JPH03250648A - 低誘電率多層回路基板 - Google Patents
低誘電率多層回路基板Info
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- JPH03250648A JPH03250648A JP4553690A JP4553690A JPH03250648A JP H03250648 A JPH03250648 A JP H03250648A JP 4553690 A JP4553690 A JP 4553690A JP 4553690 A JP4553690 A JP 4553690A JP H03250648 A JPH03250648 A JP H03250648A
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- dielectric constant
- circuit board
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- resin
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- Pending
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、集積度の高いLSI実装用の低誘電率多層回
路基板に関し、特に高速演算用コンピュータあるいは人
工衛星通信、衛星放送等のGH2(キガヘルツ)帯が使
用される高周波通信用に実装でき、微細多層配線が可能
な多層回路基板に関するものである。
路基板に関し、特に高速演算用コンピュータあるいは人
工衛星通信、衛星放送等のGH2(キガヘルツ)帯が使
用される高周波通信用に実装でき、微細多層配線が可能
な多層回路基板に関するものである。
[従来の技術]
従来、高速演算用や高周波通信用に用いられる集積度の
高いLSI実装用基板としては、微細多層配線が可能な
カラスクロスエポキシ多層回路基板、ガラスクロスポリ
イミド多層回路基板等が用いられている。このカラスク
ロスエポキシ、ガラスクロスポリイミド等の多層回路基
板は、ガラスクロスに樹脂を含浸し、複数の導体層であ
る銅箔を、前記樹脂層を介して積層した構造となってい
る。その作製方法について、以下に)ホへると、エポキ
シ樹脂、ポリイミド樹脂等を、第5図に示すような繊維
(中空でない)を第6図に示すように織ったクロス等の
補強基材に含浸後、乾燥させ、プリプレグを作製する。
高いLSI実装用基板としては、微細多層配線が可能な
カラスクロスエポキシ多層回路基板、ガラスクロスポリ
イミド多層回路基板等が用いられている。このカラスク
ロスエポキシ、ガラスクロスポリイミド等の多層回路基
板は、ガラスクロスに樹脂を含浸し、複数の導体層であ
る銅箔を、前記樹脂層を介して積層した構造となってい
る。その作製方法について、以下に)ホへると、エポキ
シ樹脂、ポリイミド樹脂等を、第5図に示すような繊維
(中空でない)を第6図に示すように織ったクロス等の
補強基材に含浸後、乾燥させ、プリプレグを作製する。
このプリプレグを所定の大きさに切断し、1枚または複
数を内層回路、銅箔とともに重ねて、加熱プレスによっ
て成形することによって得られる。
数を内層回路、銅箔とともに重ねて、加熱プレスによっ
て成形することによって得られる。
回路基板用補強基材の種類としては、カラスクロス、ガ
ラスペーパー、カラスマット、カラスフェルト、ガラス
テープ、ガラスヤーン、紙、高耐熱ポリアミドペーパー
、アラミド繊維クロス等が使用されている。
ラスペーパー、カラスマット、カラスフェルト、ガラス
テープ、ガラスヤーン、紙、高耐熱ポリアミドペーパー
、アラミド繊維クロス等が使用されている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしなから、上述した従来の多層回路基板は、誘電率
(ASTHD150の測定方法において、106Hzの
周波数での値)か3.5〜4となっているので、LSI
を実装した場合、高速演算時および高周波通信時の遅延
時間か長くなるという欠点かある。
(ASTHD150の測定方法において、106Hzの
周波数での値)か3.5〜4となっているので、LSI
を実装した場合、高速演算時および高周波通信時の遅延
時間か長くなるという欠点かある。
即ち、多層回路基板を含めた導体内の電気信号伝播速度
(V)は次式で示される。
(V)は次式で示される。
(ただし、C:光速、ε:誘電率、に:定数)すなわち
、誘電率(ε)か小さいほど、電気信号伝播速度(V)
か速くなり、高速演算か実現できる。
、誘電率(ε)か小さいほど、電気信号伝播速度(V)
か速くなり、高速演算か実現できる。
[課題を解決するための手段1
このように、コンピュータ等の高速化に対して、多層回
路基板は誘電率か3.5〜4と大きいため、遅延時間か
大きく、高速化への律速となっている。
路基板は誘電率か3.5〜4と大きいため、遅延時間か
大きく、高速化への律速となっている。
本発明者はこの律速を解決するために鋭意工夫を行った
結果、補強材としで中空繊維光ラスを用いることにより
、低誘電率化か達成できることを見い出した。
結果、補強材としで中空繊維光ラスを用いることにより
、低誘電率化か達成できることを見い出した。
即ち本発明は、中空繊維よりなる補強基材に樹脂を含浸
して形成された樹脂層を介1)で複数の導体層を積層し
たことを特徴とする低誘電率多層回路基板である。
して形成された樹脂層を介1)で複数の導体層を積層し
たことを特徴とする低誘電率多層回路基板である。
[作用]
回路基板用の補強基材に樹脂を含浸させて得られる回路
基板の誘電率は、その材質の誘電率に依存し、約3.5
〜4となる。本発明においては、補強基材に中空繊維を
使用し、該繊維をクロス、ペパー、不織@等にし・たち
のに樹脂を含浸させているので、回路基板の内部かポー
ラスになっており、誘電率か1である空気か内在された
構造どなっている。従って、回路基板の誘電率は低下し
、誘電率か3.0以下の多層回路基板か得られる。
基板の誘電率は、その材質の誘電率に依存し、約3.5
〜4となる。本発明においては、補強基材に中空繊維を
使用し、該繊維をクロス、ペパー、不織@等にし・たち
のに樹脂を含浸させているので、回路基板の内部かポー
ラスになっており、誘電率か1である空気か内在された
構造どなっている。従って、回路基板の誘電率は低下し
、誘電率か3.0以下の多層回路基板か得られる。
[実施例]
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は、本発明の多層回路基板の補強早(,4に使用
される中空繊維の一例を示し、第2図は、該中空繊維か
ら織られた補強基材としてのクロスの一例を示したもの
である。、また第3図は、第2図におけるA−A−線に
よる断面図をj〈シたもので、繊維か中空になっている
