JPH03239722A - ポリアミド樹脂及びその製造法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規なポリアミド樹脂及びその製造法に関する
。
。
(従来の技術)
芳香族ジアミンと芳香族ジカルボン酸とから合成される
全芳香族ポリアミドは、耐熱性、電気的。
全芳香族ポリアミドは、耐熱性、電気的。
機械的特性にすぐれ、を気絶縁材料、高温用材料あるい
はある種の保護衣料用材料など広く工業材料として使用
されてきた。
はある種の保護衣料用材料など広く工業材料として使用
されてきた。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、従来の芳香族ポリアミドは通常の有機溶剤に対
する溶解性が悪く、繊維、フィルム、塗膜等を形成する
場合、極めて不都合である。筐た。
する溶解性が悪く、繊維、フィルム、塗膜等を形成する
場合、極めて不都合である。筐た。
高融点しよび高結晶性を有するために射出成形や押出し
成形が事実上不可能である。本発明はこの問題を解決し
た。各種有機溶剤に可溶で耐熱性にすぐれるポリアミド
衝折及びその扱造法を提供するものである。
成形が事実上不可能である。本発明はこの問題を解決し
た。各種有機溶剤に可溶で耐熱性にすぐれるポリアミド
衝折及びその扱造法を提供するものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、一般式[1)
(ただし9式中Arは芳香環を有する2価の基を示す)
で示される繰シ返し単位を含むポリアミド樹脂に関する
。
で示される繰シ返し単位を含むポリアミド樹脂に関する
。
このポリアミド樹脂は、該樹脂0.2gを渉−井ンメチ
「しご、ル久アミド に溶解し、100m4にした 溶液の30℃にシける対数粘度が0.2〜5.0cf/
9であることが好ましい。この粘度が低すぎると樹脂の
機械的強度が低下する傾向があシ、高すぎると樹脂の有
機溶剤溶解性が劣る傾向がある。
「しご、ル久アミド に溶解し、100m4にした 溶液の30℃にシける対数粘度が0.2〜5.0cf/
9であることが好ましい。この粘度が低すぎると樹脂の
機械的強度が低下する傾向があシ、高すぎると樹脂の有
機溶剤溶解性が劣る傾向がある。
なか、上記還元粘度(ηsp/c)とは。
(ただし、η及びηo#iそれぞれ溶液の粘度及び溶媒
の粘度を表わし、ウベローデ型希釈型毛管粘度計を用い
て測定したときの溶液及び溶媒の流下時間をそれぞれt
及び1oとした場合、η/ηo”” t/ i。
の粘度を表わし、ウベローデ型希釈型毛管粘度計を用い
て測定したときの溶液及び溶媒の流下時間をそれぞれt
及び1oとした場合、η/ηo”” t/ i。
であシ、Cは溶液の樹脂濃度(9/de)である。)に
よう求められる。
よう求められる。
本発明に係るポリアミド樹脂は、N−メチル−2−ピロ
リドン(NMP)、 ジメチルアセトアミド、ジメチル
ホルムアミド(DMF)、ジメチルスルフオキシド(D
MSO)等の極性溶媒に可溶である。
リドン(NMP)、 ジメチルアセトアミド、ジメチル
ホルムアミド(DMF)、ジメチルスルフオキシド(D
MSO)等の極性溶媒に可溶である。
曾た0本発明は、(2−工ンド、3−エキソ)−吐)−
ビシクロ(2,2,1)ヘプタン−Z3−ジカルボン酸
又はこのシバライド若しくはジエステルと一般式[ID H,N −Ar −NH,(1) (ただし、Arは芳香Rを有する2価の基を示す)で示
される芳香族ジアミンを重縮合反応させることを特徴と
する一般式〔I〕 (ただし1式中Arは芳香環を有する2価の基を示す)
で示される繰つ返し単位を含むボ1ノアミド樹脂の製造
法に関する。
ビシクロ(2,2,1)ヘプタン−Z3−ジカルボン酸
又はこのシバライド若しくはジエステルと一般式[ID H,N −Ar −NH,(1) (ただし、Arは芳香Rを有する2価の基を示す)で示
される芳香族ジアミンを重縮合反応させることを特徴と
する一般式〔I〕 (ただし1式中Arは芳香環を有する2価の基を示す)
で示される繰つ返し単位を含むボ1ノアミド樹脂の製造
法に関する。
重縮合反応には、低温重縮合法、直接重縮合法。
活性エステル法等を採用することができ、!!!fに制
