JPH05337336A - 排ガスの浄化方法 - Google Patents
排ガスの浄化方法Info
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- JPH05337336A JPH05337336A JP4149280A JP14928092A JPH05337336A JP H05337336 A JPH05337336 A JP H05337336A JP 4149280 A JP4149280 A JP 4149280A JP 14928092 A JP14928092 A JP 14928092A JP H05337336 A JPH05337336 A JP H05337336A
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- JP
- Japan
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- exhaust gas
- organic chlorine
- chlorine compound
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】排ガス中に含有されている有機塩素化合物およ
び窒素酸化物を比較的安価にかつ効果的に除去できる排
ガスの浄化方法を提供する。 【構成】燃焼炉から排出された窒素酸化物および有機塩
素化合物を含有する排ガスを、設定された有機塩素化合
物除去用反応器11に導入し、150 〜 500℃で、酸化チタ
ンを主成分とする担体に触媒活性成分として五酸化バナ
ジウム及び酸化タングステンを担持させた脱硝用触媒に
接触させることにより有機塩素化合物を酸化して除去す
る。次に、混合室12において、有機塩素化合物が除去さ
れた排ガス中に還元剤を連続的または間欠的に添加す
る。この後、還元剤を含有する排ガスを、脱硝用反応器
13に導入し、 150〜 500℃の温度で脱硝用触媒に接触さ
せることにより排ガス中に含有される窒素酸化物を還元
して除去する。
び窒素酸化物を比較的安価にかつ効果的に除去できる排
ガスの浄化方法を提供する。 【構成】燃焼炉から排出された窒素酸化物および有機塩
素化合物を含有する排ガスを、設定された有機塩素化合
物除去用反応器11に導入し、150 〜 500℃で、酸化チタ
ンを主成分とする担体に触媒活性成分として五酸化バナ
ジウム及び酸化タングステンを担持させた脱硝用触媒に
接触させることにより有機塩素化合物を酸化して除去す
る。次に、混合室12において、有機塩素化合物が除去さ
れた排ガス中に還元剤を連続的または間欠的に添加す
る。この後、還元剤を含有する排ガスを、脱硝用反応器
13に導入し、 150〜 500℃の温度で脱硝用触媒に接触さ
せることにより排ガス中に含有される窒素酸化物を還元
して除去する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、焼却炉等から排出され
た排ガス中に含有されている窒素酸化物および有機塩素
化合物を除去する排ガスの浄化方法に関する。
た排ガス中に含有されている窒素酸化物および有機塩素
化合物を除去する排ガスの浄化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、産業廃棄物や都市ごみを処理す
るための焼却炉のような燃焼炉から発生する排ガス中に
は、窒素酸化物（ＮＯｘ）と共に、微量ではあるが極め
て毒性の強いポリ塩化ジベンゾダイオキシン類（ＰＣＤ
Ｄｓ）、ポリ塩化ジベンゾフラン類（ＰＣＤＦｓ）、ク
ロロベンゼン類等の有機塩素化合物が含有されている。
このような有害な窒素酸化物および有機塩素化合物を排
ガスから除去することは公害を防止する上で極めて重要
である。
るための焼却炉のような燃焼炉から発生する排ガス中に
は、窒素酸化物（ＮＯｘ）と共に、微量ではあるが極め
て毒性の強いポリ塩化ジベンゾダイオキシン類（ＰＣＤ
Ｄｓ）、ポリ塩化ジベンゾフラン類（ＰＣＤＦｓ）、ク
ロロベンゼン類等の有機塩素化合物が含有されている。
このような有害な窒素酸化物および有機塩素化合物を排
ガスから除去することは公害を防止する上で極めて重要
である。
【０００３】排ガス中からの窒素酸化物の除去方法とし
て、例えば、特公昭５４−２９４１９号公報に、排ガス
中に還元剤としてアンモニアを添加した後、アンモニア
を含む排ガスを、バナジウム（Ｖ）、タングステン
（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）の酸化物からなる触媒に接触さ
せることにより、排ガス中の窒素酸化物を還元して除去
する方法が開示されている。
て、例えば、特公昭５４−２９４１９号公報に、排ガス
中に還元剤としてアンモニアを添加した後、アンモニア
