JPH03236342A - 光学活性なアルコール類およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、各種中間体、特に強誘電性液晶化合物の中間
体として有用である光学活性なアルコール類およびその
製造法に関する。

〈従来の技術および発明が解決しようとする課題〉従来
、下記一般式α）で示される光学活性なアルコール類お
よびその製造法については知られておらす、また該光学
活性ｌアルコール類が特に強誘電性液晶化合物の中間体
として極めて有用であることも知られていない。

本発明は、各種中間体、特に強誘電性液晶化合物の重要
な中間体となりうる光学活性なアルコール類およびその
製造法を提供するものである。

〈課題を解決するための手段〉 本発明者らは、鋭意検討の結果、本発明に至った。

すなわち、本発明は一般式０） でｎは１〜５の整数を、＊印は不斉炭素原子を示す。） で示される光学活性なアルコール類およびその製造法に
関する。

上記一般式（１）で示される光学活性なアルコール類は
医薬、農薬等の中間体としても有用であるが、特に有機
電子材料とりわけ新規な強誘電性液晶化合物の中間体と
して非常に有用である。例えば、一般式（１）で示され
る光学活性なアルコール類を原料として、以下のような
ルートで液晶性化合物を合成することができる。

（Ｉ） ↓　　アシル化またはアルキル化 （式中、Ａは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基またはハロゲン原子を、Ｚは水素原子またはハロゲ
ン原子を、Ｗは 八 ↓　脱ベンジル化 または炭素数２〜６のアシル基を、Ｚは水素原子または
ハロゲン原子を、Ｗは （式中、Ｒｏはアルキル基またはアルコキシ基を、Ｊは
１または２を、Ｓは１または０をＲｏはアルキル基また
はアルコキシアルキル基を示す。）このようにして合成
した液晶性化合物Ｍは強誘電性液晶化合物として優れた
ものである。

本発明の一般式ωで示される光学活性なアルコール類は
、下記の製造法により得ることができる。

〔１−１工程〕 こでｎは、１〜５の整数を、木口は不斉炭素原子を示す
。） で示される光学活性なアシルベンゼン類をバイヤービリ
ガー酸化して一般式（２） （式中、ＲＲＺおよびＷは前記と同じ意味を有する。） で示される光学活性なフェニレン類を得る工程。

［１−２）工程 １１’１−１）工程で得られた一般式（４）で示される
光学活性なフェニレン類を加水分解して、一般式（式中
、Ｒ１は低級アルキル基を　Ｒ２は水素原子（式中、２
およびＷは前記と同じ意味を有する。）で示される光学
活性なジオール類を得る工程。

［１−８）工程 （１−１）工程で得られた光学活性なジオール類を、一
般式同 （式中、Ａは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基またはハロゲン原子を、Ｙはハロゲン原子を示す。

） で示されるベンジル化剤でベンジル化して一般式α）で
示される光学活性なアルコール類を得る工程。

（１−１〕工程について説明する。原料である光学活性
なアシルベンゼン類■は、以下のようにして合成するこ
とができる。

↓ エステル化 ↓　フリーデルクラフト反応 ↓ 加水分解 ↓　フリーデルクラフト反応 （式中、Ｒ１，Ｚおよびｎは前記と同じ意味を有し　Ｒ
８は炭素数２〜６のアシル基を示す。）一般式（ＩＶ）
において、　Ｒ２が炭素数２〜６のアシル基を示す化合
物は、上記で得られた化合物（ＩＶ′−ａ）または（Ｉ
Ｖ−ｂ）をアシル化することによっても得ることができ
る。

このアシル化反応は、通常のエステル化法が適用され、
溶媒の存在下あるいは非存在下に、触媒を用いて行うこ
とができる。

かかるアシル化において、アシル化剤である低級アルキ
ルカルボン酸類としては通常、低級アルキルカルボン酸
の酸無水物あるいは酸ハライドが使用され、たとえば無
水酢酸、無水プロピオン酸、酢酸クロリドもしくはプロ
ミド、プロピオン酸クロリドもしくはプロミド、ブチリ
ルクロリドもしくはプロミド、バレロイルクロリドもし
くはプロミドなどが挙げられる。

この反応において、溶媒を使用する場合、その溶媒とし
てはたとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリル、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素
、ニーチル、ケトン、ハロゲン化炭化水素、非プロトン
性極性溶媒等の反応に不活性な溶媒の単独または混合物
があげられる。その使用量については特に制限なく使用
することができる。

反応に用いる低級アルキルカルボン酸類は原料である一
般式（ＩＶ−ａ）または（ＩＶ−ｂ）で示される化合物
に対して１当量以上必要であり、上限については特に制
限されないが、好ましくは１．１〜４当量である。

触媒としては、たとえばジメチルアミノピリジン、トリ
エチルアミン、トリーｎ−ブチルアミン、ピリジン、ピ
コリン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、ナトリウムメ
チラート、炭酸水素カリウム等の有機あるいは無機塩基
物質があげられる。その使用量は特に制限されないが、
通常化合物（■−ａ）または（ＩＶ−ｂ）に対して１〜
５当量である。

