JPH03239218A - 液晶装置の製造方法 - Google Patents

液晶装置の製造方法

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JPH03239218A
JPH03239218A JP3669790A JP3669790A JPH03239218A JP H03239218 A JPH03239218 A JP H03239218A JP 3669790 A JP3669790 A JP 3669790A JP 3669790 A JP3669790 A JP 3669790A JP H03239218 A JPH03239218 A JP H03239218A
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JP
Japan
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substrate
liquid crystal
static electricity
crystal device
oriented film
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Application number
JP3669790A
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English (en)
Inventor
Mitsuyoshi Hara
光義 原
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Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、コンピュータ一端末、画像表示装置、シャ
ッターのようなシステムに使用される液晶を用いた電気
光学装置の製造方法、特に配向膜の形成方法に関する。
[発明の概要] 基板上に透明電極、電極上に配向膜を設けた一対の基板
で液晶を挟持してなる液晶装置において、配向膜を配向
処理する工程が、基板を加熱しながら、基板表面をラビ
ング処理する工程であることにより、静電気による配向
膜の破壊を防止し、表示品質の高い液晶装置を得ること
を狙ったものである。
[従来の技術] ドツトマトリクスタイプの表示装置として、薄型、軽量
、低消費電力の特徴を生かした液晶表示装置が注目され
ている。
従来の液晶装置の配向膜の形成方法としては、基板上に
ポリイミド系高分子樹脂を塗布した後、布等で一定方向
にラビングする(特開昭55−143525)等で形成
していた。
[発明が解決しようとする課題] しかし、前述のラビング法は量産性に優れるという特長
を持っているが、布等によりポリイミド系高分子樹脂か
らなる配向膜層をこするため、摩擦により静電気が発生
してしまう。そして電荷が放電するときに、部分的に配
向膜層を破壊するという欠点を有していた。
この現象を第2図に基づいて説明する。第2図fal中
21a 、21b 、21c 、と22a 、22b 
、22cは液晶表示装置におけるデータ信号電極(セグ
メント電極)で、23a 、23bは走査信号電極(コ
モン電極)で、セグメント電極とコモン電極は対向する
一対の基板上に設置されている。さらに配向膜層はこれ
ら電極上に対向する形で設置されている。
第2図(b)はセグメント電極側の基板を示した図であ
り、基板が布等でラビング処理されると、電極に電荷が
たまり、21aと22a間、21bと22b間、21c
と22c間で電荷の放電が起こる。その結果第2図te
lの24a 、 24b 、 24c 、 24d 、
 24e 、 24fの様に配向膜層が破壊されてしま
う。
第2図(dlはこの様な基板をセグメント電極側基板に
使用し、コモン電極側基板を対向させた場合の図である
。セグメント電極とコモン電極が交差する場所が情報を
表示する領域で、画素と呼ばれている。25a 、 2
5b 、 25c 、 25d 、 25e 、 25
fの領域では配向膜層が静電気により破壊されているた
め画素が欠けてしまうといら問題があった。
実際このような液晶装置で表示を行うと、表示画面の中
央部に表示情報とはまったく無関係に線が走ってしまい
、表示品質を著しく低下さ・已ていた。
本発明It: ;:の様な問題点を解決゛4るもので、
その目的はラビング処理中に発生ずる静電気を防止する
ところにある。
[課題を解決するための手段] 上記問題を解決するためにこの発明は、基板トに透明電
極、電極上に配向膜を設けた一対の基板で液晶を挟持し
てなる液晶装置において、前記配向膜を配向処理する工
程が、基板を加熱しながら、基板表面をラビング処理す
る工程からなることを特徴とするものである。
[作用] 以下に本発明の作用を第1図に尽づいて説明する。
第1図中11は基板で表面に電極層12、配向膜層13
が設置されている。14は配向処理を行うためのロール
である。このロールは15の矢印方向に回転しながらラ
ビングを行う。16はロールの移動する一b向である6
17は基板を固定するための台である。
前記ロールが配向膜層を摩擦する際、静電気が発生ずる
本発明は摩擦されるものの温度が高い場合、発生する静
電気量は小さくなることを利用している。
[実施例1] 第1図中の基板を固定する台16にヒーターを内臓し、
基板を加熱した状態でラビング処理を行った。
1−記基板を用いて液晶装置を構成したところ、表示ム
ラのない液晶装置が得られた。
基板の加熱温度ば50゛cから150°Cまで変化させ
たが、静電気の発生は低減し5、同様の効果が得られた
[実施例2] 第1図で示り、たラビング処理を行う前に基板をりリー
ンオーフンで50°Cから150℃まで熱した後、→ビ
ュ・ノ!′処理を行った。
実h)6例1と同様ζ5こ液晶装置を構成したところ、
表示ノ、うのない液晶装置が得られた。
[実施例31 第1図で示したニビング処理を行う時に基板を温風で加
熱しながらラビング処理を行った。
実施例1と同様に液晶装置を構成したところ、表示ムラ
のない液晶装置が得られた。
以りの実施例に用いたラビング用の布は、ポリエステル
、ナイロン等の高分子繊維を使用したが、(3質乙こ関
係なく、静電気は減少し、同様の効果が得られた。
また液晶装置については、水平配向を行うツイストネマ
チック型、スーパーツイスト型、また垂直配向を行うボ
l第1−ロビノク型等のラビング処理を行へ液晶装置で
あれば、同様の効果が得られた。
さらに1.]−ルの回転方向、移動回数、回転速度、移
動速度を変化させたが、同様の効果が得られた。
[発明の効果] ど 以」−説明したように本発明によれば、基板」二に透明
電極、電極上に配向膜を設けた一対の基板で液晶を挟持
してなる液晶装置において、配向膜を配向処理する工程
が、基板を加熱しながら、基板表面をラビング処理する
工程であることにより、静電気による配向膜の破壊を防
止し、表示品質の高い液晶装置を得ることができるよう
になった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の製造方法を説明する模式図、第2図f
al、(bl、(C1、fdlは従来の製造方法を示ず
模式図である。 11・・・・・・・・基板 12・・・・・・・・電極層 13・・・・・・・・配向膜層

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板上に透明電極、該電極上に配向膜を設けた一対の基
    板で液晶を挟持してなる液晶装置において、前記配向膜
    を配向処理する工程が、基板を加熱しながら、該基板表
    面をラビング処理する工程からなることを特徴とする液
    晶装置の製造方法。
JP3669790A 1990-02-16 1990-02-16 液晶装置の製造方法 Pending JPH03239218A (ja)

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