JPH0327391A - カルボキシアリール終端オルガノシロキサンの製造方法 - Google Patents
カルボキシアリール終端オルガノシロキサンの製造方法Info
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- JPH0327391A JPH0327391A JP2110746A JP11074690A JPH0327391A JP H0327391 A JPH0327391 A JP H0327391A JP 2110746 A JP2110746 A JP 2110746A JP 11074690 A JP11074690 A JP 11074690A JP H0327391 A JPH0327391 A JP H0327391A
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- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 title claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 125000005026 carboxyaryl group Chemical group 0.000 title 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims abstract description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims abstract description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 239000003791 organic solvent mixture Substances 0.000 claims 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 abstract 1
- -1 aryl carboxylic acid Chemical class 0.000 description 7
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- YPLATFYVOIJFLV-UHFFFAOYSA-N 2-[[(2-carboxyphenyl)-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]benzoic acid Chemical compound C=1C=CC=C(C(O)=O)C=1[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C1=CC=CC=C1C(O)=O YPLATFYVOIJFLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- SCUYNMANKIFWHT-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-2-dimethylsilylbenzoyl chloride Chemical class C[SiH](C)C1=C(Cl)C=CC=C1C(Cl)=O SCUYNMANKIFWHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVVGCMZNVXAOOZ-UHFFFAOYSA-N 4-[[(4-carboxyphenyl)-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]benzoic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C=CC=1[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 JVVGCMZNVXAOOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVOUFPWUYJWQSK-UHFFFAOYSA-N Cyclofenil Chemical group C1=CC(OC(=O)C)=CC=C1C(C=1C=CC(OC(C)=O)=CC=1)=C1CCCCC1 GVOUFPWUYJWQSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- BBJPYJNEDYCNGQ-UHFFFAOYSA-N benzoic acid trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C.OC(=O)C1=CC=CC=C1.OC(=O)C1=CC=CC=C1 BBJPYJNEDYCNGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002944 cyanoaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960002944 cyclofenil Drugs 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000006330 halo aroyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005649 substituted arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明は、有機溶剤、たとえばアセトンの水性混合物を
