾燥することにより、40.0mg (0,078mm
oI2)、収率40%で黄色結晶を得た。
[NMR−Data] ’H−NMR(δ ppm、 CDC氾sl ; δ0
.5−2.6 (m、 52H,Me−。
C3)Iz−、−CHa−1,3,78fbr。
2H,CHl、4.06.4.99(br、  4H。
−Ctl・) 、  6.4−8.0 (m、  6)
1aromaLicl コ’ P−NMII (δ ppm、 CDCl2 s
) : δ23.Ht、J=I47)1zl。
63.0(d、 Ji40Hz) (外部機rs85%
 83P0.1 実施例12 [(2,2°−ビス(ジシクロへキシルホスフィノ)−
6,6°−ジメチル−1,1−ビフェニル)ルテニウム
ジアセテート錯体(Ru(BICHEP)i[IAc)
 t)の合成〕 窒素置換したシュリンクにBIC)(EP94.6mg
(0,l 65mmoJ21及びCRu(シクロオクタ
−1,5−ジエン)Cn、]a4.3mg (0,15
1mmon/Ru)を入れ、トルエン20m11を加え
、窒素下にトリエチルアミン22.9mg (0,22
6mmoi!、)を加える。このとき反応系は茶色のg
4溶を夜となる。これを12時間加熱還流を行い反応さ
せると1反応系は濃茶色の溶液となる。この溶液をセラ
イト濾過した後、溶媒を留去する。得られた固体は緑茶
色となる。これに、酢酸ナトリウム66.3mg (0
,808mmo℃)をターシャリー−ブタノールに懸濁
させた液を加える。このとき反応系は赤茶色の懸濁溶液
となる。これを06時間加熱還流して反応を行うと、反
応系は橙色の懸濁溶液となる。この懸濁液をセライト濾
過し、得られた茶色の溶液の溶媒を留去する。得られた
茶色の固体をトルエン0.4mA−ヘキサン1.0m1
1の混合溶媒を用いて再結晶をし、得られた固体を真空
乾燥することにより、35.3mg (0,0444m
mo℃)、収率29%で黄色結晶を得た。
[NMR−Data] ’H−NMR(δppm、 CDCl251 : δ0
.25−2.85 (m、441(。
Cs1(++−1,1,68,2,02゜2.18.2
.32(s、   121(。
Me−1,6,65−7,70fm、5Haromat
icl 目C−NMRfδppm、 CDi 3) :  δ1
4.1−42、?(m、Me−。
C6H,l−1,122,9−149,8(m、  a
romaLicl 178.2. 184.0(s carbanyl) s+p−NMRfδppm、  CDC氾、l 、  
δ61.4.61.8(sl。
(外部機1!85% )1.Po、1 実施例I3 [p−シメン(2,2°−ビス(ジシクロへキシルホス
フィノ)−6,6° −ジメチル−1゜璽°−ビフェニ
ル)ルテニウムシアイオタイド錯体(fRu(BfCH
EPl (p−cyLIIene目11)の合成〕窒素
置換したシュリンクにBfCHEP315.7mg  
(0,549mmol)をいれ、塩化メチレン8mJ2
とエタノール5m4の混合溶媒に溶解させる。これとは
別のシュリンクに[Ru (p−cymene)Is 
) 2268.5mg (0,274mmoJ2)をい
れ、窒素置換を行い、塩化メチレン5mj2とエタノー
ルI OmAの混合溶媒に溶解させる。このとき溶液は
深紫色となる。これを先に用意したBICHEP溶液に
窒素下でカニュラーを用いて移す。このとき反応系の変
化はあまり見られない。この後4時間加熱還流し、溶媒
留去を行う。得られた固体を塩化メチレン8mAとジエ
チルエーテル2m11の混合溶媒により再結晶を行い、
得られた固体を真空乾燥することにより、328.8m
g (0,309mmon)、収率56.3%で茶紫色
結晶を得た。
[NMR−Datal IH−NMR[δppm、 CDCA *) ; δ0
.37−2.30 (m、44)ICsH++−)、 
 1.27(d、6Hisopropyl−Mel、2
.04゜2、 IQ(s、6H,BICHEP−Me)
2.35(s、3)1.Mel、 3.00(m、 I
H,CHI 、 3. Do−3,47(br、4)1
.arenel、  5.32−5.55.7.28−
7.53[m、6H。
aromatic) 31P−NMRIδppm、CDCA z);  δ6
9.4.7?、 8 fbr)(外部標ff85% )13PO41 実施例14 (p−シメン(2,2°−ビス(ジシクロヘキシルホス
フィノ)−6,6° −ジメチル−1,1−ビフェニル
)ルテニウムジクロライド錯体([Ru (B ICH
EP)(p−cymene)C℃〕Cぶ)の合成〕 窒素置換したシュ1ンクにBICHEP314.9mg
