JPH03270719A - 排ガス中の有害物質除去方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、ごみ焼却炉を始めとする各種の火炉から出
る排ガス中の有害物質の除去方法に関し、さらに詳しく
は、排ガス中の有害成分とりわけポリクロロジベンゾフ
ラン（以下「ＰＣＤＦｓＪと略記する）およびポリクロ
ロジベンゾジオキシン（以下ｒＰｃＤＤｓＪと略記する
）の生成を抑制すると共に、窒素酸化物を還元無害化す
る方法に関する。

［従来技術および発明の課題］ ごみ焼却炉の排ガス中には、３００℃前後の温度域でク
ロルベンゼン化合物の二量化によって生成したＰＣＤＦ
　ｓおよびＰＣＤＤｓが含まれている。ＰＣＤＦｓおよ
びＰＣＤＤｓの生成を抑制するには、アンモニア、アン
モニウム塩またはアミン化合物より成るアミン系薬剤の
使用が有効であることが報告されている（第９回ダイオ
キシン国際シンポジウム、カナダ、１９８９．９．１６
〜９．３、講演Ｎｏ、ＦＲＭＯ６、ＦＲＭ１３）。また
、上記アミン系薬剤は窒素酸化物の選択的接触還元用還
元剤として作用することも知られている（特願平１−２
２１３３号明細書参照）。

上記アミン系薬剤の注入量は、経済的観点から必要最少
限の量であるが、その内の一部は未反応のまま排ガスと
共に系外へ排出されることは免かれない。また、上記抑
制効果を高めるためにアミン系薬剤の注入量を過剰にす
ると、アミン系薬剤の系外排出量が増し、これが新たに
環境問題を引き起こす恐れがある。そのため、ごみ焼却
炉の排ガス中に上記アミン系薬剤を注入してＰＣＤＦ　
ｓおよびＰＣＤＤｓの生成を抑制する技術を実用化する
には、この薬剤注入工程の後流に未反応のアミン系薬剤
を無害化する工程を並設することを考慮しなければなら
ない。

この発明は、上記の如き実情に鑑み、クロルベンゼン化
合物の二量化によるＰＣＤＦｓおよびＰＣＤＤｓの生成
を効果的に抑制することができる上に、その後流で別の
有害物質である窒素酸化物を無害化すると共に未反応の
アミン系薬剤をも無害化することができる、排ガス中の
有害物質除去方法を提供することを目的とする。

〔課題の解決手段ｊ この発明による排ガス中の有害物質除去方法は、上記目
的の達成のために、３００℃以上の排ガスに、アンモニ
ア、アンモニウム塩および／またはアミン化合物より成
るアミン系薬剤を注入して、クロルベンゼン化合物の二
量化によるポリクロロジベンゾフランＰＣＤＦ　ｓおよ
びポリクロロジベンゾジオキシンＰＣＤＤｓの生成を抑
制し、アミン系薬剤の注入工程の後流で上記アミン系薬
剤の未反応分による窒素酸化物の選択的接触還元を行な
うことを特徴とするものである。

アミン系薬剤の例としては、アンモニアを始め、炭酸ア
ンモニウム、炭酸水素アンモニウム、蟻酸アンモニウム
、酢酸アンモニウム、尿素、ＮＨ，ＣＨ２０Ｈ，ＮＨ２
Ｃ２Ｈ４０Ｈなどが挙げられる。アミン系薬剤の注入形
態は、ガス状でも水溶液状でもよい。水溶液状の薬剤は
排ガス中に噴霧される。アミン系薬剤の注入量は、好ま
しくは窒素酸化物の還元無害化に必要な量である。

アミン系薬剤を排ガスに注入するときのガス温度は、３
００℃以上である。その理由は、３００℃前後の温度域
でクロルベンゼン化合物の二量化によってポリクロロジ
ベンゾフランＰＣＤＦｓおよびポリクロロジベンゾジオ
キシン（ポリクロロジベンゾジオキサン）ＰＣＤＤｓが
生成するからである。