溶媒として有機アミンを使用する場合は、該アミンが触
媒として作用することもある。

また、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸箋
の酸類を触媒として用いることもできる。

触媒の使用量は低級アルキルカルボン酸類の種類と使用
する触媒の組合わせ等によっても異なり、必ずしも特定
できないが、たとえば低級アルキルカルボン酸類として
酸ハライドを使用する場合には、当該酸ハライドに対し
て１当量以上使用される。

反応温度は通常−３０〜１５０℃であるが、好ましくは
一２０〜１００℃である。

反応時間は特に制限されず、原料の化合物（ＩＶ’−ａ
）または（ＩＶ−ｂ）が消失した時点を反応の終点とす
ることができる。

反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液・濃
縮・再結晶等の操作により一般式（ｙ“−ａ）または（
ＩＶ’−、ｂ）で示される光学活性な化合物を収率よく
得ることができ、これは必要にょうカラムクロマトグラ
フィーなとで精製することもできるが、次工程へは反応
混合物のまま使用することができる。

［１−１〕工程において、光学活性なフェニレン類を得
る反応は、前記原料合成法で得た光学活性なアシルベン
ゼン類■をバイヤービリガー酸化して製造することがで
き、該酸化反応に用いられる酸化剤としては、たとえば
過酢酸、過ギ酸、メタクロル過安息香酸、過安息香酸等
の過酸が例示される。かかる過酸は、たとえば対応する
酸と過酸化水素から生じせしめることができ、反応系中
に過酸を合成しながら、バイヤービリガー酸化を行うこ
ともできる。

過酸の使用量は、通常原料である一般式Ｗで示される光
学活性なアシルベンゼン類に対して１当量倍以上必要で
あり、上限については＠１こ制限されないが好ましくは
１．１〜２当量倍である。

この反応で使用される溶媒としては、通常酸化反応に不
活性な溶媒が使用され、かかる溶媒としては、たとえば
ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム、クロ
ルベンゼン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン
、シクロヘキサン等のハロゲン化炭化水素、芳香族また
は脂肪族炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または
混合物が使用される。

反応温度は通常、−２０〜１８０℃の範囲であるが、好
ましくは一１０〜１００℃の範囲である。

反応終了後、通常の分離手段、過剰の過酸の除去、濾過
、抽出、分液、濃縮等の操作により、−般式（２）で示
される光学活性なフェニレン類が得られる。

次に、〔１−２〕工程においては、上記の光学活性なフ
ェニレン類斡〉を加水分解することにより一般式（６）
で示される光学活性なジオール類を得ることができる。

該加水分解反応は水の存在下に、酸もしくは塩基を用い
て行われる。

ここで用いられる酸としては、たとえば、硫酸、リン酸
または塩酸のごとき無機酸、トルエンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸のごとき有機酸があげられる。塩基として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムまたは１，８−ジア
ザビシクロ〔５゜４．０〕７〜ウンデセン等の有機およ
び無機塩基があげられる。

力）かる酸もしくは塩基の使用量は以下に述べるとおり
である。酸については原料化合物１モルに対して０．０
２倍モルから１０倍モルが好ましく用いられ、塩基の場
合には、原料化合物（２）に対して少なくとも２倍モル
以上、好ましくは１０倍モル以下である。もちろんこれ
以上の使用量でもさしつかえない。これらは通常溶媒と
ともに用いられ、かかる溶媒としては以下のものが例示
される。

水、メタノール、エタノール、プロパツール、アセトン
、メチルエチルケトン、クロロホルム、ジクロルメタン
、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の脂肪族もしくは
芳香族炭化水素、エーテル、アルコール、ケトン、アミ
ド、水およびハロゲン化炭化水素等の反応に不活性１（
溶媒の単独または混合物が使用され、その使用量につい
ては特に制限されない。

反応温度は、通常−８０〜１５０℃であるが、好ましく
は一２０〜１００Ｃである。

反応時間は特に制限されない。反応終了後、通常の分離
手段、たとえば酸析、抽出、分液、濃縮等の操作により
光学活性なジオール類＠）を収率よく得ることができ、
これは必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶
等により精製することができる。

Ｃ１−１）工程において、一般式位）で示される光学活
性なジオール類から一般式α）で示される光学活性なア
ルコール類を得る反応は、塩基性物質の存在下、一般式
（２） （式中、Ａは前記と同じ意味を有し、Ｙはハロゲン原子
を示す。） で示されるベンジル化剤を作用させることによりおこな
われる。

この反応は、通常、溶媒の存在下におこなわれ、かかる
溶媒としてはたとえばエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、トルエン、ベンゼン、クロルベ
ンゼン、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、酢酸エチル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリ
ックトリアミド、アセトニトリル、ヘキサン、ヘプタン
等のエーテル、ハロゲン化炭化水素、飽和もしくは不飽
和炭化水素、エステル、非プロトン性極性溶媒等の反応
に不活性な溶媒の単独または混合物があげられる。その
使用量については、特に制限なく使用することができる
。

該反応において、上記のベンジル化剤の使用量は、光学
活性なジオール類に対して、１当量以上必要であり、上
限については特に制限されないが、好ましくは１．１〜
２当量倍である。

この反応に用いられる塩基性物質としては、たとえば、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、水素
化ナトリウム、水素化カルシウム、ｎ−ブチルリチウム
、５ｅｃ−ブチルリチウム等の無機あるいは有機塩基性
物質があげられる。これらの使用量は、使用するベンジ
ル化剤の種類によっても異なり、必ずしも限定されない
が、一般にはベンジル化剤に対して１当量倍以上である
。