限はない。
限はない。
低温重縮合法は、上記芳香族ジアミン1当量に対して、
上記ジカルボン酸のシバライドを好iしくはa、9〜1
.2当量使用し、トリエチルアミン。
上記ジカルボン酸のシバライドを好iしくはa、9〜1
.2当量使用し、トリエチルアミン。
トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアミルア
ミン等の第3アミン、酸化プロピレン、スチレンオキシ
ド、シクロヘキセンオキシド等の1゜2−エポキシドな
どの酸受容剤の存在下、N−メチル−2−ピロリドン、
ジメチルアセトアミド等の非反応性極性溶媒中でマイナ
ス+数℃から該有機溶媒の還流温度1での範囲の温度下
に反応させて行なわれる。
ミン等の第3アミン、酸化プロピレン、スチレンオキシ
ド、シクロヘキセンオキシド等の1゜2−エポキシドな
どの酸受容剤の存在下、N−メチル−2−ピロリドン、
ジメチルアセトアミド等の非反応性極性溶媒中でマイナ
ス+数℃から該有機溶媒の還流温度1での範囲の温度下
に反応させて行なわれる。
直接重合法は、上記ジカルボン酸と上記芳香族ジアミン
を当量又はほぼ当量使用し、トリフェニルホスファイト
、三塩化リン、縮合リン酸エステル等のリン系触媒及び
ピリジン若しくは、上記と同様の非反応性極性有機溶媒
中で室温から還流温度1での範囲内の温度下に反応させ
て行なわれる。
を当量又はほぼ当量使用し、トリフェニルホスファイト
、三塩化リン、縮合リン酸エステル等のリン系触媒及び
ピリジン若しくは、上記と同様の非反応性極性有機溶媒
中で室温から還流温度1での範囲内の温度下に反応させ
て行なわれる。
この場合、リン系触媒は上記ジカルボン酸又は上記芳香
族ジアミンと当量又はほぼ当量で使用され。
族ジアミンと当量又はほぼ当量で使用され。
ピリジン又はその誘導体は上記ジカルボン酸又は上記芳
香族ジアミンに対して10モル嘩以上使用するのが好ま
しい。
香族ジアミンに対して10モル嘩以上使用するのが好ま
しい。
活性エステル法は、上記ジカルボン酸ジノ・ライドと1
−ヒドロキシベンゾトリアゾールとの反応によシ、ベン
ゾトリアジルエステルを製造し、このエステルと上記芳
香族ジアミンを当量又はほぼ当量使用し、上記と同様の
非反応性極性有機溶媒中で室温又はそれ以上の温度下に
反応させて行なわれる。
−ヒドロキシベンゾトリアゾールとの反応によシ、ベン
ゾトリアジルエステルを製造し、このエステルと上記芳
香族ジアミンを当量又はほぼ当量使用し、上記と同様の
非反応性極性有機溶媒中で室温又はそれ以上の温度下に
反応させて行なわれる。
以上のようにして得られた反応液をメタノール等の低級
アルコール、水等の上記有機溶剤と相溶性でろって、樹
脂に対して貧溶媒である溶剤の大過剰に注いで、沈殿物
を得る。これをろ別し、乾燥することによって本発明に
係るポリアミド樹脂を回収することができる。
アルコール、水等の上記有機溶剤と相溶性でろって、樹
脂に対して貧溶媒である溶剤の大過剰に注いで、沈殿物
を得る。これをろ別し、乾燥することによって本発明に
係るポリアミド樹脂を回収することができる。
(2−エンド、3−エキソ)−(±)−ビシクロ〔21
211〕へブタン−2,3−ジカルボン酸は、そ4.1
66.824号に記載されている方法に準拠して得るこ
とができる。
211〕へブタン−2,3−ジカルボン酸は、そ4.1
66.824号に記載されている方法に準拠して得るこ
とができる。
上記−紋穴[11)で表わされる芳香族ジアミンとして
は、メタトリレンジアミン、5−クロロ−m−フ二二し
ンジアミン、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、
3.3’−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル、3.3’−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、a3′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3.4’−ジアミノジフェニルエーテル、44′−
ベンジジン、モ4′−ジアミノジフェニルチオエーテル