窒素酸化物の選択的接触還元触媒としては、担体担持型
、非担持型、ラネー型など公知の脱硝触媒が使用できる
が、とりわけアナターゼ型のチタニアに重金属酸化物、
貴金属、好ましくはＶ２Ｏ，のような活性金属を担持さ
せたものが優れた脱硝性能を示す。

アミン系薬剤の注入工程と窒素酸化物の選択的接触還元
工程の間には、好ましくは除塵工程が設けられる。

［作　用］ この発明による排ガス中の有害物質除去方法では、まず
３００℃以上の排ガスにアミン系薬剤が注入されるので
、同薬剤が排ガス中のクロルベンゼン化合物と反応して
これを安定化させる。その結果、クロルベンゼン化合物
の二量化によるＰＣＤＦｓおよびＰＣＤＤｓの生成が効
果的に抑制される。また、アミン系薬剤の未反応分は後
流の窒素酸化物の選択的接触還元用の還元剤として作用
する。したがって、排ガスに注入されたアミン系薬剤は
全量消費され、系外へ排出されることがない。

［実　　施　　例コ つぎに、図示の実施例によりこの発明を具体的に説明す
る。

添付の図面において、ごみ焼却排ガスの煙道において、
３００℃以上の排ガスにアミン系薬剤としてガス状のア
ンモニアを注入した。

ついで、アミン系薬剤の注入工程の後流でこの排ガスを
除塵処理した。

さらに、除塵工程の後流で、アナターゼ型のチタニアに
Ｖ２Ｏ５を担持させた脱硝触媒の存在下に、アミン系薬
剤の未反応分によって排ガス中の窒素酸化物の選択的接
触還元を行なった。

かくして、排ガスへのアミン系薬剤の注入によって、ク
ロルベンゼン化合物の二量化によるＰＣＤＦｓおよびＰ
ＣＤＤｓの生成を効果的に抑制すると共に、その後流で
窒素酸化物を無害化し、排ガスに注入されたアミン系薬
剤を全量消費させ、系外へ排出するのを防止した。

［発明の効果コ この発明の排ガス中の有害物質除去方法によれば、まず
３００℃以上の排ガスにアミン系薬剤を注入するので、
同薬剤が排ガス中のクロルベンゼン化合物と反応してこ
れを安定化させる。

その結果、クロルベンゼン化合物の二量化によるＰＣＤ
Ｆ　ｓおよびＰＣＤＤｓの生成を効果的に抑制すること
ができる。また、アミン系薬剤の未反応分は後流の窒素
酸化物の選択的接触還元用の還元剤として作用する。

したがって、排ガスへのアミン系薬剤の注入によって、
ＰＣＤＦ　ｓおよびＰＣＤＤｓの生成を効果的に抑制す
ることができると共に、その後流で窒素酸化物を無害化
し、注入し、たアミン系薬剤を全量消費させ、系外へ排
出するのを完全に防止することができる。

また、ＰＣＤＦｓおよびＰＣＤＤｓの生成抑制用のアミ
ン系薬剤の過剰分は、後流の窒素酸化物の選択的接触還
元用の還元剤として消費されるので、アミン系薬剤の注
入を過剰に行なって上記抑制効果を高めることができる
。

【図面の簡単な説明】

図面はこの発明の実施例を示すフローシートである。 以　　上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ３００℃以上の排ガスに、アンモニア、アンモニウム塩
   および／またはアミン化合物より成るアミン系薬剤を注
   入して、クロルベンゼン化合物の二量化によるポリクロ
   ロジベンゾフランおよびポリクロロジベンゾジオキシン
   の生成を抑制し、アミン系薬剤の注入工程の後流で上記
   アミン系薬剤の未反応分による窒素酸化物の選択的接触
   還元を行なうことを特徴とする、排ガス中の有害物質除
   去方法。