用いることにより、ハロアシルアリール終端オルガノシ
ロキサンを、対応するカルボキシアリール終端オルガノ
シロキサンに転化する方法に関する。
用いることにより、ハロアシルアリール終端オルガノシ
ロキサンを、対応するカルボキシアリール終端オルガノ
シロキサンに転化する方法に関する。
本発明以前は、次式:
CI13CI13
を有する4.4’ − (1.1,3.3−テトラメチ
ル−1.3−ジシロキサンジイル〉ビス安息香酸は、対
応する1.3−アルキルフェニル終端テトラメチルジシ
ロキサンの遷移金属による酸化、または対応するシアノ
フェニル終端テトラメチルジシロキサンの苛性加水分解
によって製造されていた。式(1)のテトラメチルジシ
ロキサンビス安息香酸は、係属中の米国特許出願第31
9.028号(1989年3月2日出願)に示されてい
るように、種々の液晶シリコーンポリエステルの製造に
使用することができる。
ル−1.3−ジシロキサンジイル〉ビス安息香酸は、対
応する1.3−アルキルフェニル終端テトラメチルジシ
ロキサンの遷移金属による酸化、または対応するシアノ
フェニル終端テトラメチルジシロキサンの苛性加水分解
によって製造されていた。式(1)のテトラメチルジシ
ロキサンビス安息香酸は、係属中の米国特許出願第31
9.028号(1989年3月2日出願)に示されてい
るように、種々の液晶シリコーンポリエステルの製造に
使用することができる。
リッチ(RIch)の米国特許第4.709.054に
示されているように、中間生成物である2一クロロジメ
チルシリルベンゾイルクロリドおよび3−クロロジメチ
ルシリルベンゾイルクロリドは、イソフタロイルクロリ
ドまたはテレフタ口イルクロリドとクロロボリメチルシ
ラン、たとえば1,1. 2. 2−テトラジメチ
ルジクロロジシランとの反応を遷移金属触媒の存在下で
実施することによって製造することができる。リッチの
米国特許第4.604,442号および第4,604,
477号には、対応するテトラメチルジシロキサンービ
ス(ペンゾイルクロリド)が、上掲のクロロジメチルシ
リルベンゾイルクロリドの一種を加水分解することによ
って製造できることが示されている。しかし、標準的手
段によって上掲のテトラメチルジシロキサンビス(ペン
ゾイルクロリド)を加水分解して、対応する式(1)の
二酸を製造しようとしても、出発原料が分解してしまう
。たとえば、テトラメチルジシロキサンビス(ベンゾイ
ルクロリド〉を、2%水酸化ナトリウム水溶液あるいは
飽和炭酸水素ナトリウムで処理すると、有意な量の対応
する次式: オルガノシロキサン鎖に有意な開裂を生じることなく、
対応するアリールカルボン酸終端オルガノシロキサンに
転化する直接的な方法を提供することも要望されている
。
示されているように、中間生成物である2一クロロジメ
チルシリルベンゾイルクロリドおよび3−クロロジメチ
ルシリルベンゾイルクロリドは、イソフタロイルクロリ
ドまたはテレフタ口イルクロリドとクロロボリメチルシ
ラン、たとえば1,1. 2. 2−テトラジメチ
ルジクロロジシランとの反応を遷移金属触媒の存在下で
実施することによって製造することができる。リッチの
米国特許第4.604,442号および第4,604,
477号には、対応するテトラメチルジシロキサンービ
ス(ペンゾイルクロリド)が、上掲のクロロジメチルシ
リルベンゾイルクロリドの一種を加水分解することによ
って製造できることが示されている。しかし、標準的手
段によって上掲のテトラメチルジシロキサンビス(ペン
ゾイルクロリド)を加水分解して、対応する式(1)の
二酸を製造しようとしても、出発原料が分解してしまう
。たとえば、テトラメチルジシロキサンビス(ベンゾイ
ルクロリド〉を、2%水酸化ナトリウム水溶液あるいは
飽和炭酸水素ナトリウムで処理すると、有意な量の対応
する次式: オルガノシロキサン鎖に有意な開裂を生じることなく、
対応するアリールカルボン酸終端オルガノシロキサンに
転化する直接的な方法を提供することも要望されている
。
本発明は、次式:
の開裂生成物が生じてしまう。
発明の開示
式(1)のカルボキシアリール終端ポリジオルガノシロ
キサンを、複数の処理工程を必要とする核に結合したア
ルキル側基の酸化、あるいはシアノアリール基の苛性加
水分解を含まない直接的な方法によって製造することが
要望されている。末端ハロアロイル基を有するオルガノ
シロキサンを、を有するハロアシルアリール終端ポリジ
オルガノシロキサンをたとえば式(1)のジシロキサン
に示したような対応する二酸へ転化するために、ハロア
シルアリール終端ポリジオルガノシロキサンと有機溶剤
の水性混合物を、25°−100℃の範囲の温度または
還流条件下で加熱すればできるという知見に基づいてい
る。ここでRはそれぞれ独立に、一価のC 炭化水
素基、および平衡(1−13) 化または縮合の間不活性である基で置換したー価のC(
1−13)炭化水素基から選ばれ、R1はそれぞれ独立
に、二価のC 芳香族炭化水素基、お(8−13) よび平衡化および縮合の間不活性である基で置換した二
価のC 芳香族炭化水素基から選ばれ、(8−13
) nは0乃至10の整数で、Xはハロゲン基、好ましくは
クロロである。式(2)のハロアシルアリール終端ポリ
ジオルガノシロキサンで式中のnが1乃至10の値を有
するものは、前掲のリッチの米国特許第4.604.4
77号に示された方法によって製造することができる。
キサンを、複数の処理工程を必要とする核に結合したア
ルキル側基の酸化、あるいはシアノアリール基の苛性加
水分解を含まない直接的な方法によって製造することが
要望されている。末端ハロアロイル基を有するオルガノ
シロキサンを、を有するハロアシルアリール終端ポリジ
オルガノシロキサンをたとえば式(1)のジシロキサン
に示したような対応する二酸へ転化するために、ハロア