、3.3’−ジアミノジフェニルチオエーテル、4.4
’−ジアミノベンゾフェノン、a3′−ジアミノジフェ
ニルメタン、4.4’−ジアミノジフェニルメタン、2
.2’−ビス(4−アミノフェニル)フロパン、スフ−
ビス(3−アミ/フェニル)フロハン、4.4′−ジア
ミノジフェニルスルホン、4.4’−ジアミノジフェニ
ルスルホキシド、a3′−ジアミノジフェニルスルホン
、3.3’−ジアミノビフェニル、1.3−ビス(4−
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミ
ノフェノキシ)ベンゼン、1.4−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン、4.4’−[1,3−7エニレン
ビス(1−メチルエチリデン)〕、 4.4′−[1
,4−7二二レンビス(1−メチルエチリデン)〕、
〕2.2−ヒス4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2.2−ビス〔3−メチル−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、 2.2−ビ
ス(3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、1.l−ビス(4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニルエタン、ビス〔4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニルコメタン、a3′−ジメトキシ−4,4
′−ジアミンビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕スルホン、ビス[4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル〕スルホン、2.2−ビス(4−
(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、44’
−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ス2−ビ
ス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕へキサフ
ルオロプロパン、9.9−ビス(4−アミノフェニル)
フルオレンなど−Mhる。
は、メタトリレンジアミン、5−クロロ−m−フ二二し
ンジアミン、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、
3.3’−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル、3.3’−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、a3′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3.4’−ジアミノジフェニルエーテル、44′−
ベンジジン、モ4′−ジアミノジフェニルチオエーテル
、3.3’−ジアミノジフェニルチオエーテル、4.4
’−ジアミノベンゾフェノン、a3′−ジアミノジフェ
ニルメタン、4.4’−ジアミノジフェニルメタン、2
.2’−ビス(4−アミノフェニル)フロパン、スフ−
ビス(3−アミ/フェニル)フロハン、4.4′−ジア
ミノジフェニルスルホン、4.4’−ジアミノジフェニ
ルスルホキシド、a3′−ジアミノジフェニルスルホン
、3.3’−ジアミノビフェニル、1.3−ビス(4−
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミ
ノフェノキシ)ベンゼン、1.4−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン、4.4’−[1,3−7エニレン
ビス(1−メチルエチリデン)〕、 4.4′−[1
,4−7二二レンビス(1−メチルエチリデン)〕、
