JPH03255421A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
- Publication number
- JPH03255421A JPH03255421A JP2054030A JP5403090A JPH03255421A JP H03255421 A JPH03255421 A JP H03255421A JP 2054030 A JP2054030 A JP 2054030A JP 5403090 A JP5403090 A JP 5403090A JP H03255421 A JPH03255421 A JP H03255421A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- liquid crystal
- exposure
- conductive film
- transparent conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 abstract 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 abstract 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は液晶表示装置の製造方法に関する。
［従来の技術］
液晶表示装置に使用される透明電極基板の製造方法では
、ガ２ス基板に全面に透明導電膜を＃成し、レジストＭ
塗布、露光、現像、エツチング、レジストはくりを行な
い、所望の表示パターンを形成する。この露光工程にお
いては、所望の表示パターンに従ったフォトマスクを使
用し、ＵＶ光により、所望の表示パタデンを焼き付ける
方法が一般的である。
、ガ２ス基板に全面に透明導電膜を＃成し、レジストＭ
塗布、露光、現像、エツチング、レジストはくりを行な
い、所望の表示パターンを形成する。この露光工程にお
いては、所望の表示パターンに従ったフォトマスクを使
用し、ＵＶ光により、所望の表示パタデンを焼き付ける
方法が一般的である。
従来、フォトマスクは第４図に示す様に、ガラス基材１
の表面に遮光のためのｃｒなどの金属膜パターン３が形
成されているだけである。このフォトマスクの上方から
ＵＶ光を照射し、被露光物４を７オトマスクのパターン
通りに焼き付ける方法が取られていた。
の表面に遮光のためのｃｒなどの金属膜パターン３が形
成されているだけである。このフォトマスクの上方から
ＵＶ光を照射し、被露光物４を７オトマスクのパターン
通りに焼き付ける方法が取られていた。
［発明が解決しようとする課題］
この様なフォトマスクでは、取扱い上発生する静電気に
より、金属膜パターン３゛が破壊されたり、雰囲気中の
塵埃が付着しやすくなり、被露光物４を所望の表示パタ
ーンに焼き付けでき々（・と言った課題があった。最近
、特にパターンが微細化され、前述の問題点がクローズ
アップされてきた本発明は上記問題に鑑みｋされたもの
であり、その目的とするところは、静電気が発生するこ
とｋく露光できる液晶表示装置の製造方法を提供するこ
とにあ−る。
より、金属膜パターン３゛が破壊されたり、雰囲気中の
塵埃が付着しやすくなり、被露光物４を所望の表示パタ
ーンに焼き付けでき々（・と言った課題があった。最近
、特にパターンが微細化され、前述の問題点がクローズ
アップされてきた本発明は上記問題に鑑みｋされたもの
であり、その目的とするところは、静電気が発生するこ
とｋく露光できる液晶表示装置の製造方法を提供するこ
とにあ−る。
［課題を解決するための手段］
本発明の液晶表示装置の製造方法は、内面に所望の表示
パターンに従った透明電極を有して対向配置した２枚の
透明電極と、該透明基板に＆まさまれた液晶層から成る
液晶表示装置の製造方法において、該透明基板の製造時
に使用されるフォトマスクの少むくとも一方の面に透明
導電膜を形成し、該フォトマスクを電気的にアースに落
として露光することを特徴とする。
パターンに従った透明電極を有して対向配置した２枚の
透明電極と、該透明基板に＆まさまれた液晶層から成る
液晶表示装置の製造方法において、該透明基板の製造時
に使用されるフォトマスクの少むくとも一方の面に透明
導電膜を形成し、該フォトマスクを電気的にアースに落
として露光することを特徴とする。
［実施例コ
本発明の実施例について詳細に説明する。
（実施例１）
第１図は本発明の実施例１を示す図であり、フォトマス
クのガラス基材１と０ｒｒｚどの金属膜ノくターン３の
間に透明導電膜２を形威しである。透明導電膜２は工ｎ
、０３または５ｎ０２を用いた。
クのガラス基材１と０ｒｒｚどの金属膜ノくターン３の
間に透明導電膜２を形威しである。透明導電膜２は工ｎ
、０３または５ｎ０２を用いた。
透明導電膜２はフォトマスクのガラス基材１の全面に形
威し、電気的にアースされている。これにより、取り扱
い等によって、フォトマスクに発生する静電気の電荷が
即座にアースされ、電荷が蓄積されることが々くなった
。従って、金属膜パターン６が破壊されることがなく、
また、雰囲気中の塵埃の付着も極端に減り、被露光物４
を歩留り良く、確実に焼き付けすることが可能にｒｆつ
た。
威し、電気的にアースされている。これにより、取り扱
い等によって、フォトマスクに発生する静電気の電荷が
即座にアースされ、電荷が蓄積されることが々くなった