反応温度は通常−２０〜１５０℃であるが、好ましくは
、０〜１００℃である。

反応時間は特に制限されず、原料の光学活性なジオール
類が消失した時点を反応の終点とすることができる。

反応終了後、通常の分離手段、たとえば、抽出、分液、
ｍＩＩ＆等の操作により、光学活性なアルコール類（１
）を収率よく得ることができ、これは必要に応じて、カ
ラムクロマトグラフィー、再結晶等により精製すること
もできる。

このようにして一般式（Ｉ）で示される光学活性なアル
コール類が効率よく得られるのであるが、上記製造法の
他に次に述べる製造法によっても、光学活性なアルコー
ル類（Ｉ）を得ることができる。

［２−１）工程 一般式閏） （２−２）工程 （２−１）工程で得られた一般式（■）で示される光学
活性なカルボン酸類を溶媒中で還元して一般式ＣＩ−ａ
） （式中、Ｚ、ｎおよび＊印は前記と同じ意味を有し、Ｒ
は水素原子または低級アルキル基を示す。） で示される光学活性なヒドロキシベンゼン誘導体を、塩
基性触媒または脱水剤の存在下に溶媒中でベンジル化し
て一般式（■） 八 （Ａ、Ｚ、Ｒ、ｎおよび＊印は前記と同じ意味を有する
。） で示される光学活性なカルボン酸類を得る工程。

（式中、Ａ、Ｚ、ｎおよび＊印は前記と同じ意味を有す
る。） で示される光学活性なアルコール類を得る工程。

［２−１）工程における原料である光学活性なヒドロキ
シベンゼン誘導体（■）は、例えば以下に示す方法によ
り製造される。

（１）ｎが１または２であるとき Ｒが水素原子である場合には、相当するｄｌ一体をフェ
ネチルアミン等のアミンを用いて光学分割する方法で、
また、Ｒが低級アルキル基である場合には、相当するｄ
ｊ一体をエステラーゼｌζより不斉加水分解する方法に
より得られる。

（２）ｎが８〜５の整数であるとき 相当する光学活性アルコールのフェノール性水酸基を塩
化アセチル等でアセチル化してｐ−アセトキシベンゼン
誘導体とし、該誘導体のアルコール性水酸基をハロゲン
化してｐ−アセトキシ−ハロアルキルベンゼンを得、こ
れをマロン酸エステルと反応させてマロン酸エステル誘
導体を得、次いで該マロン酸エステル誘導体を加水分解
後、さらに脱炭戯させることｌζより得られる。

［２−１）工程のベンジル化はベンジルハライド類を用
いて行われ、該ベンジルハライド類としては、例えばベ
ンジルクロリド、ベンジルプロミド、ｐ−クロロベンジ
ルクロリド、０−クロロベンジルクロリド、ｐ−メチル
ベンジルクロリド、ｐ−メトキシベンジルプロミドなど
があげられ、それは光学活性なヒドロキシベンゼン誘導
体（Ｖｌ）に対して、通常、１〜２当量倍、好ましくは
１〜１．８当量倍使用される。

塩基性触媒としては溶媒の種類によっても異なるが、通
常、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム、水酸化マグネシウムのごときアルカリ金属もしく
はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのご
とき炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水
素化カルシウム、ｎ−ブチルリチウム、５ｅｃ−ブチル
リチウムのごとき水素化金属などが挙げられ、それは光
学活性なヒドロキシベンゼン誘導体（■）に対して少な
くとも１当量倍以上必要であり、通常１〜１０当量倍使
用される。

溶媒としては、塩基性触媒として水素化金属を用いると
きには、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、トルエン、ベンゼン、ヘプタン、ヘキサン、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのごときエー
テル、炭化水素、非プロトン性極性溶媒が例示されるが
、水素化金属以外の塩基性触媒を用いるときには上記に
例示した溶媒の他Ｃζアセトン、メチルエチルケトン、
メタノール、エタノール、クロルベンゼン、クロロホル
ム、ジクロルメタン、ジクロルエタン等のケトン、アル
コール、ハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の
単独または混合物が挙げられる。

反応は通常−７０〜１５０℃、好ましくは一２０〜１０
０℃で行う。

反応混合物からの光学活性なカルボン酸類（■）の取出
しは、例えば分液、濃縮、蒸留もしくは結晶化等の後処
理操作を加えることにより行われる。

また、ベンジル化は、光学活性なとドロキシベンゼン誘
導体（■）とベンジルアルコール類とを、脱水剤として
トリフェニルホスフィンおよびジエチルアゾジカルボキ
シレートを用いて溶媒中で反応させることによっても行
われる。

ベンジルアルコール類としては、ベンジルアルコール、
ｐ−クロロベンジルアルコール、０−クロロベンジルア
ルコールもしくはｐ−メトキシベンジルアルコール等が
挙げられ、それはヒドロキシベンゼン誘導体（■）に対
して通常１〜２当量倍使用される。トリフェニルホスフ
ィンおよびジエチルアゾジカルボキシレートは、ベンジ
ルアルコール類に対して、通常は、各々０．９〜１．１
当量倍使用される。溶媒としては例えばテトラヒドロフ
ランもしくはジエチルエーテルのごときエーテル等が好
ましく使用され、その使用量は特に制限されない。反応
混合物からのカルボン酸類（■）の取出しは、例えば濃
縮、カラムクロマトグラフィー等の後処理操作を加える
ことにより行われる。

