JPH03260623A - 液晶装置の製造方法 - Google Patents

液晶装置の製造方法

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JPH03260623A
JPH03260623A JP6065990A JP6065990A JPH03260623A JP H03260623 A JPH03260623 A JP H03260623A JP 6065990 A JP6065990 A JP 6065990A JP 6065990 A JP6065990 A JP 6065990A JP H03260623 A JPH03260623 A JP H03260623A
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JP
Japan
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substrate
oriented film
liquid crystal
layer
rubbing
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Pending
Application number
JP6065990A
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English (en)
Inventor
Takayoshi Hanami
孝義 葉波
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Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、コンピュータ一端末、画像表示装置、シャ
ッターのようなシステムに使用される液晶を用いた電気
光学装置の製造方法、特に配向膜の形成方法に関する。
〔発明の概要〕
基板上に透明電極、該電極上に配向膜を設けた一対の基
板で液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法において、
配向処理工程が、前記配向膜を印刷あるいはスピンナー
等により塗布し、仮焼成して表面層のみを硬化させた該
基板表面をラビング処理し、その後本焼成する工程が、
静電気にょる配向膜の破壊を防止し、表示品質の高い液
晶装置を得ることを狙ったものである。
〔従来の技術〕
ドツトマトリクスタイプの表示装置として、薄型、軽量
、低消費電力の特徴を生かした液晶表示装置が注目され
ている。
従来の液晶装置の配向膜の形成方法としては、基板上に
ポリイミド系高分子樹脂を塗布した後、布等で一定方向
にラビングする(特開昭55−143525)等で形成
していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、前述のラビング法は量産性に優れるといる特長
を持っているが、布等によりポリイミド系高分子樹脂か
らなる配向膜層をこするため、摩擦により静電気が発生
してしまう。そして電荷が放電するときに、部分的に配
向膜層を破壊するという欠点を有していた。
この現象を第2図に基づいて説明する。第2図(a)の
21 a、 21 b、 21 cと22a、22b、
22cは液晶表示装置におけるデータ信号電極(セグメ
ント電極)で、23a、23bは走査信号電極(コモン
電極)で、セグメント電極とコモン電極は対向する一対
の基板上に設置されている。さらに配向膜層はこれら電
極上に対向する形で設置されている。
第2図(b)はセグメント電極側の基板を示した図であ
る、基板が布等でラビング処理されると電極に電荷がた
まり、21gと22a間、21bと22b間、21cと
22c間で電荷の放電が起こる。その結果、第2図(c
)の24a、24b。
24c、24d、24e、24fの様に配向膜層が破壊
されてしまう。
第2図(d)はこの様な基板をセグメント電極側基板に
使用し、コモン電極側基板を対向させた場合の図である
。セグメント電極とコモン電極が交差する場所が情報を
表示する領域で、画素と呼ばれている。25a、25b
、25c、25d。
25e、25fの領域ては配向膜層が静電気により破壊
されているため画素が欠けてしまうという問題かあった
。実際このような液晶装置で表示を行うと、表示画面の
中央部に表示情報とはまったく無関係に線が走ってしま
い、表示品質を著しく低下させていた。
本発明はこの様な問題点を解決するもので、その目的は
ラビング処理中に発生する静電気の影響なくすところに
ある。
〔課題を解決するための手段〕
上記問題を解決するためにこの発明は、基板上に透明電
極、該電極上に配向膜を設けた一対の基板で液晶を挟持
してなる液晶装置の製造方法において、配向処理工程が
、前記配向膜を印刷あるいはスピンナー等により塗布し
、仮焼成して表面層のみを硬化させた該基板表面をラビ
ング処理し、その後本焼成する工程からなることを特徴
とするものである。
〔作用〕
以下に本発明の作用を第1図に基づいて説明する。
第1図中11は基板で表面に電極層12、及び配向膜層
13が設置されている。14は配向処理を行うためのロ
ールである。このロールは15の矢印方向に回転しなが
らラビングを行う。16はロールの移動する方向である
。17は基板を固定するための台である。
前記ロールが配向膜層を摩擦する際、静電気が発生する
本発明は摩擦される際の配向膜が仮焼成のため表面のみ
しか硬化されておらず、未反応のモノマーが多数存在す
ることにより、発生する静電気量が小さくなることを利
用している。
〔実施例〕
表面に透明電極層を設けた基板上にポリイミド系の配向
膜を印刷またはスピンナーにより、塗布し、120℃で
1分間の仮焼成をした後、第1図中の基板を固定する台
17に上記基板を固定し、ラビング処理を行った。ラビ
ング処理後、本焼成として200℃で60分間加熱処理
を行い、該基板を用いて液晶装置を構成したところ、表
示ムラのない液晶装置が得られた。
また、基板の仮焼成温度を50℃から150℃、仮焼成
時間を30秒から10分まで変化させたが、静電気の発
生は低減し、同様の効果が得られた。
以上の実施例に用いたラビング用の布は、ポリエステル
、ナイロン等の高分子繊維を使用したが材質に関係なく
、静電気は減少し、同様の効果か得られた。
また液晶装置については、水平配向を行うツイストネマ
チック型、スーパーツイスト型、また垂直配向を行うホ
メオトロピック型等のラビング処理を行う液晶装置であ
れば、同様の効果が得られた。
さらに、ロールの回転方向、移動回転、回転速度、移動
速度を変化させたが、同様の効果が得られた。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、配向処理工程が、
前記配向膜を印刷あるいはスピンナー等により塗布し、
仮焼成して表面層のみを硬化させた該基板表面をラビン
グ処理し、その後焼成するという工程からなることによ
り、静電気による配向膜の破壊を防止し、表示品質の高
い液晶装置を得ることができるようになった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の製造方法を説明する模式図、第2図(
a)、(b)、(C)、(d)は、本発明の作用を示す
模式図である。 11 ・ 12 嗜 13 ・ 14 ・ 15 ・ 16 ・ 基板 電極層 配向膜層 配向処理を行うためのロール ロールの回転方向 ロールの移動する方向 17 ・ ・基板を固定するための台

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板上に透明電極、該電極上に配向膜を設けた一対の基
    板で液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法において、
    配向処理工程が、前記配向膜を印刷あるいはスピンナー
    等により塗布し、仮焼成して表面層のみを硬化させた該
    基板表面をラビング処理し、その後本焼成する工程から
    なることを特徴とする液晶装置の製造方法。
JP6065990A 1990-03-12 1990-03-12 液晶装置の製造方法 Pending JPH03260623A (ja)

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