を含む排ガスを、バナジウム（Ｖ）、タングステン
（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）の酸化物からなる触媒に接触さ
せることにより、排ガス中の窒素酸化物を還元して除去
する方法が開示されている。
【０００４】また、排ガス中からの有機塩素化合物の除
去方法として、例えば、特公昭６３−２９０３１４号公
報には、排ガスを、セラミックス担体に白金またはパラ
ジウムを担持させた触媒に３００℃以上の温度で接触さ
せて、排ガス中のクロロベンゼン（Ｃ6 Ｈ5 Ｃｌ）、ジ
クロロベンゼン（Ｃ6 Ｈ4 Ｃｌ2 ）、トリクロロベンゼ
ン（Ｃ6 Ｈ3 Ｃｌ3 ）を除去する方法が開示されてい
る。特公平３−８４１５号公報には、チタン、珪素（Ｓ
ｉ）、ジルコニア（Ｚｒ）の酸化物からなるハニカム成
型体に白金またはパラジウムを担持させた触媒に、３０
０℃以上の温度で排ガスを接触させてＰＣＤＤｓを除去
する方法が開示されている。また、特公平２−３５９１
４号公報には、排ガスを、バナジウム、タングステン、
チタンの酸化物からなる触媒に、２８０〜２９０℃の温
度で、還元剤を添加せずに接触させて、排ガス中のＰＣ
ＤＤｓ、ＰＣＤＦｓおよびクロロベンゼン類を酸化して
除去する方法が開示されている。
去方法として、例えば、特公昭６３−２９０３１４号公
報には、排ガスを、セラミックス担体に白金またはパラ
ジウムを担持させた触媒に３００℃以上の温度で接触さ
せて、排ガス中のクロロベンゼン（Ｃ6 Ｈ5 Ｃｌ）、ジ
クロロベンゼン（Ｃ6 Ｈ4 Ｃｌ2 ）、トリクロロベンゼ
ン（Ｃ6 Ｈ3 Ｃｌ3 ）を除去する方法が開示されてい
る。特公平３−８４１５号公報には、チタン、珪素（Ｓ
ｉ）、ジルコニア（Ｚｒ）の酸化物からなるハニカム成
型体に白金またはパラジウムを担持させた触媒に、３０
０℃以上の温度で排ガスを接触させてＰＣＤＤｓを除去
する方法が開示されている。また、特公平２−３５９１
４号公報には、排ガスを、バナジウム、タングステン、
チタンの酸化物からなる触媒に、２８０〜２９０℃の温
度で、還元剤を添加せずに接触させて、排ガス中のＰＣ
ＤＤｓ、ＰＣＤＦｓおよびクロロベンゼン類を酸化して
除去する方法が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記説
明した排ガス中の有害成分の除去方法はいずれも、窒素
酸化物および有機塩素化合物の両者を共に排ガス中から
除去することはできない。また、特公昭６３−２９０３
１４号公報または特公平３−８４１５号公報に記載され
た方法で有機塩素除去用触媒として用いられる白金やパ
ラジウムのような貴金属系の触媒は、比較的高価であ
り、より安価な触媒の開発が求められている。
明した排ガス中の有害成分の除去方法はいずれも、窒素
酸化物および有機塩素化合物の両者を共に排ガス中から
除去することはできない。また、特公昭６３−２９０３
１４号公報または特公平３−８４１５号公報に記載され
た方法で有機塩素除去用触媒として用いられる白金やパ
ラジウムのような貴金属系の触媒は、比較的高価であ
り、より安価な触媒の開発が求められている。
【０００６】本発明は、燃焼炉から排出された排ガス中
に含有されている有害な窒素酸化物および有機塩素化合
物を比較的安価な触媒を用いて同時に除去することがで
きる排ガスの浄化方法を提供する。
に含有されている有害な窒素酸化物および有機塩素化合
物を比較的安価な触媒を用いて同時に除去することがで
きる排ガスの浄化方法を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、燃焼炉から排
出された窒素酸化物および有機塩素化合物を含有する排
ガスを１５０〜５００℃の温度で脱硝用触媒に接触させ
て前記有機塩素化合物を酸化することにより除去する工
程と、前記有機塩素化合物が除去された排ガス中に還元
剤を連続的または間欠的に添加する工程と、前記還元剤
を含有する排ガスを１５０〜５００℃の温度で脱硝用触
媒に接触させて前記排ガス中に含有される窒素酸化物を
還元することにより除去する工程とを特徴とする排ガス
の浄化方法を提供する。以下、本発明をさらに詳細に説
明する。
出された窒素酸化物および有機塩素化合物を含有する排
ガスを１５０〜５００℃の温度で脱硝用触媒に接触させ
て前記有機塩素化合物を酸化することにより除去する工
程と、前記有機塩素化合物が除去された排ガス中に還元
剤を連続的または間欠的に添加する工程と、前記還元剤
を含有する排ガスを１５０〜５００℃の温度で脱硝用触
媒に接触させて前記排ガス中に含有される窒素酸化物を
還元することにより除去する工程とを特徴とする排ガス
の浄化方法を提供する。以下、本発明をさらに詳細に説
明する。
【０００８】本発明の排ガスの浄化方法に用いられる脱
硝用触媒としては、一般に窒素酸化物還元触媒として市