［２−２］工程の還元は、カルボン酸またはエステルを
還元してアルコールとすることのできる還元剤を用いて
行われる。

かかる還元剤として、好適には水素化ホウ素ナトリウム
、リチウムアルミニウムハイドライドまたは水素化ホウ
素が使用され、その使用量は光学活性なカルボン酸類（
■）に対して少くとも１当量倍以上必要であり、通常１
〜１０当量倍使用される。

溶媒としては、たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルエーテル、メタノール、エタノール、ｎ−プ
ロピルアルコール、イソプロピルアルコール、トルエン
、ベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン等のエーテ
ル、（ハξ・□ン他）炭化水素もしくはアルコール等の
反応に不活性な溶媒の単独または混合物が挙げられる。

反応は、通常、−８０〜１００℃、好ましくは一２０〜
９０℃で行われる。

反応混合物からの光学活性なアルコール類（ニーａ）の
取出しは、例えば分液、濃縮、蒸留もしくは結晶化等の
後処理操作を加えることにより行われる。

［８−１〕工程 一般式（ＩＸ） Ｈｓ （式中、ＡｌＺおよびｎは前記と同じ意味を有する。） で示されるアルコール類を得る工程。

［３−２］工程 〔８−１〕工程で得られた一般式（Ｘ）で示されるアル
コール類を、縮合剤または触媒の存在下に低級アルキル
カルボン酸類と反応させて一般式（ト）（式中、Ａ％Ｚ
およびｎは前記と同じ意味を有する。） で示されるケトン類を溶媒中で還元して、一般式（１） （式中、Ａ、Ｒ，Ｚおよびｎは前記と同じ意味を有する
。） で示されるエステル類を得る工程。

［８−８）工程で得られた一般式（至）で示されるエス
テル類を、該エステル類の光学活性体のうちのいずれか
一方を優先的に加水分解する能力を有するエステラーゼ
を用いて不斉加水分解して、−般式（Ｉ−ｂ） （式中、Ａ、Ｚ％ｎおよび＊印は前記と同じ意味を有す
る。） で示される光学活性なアルコール類を得る工程。

［８−１］工程における原料であるケトン類（ホ）は、
たとえば以下に示されるように、ベンジルハライド類と
ｐ−ヒドロキシベンゼン類とを反応させることにより、
容易に得ることができる。

（８−１〕工程において、ケトン類（２）の還元は、ケ
トンを還元してアルコールとすることのできる還元剤を
用いて行われる。

かかる還元剤として、好適には水素化ホウ素ナトリウム
、リチウムアルミニウムハイドライドまたは水素化ホウ
素が使用され、その使用量は原料ケトン類に対して少く
とも１当量倍以上必要であり、通常１〜１０当量倍の範
囲である。

溶媒としては、たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルエーテル、メタノール、エタノール、ｎ−プ
ロピルアルコール、イソプロピルアルコール、トルエン
、ベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン等のエーテ
ル、（ハロゲン化）炭化水素もしくはアルコール等の反
応に不活性な溶媒の単独または混合物が使用される。

反応は、通常、−８０〜１００℃、好ましくは一２０〜
９０℃で行う。

このようにして得られた反応混合物から、分液、濃縮、
蒸留、結晶化等の操作により、アルコール類火）を収率
よく得ることができるが、次工程の工ステル類（至）を
得るためには必ずしもアルコール類（社）を単離する必
要はなく、反応混合物のまま次工程へ進んでもよい。

次に（８−２）工程ｌこおいて、アルコール類（１）か
らエステル類（ロ）を得る反応は、アルコール類００を
、縮合剤または触媒の存在下に低級アルキルカルボン酸
類と反応させてアシル化することにより行われる。

このアシル化において、低級アルキルカルボン酸類とし
ては低級アルキルカルボン酸の酸無水物または酸ハライ
ドが用いられ、具体的には無水酢酸、酢酸クロリドまた
はプロミド、無水プロピオン酸、プロピオン酸クロリド
またはプロミド、ブチリルクロリドまたはプロミド、パ
レイルクロリドまたはプロミド等が例示される。

低級アルキルカルボン酸類として低級アルキルカルボン
酸の酸無水物または酸ハライドを用いる場合、その使用
量はアルコール類（Ｘ）に対してｌ当量倍以上必要であ
り、上限については特に制限されないが、好ましくは４
当量倍以下である。

酸無水物または酸ハライドを用いる反応は、溶媒の存在
下もしくは非存在下に、触媒を用いて反応させることに
より行われる。

この反応において溶媒を使用する場合、その溶媒として
は、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキサ
ン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ケト
ン、アミドあるいはハロゲン化炭化水素等の反応に不活
性な溶媒の単独または混合物が挙げられ、その使用量は
特に制限されない。

触媒としては、たとえばジメチルアミノピリジン、トリ
エチルアミン、トリーｎ−ブチルアミン、ピコリン、イ
ミダゾール、炭酸ナトリウムもしくは炭酸水素カリウム
等の有機あるいは無機塩基性物質が挙げられ、また、ト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの有機
酸あるいは無機酸が挙げられる。