シルアリール終端ポリジオルガノシロキサンと有機溶剤
の水性混合物を、25°−100℃の範囲の温度または
還流条件下で加熱すればできるという知見に基づいてい
る。ここでRはそれぞれ独立に、一価のC 炭化水
素基、および平衡(1−13) 化または縮合の間不活性である基で置換したー価のC(
1−13)炭化水素基から選ばれ、R1はそれぞれ独立
に、二価のC 芳香族炭化水素基、お(8−13) よび平衡化および縮合の間不活性である基で置換した二
価のC 芳香族炭化水素基から選ばれ、(8−13
) nは0乃至10の整数で、Xはハロゲン基、好ましくは
クロロである。式(2)のハロアシルアリール終端ポリ
ジオルガノシロキサンで式中のnが1乃至10の値を有
するものは、前掲のリッチの米国特許第4.604.4
77号に示された方法によって製造することができる。
具体的説明
本発明は、次式:
を有するカルボキシアリール終端オルガノシロキサンを
製造するにあたり、(A)式(2)のハロアシルアリー
ル終端オルガノシロキサンを、水性有機溶剤混合物の存
在下で、25℃−100℃の範囲の温度で加水分解し、
そして (B)(1)の混合物から、生成したカルボキシアリー
ル終端オルガノシロキサンを回収する 工程よりなる方法を提供するものである。ここでR,R
l ,およびnは上記定義の通りである。
製造するにあたり、(A)式(2)のハロアシルアリー
ル終端オルガノシロキサンを、水性有機溶剤混合物の存
在下で、25℃−100℃の範囲の温度で加水分解し、
そして (B)(1)の混合物から、生成したカルボキシアリー
ル終端オルガノシロキサンを回収する 工程よりなる方法を提供するものである。ここでR,R
l ,およびnは上記定義の通りである。
式(1)および(2)のRに包含される基には、たとえ
ば、C アルキル基、たとえばメチル、(1−8) エチル、プロビル、ブチル、ペンチル、ヘキシル;アル
ケニル基、たとえばビニル、ブロベニル;脂環式基、た
とえばシクロフェニル、シクロヘキシル;置換アルキル
基、たとえばトリフルオロプロビル、シアノエチル、シ
アノブロビル;アリール基、たとえばフエニル、トリル
、キシリル、ナフチル;置換アリール基、たとえばクロ
ロフエニル、ニトロフェニル、シアノフエニルがある。
ば、C アルキル基、たとえばメチル、(1−8) エチル、プロビル、ブチル、ペンチル、ヘキシル;アル
ケニル基、たとえばビニル、ブロベニル;脂環式基、た
とえばシクロフェニル、シクロヘキシル;置換アルキル
基、たとえばトリフルオロプロビル、シアノエチル、シ
アノブロビル;アリール基、たとえばフエニル、トリル
、キシリル、ナフチル;置換アリール基、たとえばクロ
ロフエニル、ニトロフェニル、シアノフエニルがある。
R1に包含される基には、たとえば同じまたは異ったア
リーレン基、たとえばフエニレン、トリレン、キシリレ
ン、ナフチレン、および置換アリーレン基、たとえばハ
ロフエニレン、ニトロフェニレンがある。
リーレン基、たとえばフエニレン、トリレン、キシリレ
ン、ナフチレン、および置換アリーレン基、たとえばハ
ロフエニレン、ニトロフェニレンがある。
本発明を実施するにあたっては、式(2)のハロアシル
アリール終端ポリジオルガノシロキサンを、水性不活性
有機溶剤中で、約25℃−100℃の範囲の温度で加水
分解する。水性不活性有機溶媒の全重量に基づいて、約
1−約50重量%、好ましくは約5−20重量%の水を
使用することができる。適当な有機溶剤は、水混和性溶
剤、たとえばアセトン、ジオキサンおよびテトラヒド口
フランである。八ロアシルアリール終端ポリジオルガノ
シロキサンの加水分解は、還流条件下で行うのが好適で
ある。生成した式(3)のカルボキシアリール終端ポリ
ジオルガノシロキサンの回収は標準的方法、たとえば枦
過および1,2−ジクロロベンゼンのような有機溶剤か
らの再結晶によって行うことができる。
アリール終端ポリジオルガノシロキサンを、水性不活性
有機溶剤中で、約25℃−100℃の範囲の温度で加水
分解する。水性不活性有機溶媒の全重量に基づいて、約
1−約50重量%、好ましくは約5−20重量%の水を
使用することができる。適当な有機溶剤は、水混和性溶
剤、たとえばアセトン、ジオキサンおよびテトラヒド口
フランである。八ロアシルアリール終端ポリジオルガノ
シロキサンの加水分解は、還流条件下で行うのが好適で
ある。生成した式(3)のカルボキシアリール終端ポリ
ジオルガノシロキサンの回収は標準的方法、たとえば枦
過および1,2−ジクロロベンゼンのような有機溶剤か
らの再結晶によって行うことができる。
本発明のカルボキシアリール終端ポリジオルガノシロキ
サンは、シリコーンブロックと有機ブロックとがエステ
ルまたはアミド結合によって結合されているシリコーン
ブロック共重合体、たとえばポリエステルシロキサンま
たはボリカーボネ−トシロキサンを製造する際に、中間
体として使用することができる。この縮合反応は塩化水
素のような副生物を生じないので、共重合を実施するの
に押出成形反応器中で、溶剤を用いることなくできる。
サンは、シリコーンブロックと有機ブロックとがエステ
ルまたはアミド結合によって結合されているシリコーン
ブロック共重合体、たとえばポリエステルシロキサンま
たはボリカーボネ−トシロキサンを製造する際に、中間
体として使用することができる。この縮合反応は塩化水
素のような副生物を生じないので、共重合を実施するの
に押出成形反応器中で、溶剤を用いることなくできる。
本発明を当業者がよりよく実施できるように以下の実施
例を例示するが、本発明はこの実施例に制限されるもの
ではない。
例を例示するが、本発明はこの実施例に制限されるもの
ではない。
実施例
110.75g (269ミリモル)のp. p −
