JPH11165043A - 廃棄物焼却炉の排ガス処理方法 - Google Patents

廃棄物焼却炉の排ガス処理方法

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JPH11165043A
JPH11165043A JP9333803A JP33380397A JPH11165043A JP H11165043 A JPH11165043 A JP H11165043A JP 9333803 A JP9333803 A JP 9333803A JP 33380397 A JP33380397 A JP 33380397A JP H11165043 A JPH11165043 A JP H11165043A
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bag
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ash
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一博 近藤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 脱硝性能の低下を防止する。 【解決手段】 ガス流れ方向に直列に配された調温塔2
とバグフィルタ3 と脱硝反応装置5 を具備してなる排ガ
ス処理施設における廃棄物焼却炉の排ガス処理方法であ
る。脱硝反応装置5 で排ガスに含まれるNOxをアンモ
ニア系還元剤を用いて窒素と水に変換する。その際に、
同排ガスにバグフィルタ3 上流部にて、排ガスに含まれ
るSO3 を除去するためのNH3 をその濃度がSO3
度と当量以上になるように注入する。これによって、硫
安および/または酸性硫安を生成させ、これら生成塩を
バグフィルタ3 にてバグ灰と共に除去した後に排ガスを
脱硝反応装置に導く。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は廃棄物焼却炉排ガス
中に含まれる無水硫酸(SO3 )を除去し、同排ガス中
に含まれる窒素酸化物(NOx)の除去率を維持する排
ガス処理方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の典型的な廃棄物焼却炉排ガス処理
システムのフローシートを図3に示す。このシステムの
排ガス処理施設は、主として、焼却炉(1) から煙突(6)
へのガス流路に、ガス流れ方向に直列に配された調温塔
(2) とバグフィルタ(3) と脱硝反応装置(5) 、およびバ
グフィルタ(3) で集塵されたバグ灰を系外へ排出するダ
ストホッパ(4) より構成されている。この施設では、廃
棄物は焼却炉(1) で約900℃で焼却処理され、生じた
排ガスは調温塔(2) で200℃に冷却された後、バグフ
ィルタ(3) に入り、ここでガスとバグ灰とに分けられ
る。ガスは脱硝反応装置(5) に入り、ここでNH3 注入
ライン(A) より注入されるNH3 、尿素等のアンモニア
系還元剤によって、脱硝触媒(7) の存在下にガス中のN
Oxが無害な窒素と水に変換され、処理ガスは煙突(6)
から系外に排出される。一方、バグフィルタ(3) で集塵
されたバグ灰はダストホッパ(4) によってこれも系外へ
排出される。
【0003】しかしながら、この排ガス処理方法では、
焼却灰の捕集およびNOxの無害化が行われるのみで、
排ガスに含まれるSOxの除去については何ら考慮され
ていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】廃棄物焼却炉排ガス中
には微量のSO3 が含まれており、実際には同排ガス中
の水分と結合し硫酸ガスの形態で存在している。これは
バグフィルタ(3) では除去されず、脱硝反応装置(5) ま
で到達する。硫酸ガスが脱硝触媒(7) に吸着すると、触
媒活性点が硫酸ガスによって覆われ、その結果脱硝性能
が僅かずつ低下していく。
【0005】本発明は、バグフィルタ(3) 上流部におい
て硫酸ガスとNH3 との反応により硫安および/または
酸性硫安を生成させ、この微粉をバグフィルタ(3) にて
捕集しダストホッパ(4) によって系外へ排出することに
より、脱硝性能の低下を防止することを目的とするもの
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による廃棄物焼却
炉の排ガス処理方法は、ガス流れ方向に直列に配された
調温塔(2) とバグフィルタ(3) と脱硝反応装置(5) を具
備してなる排ガス処理施設において、脱硝反応装置(5)
で排ガスに含まれるNOxをアンモニア系還元剤を用い
て窒素と水に変換する際に、同排ガスにバグフィルタ
(3) 上流部にて、排ガスに含まれるSO3 を除去するた
めのNH3 をその濃度がSO3 濃度と当量以上になるよ
うに注入することによって、硫安および/または酸性硫
安を生成させ、これら生成塩をバグフィルタ(3) にてバ
グ灰と共に除去した後に排ガスを脱硝反応装置に導くこ
とを特徴とする方法である。
【0007】上記アンモニア系還元剤は、NH3 、尿素
等である。
【0008】上記SO3 除去用NH3 の注入量は、その
濃度がSO3 濃度と当量以上、好ましくはその2倍以上
になるように定められる。ただし、SO3 除去用NH3
の注入量は、その濃度がSO3 濃度と当量の10倍を越
えると、未反応NH3 が増大し、環境汚染の点で好まし
くない。
【0009】上記SO3 除去用NH3 の注入は、好まし
くは、調温塔(2) からバグフィルタ(3) までの間で行わ
れる。
【0010】上記SO3 除去用NH3 の注入位置からバ
グフィルタ(3) までのガス滞留時間は、好ましくは0.