販される、バナジウム、タングステン、チタンの酸化物
からなる触媒を使用できる。本発明では、まず、排ガス
を脱硝用触媒に接触させて、排ガス中に含有されている
有機塩素化合物を酸化することにより除去し、次いで、
排ガスに還元剤を添加した後に、排ガスを上記脱硝用触
媒に接触させて、排ガス中に含有されている窒素酸化物
を還元することにより除去する。これらの脱硝用触媒
は、還元剤が存在しない条件下では、有機塩素化合物の
酸化触媒として作用する。還元剤の存在下では、該触媒
上で窒素酸化物の還元が選択的に起こる。ただし、この
場合に、触媒上に還元剤が吸着して触媒表面が覆われる
ため、この後では有機塩素化合物が触媒に接触できない
ので、有機塩素化合物の酸化が抑制される。このため、
窒素酸化物の還元を初めに行う必要がある。
硝用触媒としては、一般に窒素酸化物還元触媒として市
販される、バナジウム、タングステン、チタンの酸化物
からなる触媒を使用できる。本発明では、まず、排ガス
を脱硝用触媒に接触させて、排ガス中に含有されている
有機塩素化合物を酸化することにより除去し、次いで、
排ガスに還元剤を添加した後に、排ガスを上記脱硝用触
媒に接触させて、排ガス中に含有されている窒素酸化物
を還元することにより除去する。これらの脱硝用触媒
は、還元剤が存在しない条件下では、有機塩素化合物の
酸化触媒として作用する。還元剤の存在下では、該触媒
上で窒素酸化物の還元が選択的に起こる。ただし、この
場合に、触媒上に還元剤が吸着して触媒表面が覆われる
ため、この後では有機塩素化合物が触媒に接触できない
ので、有機塩素化合物の酸化が抑制される。このため、
窒素酸化物の還元を初めに行う必要がある。
【０００９】本発明の排ガスの浄化方法に用いられる還
元剤は、例えば、アンモニア、または、尿素等のアンモ
ニアを発生し得る物質である。還元剤は、連続的または
間欠的に灰ガス中に添加され、混合される。
元剤は、例えば、アンモニア、または、尿素等のアンモ
ニアを発生し得る物質である。還元剤は、連続的または
間欠的に灰ガス中に添加され、混合される。
【００１０】また、本発明では、排ガスを１５０℃〜５
００℃で脱硝用触媒と接触させる。１５０℃未満では、
触媒活性が低下し、脱硝率およびダイオキシン除去率共
に著しく低下し、さらに、排ガス中に含まれる二酸化硫
黄（ＳＯ2 ）、塩酸（ＨＣｌ）等による被毒が顕著にな
り、触媒寿命が極端に短くなる。また、副生した酸性硫
安による機器の腐食等の問題も生じてくるためであり、
一方、５００℃を越える温度では、高温によるシンタリ
ングのために、触媒表面積が減少し、触媒活性が低下し
て、脱硝率およびダイオキシン除去率共に著しく低下す
るためである。
００℃で脱硝用触媒と接触させる。１５０℃未満では、
触媒活性が低下し、脱硝率およびダイオキシン除去率共
に著しく低下し、さらに、排ガス中に含まれる二酸化硫
黄（ＳＯ2 ）、塩酸（ＨＣｌ）等による被毒が顕著にな
り、触媒寿命が極端に短くなる。また、副生した酸性硫
安による機器の腐食等の問題も生じてくるためであり、
一方、５００℃を越える温度では、高温によるシンタリ
ングのために、触媒表面積が減少し、触媒活性が低下し
て、脱硝率およびダイオキシン除去率共に著しく低下す
るためである。
【００１１】
【作用】本発明の排ガスの浄化方法によれば、還元剤が
存在しない条件下で、排ガスを脱硝用触媒と接触させて
排ガス中の有機塩素化合物を酸化することにより、有機
塩素化合物が分解除去される。次いで、排ガスに還元剤
を添加した後、脱硝用触媒に接触させて排ガス中の窒素
酸化物を選択的に還元することにより、窒素酸化物が分
解除去される。
存在しない条件下で、排ガスを脱硝用触媒と接触させて
排ガス中の有機塩素化合物を酸化することにより、有機
塩素化合物が分解除去される。次いで、排ガスに還元剤
を添加した後、脱硝用触媒に接触させて排ガス中の窒素
酸化物を選択的に還元することにより、窒素酸化物が分
解除去される。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。図１は、本発明の排ガスの浄化方法の一例
を示す説明図である。
に説明する。図１は、本発明の排ガスの浄化方法の一例
を示す説明図である。
【００１３】燃焼炉（図示せず）で発生した排ガスを、
図１に示すように、有機塩素化合物除去用反応器１１に
導入した。有機塩素化合物除去用反応器１１の内部に
は、脱硝用触媒を配置し、温度を１５０〜５００℃に設
定した。ここで、脱硝用触媒としては、酸化チタン（Ｔ
ｉＯ2 ）を主成分とする担体に触媒活性成分として五酸
化バナジウム（Ｖ2 Ｏ5 ）および酸化タングステン（Ｗ
Ｏ3 ）を担持させた触媒を使用した。このような有機塩
素化合物除去用反応器１１において、排ガスの中の有機
塩素化合物を脱硝用触媒と接触させることにより酸化し
て除去された。
図１に示すように、有機塩素化合物除去用反応器１１に