(1. 1, 3. 3−テトラメチル−1,3
−ジシロキサンジイル)ビスベンゾイルクロリドおよび
675mlの10%水/アセトン溶液の混合物を3時間
還流した。室温まで冷却した後、混合物を蒸留した。ア
セトンを除去した後、残留物を800mlの水で希釈し
た。残留物を枦過し、1,2−ジクロロベンゼンから再
結晶させたところ、融点が242−244℃の(1.1
,3.3−テトラメチル−1.3−ジシロキサンジイル
)ビス安息香酸が得られた。このものは白色結晶質固体
であった。その化合物の同定をさらに1HNMR (9
0MHz,CD3COCDz )によって確認したと
ころ、60.42 (s.12H),7.82 (d,
J−Hz. 4H) . 8. 1 2 (d,
J−811z, 4H)という結果が得られた。
(1. 1, 3. 3−テトラメチル−1,3
−ジシロキサンジイル)ビスベンゾイルクロリドおよび
675mlの10%水/アセトン溶液の混合物を3時間
還流した。室温まで冷却した後、混合物を蒸留した。ア
セトンを除去した後、残留物を800mlの水で希釈し
た。残留物を枦過し、1,2−ジクロロベンゼンから再
結晶させたところ、融点が242−244℃の(1.1
,3.3−テトラメチル−1.3−ジシロキサンジイル
)ビス安息香酸が得られた。このものは白色結晶質固体
であった。その化合物の同定をさらに1HNMR (9
0MHz,CD3COCDz )によって確認したと
ころ、60.42 (s.12H),7.82 (d,
J−Hz. 4H) . 8. 1 2 (d,
J−811z, 4H)という結果が得られた。
上記実施例は、本発明の方法を実施するにあたって使用
することのできる極めて多くの変更例のうち、ごく少数
に関するものであるが、この実施例の前の説明に示した
ように、本発明はこれよりはるかに広範囲の種々のカル
ボキシアリール終端ポリジオルガノシロキサンの合成に
関するものである。
することのできる極めて多くの変更例のうち、ごく少数
に関するものであるが、この実施例の前の説明に示した
ように、本発明はこれよりはるかに広範囲の種々のカル
ボキシアリール終端ポリジオルガノシロキサンの合成に
関するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ を有するカルボキシアリール終端オルガノシロキサンを
製造するにあたり、 (A)次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ のハロアシルアリール終端オルガノシロキサンを、水性
有機溶剤混合物の存在下で、25℃−100℃の範囲の
温度で加水分解し、そして (B)(A)の混合物から、生成したカル ボキシアリール終端オルガノシロキサンを回収する工程
よりなり、 式中のRがそれぞれ独立に、一価のC_(_1_−_1
_3_)炭化水素基、および平衡化または縮合の間不活
性である基で置換した一価のC_(_1_−_1_3_
)炭化水素基から選ばれ、R^1がそれぞれ独立に、二
価のC_(_6_−_1_3_)芳香族炭化水素基、お
よび平衡化および縮合の間不活性である基で置換した二
価のC_(_6_−_1_3_)芳香族炭化水素基から
選ばれ、nが0乃至10の整数で、Xがハロゲン基であ
る方法。 2、ハロアシルアリール終端オルガノシロキサンが、p
、p(1、1、3、3−テトラメチル−1、3−ジシロ
キサンジイル)ビス安息香酸の二酸塩化物である請求項
1記載の方法。 3、有機溶剤がアセトンである請求項1記載の方法。 4、水性有機溶剤とともに5−20重量%の水を使用す
る請求項1記載の方法。 5、加水分解を還流条件下で実施する請求項1記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US344789 | 1982-02-01 | ||
US07/344,789 US4895965A (en) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | Method for making carboxy aryl terminated organosiloxanes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0327391A true JPH0327391A (ja) | 1991-02-05 |
JPH075609B2 JPH075609B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=23352043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2110746A Expired - Lifetime JPH075609B2 (ja) | 1989-04-28 | 1990-04-27 | カルボキシアリール終端オルガノシロキサンの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4895965A (ja) |
EP (1) | EP0394783B1 (ja) |
JP (1) | JPH075609B2 (ja) |
KR (1) | KR900016232A (ja) |
AU (1) | AU620708B2 (ja) |
CA (1) | CA2012806A1 (ja) |
DE (1) | DE69020628D1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4994532A (en) * | 1989-06-16 | 1991-02-19 | General Electric Company | Polycarbonate-silicone block copolymer compositions |