1秒以上、より好ましくは1.0秒以上である。ただ
し、このガス滞留時間が長くなれば、余分な空間が必要
となり、装置が大型化するので好ましくない。
【0011】上記アンモニア系還元剤としてNH3 を用
い、この還元用NH3 と上記SO3除去用NH3 の全体
をバグフィルタ(3) 上流部にて排ガスに注入することが
好ましい。
【0012】上記バグフィルタ(3) にてバグ灰と共に除
去された硫安および/または酸性硫安に清浄空気を接触
させ、バグ灰に吸着したSO3 除去用NH3 をバグ灰か
ら脱離することが好ましい。
【0013】こうしてバグ灰から脱離されたNH3 含有
空気を、上述のSO3 除去用NH3の注入ライン(A1)ま
たはアンモニア系還元剤の注入ライン(A2)へ送り、NH
3 含有空気が系外に排出しないようにすることが好まし
い。
【0014】上記SO3 除去用NH3 の注入ライン(A1)
を好ましくは約180〜250℃程度に加熱し、SO3
除去用NH3 の注入口での硫安および/または酸性硫安
の析出を防止することが好ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】NOxの他に微量のSO3 が共存
した排ガスに対し、250℃以下でNH3 による還元脱
硝を行うと、脱硝性能は経時的に低下し、その低下速度
はSO3 濃度に支配されることが従来から知られてい
る。この原因は、SO3 と湿分(H2 O)、それに脱硝
用還元剤であるNH3 との反応によって生成する硫安お
よび酸性硫安などが触媒表面に析出するためと考えられ
ている。
【0016】しかしながら、発明者等は、 SO3 、H2 O、NH3 の硫安・酸性硫安析出に関す
る平衡関係から計算した析出限界温度以上の温度で脱硝
反応を起こしても、程度の差はあるが、硫酸ガスによる
場合と同様の脱硝性能の低下が見られ、 SO3 、H2 Oのみを含むガス(NH3 を含まない)
に触媒を曝しても、250℃以下では顕著な活性低下が
認められることから、従来の見解とは異なり、前述の活
性低下現象はSO3 の触媒活性点への吸着に起因するこ
とを見いだした。
【0017】従って、触媒活性点へのSO3 の吸着を防
止するには、触媒活性点到達前にSO3 を触媒に容易に
は吸着しない化合物に変質させ、触媒細孔内を拡散しに
くい形態にしておくことが必要である。
【0018】そこで、本発明者等は、SO3 を気相で脱
硝触媒床到達前にNH3 と反応させ硫安および/または
酸性硫安に変質させれば、上記目的を達成できることを
見いだした。
【0019】本発明による廃棄物焼却炉排ガス処理シス
テムのフローシートを図1に示す。このシステムの排ガ
ス処理施設は、主として、焼却炉(1) から煙突(6) への
ガス流路に、ガス流れ方向に直列に配された調温塔(2)
とバグフィルタ(3) と脱硝反応装置(5) 、およびバグフ
ィルタ(3) で集塵されたバグ灰を系外へ排出するダスト
ホッパ(4) より構成されている。
【0020】廃棄物は焼却炉(1) で約900℃で焼却処
理され、生じた排ガスは調温塔(2)で200℃に冷却さ
れた後、バグフィルタ(3) に入り、ここでガスとバグ灰
とに分けられる。ガスは脱硝反応装置(5) に入り、ここ
で還元用NH3 注入ライン(A2)より注入されるNH3
尿素等のアンモニア系還元剤によって、脱硝触媒(7)の
存在下にガス中のNOxが無害な窒素と水に変換され、
処理ガスは煙突(6) から系外に排出される。一方、バグ
フィルタ(3) で集塵されたバグ灰はダストホッパ(4) に
よって系外へ排出される。
【0021】この排ガス処理システムにおいて、調温塔