触媒の使用量は、使用する低級アルキルカルボン酸類の
種類、使用する触媒の組合わせ等によっても異なり、必
ずしも特定されないが、たとえば低級アルキルカルボン
酸類として酸ハライドを使用する場合には、該酸ハライ
ドに対して１当量倍以上である。

また、前記低級アルキルカルボン酸類として、低級アル
キルカルボン酸を用いる場合、縮合剤の存在下に該カル
ボン酸を、通常、アルコール類（Ｘ）に対して１〜２当
量倍用いて脱水縮合させることによりエステル類＠を得
ることができる。

縮合剤としてはＮ、Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミ
ド、Ｎ−シクロヘキシル−ｈ−（４−ジエチルアミノ）
シクロヘキシルカルボジイミドのごときカルボシイミド
が好ましく用いられ、また必要により４−ピロリジノピ
リジン、ピリジン、トリエチルアミンのごとき有機塩基
が併用される。

縮合剤の使用量は低級アルキルカルボン酸に対して１〜
１．２当量倍であり、有機塩基を使用する場合にその使
用量は、縮合剤に対して０．０１〜０．２当量倍である
。

アシル化反応は通常−８０〜１２０℃、好ましくは一２
０〜９０℃で行う。

反応時間は特に制限されず、原料のアルコール類火）が
反応系から消失した時点を反応終点とすることができる
。

反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃
縮、再結晶等によりエステル類（イ）が収率よく得られ
、これは必要により更にカラムクロマトグラフィー等で
精製することができるが、次工程へは反応混合物のまま
使用することができる。

（８−８］工程において、エステル類（イ）から光学活
性なアルコール類（Ｉ−ｂ）を得る反応は、エステル類
の光学活性体のうちのいずれか一方を加水分解する能力
を有するエステラーゼを用いて、該エステル類の光学活
性体の一方を優先的に加水分解する（不斉氷解）ことに
より行われる。

この反応で用いられるエステラーゼを生産する微生物と
しては、エステル類（至）を不斉加水分解する能力を有
するエステラーゼを生産する微生物であればよく、特に
限定されるものではない。

尚、本発明におけるエステラーゼとはリパーゼを含む広
ｍのエステラーゼを意味する。

このような微生物の具体例としては、たとえばエンテロ
バクタ−属、アルスロバクタ−属、ブレビバクテリウム
属、シュードモナス属、アルカリ土類金属、ミクロコツ
カス属、クロモバクテリウム属、ミクロバクテリウム属
、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトバシル金
属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サツカロミセス
属、ロドトルラ属、クリプトコツカス属、トルロプシス
属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、リ
ゾプス属、ムコール属、オーレオパシディウム属、アク
チノムコール属、ノカルデイア属、ストレプトミセス属
、ハンゼヌラ属、アクロモバクタ−属に属する微生物が
例示される。

上記微生物の培養は、通常、常法に従って行われ、たと
えば液体培養を行なうことにより培養液を得ることがで
きる。

たとえば、滅菌した液体培地〔かび類、酵母類用には麦
芽エキス・酵母エキス培地（水１１にヘプトン５Ｆ、グ
ルコース１０ｔ、麦芽エキス８Ｆ。

酵母エキス３ｆを溶解し、ｐ　Ｈ６，５とする）、細菌
用には加糖ブイヨン培地（水Ｉ）にグルコース１０Ｆ、
ペプトン５Ｆ、肉エキス５ｆ％ＮａＣＪ８２を溶解し、
ｐ　Ｈ７，２とする）〕に微生物を接種し、通常２０〜
４０℃で１〜８日間往復振盪培養をすることにより行な
われ、また必要に応じて固体培養を行なってもよい。

また、これらの微生物起源のエステラーゼのなかｆこは
市販されているものがあり、容易に入手することができ
る。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下
のものが挙げられる。

シュードモナス属のリパーゼ〔リパーゼＰ（天寿１［製
）］、アスペルギルス属のリパーゼ〔すｚｆ　−セＡ　
Ｐ　（天野製薬製）〕、ムコール属のリパーゼ〔リパー
ゼＭ−ＡＰ（天野製薬製）〕、キャンディダ・シリンド
ラッセのリパーゼ〔リパーゼＭＹ　（各部産業製〕〕、
アルカリ土類金属のリパーゼ〔リパーゼＰＬ（各部産業
製）〕、〕アクロモバクターのリパーゼ〔リパーゼＡＬ
（各部産業製）〕、〕アルスロバクターのリパーゼ〔リ
パーゼ合同ＢＳＬ（合同酒精製）〕、クロモバクテリウ
ム属のリパーゼ（東洋醸造製）、リゾプス・デレマーの
リパーゼ〔タリパーゼ（田辺製薬製）〕、リゾプス属の
リパーゼ〔リパーゼサイケン（大阪細菌研究所）〕。

また、動物・植物エステラーゼを用いることもでき、こ
れらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを挙
げることができる。

ステアプシン、パンクレアチン、ブタ肝蔵エステラーゼ
、Ｗｈｅａｔ　Ｇｅｒｍ　　ｘ　ｙ、テラーゼ。

この反応で用いられるエステラーゼとしては動物、植物
、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態と
しては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培養液
、培養物、菌体、培養０液及びそれらを処理した物など
菖々の形態で必要に応じて用いることができ、酵素と微
生物を組合わせて用いることもできる。あるいはまた、
樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌体として用い
ることもできる。