 (0,548mmoJ2)をいれ、塩化メチレン3m
tlとエタノール5mぶの混合溶媒に溶解させる。これ
とは別のシュ1ンクに[Ru (p−cymene)C
11z ]! 163.0mg(0,266+nmoj
’)をいれ、窒素置換を行い、塩化メチレン5m12と
エタノール10coI2の混合溶媒に溶解させる。この
とき溶液は茶橙色となる。これを先に用意したB I 
CHEP溶液に窒素下でカテーテルを用いて移す、この
とき反応系は赤色となる。この後、4時間加熱還流を行
うと深赤色の固体が成膜してくる。これをエタノールで
洗浄することにより得られた固体を真空乾燥することに
より、211.0mg (0,240mmoす、収率4
3.7%で赤色結晶を得た。
[NMR−Data] ’H−NMRfδppm、 CDCJ2 *l ; δ
−1,50−3,50fm、 608゜aliphat
icl、3.75fbr、4H。
arenel、 5.70−7.70(m。
1)l、 phenyll 実施例15 〔不斉水素化反応〕 実施例10で得られた錯体(13)を 0.022mmon含む乾燥エタノール30mJ溶演及
びイタコン酸ジメチル2.1mmonを。
窒素下125mj?ガラス製耐圧容器に入れ、速やかに
容器内を水素直換し、5Kg/cm”の水素圧で20℃
にて予定量の圧力になるまで反応させた。
生成物はカラム精製で錯体と分離し、還元率を’H−N
MR1光学純度をD線比旋光度より算出した。
その結果、表1に示すように、イタコン酸ジメチルは2
0分で還元され、高い光学純度の生成物を与えた。また
1本発明で得られた不斉錯体触媒は、はとんどの溶媒に
可溶であり、しかも高い不斉認識能と速度論的に高い活
性を有していることが分かった。
実施例!6〜18 [不斉水素化反応] 実施例15において、イタコン酸ジメチルの代わりに(
Z)−〇−ベンズアミド桂皮酸エチル、イタコン酸、チ
グリン酸を夫々用いた以外は実施例15と同様の方法で
不斉水素化反応を行った。
その結果を第1表に示した。
(以下余白) 第1表(+) 錯体(13)を触媒として用いた種々のブロキラルな反
応基質の不斉水素化反応 第1表(2) 反応条件:反応基質/触媒=95(モル比)H1初期圧
= 5 K g / c m ”イタコン酸ジメチルの
不斉還元により得られたa−メチルコハク酸ジメチルは
、アルカリ加水分解によりα−メチルコハク酸とし、そ
の旋光度より光学純度を算出した。
a−メチルコハク酸: [al o’16、9゜(c2
.2  Cm Hs OH) 実施例19 a−ベンズアミド桂皮酸エチルの不斉還元反応をRh−
BICHEP錯体を取出すことなしに、tなt)ち[R
h (NBD)  ] CJO,/BICHEP(モル
比1/1混合物)を触媒にして行ったところ、反応時間
10分、転化率96%で対応するフェニルアラニン誘導
体を得た。
実施例20 あらかじめ窒素置換を行ったloOmJ2のガラス製耐
圧容器に、実施例12で得られた[Ru(R)−B I
 CHEP)]  (OAc)3793mg (0,1
mmon)を入れエタノール30mJ!を加えてから(
Z)−〇−アセトアミド桂皮酸エチル2.33g (I
OmmoI2)を入れ、水素圧5kg/cm” 、25
C”で5時間水素化を行なった0反応物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにかけ、触媒を除き、’H−N
MRおよび旋光度から2−アセチルアミノ−3−フェニ
ルプロピオン酸エチルの光学純度は91%eeであった
実施例21 あらかじめ窒素置換を行なった100m4のガラス製耐
圧容器に、実施例13で得られた[Ru1  (S)−
B I CHEP)(p−cymene)]」錯体93
.6mg (0,1mmoJ)、エタノール30m尼を
加え、最後に(Z)−〇−アセトアミド桂皮酸エチル2
.33g (10mmoぶ)を加えて、水素圧5kg/
cm”、室温で45時間水素化し、実施例1と同様に処
理して2−アセトアミド−3−フェニルプロピオン酸エ
チルを得た。光学純度85%ee。
実施例22 実施例10で得た錯体[(Rh (NBD)(BICH
EP)IC!0.19.1mg(0,022mmol)
をあらかじめ窒素置換を行なった100mkのガラス製
耐圧容器に入れ、エタノール30m4.および(E)−
α−ベンズ7ミド桂皮1115 B 7、4 rn g
 (2、2m m o A )を入れ、水素圧2kg/
cm” 、23℃で30分間水素化した。生成物はカラ
ムクロマトグラフィーにより触媒を分離した後、 ’H
−N M R1光学純度をD線比旋光度より算出した。
光学純度は96%eeであった。
B I NAPの文献例としては、Tetrahedr
