JPH03262612A - 低融点中子の製造方法 - Google Patents
低融点中子の製造方法Info
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- JPH03262612A JPH03262612A JP6127990A JP6127990A JPH03262612A JP H03262612 A JPH03262612 A JP H03262612A JP 6127990 A JP6127990 A JP 6127990A JP 6127990 A JP6127990 A JP 6127990A JP H03262612 A JPH03262612 A JP H03262612A
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- core
- melting point
- low melting
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- dry ice
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- Pending
Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/44—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles
- B29C33/52—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles soluble or fusible
- B29C2033/525—Cores made of frozen liquids, e.g. ice
Landscapes
- Molds, Cores, And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は樹脂の成形に用いる低融点中子の製造方法に関
する。
する。
（従来技術）
従来、樹脂の成形に用いる中子を形成する低融点材料と
しては、例えば錫（Ｓｎ）とビスマス（Ｂｉ）の合金が
その代表的なものとして知られているが、５ｎ−Ｂｉ金
合金比重も大きく（約８．５）、特に大型の成形品を扱
う場合においては中子の大型化によりその重量も増加す
るため、作業性の低下が大きな問題となる。また、５ｎ
−Ｂｉ金合金比較的高価な材料であるため大量に用いる
場合特にその経済性が問われることになる。
しては、例えば錫（Ｓｎ）とビスマス（Ｂｉ）の合金が
その代表的なものとして知られているが、５ｎ−Ｂｉ金
合金比重も大きく（約８．５）、特に大型の成形品を扱
う場合においては中子の大型化によりその重量も増加す
るため、作業性の低下が大きな問題となる。また、５ｎ
−Ｂｉ金合金比較的高価な材料であるため大量に用いる
場合特にその経済性が問われることになる。
そこで、中子重量の軽減化による作業性の向上を図るこ
とを目的として、例えば実開昭６０−１４９１２号公報
に開示されているように、中空中子に関する提案もなさ
れている。
とを目的として、例えば実開昭６０−１４９１２号公報
に開示されているように、中空中子に関する提案もなさ
れている。
（発明の目的）
本発明は、軽量かつ表面の平滑性が損われることのない
低融点中子の製造方法を提供することを目的とする。
低融点中子の製造方法を提供することを目的とする。
（発明の構成）
本発明は、中子鋳造用型具の中子成形キャビティ内に、
中子母材としての低融点材料の注湯により気泡を発生す
る物質を配設しておき、上記低融点材料を上記キャビテ
ィ内に注湯して中子内部に発泡部分を形成する工程と、
この工程の前もしくは後に平滑性を有する中子表皮層を
形成する工程とを含むことを特徴とする。
中子母材としての低融点材料の注湯により気泡を発生す
る物質を配設しておき、上記低融点材料を上記キャビテ
ィ内に注湯して中子内部に発泡部分を形成する工程と、
この工程の前もしくは後に平滑性を有する中子表皮層を
形成する工程とを含むことを特徴とする。
（発明の効果）
本発明による低融点中子の製造方法によれば、中子内部
に発泡部分が形成されるので、軽量な低融点中子を得る
ことができる。しかも本発明においては、発泡工程の前
もしくは後に平滑性を有する中子表皮層を形成する工程
を含んでいるので、中子表面の平滑性を損うことなく、
軽量な中子を容易に成形することができる。したがって
樹脂成形工程における作業性が向上するのみならず、中
子材の使用量軽減により中子溶出が容易となり、原材料
費も削減することができる。
