JP2523037B2 - 排ガス中の有害物質除去方法 - Google Patents
排ガス中の有害物質除去方法Info
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- JP2523037B2 JP2523037B2 JP2068580A JP6858090A JP2523037B2 JP 2523037 B2 JP2523037 B2 JP 2523037B2 JP 2068580 A JP2068580 A JP 2068580A JP 6858090 A JP6858090 A JP 6858090A JP 2523037 B2 JP2523037 B2 JP 2523037B2
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- Japan
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- amine
- exhaust gas
- harmful substances
- downstream
- pcdd
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、ごみ焼却炉を始めとする各種の火炉から
出る排ガス中の有害物質の除去方法に関し、さらに詳し
くは、排ガス中の有害成分とりわけポリクロロジベンゾ
フラン（以下「PCDFS」と略記する）およびポリクロロ
ジベンゾジオキシン（以下「PCDDS」と略記する）の生
成を抑制すると共に、窒素酸化物を還元無害化する方法
に関する。
出る排ガス中の有害物質の除去方法に関し、さらに詳し
くは、排ガス中の有害成分とりわけポリクロロジベンゾ
フラン（以下「PCDFS」と略記する）およびポリクロロ
ジベンゾジオキシン（以下「PCDDS」と略記する）の生
成を抑制すると共に、窒素酸化物を還元無害化する方法
に関する。
［従来技術および発明の課題］ ごみ焼却炉の排ガス中には、300℃前後の温度域でク
ロルベンゼン化合物の二量化によって生成したPCDFSお
よびPCDDSが含まれている。PCDFSおよびPCDDSの生成を
抑制するには、アンモニア、アンモニウム塩またはアミ
ン化合物より成るアミン系薬剤の使用が有効であること
が報告されている（第９回ダイオキシン国際シンポジウ
ム、カナダ、1989,9,16〜9,3、講演No.FRM06,FRM13）。
また、上記アミン系薬剤は窒素参酸化物の選択的接触還
元用還元剤として作用することも知られている（特願平
1-22133号明細書参照）。
ロルベンゼン化合物の二量化によって生成したPCDFSお
よびPCDDSが含まれている。PCDFSおよびPCDDSの生成を
抑制するには、アンモニア、アンモニウム塩またはアミ
ン化合物より成るアミン系薬剤の使用が有効であること
が報告されている（第９回ダイオキシン国際シンポジウ
ム、カナダ、1989,9,16〜9,3、講演No.FRM06,FRM13）。
また、上記アミン系薬剤は窒素参酸化物の選択的接触還
元用還元剤として作用することも知られている（特願平
1-22133号明細書参照）。
上記アミン系薬剤の注入量は、経済的観点から必要最
少限の量であるが、その内の一部は未反応のまま排ガス
と共に系外へ排出されることは免がれない。また、上記
抑制効果を高めるためにアミン系薬剤の注入量を過剰に
すると、アミン系薬剤の系外排出量が増し、これが新た
に環境問題を引き起こす恐れがある。そのため、ごみ焼
却炉の排ガス中に上記アミン系薬剤を注入してPCDFSお
よびPCDDSの生成を抑制する技術を実用化するには、こ
の薬剤注入工程の後流に未反応のアミン系薬剤を無害化
する工程を並設することを考慮しなければならない。
少限の量であるが、その内の一部は未反応のまま排ガス
と共に系外へ排出されることは免がれない。また、上記
抑制効果を高めるためにアミン系薬剤の注入量を過剰に
すると、アミン系薬剤の系外排出量が増し、これが新た
に環境問題を引き起こす恐れがある。そのため、ごみ焼
却炉の排ガス中に上記アミン系薬剤を注入してPCDFSお
よびPCDDSの生成を抑制する技術を実用化するには、こ
の薬剤注入工程の後流に未反応のアミン系薬剤を無害化
する工程を並設することを考慮しなければならない。
この発明は、上記の如き実情に鑑み、クロルベンゼン
化合物の二量化によるPCDFSおよびPCDDSの生成を効果的
に抑制することができる上に、その後流で別の有害物質
である窒素酸化物を無害化すると共に未反応のアミン系
薬剤をも無害化することができる、排ガス中の有害物質
除去方法を提供することを目的とする。
化合物の二量化によるPCDFSおよびPCDDSの生成を効果的
に抑制することができる上に、その後流で別の有害物質
である窒素酸化物を無害化すると共に未反応のアミン系
薬剤をも無害化することができる、排ガス中の有害物質
除去方法を提供することを目的とする。
［課題の解決手段］ この発明による排ガス中の有害物質除去方法は、上記
目的の達成のために、300℃以上の排ガスに、アンモニ
ア、アンモニウム塩および／またはアミン化合物より成
るアミン系薬剤を注入して、クロルベンゼン化合物の二
量化によるポリクロロジベンゾフランPCDFSおよびポリ
クロロジベンゾジオキシンPCDDSの生成を抑制し、アミ
ン系薬剤の注入工程の後流で上記アミン系薬剤の未反応
分による窒素酸化物の選択的接触還元を行なうことを特