on、±0.1245 (1984)がある。
なお、B I NAPを用いた不斉水素化では100%
の転化率を得るために48時間の水素化時間が必要であ
り、本錯体で使用されるBICHEPでは30分〜30
時間と短時間で100%の転化率を得ることができる水
素化活性の高い配位子である。
第2表の()の%eeは、Tetrahedron  
±0.1245.(1984)に開示されている(R)
BINAPの値を示す、(比較のために掲記する。〉 実施例23〜28 実施例22と同様な操作法により基質を(E)−a−ベ
ンズアミド桂皮酸の代りに(Z)−a−ベンズアミド桂
皮酸、(E)−〇−ベンズアミド桂皮酸エチル、(E)
−〇−アセトアミド桂皮酸、2−ベンズアミドアクリル
酸、2−アセトアミドアクリル酸、(E)−a−ベンズ
アミド−4−ヒドロキシ−3−メトキシ桂皮酸に変えて
反応させた。
第2表(+) [Rh(NBD) (DICHEP)] C120、l
、: ヨッテ触媒作用を受けたα−(アクリルアミノ)
アクリル酸の不斉水素添加(1〉 実施例 基     質  反応時間 絶対配置(注1
) H \  / DDH 8 (注1) 30分 第2表(2〉 [Rh(NBDI (DICHEP)] CJ O、に
よって触媒作用を受けたa−(アクリルアミノ)アクリ
ル酸の不斉水素添加(2〉 実施例 収率% 22 100 23 97 24 100 25 98 26 95 27 95 28 100 光学純度%ee 96 (92) 92 (87) 98 (92) 96 (84) 98 (98) 94 (67) 87 (79) 23℃において[S]/Cat=100゜水素圧=2気
圧、 tOH 比較例1 実施例15において、イタコン酸ジメチルの代わりに(
Z)−a−ベンズアミド桂皮酸エチル、錯体[Rh (
NBD)(BICHEP)] Cl2b。
の代わりに[Rh (NBD)(BINAP)]cno
、を用いた以外は実施例15と同様の方法で行った。
その結果、光学純度は34%であった。
比較例2 実施例15において、イタコン酸ジメチルの代わりに(
Z)−〇−ベンズアミド桂皮酸エチル、錯体[Rh (
NBD)(BICHEP)]CJ!O,の代わりに[R
h (NBD)* ] Cぶ04/BIPHENP (
モル比1/1混合物)より生成した錯体を用いた以外は
実施例15と同様の方法で行った。その結果、光学純度
は14%であった。(反応時間10時間) [発明の効果] 本発明の新規ホスフィン化合物は、不斉合成用触媒の配
位子として、工業的に優れたもので、ロジウム、ルテニ
ウム、パラジウム等の金属元素と錯体を形成し、それら
の錯体は、不斉水素化、不斉異性化、不斉シリル化等の
不斉合成用触媒として、優れた触媒活性と高光学純度を
与えることができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される2,2’−ビス(ジシクロヘキシルホスフィ
    ノ)−6,6’−ジメチル−1,1’−ビフェニル。
  2. (2)2,2’−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)
    −6,6’−ジメチル−1,1’−ビフェニルを配位子
    とするロジウム、ルテニウム又はパラジウム錯体。
  3. (3)2,2’−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)
    −6,6’−ジメチル−1,1’−ビフェニルを配位子
    とするロジウム、ルテニウム又はパラジウム錯体を触媒
    として、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、式中の Rは水素原子又は低級アルキル基であり、 R^1は低級アルキル基、CH_2COOR^3(ただ
    し、式中のR^3は水素原子又は低級アルキル基である
    。)又はNHR^4(ただし、式中のR^4はホルミル
    基、アセチル基、ベンゾイル基又はクロルアセチル基で
    ある。)であり、 R^2は水素原子、低級アルキル基又はフェニル基であ
    る。) で表わされる不飽和化合物を水素化することを特徴とす
    る一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、式中の置換基R、R^1及びR^2は前記と
    同じものである。)で表わされるカルボン酸またはその
    エステルの製造方法。
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