〕2.2−ヒス4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2.2−ビス〔3−メチル−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、 2.2−ビ
ス(3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、1.l−ビス(4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニルエタン、ビス〔4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニルコメタン、a3′−ジメトキシ−4,4
′−ジアミンビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕スルホン、ビス[4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル〕スルホン、2.2−ビス(4−
(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、44’
−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ス2−ビ
ス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕へキサフ
ルオロプロパン、9.9−ビス(4−アミノフェニル)
フルオレンなど−Mhる。
本発明に係るポリアミド樹脂は、カルボン酸成分として
、テレフタル酸、イソフタル酸、4.4’−ジフェニル
エーテルジカルボン酸、4.4’−ジフェニルカルボン
酸、1.5−ナフタリンジカルボン酸等の芳香族ジカル
ボン酸等の芳香族ジカルボン酸を含んでいてもよい。こ
れらを使用する場合は。
、テレフタル酸、イソフタル酸、4.4’−ジフェニル
エーテルジカルボン酸、4.4’−ジフェニルカルボン
酸、1.5−ナフタリンジカルボン酸等の芳香族ジカル
ボン酸等の芳香族ジカルボン酸を含んでいてもよい。こ
れらを使用する場合は。
全カルボン酸成分に対して50モルφ以下で使用される
ことが好ましい。これらが多すぎると有機溶剤に対する
溶解性が低下する傾向がある。また。
ことが好ましい。これらが多すぎると有機溶剤に対する
溶解性が低下する傾向がある。また。
カルボン酸成分としてアジピン酸、セバシン酸゛等の脂
肪族ジカルボン酸を含んでいてもよい。これらと使用す
る場合は、全カルボン酸成分に対して50モル多以下で
使用されることが好普しい。脂肪族ジカルボン酸が多す
ぎると耐熱性が低下しやすい。
肪族ジカルボン酸を含んでいてもよい。これらと使用す
る場合は、全カルボン酸成分に対して50モル多以下で
使用されることが好普しい。脂肪族ジカルボン酸が多す
ぎると耐熱性が低下しやすい。
同様にジアミン成分として、ヘキサメチレンジアミン、
エチレンジアミン等の脂肪族ジアミンや。
エチレンジアミン等の脂肪族ジアミンや。
L3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロ
キサン、1.3−ビス(4−アミノフェニル)テトラメ
チルジシロキサン等のシロキサンジアミンを含んでいて
もよい。これらを使用する場合は。
キサン、1.3−ビス(4−アミノフェニル)テトラメ
チルジシロキサン等のシロキサンジアミンを含んでいて
もよい。これらを使用する場合は。
全ジアミンに対して30モル修以下で使用されることが
好ましい。これらが多すぎると耐熱性が低下する傾向が
ある。上記芳香族ジカルボン酸及び脂肪族ジカルボン酸
は1重合法に対応してその曾普又はシバライド若しくは
ジエステルとして使用される。
好ましい。これらが多すぎると耐熱性が低下する傾向が
ある。上記芳香族ジカルボン酸及び脂肪族ジカルボン酸
は1重合法に対応してその曾普又はシバライド若しくは
ジエステルとして使用される。
本発明に係るポリアミド樹r#は主鎖にビシクロIRを
有してトリ、そのかさ高さのために、従来の芳香族ポリ
アミド樹脂に比較して極めてすぐれた有機溶剤溶解性を
有するとともに、ビシクロ環が主鎖の回転を阻害し、す
ぐれた耐熱性を有する。
有してトリ、そのかさ高さのために、従来の芳香族ポリ