徴とするものである。
目的の達成のために、300℃以上の排ガスに、アンモニ
ア、アンモニウム塩および／またはアミン化合物より成
るアミン系薬剤を注入して、クロルベンゼン化合物の二
量化によるポリクロロジベンゾフランPCDFSおよびポリ
クロロジベンゾジオキシンPCDDSの生成を抑制し、アミ
ン系薬剤の注入工程の後流で上記アミン系薬剤の未反応
分による窒素酸化物の選択的接触還元を行なうことを特
徴とするものである。
アミン系薬剤の例としては、アンモニアを始め、炭酸
アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、蟻酸アンモニウ
ム、酢酸アンモニウム、尿素、NH2CH2OH、NH2C2H4OHな
どが挙げられる。アミン系薬剤の注入形態は、ガス状で
も水溶液状でもよい。水溶液状の薬剤は排ガス中に噴霧
される。アミン系薬剤の注入量は、好ましくは窒素酸化
物の還元無害化に必要な量である。
アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、蟻酸アンモニウ
ム、酢酸アンモニウム、尿素、NH2CH2OH、NH2C2H4OHな
どが挙げられる。アミン系薬剤の注入形態は、ガス状で
も水溶液状でもよい。水溶液状の薬剤は排ガス中に噴霧
される。アミン系薬剤の注入量は、好ましくは窒素酸化
物の還元無害化に必要な量である。
アミン系薬剤を排ガスに注入するときのガス温度は、
300℃以上である。その理由は、300℃前後の温度域でク
ロルベンゼン化合物の二量化によってポリクロロジベン
ゾフランPCDFSおよびポリクロロジベンゾジオキシン
（ポリクロロジベンゾジオキサン）PCDDSが生成するか
らである。
300℃以上である。その理由は、300℃前後の温度域でク
ロルベンゼン化合物の二量化によってポリクロロジベン
ゾフランPCDFSおよびポリクロロジベンゾジオキシン
（ポリクロロジベンゾジオキサン）PCDDSが生成するか
らである。
窒素酸化物の選択的接触還元触媒としては、担体担持
型、非担持型、ラネー型など公知の脱硝触媒が使用でき
るが、とりわけアナターゼ型のチタニアに重金属酸化
物、貴金属、好ましくはV2O5のような活性金属を担持さ
せたものが優れた脱硝性能を示す。
型、非担持型、ラネー型など公知の脱硝触媒が使用でき
るが、とりわけアナターゼ型のチタニアに重金属酸化
物、貴金属、好ましくはV2O5のような活性金属を担持さ
せたものが優れた脱硝性能を示す。
アミン系薬剤の注入工程と窒素酸化物の選択的接触還
元工程の間には、好ましくは除塵工程が設けられる。
元工程の間には、好ましくは除塵工程が設けられる。
［作用］ この発明による排ガス中の有害物質除去方法では、ま
ず300℃以上の排ガスにアミン系薬剤が注入されるの
で、同薬剤が排ガス中のクロルベンゼン化合物と反応し
てこれを安定化させる。その結果、クロルベンゼン化合
物の二量化によるPCDFSおよびPCDDSの生成が効果的に抑
制される。また、アミン系薬剤の未反応分は後流の窒素
酸化物の選択的接触還元用の還元剤として作用する。し
たがって、排ガスに注入されたアミン系薬剤は全量消費
され、系外へ排出されることがない。
ず300℃以上の排ガスにアミン系薬剤が注入されるの
で、同薬剤が排ガス中のクロルベンゼン化合物と反応し
てこれを安定化させる。その結果、クロルベンゼン化合
物の二量化によるPCDFSおよびPCDDSの生成が効果的に抑
制される。また、アミン系薬剤の未反応分は後流の窒素
酸化物の選択的接触還元用の還元剤として作用する。し
たがって、排ガスに注入されたアミン系薬剤は全量消費
され、系外へ排出されることがない。
［実施例］ つぎに、図示の実施例によりこの発明を具体的に説明
する。
する。
添付の図面において、ごみ焼却排ガスの煙道におい
て、300℃以上の排ガスにアミン系薬剤としてガス状の
アンモニアを注入した。
て、300℃以上の排ガスにアミン系薬剤としてガス状の
アンモニアを注入した。
ついで、アミン系薬剤の注入工程の後流でこの排ガス
を除塵処理した。
を除塵処理した。
さらに、除塵工程の後流で、アナターゼ型のチタニア
にV2O5を担持させた脱硝触媒の存在下に、アミン系薬剤
の未反応分によって排ガス中の窒素酸化物の選択的接触
還元を行なった。
にV2O5を担持させた脱硝触媒の存在下に、アミン系薬剤
の未反応分によって排ガス中の窒素酸化物の選択的接触
還元を行なった。
かくして、排ガスへのアミン系薬剤の注入によって、
クロルベンゼン化合物の二量化によるPCDFSおよびPCDDS
の生成を効果的に抑制すると共に、その後流で窒素酸化
物を無害化し、排ガスに注入されたアミン系薬剤を全量
消費させ、系外へ排出するのを防止した。
クロルベンゼン化合物の二量化によるPCDFSおよびPCDDS
の生成を効果的に抑制すると共に、その後流で窒素酸化
物を無害化し、排ガスに注入されたアミン系薬剤を全量
消費させ、系外へ排出するのを防止した。
［発明の効果］ この発明の排ガス中の有害物質除去方法によれば、ま
ず300℃以上の排ガスにアミン系薬剤を注入するので、
同薬剤が排ガス中のクロルベンゼン化合物と反応してこ
れを安定化させる。その結果、クロルベンゼン化合物の
二量化によるPCDFSおよびPCDDSの生成を効果的に抑制す
ることができる。また、アミン系薬剤の未反応分は後流
の窒素酸化物の選択的接触還元用の還元剤として作用す
る。さらに選択的接触還元触媒は焼却灰（ダスト）によ
