JPH0325421B2

JPH0325421B2 -

Info

Publication number: JPH0325421B2
Application number: JP56183744A
Authority: JP
Inventors: Akyoshi Ueda; Shigeru Kojima
Original assignee: Nippon Soda Co Ltd
Current assignee: Nippon Soda Co Ltd
Priority date: 1981-11-18
Filing date: 1981-11-18
Publication date: 1991-04-05
Also published as: JPS5885861A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、医薬、農薬等の中間体として有用な
一般式（式中、R₁は水素原子、アルキル基、フエニ
ル基、置換フエニル基、又は複素環を、R₃はア
ルキル基又はアラルキル基を示す。）で表わされ
る２，３−ジ置換ピロール類の新規な製造方法に
関する。詳しくは、一般式（）R₁CH＝CHSO₂R₂ （式中、R₁は前記と同一の意味を示し、R₂は
アルキル基又はアリール基を示す。）で表わされ
るビニルスルホン類と、一般式（）CN・
CH₂COOR₃（式中、R₃前記と同一の意味を示す。）
で表わされるイソシアノ酢酸エステル類とを反応
させることを特徴とする前記一般式（）で表わ
される２，３−ジ置換ピロール類の製造方法であ
る。本発明に類似の反応として、A.M.van Leusen
らにより、Tetrahedron Lett.（1972）5337に下
記反応式で示す方法が知られている。（Ｒ：アルキル、アリール）（Ｚ：COR、COOR、CN、NO₂）しかし、上記方法では、３，４−ジ置換ピロー
ルは得られるが本発明者らの目的とする２，３−
ジ置換ピロール類は製造できない。本発明に係る化合物（）の製造方法として
は、下記反応式に示す方法が知られているが工程
が長く、又、脱炭酸工程での収率等に問題があり
工業的に好ましい方法とはいえない。本発明の製造方法においては、前記一般式
（）で表わされるビニルスルホン類と、一般式
（）で表わされるイソシアノ酢酸エステル類と
を有機溶媒中、塩基又は触媒の存在下反応させる
ことにより、好収率で目的とする２，３−ジ置換
ピロール類が得られる。有機溶媒としてはベンゼ
ン、トルエン、エーテル、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタン等の非水系溶媒が用いられる
が、塩基を用いる場合はイソシアノ酢酸エステル
と当量のジメチルスルホキシドもしくはジメチル
ホルムアミドを添加するか、又はジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミド等のアニオン安定
化溶媒を用いるのが好ましい。塩基としては、水
素化ナトリウム、ナトリウムアルコキシド、金属
ナトリウム、あるいは１，８−ジアザビシクロ
（５，４，０）−７−ウンデセン（DBU）等の四
級アミン類を用いることが出来る。触媒としては
酸化第一銅を用いることが出来る。反応温度は特
に限定されず、室温、加温あるいは冷却下等、緩
和な条件下で行われる。前記一般式（）で表わされるビニルスルホン
類としてはR₁としてメチル、エチル、プロピル、
ブチル等のアルキル基、フエニル基、ハロゲン原
子又はアルキル基等で置換されたフエニル基、ナ
フタレン、フリル、チエニル、ピリジン、ピロリ
ル等の複素環を、R₂としてはメチル、エチル等
のアルキル基、トリル等の置換フエニル基である
化合物が使用される。一般式（）で表わされるイソシアノ酢酸エス
テル類のエステルとしては、メチルエステル、エ
チルエステル、ブチルエステル等のアルキルエス
テル、ベンジルエステル、フエネチルエステル等
のアラルキルエステルが使用される。又、ビニルスルホン類として一般式