不斉加水分解反応は、原料エステル類（ト）と上記酵素
もしくは微生物の混合物を、通常緩衝液中で激しく攪拌
することによって行われる。

緩衝液としては、通常用いられるリン酸ナトリウム、リ
ン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリウ
ム、クエン酸ナトリウムのごとき有機酸塩の緩衝液等が
用いられ、そのｐＨは、好アルカリ性菌の培養液やアル
カリ性エステラーゼではｐＨ８〜１１、好アルカリ性で
ない微生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラ
ーゼではｐＨ５〜８が好ましい。濃度は通常０．０５〜
２Ｍ。

好ましくは０．０６〜０．５　Ｍの範囲である。

反応温度は通常１０〜６０℃であり、反応時間は一般的
には１０〜７０時間であるが、これに限定されることは
ない。

このような加水分解反応終了後、加水分解反応液をたと
えばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエー
テル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶媒を留去
したのち、濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーで処理
する等の方法により加水分解生成物である光学活性なア
ルコール類（Ｉ−ｂ）と加水分解残である光学活性なエ
ステル類〔原料エステル類（ト）中の光学活性体のうち
加水分解されなかったもの〕を分離することができる。

ここで得られた光学活性なエステル類は必要に応じて更
に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類（ｘ−
ｂ）とは対掌体の光学活性なアルコール類とすることも
できる。

ｌお、この不斉氷解反応でリパーゼとしてシュードモナ
ス属あるいはアルスロバクタ−属に属するリパーゼを用
いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアルコー
ル類を得ることができる。

また、この加水分解の際、緩衝液に加えてトルエン、ク
ロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメタン
等の反応に不活性な有機溶媒を使用することもでき、こ
れらを使用することによって不斉氷解を有利に行うこと
もできる。

このようにして得られる光学活性なアルコールα）とし
ては次のものが例示される。

４−（１−メチル−２−ヒドロキシエチル）フェニル　
ベンジルエーテル、 ４−（１−メチル−８−ヒドロキシプロピル）フェニル
　ベンジルエーテル、 ４−（１−メチル−４−ヒドロキシブチル）フェニル　
ベンジルエーテル、 ４−（Ｉ−メチル−５−ヒドロキシヘプチル）フェニル
　ベンジルエーテル、 ４−（１−メチル−６−ヒドロキシヘキシル）フェニル
　ベンジルエーテル、 ４−（２−ヒドロキシプロピル）フェニルベンジルエー
テル、 ４−（８−ヒドロキシブチル）フェニル　ベンジルエー
テル、 ４−（４−ヒドロキシペンチル）フェニル　ベンジルエ
ーテル、 ４−（６−ヒドロキシヘキシル）フェニル　ベンジルエ
ーテル、 ４−（６−ヒドロキシヘプチル）フェニル　ベンジルエ
ーテル。

上記化合物中、ベンジルとは、ベンゼン環が、低級アル
キル、低級アルコキシもしくはハロゲン原子で置換され
ていてもよいベンジル基を示す。

〈発明の効果〉 かくして、本発明の方法によれば、一般式（Ｉ）で示さ
れる光学活性なアルコール類を工業的有利に製造するこ
とができ、該アルコール類は液晶用材料として有用であ
る化合物の重要な中間体であるのみならず、農薬、医薬
等の中間体としても利用することができる。

〈実施例〉 以下、実施例により本発明を説明する。

実施例１ 温度計、攪拌装置を装着した４ツロフラスコに（−）−
４−（２−ヒドロキシプロピル）アセトフェノン１７．
８Ｆ（０，１モル）、トルエン５０−、ピリジン５０ｙ
ｄおよび４−ピロリジノピリジンＩＦを加え、これに８
０〜４０℃で無水酢酸１２．２Ｐ水８００−に注ぎ出し
、６Ｎ塩酸でｐＨ２とし、トルエン８００−で抽出した
。得られた有機層は水、５％重曹水、水で順次洗浄した
のち、減圧下に濃縮した。無色油状物質として、←）−
４−（２−アセトキシプロピル）アセトフェノン（■“
−ｂ−１）２２．ＯＦ　（収率１００％）を得た。

（ロ）雪＝−１，６（Ｃ＝１、ＣＨＣ＊ａ　）　　上で
得られた（ＩＶ−ｂ　−１）２２．Ｏｙ　（０，１モル
）を仕込み、ジクロルメタン２００−を加えて溶解させ
た。この溶液にｍ−クロロ過安息香酸２０．７ｆ（０，
１２モル）を加えて還流下に８時間攪拌した。

反応混合物に１０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え
て過剰のｍ−クロロ過安息香酸を分解した後、有機層を
１０％重曹水、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。得られたジクロルメタン溶液を減圧濃縮し
て（→−４−アセトキシ−（２−アセトキシプロピル）
ベンゼン（１−１）２１．５ｆ（収率９１５％）を得た
。