JP2974712B2 (ja) * | 1990-02-01 | 1999-11-10 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | ジオルガノポリシロキサン、およびオルガノポリシロキサンの製造方法 |
DE4411360A1 (de) * | 1994-03-31 | 1995-10-05 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Carboxylgruppen aufweisenden Organosiliciumverbindungen |
US8709394B2 (en) * | 2007-09-28 | 2014-04-29 | Ndsu Research Foundation | Antimicrobial polysiloxane materials containing metal species |
KR101362875B1 (ko) * | 2010-12-30 | 2014-02-14 | 제일모직주식회사 | 폴리카보네이트-폴리실록산 공중합체 및 그의 제조 방법 |
EP3164447B1 (en) | 2014-07-03 | 2019-10-09 | Momentive Performance Materials Inc. | Ester-functional polysiloxanes and copolymers made therefrom |
CN109553776B (zh) * | 2017-09-27 | 2021-09-03 | 南通星辰合成材料有限公司 | 一种聚酯嵌段共聚物及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU152238A (ja) * | ||||
US2721856A (en) * | 1953-03-31 | 1955-10-25 | Dow Corning | Preparation of siloxanes containing carboxy groups |
US2957899A (en) * | 1956-10-12 | 1960-10-25 | Union Carbide Corp | Alkaline hydrolysis of cyanoalkyl-siloxanes |
SU152238A1 (ru) * | 1962-04-12 | 1962-11-30 | Г.Н. Мальнова | Способ получени хлорангидрида симметричной тетраметилдифенилдисилоксандикарбоновой-(4,4') кислоты |
US3715377A (en) * | 1971-12-16 | 1973-02-06 | Gen Electric | Preparation of organosilicone esters |
US4604477A (en) * | 1985-03-29 | 1986-08-05 | General Electric Company | Method for making silylaroylhalides and reaction products |
KR900006209B1 (ko) * | 1987-05-19 | 1990-08-25 | 히다찌가세이고오교 가부시끼가이샤 | 1,3-비스(디카르복시페닐)디실옥산 유도체 또는 이의 이무수물의 제조방법 |
-
1989
- 1989-04-28 US US07/344,789 patent/US4895965A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-03-22 CA CA002012806A patent/CA2012806A1/en not_active Abandoned
- 1990-04-06 AU AU53030/90A patent/AU620708B2/en not_active Ceased
- 1990-04-13 EP EP90107130A patent/EP0394783B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-13 DE DE69020628T patent/DE69020628D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-26 KR KR1019900005873A patent/KR900016232A/ko active IP Right Grant
- 1990-04-27 JP JP2110746A patent/JPH075609B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0394783B1 (en) | 1995-07-05 |
EP0394783A3 (en) | 1991-08-14 |
AU5303090A (en) | 1990-11-01 |
EP0394783A2 (en) | 1990-10-31 |
CA2012806A1 (en) | 1990-10-28 |
AU620708B2 (en) | 1992-02-20 |
DE69020628D1 (de) | 1995-08-10 |
KR900016232A (ko) | 1990-11-13 |
US4895965A (en) | 1990-01-23 |
JPH075609B2 (ja) | 1995-01-25 |
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