アミド樹脂に比較して極めてすぐれた有機溶剤溶解性を
有するとともに、ビシクロ環が主鎖の回転を阻害し、す
ぐれた耐熱性を有する。
筐た。成膜性に優れ、キャスト法(キャスト後。
例えば100℃で1時間乾燥)によシフイルムあるいは
塗膜などに成膜することができ、そのフィルム等はすぐ
れた耐熱性を有し、可とう性等の機械的性質もすぐれ、
!負電子絶縁材料、耐熱性接着剤、高温用材料等に好1
しく適用することができる。
塗膜などに成膜することができ、そのフィルム等はすぐ
れた耐熱性を有し、可とう性等の機械的性質もすぐれ、
!負電子絶縁材料、耐熱性接着剤、高温用材料等に好1
しく適用することができる。
(実り例)
以下、実凡例により本発明を説明する。
実施例1
リービッヒ冷却管、気体導入管及び攪拌装置を付けた2
00n!セパラブル40フラスコに、(2−エンド、
3−エキソ)−仕)−ビシクロ〔2,2,l〕ヘプタン
−a3−ジカルボン酸3.599(19,5mmo/)
、2.2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパ78.00 g (19,5mmof)。
00n!セパラブル40フラスコに、(2−エンド、
3−エキソ)−仕)−ビシクロ〔2,2,l〕ヘプタン
−a3−ジカルボン酸3.599(19,5mmo/)
、2.2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパ78.00 g (19,5mmof)。
トリフェニルホスファイト111 g (39,0mm
of)。
of)。
ピリジ:y6.0 g (75,9mmo/ )及び塩
化りf’)ム0.6 g(14,1mmof )を入れ
2窒素下、N−メチル−2−ピロリドン40Tntを加
え、10分間室温で攪拌した後、昇温し、110℃で4
.5時間反応させた。室温管で冷却した後、メタノール
40〇−中にあけた。生じた沈殿をろ別し、メタノール
で洗浄し、100℃で一晩乾燥した。
化りf’)ム0.6 g(14,1mmof )を入れ
2窒素下、N−メチル−2−ピロリドン40Tntを加
え、10分間室温で攪拌した後、昇温し、110℃で4
.5時間反応させた。室温管で冷却した後、メタノール
40〇−中にあけた。生じた沈殿をろ別し、メタノール
で洗浄し、100℃で一晩乾燥した。
このようにして得られたポリアミド樹脂の還元粘度、収
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標であるガラス転移
温度を表1に示した。普た。上記ポリアミド樹脂の赤外
線吸収スペクトル()・fルム法)を第1図に示した。
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標であるガラス転移
温度を表1に示した。普た。上記ポリアミド樹脂の赤外
線吸収スペクトル()・fルム法)を第1図に示した。
第1図にかいて1660Cm−’にアミド結合のカルボ
ニルの吸収及び3390cm−’KN−H伸縮振動に基
づく吸収が認められ。
ニルの吸収及び3390cm−’KN−H伸縮振動に基
づく吸収が認められ。
アミド結合が形成されていることが確認された。
普た。上記ポリアミド樹脂の1H核磁気共鳴スペクトル
(溶媒: DMS O−ds )を第2図に示した。
(溶媒: DMS O−ds )を第2図に示した。
第2図にhいて、1−21〜1.70.!39〜Z50
゜165、Z94ppmにノルボルナン環、1.57p
pmメチル基、 6.80〜7.61 ppmにベンセ
ン環。
゜165、Z94ppmにノルボルナン環、1.57p
pmメチル基、 6.80〜7.61 ppmにベンセ
ン環。
9.98. 10.07 ppmにアミド基のプロトン
に基づくシグナルが認められた。
に基づくシグナルが認められた。
以上から所望のポリアミド樹脂の生成が確認された。
実施例2
リービッヒ冷却管、気体導入管及び攪拌装置を付けた2
00−セパラブル40フラスコに(2−エンド、3−エ
キソ)−(±)−ビシクロ〔2,2,1〕へプタンース
3−ジカルボン酸4.OOg(21,7mmo/ )
、 4.4’−ジアミノジフェニルエーテル4.35
g (21,7mmo/ )s トリフェニルホスフ
