JPH03274001A - Ｘ線反射膜 - Google Patents
Ｘ線反射膜Info
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- JPH03274001A JPH03274001A JP7412990A JP7412990A JPH03274001A JP H03274001 A JPH03274001 A JP H03274001A JP 7412990 A JP7412990 A JP 7412990A JP 7412990 A JP7412990 A JP 7412990A JP H03274001 A JPH03274001 A JP H03274001A
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- Pending
Links
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Landscapes
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- Lasers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［産業上の利用分野］
本発明は、Ｘ線反射鏡及び反射型Ｘ！Ｉｉ！マスクの反
射膜構成、構造に関する。 ［従来の技術］ 従来、Ｘ線反射鏡には、Ｓｉ単結晶基板や石英アモルフ
ァス基板上に、ＣやＳｉのアモルファス又は多結晶膜と
Ｍｏ、Ｐｄ等のアモルファス又は多結晶膜をスパッタ法
等により多層に形成して成るのが通例であった。 ［発明が解決しようとする課題１ しかし、上記従来技術によると、Ｘ線反射膜のＸ線反射
率が１０％程度と極めて低いと云う課題があった。 本発明はかかる従来技術の課題を解決し、Ｘａ反射率の
高いＸ！反射膜構成、構造を提供する事を目的とする。 〔課題を解決するための手段］ 上記課題を解決する為に、本発明は、Ｘ線反射膜に関し
、単結晶基板上に２種の異種原子をヘテロジニアスに多
層にエピタキシャル成長させる手段を取る事を基本とす
る。 ［実 施 例］ 以下、実施例により本発明を詳述する。 第１図は本発明の一実施例を示すＸ！反射鏡の断面図で
ある。すなわち、単結晶基板ｌの表面にＡ原子単結晶膜
２とＢ原子単結晶膜３とを互いに積層して形成したちの
である。ここで単結晶基板ｌとして、Ｓｉ、サファイヤ
（Ａ℃、Ｏ，）、５ｉｏｎ（水晶）Ｍｇｏ、Ａ１２Ｌａ
Ｏｓ 、Ｍｏ等の単結晶基板を用いる事ができ、Ａ原子
単結晶膜として、Ｐｄ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｚｕ、Ｐｔ、Ｒｈ
等の重金属単結晶膜が、Ｂ原子単結晶膜としてＣ（ダイ
ヤモンド）、Ｓ、Ｓｔ、Ｔｉ等の軽金属や軽元素の単結
晶膜を用いる事ができる。又、単結晶膜の育成方法とし
ては、原子層エビクキシャル法や分子線エピタキシャル
法が用いられる。 更に単結晶多層膜を部分エピタキシャル法やホトエツチ
ングにより、図形状に形成し１反射型Ｘ線マスクに応用
する事もできる。
射膜構成、構造に関する。 ［従来の技術］ 従来、Ｘ線反射鏡には、Ｓｉ単結晶基板や石英アモルフ
ァス基板上に、ＣやＳｉのアモルファス又は多結晶膜と
Ｍｏ、Ｐｄ等のアモルファス又は多結晶膜をスパッタ法
等により多層に形成して成るのが通例であった。 ［発明が解決しようとする課題１ しかし、上記従来技術によると、Ｘ線反射膜のＸ線反射
率が１０％程度と極めて低いと云う課題があった。 本発明はかかる従来技術の課題を解決し、Ｘａ反射率の
高いＸ！反射膜構成、構造を提供する事を目的とする。 〔課題を解決するための手段］ 上記課題を解決する為に、本発明は、Ｘ線反射膜に関し
、単結晶基板上に２種の異種原子をヘテロジニアスに多
層にエピタキシャル成長させる手段を取る事を基本とす
る。 ［実 施 例］ 以下、実施例により本発明を詳述する。 第１図は本発明の一実施例を示すＸ！反射鏡の断面図で
ある。すなわち、単結晶基板ｌの表面にＡ原子単結晶膜
２とＢ原子単結晶膜３とを互いに積層して形成したちの
である。ここで単結晶基板ｌとして、Ｓｉ、サファイヤ
（Ａ℃、Ｏ，）、５ｉｏｎ（水晶）Ｍｇｏ、Ａ１２Ｌａ
Ｏｓ 、Ｍｏ等の単結晶基板を用いる事ができ、Ａ原子
単結晶膜として、Ｐｄ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｚｕ、Ｐｔ、Ｒｈ
等の重金属単結晶膜が、Ｂ原子単結晶膜としてＣ（ダイ
ヤモンド）、Ｓ、Ｓｔ、Ｔｉ等の軽金属や軽元素の単結
晶膜を用いる事ができる。又、単結晶膜の育成方法とし
ては、原子層エビクキシャル法や分子線エピタキシャル
法が用いられる。 更に単結晶多層膜を部分エピタキシャル法やホトエツチ
ングにより、図形状に形成し１反射型Ｘ線マスクに応用
する事もできる。
本発明により、Ｘ線の反射効率を５０％以上の高効率の
Ｘ線反射鏡や反射型ｘ締マスクを提供することができる
効果がある。 ２・・・Ａ原子単結晶膜 ３・・・Ｂ原子単結晶膜
Ｘ線反射鏡や反射型ｘ締マスクを提供することができる
効果がある。 ２・・・Ａ原子単結晶膜 ３・・・Ｂ原子単結晶膜
Claims (1)
- 単結晶基板上には、２種類の異種原子がヘテロジニアス
に多層エピタキシャル単結晶膜育成されて成る事を特徴
とするＸ線反射膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7412990A JPH03274001A (ja) | 1990-03-24 | 1990-03-24 | Ｘ線反射膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7412990A JPH03274001A (ja) | 1990-03-24 | 1990-03-24 | Ｘ線反射膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03274001A true JPH03274001A (ja) | 1991-12-05 |
Family
ID=13538274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7412990A Pending JPH03274001A (ja) | 1990-03-24 | 1990-03-24 | Ｘ線反射膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03274001A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5657365A (en) * | 1994-08-20 | 1997-08-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | X-ray generation apparatus |
| US5814149A (en) * | 1994-11-25 | 1998-09-29 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Methods for manufacturing monocrystalline diamond films |
| US5878110A (en) * | 1994-08-20 | 1999-03-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | X-ray generation apparatus |
| JP2005308722A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-11-04 | Canon Inc | 軟ｘ線多層膜反射鏡および軟ｘ線反射光学系 |
| JP2006308483A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Canon Inc | 多層膜及び多層膜の製造方法 |
| WO2019159650A1 (ja) * | 2018-02-15 | 2019-08-22 | ウシオ電機株式会社 | 微細穴光学素子の製造方法、および微細穴光学素子 |
-
1990
- 1990-03-24 JP JP7412990A patent/JPH03274001A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5657365A (en) * | 1994-08-20 | 1997-08-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | X-ray generation apparatus |
| US5878110A (en) * | 1994-08-20 | 1999-03-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | X-ray generation apparatus |
| US5814149A (en) * | 1994-11-25 | 1998-09-29 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Methods for manufacturing monocrystalline diamond films |
| JP2005308722A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-11-04 | Canon Inc | 軟ｘ線多層膜反射鏡および軟ｘ線反射光学系 |
| JP4566791B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2010-10-20 | キヤノン株式会社 | 軟ｘ線多層膜反射鏡 |
| JP2006308483A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Canon Inc | 多層膜及び多層膜の製造方法 |
| WO2019159650A1 (ja) * | 2018-02-15 | 2019-08-22 | ウシオ電機株式会社 | 微細穴光学素子の製造方法、および微細穴光学素子 |
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