［、］　２ニーｍ−１，ｅｏ（Ｃ１１、ＣＨＣＪ　ｓ　
）ル）をメタノール２００−に溶かし、２０％水酸化ナ
トリウム水溶液５０−を加えて室温で２時間攪拌した。

反応混合物に１０９６塩酸を加えてｐＨ１〜２とした後
、メタノールの大部分を減圧留去した。得られた残渣を
酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を５％重曹水、
水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得
られた酢酸エチル溶液を減圧濃縮して（−）−４−（２
−ヒドロキシプロピル）７ｚ／　　ｋ　（１−１）　　
１２−８　ｆ　（収率９０９６）を得た。

に）２ｇ＝ｓ　１．７　　＜ｃ＝　ｔ、ＣＨ（Ｊ８）次
に上で得たＮｔ−１）１１．８ｒ　（７４ミリモル）を
ジメチルホルムアミド１００−に溶かし、これに塩化ベ
ンジル１２．２Ｆ（９６ミリモル）および炭酸カリウム
２２．１９（０，１６モル）を加えて５０〜６０Ｃで５
時間攪拌した。

反応混合物を水２００−中に注加し、酢酸エチルで抽出
した。得られた有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、得られた酢酸エチ
ル溶液を減圧濃縮した。得られた黄色油状物質をシリカ
ゲルカラムクロマト１１１＊Ｌ、てに）−４−ベンジル
オキシ−（２−ヒドロキシプロピル）ベンゼン（１−１
）１４．５Ｆ　（収率８１％）を得た。

（ロ）”３　＝　−１４，９°（Ｃ諺１、ＣＨＣ７ｍ）
実施例２〜４ （→−４−（２−ヒドロキシプロピル）アセトフェノン
に代えて、←３−４−（８−ヒドロキシブチル）アセト
フェノン（（ロ）２：＝−１２，５（Ｃ−１、ＣＨＣｊ
ｓ））、←）−４−（４−ヒドロキシペンチル）アセト
フェノン（（ロ）”＝−５，２（Ｃ＝　１　、　ＣＨＣ
Ｊｇ）　）または（→−４−（５−ヒドロキシヘキシル
）アセトフェノン（（ロ）”＝−５，６（Ｃヨ１．　Ｃ
ＨＣＪＪＩ）　）を用いる以外は実施例１と同様の反応
および後処理を行った。結果を表−１に示す。

柩遣翠 実施例５ 温度計、撹拌装置を装着した４つロフラスコに（−’）
−４−（２−ヒドロキシプロピル）アセトフェノン（ｆ
ｆ’−ｂ−１）１７．８ｇ（０，１モル）（（α）、＝
＝−ａａ、ａｏ（Ｃ＝１．ＣＨＣ１ａ’））を仕込み、
ジクロルメタン２００−を加えて溶解させた後、ｍ−ク
ロロ過安息香酸２０．７ノ（０，１２モル）を加え、室
温で２４時間撹拌した。

反応混合物を１０％亜硫酸水素ナトリウム、５％重曹水
、水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。

得られたジクロルメタン溶液を減圧濃縮して（−）−４
−アセトキシ−（２−ヒドロキシプロピル）ベンゼン（
Ｉｎ−５）１８．４ｙ（収率９５％）を得た。

〔α〕も’＝−８１，９°（Ｃ＝１、ＣＨＣｌａ）次に
上で得た（ＩＩＩ−５）１７．５Ｆ（９０ミリモル）を
メタノール１５０−に溶解させた後、２０％水酸化ナト
リウム水溶液８０−を加えて室温で２時間撹拌した。

反応混合物ｌこ１０％塩酸を加えてｐＨ１〜２とした後
、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水、５％重
曹水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。得られた酢酸エチル溶液を減圧濃縮して（
−）−４−（２ヒドロキシプロピル）フェノール（■−
５）１２．３Ｆ（収率９０％）を得た。

〔α）”　＝　−３１，５°（Ｃ＝　１　、ＣＨＣｌｇ
）次に上で得た（［１−５）　Ｌ　Ｌ、３Ｎ（７４ミリ
モル）をジメチルホルムアミド１００−に溶解させ、こ
れに塩化ベンジル１２．２Ｎ（９６Ｅリモル）および炭
酸カリウム２２．　ｌ　ｆ　（０，１６モル）を加えて
５０〜６０°Ｃで８時間撹拌した。

反応混合物を水２００ｒｘｔに圧加し、酢酸エチルで抽
出した。得られた有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた酢酸エチ
ル溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出液：トルエン／酢酸エチル＝５／１　
）に供して（−）−４−ベンジルオキシ−（２−ヒドロ
キシプロピル）ベンゼン（Ｉ−５）１４．７Ｎ（収率８
２％）を得た。

〔α）”＝−１４，７°（Ｃ＝　ｌ　、ＣＨＣｌｍ　）
実地例６〜７ （−）−４−（２−ヒドロキシプロピル）アセトフェノ
ンに代えて、（＋）−４−（Ｌ−メチル−２−ヒドロキ
シエチル）アセトフェノン（（ａ）：＝＋１９．７°（
Ｃ＝１　、　ＣＨＣｌａ））または（＋）−４−（１−
メチル−３−ヒドロキシプロピル）アセトフェノン（〔
α）％’＝＋２６．５°（Ｃ＝　ｌ　、　ＣＨ（Ｊ）ｓ
）　ｌ、を用いる以外は実地例１と同様に反応および後
処理を行った。結果を表−２に示す。