【式】（式中、R′はシアノ基、ニトロ基又はアルコキシカルボニル基を、R₁、R₂
は前記と同一の意味を示す。）で表わされる化合
物を用いて本発明の反応を行えば、４位置換ピロ
ールを製造することもできる。ビニルスルホン類は、対応するアルデヒド類
と、スルホニル酢酸との縮合反応により安易に製
造することができ、又イソシアノ酢酸エステル類
は、例えばＮ−ホルミルグリシンエステル類にホ
スゲンあるいはオキシ塩化リンを反応させる等の
公知方法（Org.Syn.59 183）により製造され
る。次に実施例を挙げて本発明の製造方法について
更に詳しく説明する。尚、化合物の構造は、IR、MASS、NMR等の
スペクトル測定結果から決定した。実施例１ 50％水素化ナトリウム0.6ｇおよびジメチルス
ルホキシド0.8ｇをベンゼン20mlに加えた液に窒
素気流中撹拌下、２−（２−クロロフエニル）ビ
ニルトリルスルホン2.9ｇ及びエチルイソシアノ
アセテート1.2ｇをベンゼン50mlに混合した液を
室温で滴下した。滴下後更に30分間室温で撹拌を
続けた後、反応液を濾別し、トルエンスルフイン
酸ナトリウムの沈澱を除去した。沈澱をベンゼン
で洗浄し、洗液と濾液を合して水洗し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。ベンゼンを減圧下留去
し、得られた残渣をシリカゲルクロマト（溶出
液：ヘキサン−アセトン＝９−１）により精製
し、無色結晶の２−エトキシカルボニル−３−
（２−クロロフエニル）ピロール2.25ｇを得た。
収率60.2％ m.p.66〜68℃ nmr：（60MHz，CDCL₃，δppm） 1.1（ｔ，3H，CH₂CH₃）、4.15（ｑ，2H，
CH₂CH₃）、6.34（ｔ，1H，ピロールのβ位プ
ロトン）、6.95（ｔ，1H，ピロールのα位プロ
トン）、7.28（4H，ベンゼン環上のプロトン）、
9.75（1H，ピロールのNH）実施例２ 50％水素化ナトリウム0.2ｇおよびジメチルス
ルホキシド0.3ｇをベンゼン５mlに加えた液に、
２−（２−フリル）ビニルトリルスルホン0.9ｇお
よびエチルイソシアノアセテート0.5ｇをベンゼ
ン20mlに混合した液を窒素気流中、撹拌下、室温
で滴下した。滴下後更に１時間室温で撹拌した
後、酢酸エチルエステル50mlを追加した。有機層
を水洗、無水硫酸マグネシウム乾燥した後、溶媒
を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトにより、精製し、無色結晶の２−エトキシカ
ルボニル−３−（２−フリル）ピロール0.5ｇを得
た。収率67.2％ m.p.56〜57.5℃ nmr：（60MHz，CDCL₃，δppm） 1.3（ｔ，3H，CH₂CH₃）4.3（ｑ，2H，
CH₂CH₃）6.41（ｍ，1H，フランのβ位プロト
ン）6.61（ｔ，1H，ピロールのα位プロトン）
6.8（ｔ，1H，ピロールのα位プロトン）7.19
（ｄ，1H，フランのβ位プロトン）7.48（ｄ，
1H，フランのα位プロトン）9.60（1H，ピロ
ールのNH）実施例３３−メチル−１−ブテニルトリルスルホン0.68
ｇとエチルイソシアノアセテート0.4ｇのベンゼ
ン10mlからなる混液を窒素気流中撹拌下、50％水
素化ナトリウム0.2ｇおよびジメチルスルオキシ
ド0.24ｇのベンゼン10mlからなる分散液に室温で
滴下した。滴下後１時間室温で撹拌を続け、酢酸
エチルエステル50mlを追加した。有機層を水洗、
次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
（溶出液ヘキサン−アセトン＝９−１）により精
製し、目的の２−エトキシカルボニル−３−イソ
プロピルピロール0.35ｇの微黄色油状物を得た。
（収率64％） n^16.5 _D1.5151 nmr：（60MHz，CDCL₃，δppm） 1.2（ｄ，6H，