(2) を通過した排ガス中のSO3 に対し、バグフィルタ
(3) 上流部にてSO3 除去用NH3 注入ライン(A1)より
NH3 を注入する。
【0022】この結果、次の反応(1)(2)が起こり、 SO3 +H2 O+2NH3 → (NH4 2 SO4 …(1) SO3 +H2 O+NH3 → (NH4 )HSO4 …(2) SO3 は微粉状の硫安および/または酸性硫安に変質さ
れ、これらがバグフィルタ(3) にて捕集され、ダストホ
ッパ(4) にて系外へ排出される。その結果、脱硝触媒
(7) への硫酸ガスの吸着が防止でき、脱硝性能の維持が
達成される。この場合、SO3 除去用NH3 の注入量は
SO3 と当量以上にすることが好ましい。SO3 除去用
NH3 の注入量がSO3 と当量未満であると、SO3
対してSO3除去用NH3 が不足になるため、SO3
完全には除去されず脱硝性能の低下を招く恐れがある。
SO3 除去用NH3 注入量はSO3 の当量の2倍以上で
あることがより好ましい。
【0023】NH3 は水によって容易に吸収され除去さ
れてしまうので、SO3 除去用NH3 の注入は調温塔
(2) からバグフィルタ(3) までの間で行うのが効率的で
ある。
【0024】ここで、SO3 を、触媒に容易には吸着し
ない化合物に変質させ、触媒細孔内を拡散しにくい形態
とするためには、SO3 を酸性硫安より硫安に変質させ
ることが好ましく、式(1) の反応を完結させ、気相中の
SO3 を極力低減させるには、(1) SO3 除去用NH3
の注入を低温で行うこと、(2) SO3 と注入されたNH
3 との混合状態を、反応が完結するに十分な時間保持す
ること、(3) NH3 濃度が極力高くなるようにSO3
去用NH3 を注入することが好ましい。
【0025】こうしたことから、SO3 除去用NH3
注入口からバグフィルタ(3) までのガス滞留時間は0.
1秒以上であることが好ましい。滞留時間が0.1秒以
下であると、反応が完結しないため、硫酸ミストまたは
蒸気が完全には除去されず、脱硝性能の低下を招く嫌い
がある。
【0026】また、NH3 は後流の脱硝反応装置(5) で
還元剤として要求される量と、SO3 とのSO3 除去反
応に必要な量との総量をバグフィルタ(3) 上流部にてS
3除去用NH3 の注入ライン(A1)より注入することが
より好ましい。その場合、一般的にはNH3 濃度は50
ppm以上となり、一部がバグ灰に吸着され系外に排出
される可能性がある。すなわち、バグ灰に吸着したNH
3 がその後バグ灰から脱離し、NH3 の刺激臭を発する
恐れがある。従って、バグ灰を排出する前にこれをダス
トホッパ(4) 内で少量の清浄空気と接触させ、吸着NH
3 を除去しておくことが好ましい。このNH3 成分を含
んだ空気は、SO3 除去用NH3 の注入ライン(A1)また
は還元用NH3 の注入ライン(A2)へ送り、NH3 含有空
気が系外に排出しないようにすると共にこれを有効に利
用することがより好ましい。
【0027】さらに、NH3 注入ライン(A1)の注入口に
おいて、硫安および/または酸性硫安の析出を防止する
ために、注入ライン(A1)は排ガス温度と同程度の約20
0℃程度に加熱しておくことが好ましい。
【0028】このように、バグフィルタ(3) 上流部にて
NH3 注入を行うことで、排ガス中のSO3 は硫安およ
び/または酸性硫安に変質され、バグフィルタ(3) によ
ってこれらの微粉が捕集され、後流の脱硝触媒の性能維
持が図られる。
【0029】
【発明の実施の形態】以下にその実施例を示す。
【0030】実施例1 1)触媒調製 セラミック繊維で構成されるセラミックペーパー(0.