導入した。有機塩素化合物除去用反応器１１の内部に
は、脱硝用触媒を配置し、温度を１５０〜５００℃に設
定した。ここで、脱硝用触媒としては、酸化チタン（Ｔ
ｉＯ2 ）を主成分とする担体に触媒活性成分として五酸
化バナジウム（Ｖ2 Ｏ5 ）および酸化タングステン（Ｗ
Ｏ3 ）を担持させた触媒を使用した。このような有機塩
素化合物除去用反応器１１において、排ガスの中の有機
塩素化合物を脱硝用触媒と接触させることにより酸化し
て除去された。
【００１４】次いで、有機塩素化合物が除去された排ガ
スを混合室１２に導入し、還元剤としてアンモニア（Ｎ
Ｈ3 ）を連続的または間欠的に添加し混合した。ここ
で、アンモニアは、窒素酸化物（ＮＯｘ）に対するモル
比が約０．６になるように添加した。
スを混合室１２に導入し、還元剤としてアンモニア（Ｎ
Ｈ3 ）を連続的または間欠的に添加し混合した。ここ
で、アンモニアは、窒素酸化物（ＮＯｘ）に対するモル
比が約０．６になるように添加した。
【００１５】この後、アンモニアが添加された排ガス
を、脱硝用反応器１３に導入した。脱硝用反応器１３の
内部には、有機塩素化合物除去用反応器１１で用いたも
のと同様の脱硝用触媒を設け、温度を１５０〜５００℃
の温度に設定した。脱硝用反応器１３の内部において、
アンモニアの存在下で、排ガス中の窒素酸化物が脱硝用
触媒と接触させることにより、選択的に還元されて除去
された。このようにして浄化された排ガス中のＰＣＤＤ
ｓ、ＰＣＤＦｓおよび窒素酸化物（ＮＯｘ）の含有量を
測定し、浄化処理前のそれらの含有量と比較した。この
結果を表１に示す。
を、脱硝用反応器１３に導入した。脱硝用反応器１３の
内部には、有機塩素化合物除去用反応器１１で用いたも
のと同様の脱硝用触媒を設け、温度を１５０〜５００℃
の温度に設定した。脱硝用反応器１３の内部において、
アンモニアの存在下で、排ガス中の窒素酸化物が脱硝用
触媒と接触させることにより、選択的に還元されて除去
された。このようにして浄化された排ガス中のＰＣＤＤ
ｓ、ＰＣＤＦｓおよび窒素酸化物（ＮＯｘ）の含有量を
測定し、浄化処理前のそれらの含有量と比較した。この
結果を表１に示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】表１から明らかなように、本発明の排ガス
の浄化方法によれば、浄化処理後の排ガス中のＰＣＤＤ
ｓ、ＰＣＤＦｓおよび窒素酸化物（ＮＯｘ）のすべて
が、浄化処理前の排ガスに比べて著しく低減されている
ことが確認された。
の浄化方法によれば、浄化処理後の排ガス中のＰＣＤＤ
ｓ、ＰＣＤＦｓおよび窒素酸化物（ＮＯｘ）のすべて
が、浄化処理前の排ガスに比べて著しく低減されている
ことが確認された。
【００１８】なお、本実施例では、有機塩素化合物除去
用反応器１１と脱硝用反応器１３の間に混合室１２を設
けてアンモニアを添加・混合したが、混合室１２を設け
ずに流通する排ガス中に還元剤を添加しても十分な脱硝
効果が期待できることは言うまでもない。
用反応器１１と脱硝用反応器１３の間に混合室１２を設
けてアンモニアを添加・混合したが、混合室１２を設け
ずに流通する排ガス中に還元剤を添加しても十分な脱硝
効果が期待できることは言うまでもない。
【００１９】
【発明の効果】以上説明した如くに、本発明の排ガスの
浄化方法によれば、燃焼炉から排出された排ガス中に含
有されている有機塩素化合物および窒素酸化物を、比較
的安価な脱硝用触媒を用いて、同時にかつ効果的に除去
して排ガスを浄化することができる等顕著な効果を奏す
る。
浄化方法によれば、燃焼炉から排出された排ガス中に含
有されている有機塩素化合物および窒素酸化物を、比較
的安価な脱硝用触媒を用いて、同時にかつ効果的に除去
して排ガスを浄化することができる等顕著な効果を奏す
る。
【図１】本発明の排ガスの浄化方法の一例を示す説明
図。
図。
１１…有機塩素化合物除去用反応器、１２…混合室、１
３…脱硝用反応器。
３…脱硝用反応器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森重 敦 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 仲尾 強 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 燃焼炉から排出された窒素酸化物および
有機塩素化合物を含有する排ガスを１５０〜５００℃の
温度で脱硝用触媒に接触させて前記有機塩素化合物を酸
化することにより除去する工程と、前記有機塩素化合物
が除去された排ガス中に還元剤を連続的または間欠的に
添加する工程と、前記還元剤を含有する排ガスを１５０
〜５００℃の温度で脱硝用触媒に接触させて前記排ガス
中に含有される窒素酸化物を還元することにより除去す