ことかわかる。第4図は、本発明の低誘電率多層回路基
板の一実施例の構成図である。
される中空繊維の一例を示し、第2図は、該中空繊維か
ら織られた補強基材としてのクロスの一例を示したもの
である。、また第3図は、第2図におけるA−A−線に
よる断面図をj〈シたもので、繊維か中空になっている
ことかわかる。第4図は、本発明の低誘電率多層回路基
板の一実施例の構成図である。
第1〜4図に基づいて、本弁明の実施例を説明すると、
まず第1図に示すような中空繊維から織られたクロス等
よりなる補強基材(第2〜3図)にエポキシ樹脂、ポリ
イミド樹脂等を含浸後、乾燥させてプリプレグを作製す
る。次いでプリプレグ2と銅箔1.内層回路3を第4図
のように重ねて、加熱プレスすることによって、本発明
の低誘電率多層回路基板が得られる。
まず第1図に示すような中空繊維から織られたクロス等
よりなる補強基材(第2〜3図)にエポキシ樹脂、ポリ
イミド樹脂等を含浸後、乾燥させてプリプレグを作製す
る。次いでプリプレグ2と銅箔1.内層回路3を第4図
のように重ねて、加熱プレスすることによって、本発明
の低誘電率多層回路基板が得られる。
なお、本発明に使用される中空繊維としては、カラスお
よび高耐熱性ポリアミド゛、アラミド等の有機高分子よ
りなる繊維を用いることができる。
よび高耐熱性ポリアミド゛、アラミド等の有機高分子よ
りなる繊維を用いることができる。
また、中空繊維の径は、1加〜3mmの畦間のものを使
用覆ることかできる。ざらに、補強基材としては、中空
繊維をクロス、ペーパー、不織布等に加工して使用する
こと−C−゛さる。
用覆ることかできる。ざらに、補強基材としては、中空
繊維をクロス、ペーパー、不織布等に加工して使用する
こと−C−゛さる。
I発明の効果1
以−ト説明したよ゛うに、本発明の多層回路基+層J1
、補強基材どして中空繊維を用いているので、従来の多
層回路基板に比へて誘電率か低くなり、=J’7ビユー
タ等の電気信号伝播の遅延時間を短り−(さる効果かあ
る。
、補強基材どして中空繊維を用いているので、従来の多
層回路基板に比へて誘電率か低くなり、=J’7ビユー
タ等の電気信号伝播の遅延時間を短り−(さる効果かあ
る。
第1図は本発明に使用される中空繊維の一例の斜視図、
第2図は本発明に使用される補強基材の一例の平面図、
第3図は第2図のA−△−線による断面図、第4図は本
発明の一実施例の構成図、第5図は従来例による繊維の
一例の斜視図、第6図は従来例にCj、る補強基材の一
例の平面図である。 1・・・調筋 2・・・プリプレグ 3・・・内層回路
第2図は本発明に使用される補強基材の一例の平面図、
第3図は第2図のA−△−線による断面図、第4図は本
発明の一実施例の構成図、第5図は従来例による繊維の
一例の斜視図、第6図は従来例にCj、る補強基材の一
例の平面図である。 1・・・調筋 2・・・プリプレグ 3・・・内層回路
Claims (1)
- (1)中空繊維よりなる補強基材に樹脂を含浸して形成
された樹脂層を介して複数の導体層を積層したことを特
徴とする低誘電率多層回路基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4553690A JPH03250648A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 低誘電率多層回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4553690A JPH03250648A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 低誘電率多層回路基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03250648A true JPH03250648A (ja) | 1991-11-08 |
Family
ID=12722107
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4553690A Pending JPH03250648A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 低誘電率多層回路基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03250648A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0629635A (ja) * | 1992-05-22 | 1994-02-04 | Gunze Ltd | プリント配線基材 |
JPH06268345A (ja) * | 1992-05-06 | 1994-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回路形成用基板の製造方法および回路形成用基板 |
US5888627A (en) * | 1996-05-29 | 1999-03-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Printed circuit board and method for the manufacture of same |
US6603201B1 (en) * | 2002-10-23 | 2003-08-05 | Lsi Logic Corporation | Electronic substrate |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP4553690A patent/JPH03250648A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06268345A (ja) * | 1992-05-06 | 1994-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回路形成用基板の製造方法および回路形成用基板 |
JPH0629635A (ja) * | 1992-05-22 | 1994-02-04 | Gunze Ltd | プリント配線基材 |
US5888627A (en) * | 1996-05-29 | 1999-03-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Printed circuit board and method for the manufacture of same |
US6603201B1 (en) * | 2002-10-23 | 2003-08-05 | Lsi Logic Corporation | Electronic substrate |
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