25mm厚さ)に、硝酸塩加水分解法で得られたチタニ
アコロイド溶液(固形分32重量%)を含浸担持し、1
10℃で乾燥した後400℃で3時間焼成して、アナタ
ーゼ型チタニアを90g/m2 保持した板状担体を得
た。
【0031】この板状担体を、メタバナジン酸アンモン
飽和水溶液に常温で浸漬し、200℃で30分乾燥し
た。この操作をもう一度繰り返した後、400℃で1時
間焼成を行い、バナジウム担持チタニア板状触媒を得
た。
【0032】2)SO3 の除去と脱硝性能 図1において、脱硝触媒(7) を、触媒床での面積速度A
V=21Nm/hとなるように、脱硝反応装置(5) に充
填した。ここで、面積速度AVは触媒の幾何表面積あた
りの排ガス量を示す。また、触媒床上での排ガス温度1
70℃、排ガス中の成分濃度:SO3 10ppm、O2
15%、H2 O10%、NOx80ppm、SO3 除去
用NH3 注入口におけるNH3 /SO3 =5.0、還元
用NH3注入口におけるNH3 /NOx=1.25とな
るように、それぞれNH3 を注入し、灰ガス処理を行っ
た。このときの脱硝率の経時変化を図2に示す。
【0033】比較例1(本書冒頭に述べた従来技術に合
致する) SO3 除去用NH3 の注入を行わなかった点を除いて、
実施例1と同じ操作を行った。この結果も図2に併記す
る。
【0034】実施例1と比較例1の対比で分かるよう
に、本発明に基いたSO3 除去用NH3 の注入を行うこ
とにより、一例として脱硝率が0.65を割るまでの運
転時間が、従来技術の2倍(80時間)に伸び、脱硝性
能の維持時間が長くなった。
【0035】
【発明の効果】本発明方法によれば、バグフィルタ(3)
上流部において硫酸ガスとNH3 との反応により硫安お
よび/または酸性硫安を生成させ、この微粉をバグフィ
ルタ(3) にて捕集しダストホッパ(4) によって系外へ排
出することにより、脱硝性能の低下を防止することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による廃棄物焼却炉の排ガス処理方法
を示すフローシートである。
【図2】 本発明による廃棄物焼却炉の排ガス処理方法
の脱硝触媒性能試験結果を示す運転時間と脱硝率の関係
を示すグラフである。
【図3】 従来の廃棄物焼却炉排ガス処理システムを示
すフローシートである。
【符号の説明】
1:焼却炉 2:調温塔 3:バグフィルタ 4:ダストホッパ 5:脱硝反応装置 6:煙突 7:脱硝触媒 A1:SO3 除去用NH3 注入ライン A2:還元用NH3 注入ライン

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガス流れ方向に直列に配された調温塔
    (2) とバグフィルタ(3) と脱硝反応装置(5) を具備して
    なる排ガス処理施設において、脱硝反応装置(5) で排ガ
    スに含まれる窒素酸化物をアンモニア系還元剤を用いて
    窒素と水に変換する際に、同排ガスにバグフィルタ(3)
    上流部にて、排ガスに含まれるSO3 を除去するための
    NH3 をその濃度がSO3 濃度と当量以上になるように
    注入することによって、硫安および/または酸性硫安を
    生成させ、これら生成塩をバグフィルタ(3) にてバグ灰
    と共に除去した後に排ガスを脱硝反応装置に導くことを
    特徴とする排ガス処理方法。
  2. 【請求項2】 上記SO3 除去用NH3 の注入が調温塔
    (2) からバグフィルタ(3) までの間で行われることを特
    徴とする、請求項1記載の排ガス処理方法。
  3. 【請求項3】 上記SO3 除去用NH3 の注入位置から
    バグフィルタ(3) までのガス滞留時間が0.1秒以上で
    あることを特徴とする、請求項1または2に記載の排ガ
    ス処理方法。
  4. 【請求項4】 上記アンモニア系還元剤としてNH3
    用い、この還元用NH3 と上記SO3 除去用NH3 の全
    体をバグフィルタ(3) 上流部にて排ガスに注入すること
    を特徴とする、請求項1〜3のうち1項に記載の排ガス
    処理方法。
  5. 【請求項5】 上記バグフィルタ(3) にてバグ灰と共に
    除去された硫安および/または酸性硫安に清浄空気を接
    触させ、バグ灰に吸着したNH3 をバグ灰から脱離する
    ことを特徴とする、請求項1〜4のうち1項に記載の排
    ガス処理方法。
  6. 【請求項6】 請求項5記載の方法によってバグ灰から
    脱離されたNH3 含有空気を、請求項1記載のSO3
    去用NH3 の注入ライン(A1)またはアンモニア系還元剤
    の注入ライン(A2)へ送り、NH3 含有空気が系外に排出
    しないようにすることを特徴とする、請求項1〜5のう
    ち1項に記載の排ガス処理方法。
  7. 【請求項7】 上記SO3 除去用NH3 の注入ライン(A
    1)を約180〜250℃程度に加熱し、同SO3 除去剤
    の注入口での硫安および/または酸性硫安の析出を防止
    することを特徴とする、請求項1〜6のうち1項に記載
    の排ガス処理方法。
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