る工程とを特徴とする排ガスの浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4149280A JPH05337336A (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | 排ガスの浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4149280A JPH05337336A (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | 排ガスの浄化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337336A true JPH05337336A (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=15471758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4149280A Pending JPH05337336A (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | 排ガスの浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05337336A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6027697A (en) * | 1995-08-08 | 2000-02-22 | Ebara Corporation | Method and apparatus for treating combustion exhaust gases |
| US6120747A (en) * | 1996-12-27 | 2000-09-19 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for removing organic halogen compounds, preparation method therefor and method for removing organic halogen compounds |
| EP1994982A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-11-26 | Fujifilm Corporation | Catalyst body which uses an anodized layer |
| JP4798850B2 (ja) * | 1999-05-07 | 2011-10-19 | アルギロン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 触媒活性コンパウンドの製造方法、このコンパウンドを備えた触媒並びにこの触媒を使用したダイオキシン及び／又はフランの分解方法 |
-
1992
- 1992-06-09 JP JP4149280A patent/JPH05337336A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6027697A (en) * | 1995-08-08 | 2000-02-22 | Ebara Corporation | Method and apparatus for treating combustion exhaust gases |
| US6120747A (en) * | 1996-12-27 | 2000-09-19 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for removing organic halogen compounds, preparation method therefor and method for removing organic halogen compounds |
| JP4798850B2 (ja) * | 1999-05-07 | 2011-10-19 | アルギロン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 触媒活性コンパウンドの製造方法、このコンパウンドを備えた触媒並びにこの触媒を使用したダイオキシン及び／又はフランの分解方法 |
| EP1994982A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-11-26 | Fujifilm Corporation | Catalyst body which uses an anodized layer |
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