ァイト13.5 g (43,5mmo/ )s ビ
lJシフa9(87,3mnno/ )及び塩化リチウ
ム0.79(16,5mmo/ )を入れ、窒素下、N
−メチル−2−ピロリドン40m1を加え、10分間室
温で攪拌した後。
00−セパラブル40フラスコに(2−エンド、3−エ
キソ)−(±)−ビシクロ〔2,2,1〕へプタンース
3−ジカルボン酸4.OOg(21,7mmo/ )
、 4.4’−ジアミノジフェニルエーテル4.35
g (21,7mmo/ )s トリフェニルホスフ
ァイト13.5 g (43,5mmo/ )s ビ
lJシフa9(87,3mnno/ )及び塩化リチウ
ム0.79(16,5mmo/ )を入れ、窒素下、N
−メチル−2−ピロリドン40m1を加え、10分間室
温で攪拌した後。
昇温し、110℃で4時間反応させた。室温管で冷却し
た後、メタノール400mg中にあけた。生じた沈殿を
ろ別し、メタノールで洗浄し、100℃で一晩乾燥した
。
た後、メタノール400mg中にあけた。生じた沈殿を
ろ別し、メタノールで洗浄し、100℃で一晩乾燥した
。
このようにして得られたポリアミド樹脂の還元粘度、収
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標であるガラス転移
温度を表1にした。また、上記ポリアミド樹脂の赤外線
吸収スペクトル(フィルム法)を第3図にした。第3図
にシいて1660(7)−1にアミド結合のカルボニル
の吸収及び3320an−’にN−H伸縮振動に基づく
吸収が認められ、アミド結合が形成されていることが確
認された。筐た。
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標であるガラス転移
温度を表1にした。また、上記ポリアミド樹脂の赤外線
吸収スペクトル(フィルム法)を第3図にした。第3図
にシいて1660(7)−1にアミド結合のカルボニル
の吸収及び3320an−’にN−H伸縮振動に基づく
吸収が認められ、アミド結合が形成されていることが確
認された。筐た。
上記ポリアミド樹脂のIH核磁気共鳴スペクトル(溶媒
: DMSO−d、)を第4図に示した。第4図に>い
て、1.23〜1.72,141〜251゜166.2
.95PPmにノルボルナン環、6.90〜7.61p
pmにベンゼン環、9.97 、10.06 ppmに
アミド基のプロトンに基づくシグナルが認められた。
: DMSO−d、)を第4図に示した。第4図に>い
て、1.23〜1.72,141〜251゜166.2
.95PPmにノルボルナン環、6.90〜7.61p
pmにベンゼン環、9.97 、10.06 ppmに
アミド基のプロトンに基づくシグナルが認められた。
以上から所望のポリアミド樹脂の生成が確認された。
実施例3
リービッヒ冷却管、気体導入管及び攪拌装置を付ケた2
00dセパラブル40フラスコに(2−エンド、3−エ
キソ)−(±)−ビシクロ〔ス2.l〕へブタン−23
−ジカルボン酸3.609(19,6mmo/)、
ビス(:4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スル
ホン8.46 g (19,6mmo/ ) 。
00dセパラブル40フラスコに(2−エンド、3−エ
キソ)−(±)−ビシクロ〔ス2.l〕へブタン−23
−ジカルボン酸3.609(19,6mmo/)、
ビス(:4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スル
ホン8.46 g (19,6mmo/ ) 。
トリフェニルホスファイトI Z 2 g (3,94
mmo/)。
mmo/)。
ピリジ:/ 6.0 g (75,9mmo/ )及び
塩化Iff’)ム0.6g(141mmo/ )を入れ
、窒素下、 N −1チル−2−ピロリド740m!!
を加え1o分間室温で攪拌した後、昇温し、110”C
で3時間反応させた。室温1で冷却した後、メタノール
40Od中!中にあけた。生じた沈殿をろ別し、メタノ
ールで洗浄し、100℃で一晩乾燥した。
塩化Iff’)ム0.6g(141mmo/ )を入れ
、窒素下、 N −1チル−2−ピロリド740m!!