【式】）1.32（ｔ，3H， CH₂CH₃）3.5（ｍ，1H，

【式】）4.25 （ｑ，2H，CH₂CH₃）6.08（ｔ，1H，ピロール
のβ位プロトン）6.70（ｔ，1H，ピロールのα
位プロトン）9.3（1H，ピロールのNH）実施例４ビニルトリルスルホン1.82ｇおよびエチルイソ
シアノアセテート1.13ｇのベンゼン10mlからなる
混液を窒素気流中撹拌下、50％水素化ナトリウム
0.5ｇおよびジメチルスルホキシド0.8ｇのベンゼ
ン10mlからなる分散液に室温で滴下した。滴下後
30分間室温で撹拌を続けた後、反応液を濾別し、
生じたトルエンスルフイン酸ナトリウムの沈澱を
除去した。沈澱をベンゼンで洗浄し、洗液と濾液
を合し、ベンゼン溶液を水洗、次いで無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。ベンゼンを減圧下留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
（溶出液：ヘキサン−アセトン＝９−１）により
精製した。目的物を含むフラクシヨンを合し、溶
媒を減圧下留去し、得られる残渣を石油エーテル
より結晶化し、２−エトキシカルボニルピロール
0.5ｇ（収率36％） m.p.39℃の結晶を得た。 nmr：（60MHz，CDCL₃，δppm） 1.37（ｔ，3H，CH₂CH₃）4.35（ｑ，2H，
CH₂CH₃）6.3（ｍ，1H，ピロールのβ位プロ
トン）7.0（ｔ，2H，ピロールのαおよびβ位
プロトン）実施例５２−（２−クロロフエニル）ビニルメチルスル
ホン0.7ｇおよびエチルイソシアノアセテート0.4
ｇのベンゼン10mlからなる混液を窒素気流中撹拌
下、50％水素化ナトリウム0.16ｇおよびジメチル
スルホキシド0.3mlのベンゼン10mlからなる分散
液に室温を滴下した。滴下後30分間室温で撹拌を
続けた後反応液にベンゼン50mlを追加し、水洗、
次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ベンゼ
ンを減圧下留去し、得られた残渣をヘキサン−ア
セトンの混合溶媒より結晶化し、無色結晶の２−
エトキシカルボニル−３−（２−クロロフエニル）
ピロール0.6ｇ（収率74.4％）m.p.66〜68℃を得
た。実施例６２，３−ジクロロスチリルトリルスルホン1.64
ｇおよびエチルイソシアノアセテート1.2ｇをベ
ンゼン50mlに溶かし、酸化第一銅0.72ｇを加え、
撹拌下３時間加熱還流した。反応後沈澱物を濾別
し、濾液を減圧下濃縮乾固した。得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマト（溶出液ベンゼン）に
より精製した。目的物を含むフラクシヨンを集め
減圧濃縮により溶媒を留去、次いで得られた残渣
をメタノールより結晶化し、mp106−108℃の無
色結晶２−エトキシカルボニル−３−（２，３−
ジクロロフエニル）ピロール0.5ｇを得た。（収率
35.2％） nmr：（CDCL₃，60MH₂O，δppm） 1.08（3H，ｔ，CH₂CH₃）4.14（2H，ｑ，
CH₂CH₃）6.21（1H，ｔ，ピロールのβ位プロ
トン）6.92（1H，ｔ，ピロールのα位プロト
ン）7.3（4H，ｍ，ベンゼン環上プロトンおよ
びピロール環のNH）

Claims

【特許請求の範囲】１一般式 R₁CH＝CHSO₂R₂（式中、R₁は水素
原子、アルキル基、フエニル基、置換フエニル
基、又は複素環を、R₂はアルキル基又はアリー
ル基を示す。）で表わされるビニルスルホン類と
一般式 CNCH₂COOR₃（式中、R₃はアルキル基
又はアラルキル基を示す。）で表わされるイソシ
アノ酢酸エステル類を反応させることを特徴とす
る一般式（式中、R₁及びR₃は前記と同一の意味を示
す。）で表わされる化合物の製造方法。２有機溶媒中、塩基の存在下反応させる特許請
求の範囲第１項記載の製造方法。３有機溶媒中、触媒の存在下反応させる特許請
求の範囲第１項記載の製造方法。４触媒が酸化第１銅である特許請求の範囲第１
又は第３項記載の製造方法。