りコーティングされ、その灰によりダイオキシンを生成
することもあるので、排ガス中のダストを除去してから
選択的接触還元を行う方が触媒の損耗ばかりでなく、ダ
イオキシンの生成も防止できる。
ず300℃以上の排ガスにアミン系薬剤を注入するので、
同薬剤が排ガス中のクロルベンゼン化合物と反応してこ
れを安定化させる。その結果、クロルベンゼン化合物の
二量化によるPCDFSおよびPCDDSの生成を効果的に抑制す
ることができる。また、アミン系薬剤の未反応分は後流
の窒素酸化物の選択的接触還元用の還元剤として作用す
る。さらに選択的接触還元触媒は焼却灰（ダスト）によ
りコーティングされ、その灰によりダイオキシンを生成
することもあるので、排ガス中のダストを除去してから
選択的接触還元を行う方が触媒の損耗ばかりでなく、ダ
イオキシンの生成も防止できる。
したがって、排ガスへのアミン系薬剤の注入によっ
て、PCDFSおよびPCDDSの生成を効果的に抑制することが
できると共に、その後流における排ガスの除塵工程によ
ってダイオキシンの生成を防止し、さらにその後流で窒
素酸化物を無害化し、注入したアミン系薬剤を全量消費
させ、系外へ排出するのを完全に防止することができ
る。
て、PCDFSおよびPCDDSの生成を効果的に抑制することが
できると共に、その後流における排ガスの除塵工程によ
ってダイオキシンの生成を防止し、さらにその後流で窒
素酸化物を無害化し、注入したアミン系薬剤を全量消費
させ、系外へ排出するのを完全に防止することができ
る。
また、PCDFSおよびPCDDSの生成抑制用のアミン系薬剤
の過剰分は、後流の窒素酸化物の選択的接触還元用の還
元剤として消費されるので、アミン系薬剤の注入を過剰
に行なって上記抑制効果を高めることができる。
の過剰分は、後流の窒素酸化物の選択的接触還元用の還
元剤として消費されるので、アミン系薬剤の注入を過剰
に行なって上記抑制効果を高めることができる。
図面はこの発明の実施例を示すフローシートである。
フロントページの続き (72)発明者 濱 利雄 大阪府大阪市西区江戸堀１丁目６番14号 日立造船株式会社内 (72)発明者 太田 完志 大阪府大阪市西区江戸堀１丁目６番14号 日立造船株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−280816（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】300℃以上の排ガスに、アンモニア、アン
モニウム塩および／またはアミン化合物より成るアミン
系薬剤を注入して、クロルベンゼン化合物の二量化によ
るポリクロロジベンゾフランおよびポリクロロジベンゾ
ジオキシンの生成を抑制し、アミン系薬剤の注入工程の
後流で排ガスを除塵処理し、さらに除塵工程の後流で上
記アミン系薬剤の未反応による窒素酸化物の選択的接触
還元を行なうことを特徴とする、排ガス中の有害物質除
去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2068580A JP2523037B2 (ja) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | 排ガス中の有害物質除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2068580A JP2523037B2 (ja) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | 排ガス中の有害物質除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03270719A JPH03270719A (ja) | 1991-12-02 |
| JP2523037B2 true JP2523037B2 (ja) | 1996-08-07 |
Family
ID=13377860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2068580A Expired - Lifetime JP2523037B2 (ja) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | 排ガス中の有害物質除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2523037B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3908740A1 (de) * | 1989-03-17 | 1990-11-29 | Didier Werke Ag | Verfahren zur entfernung oder verminderung von halogenierten aromaten aus abgasen von verbrennungsanlagen fuer muell oder sondermuell |
-
1990
- 1990-03-19 JP JP2068580A patent/JP2523037B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03270719A (ja) | 1991-12-02 |
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