に発泡部分が形成されるので、軽量な低融点中子を得る
ことができる。しかも本発明においては、発泡工程の前
もしくは後に平滑性を有する中子表皮層を形成する工程
を含んでいるので、中子表面の平滑性を損うことなく、
軽量な中子を容易に成形することができる。したがって
樹脂成形工程における作業性が向上するのみならず、中
子材の使用量軽減により中子溶出が容易となり、原材料
費も削減することができる。
（実 施 例）
以下、図面を参照して本発明の実施例について詳細に説
明する。
明する。
第１図は本発明による方法によって製造された低融点中
子の構造を示したものである。この図において、１は中
子であり、その内部の低融点中子材２は、多数の発泡部
分３を包含している。また、中子１の外表面は、内部の
中子材２と同一材料よりなる平滑な中子表皮層４で覆わ
れている。なお、発泡部分３が占める体積比率は５０％
程度が望ましい。
子の構造を示したものである。この図において、１は中
子であり、その内部の低融点中子材２は、多数の発泡部
分３を包含している。また、中子１の外表面は、内部の
中子材２と同一材料よりなる平滑な中子表皮層４で覆わ
れている。なお、発泡部分３が占める体積比率は５０％
程度が望ましい。
第２図（Ａ）〜（Ｃ）は本発明による製造方法の第１実
施例をその工程順に示したものである。まず同図（Ａ）
において、中子の表皮層４となる中空体４′を適当な手
段を用いて成形する。次に同図（Ｂ）に示すように、こ
の中空体４′の内部に多数のドライアイス小片５を配設
する。次に、ドライアイス小片５の配設された中空体４
′内に、中子母材としての溶融した５ｎ−Ｂｉ合金等よ
りなる低融点材料を注湯する。この注湯によって中子材
２は多数のドライアイス小片５と接触し、溶融した中子
材２の熱によってドライアイス小片５は気化して二酸化
炭素（ＣＯｔ）の気泡を発生し、同図（Ｃ）に示すよう
に多数の発泡部分３を形成する。このようにして第１図
に示した平滑な表面を備えた低融点中子１が得られる。
施例をその工程順に示したものである。まず同図（Ａ）
において、中子の表皮層４となる中空体４′を適当な手
段を用いて成形する。次に同図（Ｂ）に示すように、こ
の中空体４′の内部に多数のドライアイス小片５を配設
する。次に、ドライアイス小片５の配設された中空体４
′内に、中子母材としての溶融した５ｎ−Ｂｉ合金等よ
りなる低融点材料を注湯する。この注湯によって中子材
２は多数のドライアイス小片５と接触し、溶融した中子
材２の熱によってドライアイス小片５は気化して二酸化
炭素（ＣＯｔ）の気泡を発生し、同図（Ｃ）に示すよう
に多数の発泡部分３を形成する。このようにして第１図
に示した平滑な表面を備えた低融点中子１が得られる。
次に第３図（Ａ）〜（Ｄ）は本発明の第２実施例をその
工程順に示したものである。まず、同図（Ａ）に示すよ
うに、中子鋳造用型具として樹脂型１０を用意する。次
に同図（Ｂ）に示すように、この樹脂型１０のキャビテ
ィ１１に多数のドライアイス小片５を配設する。次に、
ドライアイス小片４の配設された樹脂型１０のキャビテ
ィ１１に、溶融した中子材２を注湯する。この注湯によ
って、上述の第１実施例の場合と同様に、ドライアイス
小片５は気化してＣＯ３気泡を発生し、同図（Ｃ）に示
すように多数の発泡部分３を形成する。このようにして
得られた成形品を冷却して凝固させ、この成形品を樹脂
型１０内に保持した状態で、同図（Ｄ）に示すように、
誘導加熱コイル１３を備えた誘導加熱装置１２を用いて
加熱する。この加熱によって、表面から所定の深さの中
子材２のみを再溶融して中子表皮層４を形成する。この
中子表皮層４の形成により、中子材２の外表面近傍に発
泡部分３が形成されたために生じていた凹凸は消滅し、
第１図に示す平滑な表面を備えた低融点中子１が得られ
る。
工程順に示したものである。まず、同図（Ａ）に示すよ
うに、中子鋳造用型具として樹脂型１０を用意する。次
に同図（Ｂ）に示すように、この樹脂型１０のキャビテ
ィ１１に多数のドライアイス小片５を配設する。次に、
ドライアイス小片４の配設された樹脂型１０のキャビテ
ィ１１に、溶融した中子材２を注湯する。この注湯によ
って、上述の第１実施例の場合と同様に、ドライアイス
小片５は気化してＣＯ３気泡を発生し、同図（Ｃ）に示
すように多数の発泡部分３を形成する。このようにして
得られた成形品を冷却して凝固させ、この成形品を樹脂
型１０内に保持した状態で、同図（Ｄ）に示すように、
誘導加熱コイル１３を備えた誘導加熱装置１２を用いて
加熱する。この加熱によって、表面から所定の深さの中
子材２のみを再溶融して中子表皮層４を形成する。この
中子表皮層４の形成により、中子材２の外表面近傍に発