を加え1o分間室温で攪拌した後、昇温し、110”C
で3時間反応させた。室温1で冷却した後、メタノール
40Od中!中にあけた。生じた沈殿をろ別し、メタノ
ールで洗浄し、100℃で一晩乾燥した。
このようにして得られたポリアミド樹脂の還元粘度、収
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標であるガラス転移
温度を表1に示した。普た。上記ポリアミド樹脂の赤外
線吸収スペクトル(フィルム法)を第5図に示した。第
5図に唄いて168゜■−1にアミド結合のカルボニル
の吸収及び335゜(m−”にN−H伸縮振動に基づく
吸収が認められ。
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標であるガラス転移
温度を表1に示した。普た。上記ポリアミド樹脂の赤外
線吸収スペクトル(フィルム法)を第5図に示した。第
5図に唄いて168゜■−1にアミド結合のカルボニル
の吸収及び335゜(m−”にN−H伸縮振動に基づく
吸収が認められ。
アミド結合が形成されていることが確認された。
実施例4
リービンヒ冷却管、気体導入管及び攪拌装置を付ffた
200mgセパラブル40フラスコに(2−エンド、3
−エキソ)−(1:1−ビシクロ〔ス21〕へブタノー
ス3−ジカルボン酸4.009(21,7mmo/ )
、 1.4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン
6.35 g (21,7mmo/ )、 トIJ
フxニルホスファイト13.5 g (43,5mmo
j )、 ピリジ:/6.99 (87,3mmoj
)及び塩化リチウム0.7 g (16,5mmo/
)を入れ、窒素下、N−メチル−2−ピロリドン40
mgを加え、10分間室温で攪拌した後、昇温し、11
0℃で4時間反応させた。室温1で冷却した後、メタノ
ール40Od中にあけた。生じた沈殿をろ別し、メタノ
ールで洗浄し、100℃で一晩乾燥した。
200mgセパラブル40フラスコに(2−エンド、3
−エキソ)−(1:1−ビシクロ〔ス21〕へブタノー
ス3−ジカルボン酸4.009(21,7mmo/ )
、 1.4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン
6.35 g (21,7mmo/ )、 トIJ
フxニルホスファイト13.5 g (43,5mmo
j )、 ピリジ:/6.99 (87,3mmoj
)及び塩化リチウム0.7 g (16,5mmo/
)を入れ、窒素下、N−メチル−2−ピロリドン40
mgを加え、10分間室温で攪拌した後、昇温し、11
0℃で4時間反応させた。室温1で冷却した後、メタノ
ール40Od中にあけた。生じた沈殿をろ別し、メタノ
ールで洗浄し、100℃で一晩乾燥した。
このようにして得られたポリアミド樹脂の還元粘度、収
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標でめるガラス転移
温度を表1に示した。會た。上記ポリアミド樹脂の赤外
線吸収スペクトル(フィルム法)を第6図に示した。第
6図にかいて1660c11!−’にアミド結合のカル
ボニルの吸収及び3320(1)−1にN−H伸縮振動
に基づく吸収が認められ。
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標でめるガラス転移
温度を表1に示した。會た。上記ポリアミド樹脂の赤外
線吸収スペクトル(フィルム法)を第6図に示した。第
6図にかいて1660c11!−’にアミド結合のカル
ボニルの吸収及び3320(1)−1にN−H伸縮振動
に基づく吸収が認められ。
アミド結合が形成されていることが確認された。
実施例5
リービンヒ冷却管、気体導入管及び攪拌装置を付けた2
00dセパラブル40フラスコに(2−エンド、3−エ
キソ)−(f:l−ビシクロ(2,2,1]へブタン−
23−ジカルボン酸4.009(21,7mmo/ )
、 1.3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン6.35 g (21,7mmo/ )、 ) +
77エ二ルホスフアイト13.5g(43,5mmo/
) 、 ピリジン6.9g(87,3mmo/ )
及び塩化リチウム0.79(16,5mmo/ )を入
れ、窒素下、N−メチル−2−ピロリドン40−を加え
、10分間室温で攪拌した後、昇温し、110℃で3.
5時間反応させた。室温管で冷却した後、メタノール4
00me中にあけた。生じた沈殿をろ別し、メタノール
で洗浄し、100℃で一晩乾燥した。
00dセパラブル40フラスコに(2−エンド、3−エ
キソ)−(f:l−ビシクロ(2,2,1]へブタン−
23−ジカルボン酸4.009(21,7mmo/ )
、 1.3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン6.35 g (21,7mmo/ )、 ) +
77エ二ルホスフアイト13.5g(43,5mmo/
) 、 ピリジン6.9g(87,3mmo/ )
及び塩化リチウム0.79(16,5mmo/ )を入
れ、窒素下、N−メチル−2−ピロリドン40−を加え
、10分間室温で攪拌した後、昇温し、110℃で3.