。従って、金属膜パターン６が破壊されることがなく、
また、雰囲気中の塵埃の付着も極端に減り、被露光物４
を歩留り良く、確実に焼き付けすることが可能にｒｆつ
た。
（実施例２）
第２図は本発明の実施例２を示す図である。透明導電膜
２を、金属膜パターン５の上から形成した以外は実施例
１と同も；にした。かかるフォトマスクを用いて露光を
行なったところ、同様の効果が得られた。
２を、金属膜パターン５の上から形成した以外は実施例
１と同も；にした。かかるフォトマスクを用いて露光を
行なったところ、同様の効果が得られた。
（実施例３）
第３図は本発明の実施例３を示す図である。透明導電Ｍ
２を、フォトマスクのガラス基材１に形戊する際、金属
膜パターン３とは逆の面に形成した以外は実施例１と同
様にした。かかるフォトマスクな用いて露光を行なった
ところ、実施例１２より若干劣りはするが効果が得られ
た。
２を、フォトマスクのガラス基材１に形戊する際、金属
膜パターン３とは逆の面に形成した以外は実施例１と同
様にした。かかるフォトマスクな用いて露光を行なった
ところ、実施例１２より若干劣りはするが効果が得られ
た。
以上、実施例の効果について、従来の技術と比較したも
のを表１に示す。
のを表１に示す。
以上説明した各実施例では、透明導電膜に工！：＋２０
、または５ｎ０２を用いたが、Ｕ’Ｖ光を透過する導電
膜であればよく、工ｎ２０３や５ｎ０２に限られたもの
ではない。
、または５ｎ０２を用いたが、Ｕ’Ｖ光を透過する導電
膜であればよく、工ｎ２０３や５ｎ０２に限られたもの
ではない。
［発明の効果コ
以上説明した様に、本発明によれば、フォトマスクパタ
ーンの破壊がなくなると共に、浮遊塵埃の７オトマスク
への付着も極端に減少し、歩留り良く確実に露光するこ
とができ、表示品質の良Ｌ・液晶表示装置を製造するこ
とが可能になった。また、フォトマスクの寿命が飛躍的
に向上し、コストダウ、ンも可能となった。
ーンの破壊がなくなると共に、浮遊塵埃の７オトマスク
への付着も極端に減少し、歩留り良く確実に露光するこ
とができ、表示品質の良Ｌ・液晶表示装置を製造するこ
とが可能になった。また、フォトマスクの寿命が飛躍的
に向上し、コストダウ、ンも可能となった。
第１図は本発明の実施例１を示す図、第２図は本発明の
実施例２を示す図、第５図は本発明の実施例３を示す図
、第４図は従来の技術を示す図。 １・・・・・・・・・フォトマスクガラス基材２・・・
・・・・・・透明導電膜 ３・・・・・・・・・金属膜パターン ４・・・・・・・・・被露光物 以 上
実施例２を示す図、第５図は本発明の実施例３を示す図
、第４図は従来の技術を示す図。 １・・・・・・・・・フォトマスクガラス基材２・・・
・・・・・・透明導電膜 ３・・・・・・・・・金属膜パターン ４・・・・・・・・・被露光物 以 上
Claims (1)
- 内面に所望の表示パターンに従った透明電極を有して対
向配置した２枚の透明基板、該透明基板にはさまれた液
晶層から成る液晶表示装置の製造方法において、該透明
基板の製造時に使用されるフォトマスクの少なくとも一
方の面に透明導電膜を形成し、該フォトマスクを電気的
にアースに落として露光することを特徴とする液晶表示
装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2054030A JPH03255421A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2054030A JPH03255421A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03255421A true JPH03255421A (ja) | 1991-11-14 |
Family
ID=12959190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2054030A Pending JPH03255421A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03255421A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009086383A (ja) * | 2007-09-29 | 2009-04-23 | Hoya Corp | グレートーンマスク、パターン転写方法、及びグレートーンマスクブランク |
| JP2009122295A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスク |
-
1990
- 1990-03-06 JP JP2054030A patent/JPH03255421A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009086383A (ja) * | 2007-09-29 | 2009-04-23 | Hoya Corp | グレートーンマスク、パターン転写方法、及びグレートーンマスクブランク |
| JP2009122295A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスク |
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