泡部分３が形成されたために生じていた凹凸は消滅し、
第１図に示す平滑な表面を備えた低融点中子１が得られ
る。
以上の説明で明らかなように、本発明の方法によれば、
中子１の内部に発泡部分３が形成されるので軽量な低融
点中子を得ることができる。しかも本発明においては、
中子表皮層４の形成工程を発泡工程に先立って（第１実
施例）、もしくは発泡工程の後に（第２実施例）設けて
いることにより、中子１の内部に発泡部分３を含んで軽
量化されているにもかかわらず、平滑な表面を備えた低
融点中子を得ることができる。
中子１の内部に発泡部分３が形成されるので軽量な低融
点中子を得ることができる。しかも本発明においては、
中子表皮層４の形成工程を発泡工程に先立って（第１実
施例）、もしくは発泡工程の後に（第２実施例）設けて
いることにより、中子１の内部に発泡部分３を含んで軽
量化されているにもかかわらず、平滑な表面を備えた低
融点中子を得ることができる。
第１図は本発明による製造方法によって得られた低融点
中子の構造を示す断面図、第２図（Ａ）〜（Ｃ）は本発
明の第１実施例の製造工程を示す説明図、第３図（Ａ）
〜（Ｄ）は本発明の第２実施例の製造工程を示す説明図
である ｌ・・・中子 ３・・・発泡部分 ４′・・・中空体 １０・・・樹脂型 １２・・・誘導加熱装置 ２・・・中子材 ４・・・中子表皮層 ５・・・ドライアイス １１・・・キャビティ
中子の構造を示す断面図、第２図（Ａ）〜（Ｃ）は本発
明の第１実施例の製造工程を示す説明図、第３図（Ａ）
〜（Ｄ）は本発明の第２実施例の製造工程を示す説明図
である ｌ・・・中子 ３・・・発泡部分 ４′・・・中空体 １０・・・樹脂型 １２・・・誘導加熱装置 ２・・・中子材 ４・・・中子表皮層 ５・・・ドライアイス １１・・・キャビティ
Claims (1)
- 中子鋳造用型具の中子成形キャビティ内に、中子母材と
しての低融点材料の注湯により気泡を発生する物質を配
設しておき、上記低融点材料を上記キャビティ内に注湯
して中子内部に発泡部分を形成する工程と、この工程の
前もしくは後に平滑性を有する中子表皮層を形成する工
程とを含むことを特徴とする低融点中子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6127990A JPH03262612A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 低融点中子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6127990A JPH03262612A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 低融点中子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03262612A true JPH03262612A (ja) | 1991-11-22 |
Family
ID=13166611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6127990A Pending JPH03262612A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 低融点中子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03262612A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003072496A1 (en) * | 2002-02-26 | 2003-09-04 | Hyun-Man Kim | Calcium phosphate colloids, dots, islands, thin films or granules and its preparation |
-
1990
- 1990-03-14 JP JP6127990A patent/JPH03262612A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003072496A1 (en) * | 2002-02-26 | 2003-09-04 | Hyun-Man Kim | Calcium phosphate colloids, dots, islands, thin films or granules and its preparation |
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