5時間反応させた。室温管で冷却した後、メタノール4
00me中にあけた。生じた沈殿をろ別し、メタノール
で洗浄し、100℃で一晩乾燥した。
このようにして得られたポリアミド樹脂の還元粘度、収
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標であるガラス転移
温度を表1に示した。普た。上記ポリアミド樹脂の赤外
線吸収スペクトル(フィルム法)を第7図に示した。第
7図から明らかなように1660 cm−”にアミド結
合のカルボニルの吸収及び3400an−” KN−H
伸縮振動に基づく吸収が認められ、アミド結合が形成さ
れていること密 嘴 繍 被 (発明の効果) 本発明に係るポリアミド樹脂は、耐熱性、可とり性等の
機械特性、成膜性などが良好で、有機溶剤溶解性に極め
て優れる。
率、有機溶剤溶解性及び耐熱性の指標であるガラス転移
温度を表1に示した。普た。上記ポリアミド樹脂の赤外
線吸収スペクトル(フィルム法)を第7図に示した。第
7図から明らかなように1660 cm−”にアミド結
合のカルボニルの吸収及び3400an−” KN−H
伸縮振動に基づく吸収が認められ、アミド結合が形成さ
れていること密 嘴 繍 被 (発明の効果) 本発明に係るポリアミド樹脂は、耐熱性、可とり性等の
機械特性、成膜性などが良好で、有機溶剤溶解性に極め
て優れる。
本発明に係るポリアミド樹脂は、電子絶縁材料。
耐熱接着剤、高温用材料等に好普しく適用することがで
きる。
きる。
第1図、第3図、第5図、第6図及び第7図は。
それぞれ実施例1,2,3.4及び5で得られたポリア
ミド樹脂の赤外線吸収スペクトル並びに第2及び第4図
はそれぞれ実施例1及び2で得られたポリアミド樹脂の
1)1−核磁気共鳴スペクトルである。
ミド樹脂の赤外線吸収スペクトル並びに第2及び第4図
はそれぞれ実施例1及び2で得られたポリアミド樹脂の
1)1−核磁気共鳴スペクトルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (ただし、式中Arは芳香環を有する2価の基を示す)
で示される繰り返し単位を含むポリアミド樹脂。 2 ポリアミド樹脂0.2gをジメチルホルムアミドに
溶解し、100mlにした溶液の30℃における還元粘
度が0.2〜5.0dl/gである請求項1記載のポリ
アミド樹脂。 3、(2−エンド、3−エキソ)−(±) ロ〔2,2,1〕ヘプタン−2,3−ジカルボン酸又は
このジハライド若くジエステルと一般式〔II〕H_2N
−Ar−NH_2〔III〕 (ただし、式中Arは芳香環を有する2価の基を示す)
で示される芳香族ジアミンとを重縮合反応させることを
特徴とする一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (ただし、式中Arは芳香環を有する2価の基を示す)
で示される繰ク返し単位を含むポリアミド樹脂の製造法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3814290A JPH03239722A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | ポリアミド樹脂及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3814290A JPH03239722A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | ポリアミド樹脂及びその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03239722A true JPH03239722A (ja) | 1991-10-25 |
Family
ID=12517168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3814290A Pending JPH03239722A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | ポリアミド樹脂及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03239722A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013079351A (ja) * | 2011-10-05 | 2013-05-02 | Hitachi Chemical Co Ltd | ノルボルナン骨格含有ポリアミドの製造方法 |
JP2013079352A (ja) * | 2011-10-05 | 2013-05-02 | Hitachi Chemical Co Ltd | ノルボルナン骨格含有ポリアミドの製造方法 |
-
1990
- 1990-02-19 JP JP3814290A patent/JPH03239722A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013079351A (ja) * | 2011-10-05 | 2013-05-02 | Hitachi Chemical Co Ltd | ノルボルナン骨格含有ポリアミドの製造方法 |
JP2013079352A (ja) * | 2011-10-05 | 2013-05-02 | Hitachi Chemical Co Ltd | ノルボルナン骨格含有ポリアミドの製造方法 |
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