実地例８ 温度計、撹拌装置を装着した４ツロフラスコに（＋１−
３−メチル−３−（４−ヒドロキシフエニル）プロピオ
ン酸メチル８８．８Ｎ（０，２モル）と無水炭酸カリウ
ム７０ｆおよびジメチルホルムアミド４００ｄを仕込み
、塩化ベンジル３０．４１（０，２４モル）を添加して
、５０〜６０’Ｃで６時間反応させた。

反応終了後、反応混合物を水ｌｌ中に注ぎ込み、クロロ
ホルム５００−を加えて抽出処理する。有機層はよく水
洗したのち、減圧下に溶媒を留去して、（＋）−８−メ
チル−３−（４−ベンジルオキシフェニル）プロピオン
酸メチル（■−８）５６Ａｆ（収率９７％）を得た。

上で得た（［−１１１５４Ｆ（０，１９モル）をテトラ
ヒドロフラン３００−中に溶かした後、水素化リチウム
アルミニウム７、２　ｆ　（０，１９モル）をけんだく
させたテトラヒドロフラン８００ｄ中に滴下した。３０
〜４０’Ｃで３時間撹拌したのち、反応混合物中に注意
深くエタノールを加えたのちに水ｌｌ中に注ぎ出した後
、塩酸でｐＨ２〜３に調整し、その後、トルエン３０〇
−を加えて抽出処理する。有機層は５９６重ｑ水で洗浄
したのち、減圧下に溶媒を留去して（１）−３−メチル
−３−（４−ベンジルオキシフェニル）プロパツール（
Ｉ−８）４６．７１（収率９６％）を得た。

実施例９ 温度計、撹拌装置を装着した４ツロフラスコにｆ−１−
２−（４−ヒドロキシフエニル）プロピオン酸エチル７
７．６１（０，４モル）、ｐ−メチルベンジルアルコー
ル５４．９１＜０．４５モル）、トリフヱニルホスフィ
ン１１）８９（０，４１モル）およびテトラヒドロフラ
ン３００ｒｎｔを仕込み、０゛Ｃでジエチルアゾジカル
ボキシレート５８．２ｙ（０，４１モル）を滴下する。

２０’Ｃに昇温後、同温度で１日間撹拌したのち、反応
混合物を濃縮する。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトで分離してＨ−２−（４−（ｐ−メチルベンジル
オキシフェニル））プロピオン酸エチル（■−９）８５
．９ｙ（収率７２ｑｂ’）を得た。

上で得た（■−９）５６．７Ｎ（０，１９モル）を実施
例８の還元反応方法に準じて反応および後処理し、ｆ−
！−２−メチルー２−（４−（ｐ−メチルベンジルオキ
シフェニル））エタノール（Ｉ−９）４１．２９（収率
９７％）を得た。

実施例１０ 温度計、撹拌装置を装着した４ツロフラスコに４−（４
−ベンジルオキシ）フェニル−ブタン−２−オン５０．
８ｆ（０，２モル）とエタノール２００ｄおよびクロロ
ホルム２００ｒ！Ｌｔを仕込み、３０〜４０℃にて水素
化ホウ素ナトリウム５．７９　（０，１５モル）を約３
０分間で加える。

同温度で３時間撹拌したのち、反応混合物を水５００−
に注ぎ込み、クロロホルム２００ｍを加えて抽出する。

有機層は水でよく水洗したのち、減圧下に溶媒を留去し
て、４−（４−ベンジルオキシ）フェニル−２−ブタノ
ール（Ｘ−１０）を白色結晶として５ｔ、ｏｙ（収率９
９．５％）得た。

上で得ｔ＝（Ｘ−１０）４８．７　ＳＦ　（０，１９モ
ル）をトルエン２００−とピリジン１００−の混合溶媒
に溶かし、無水酢酸２９９（０，２８５モル）と４−ジ
メチルアミノピリジン１１を加えて、４０〜５０°Ｃで
６時間撹拌した。

反応終了後、反応混合物を４Ｎ−塩酸５００−中に注ぎ
出し、抽出、分液した。得られた有機層はＩＮ−塩酸水
、水、５％重曹水、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し、２−アセト
キシ−４−（４−ベンジルオキシ）フェニルブタン（Ｘ
ｉ−１０）を白色結晶として５６．１１　（収率９９％
）得た。

さらに、（ＸＩ−１０）５０ｇを３Ｎ−リン酸バッファ
ー５００−にけんだくさせ、リパーゼ？ （「〃マノＰＪ）２．５ノを加えて、３６±２°Ｃで２
４時間激しく撹拌した。反応終了後、反応液に酢酸エチ
ル５００−を加えて、濾過したのち、抽出、分液し得ら
れた有機層を水洗した。

有機層は減圧下溶媒を留去したのち、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ｆＦｉ出液：トル
エンー酢酸エチル）で分離し、ｔ−１−２−アセトキシ
−４−（４−ベンジルオキシ）フェニルブタン２５．４
Ｎ（収率５０．８％）〔α）　２Ｇ　＝ｑ、　ｓｏ（Ｃ
＝１．クロロホルム）と（へ）−４−（４−ベンジルオ
キシ）フェニル−２−ブタノール（Ｉ−１０）２０．６
ｙ（収率４８％）を得た。

〔α−，２Ｏ−ｒａ、　ａｏ（Ｃ＝１．クロロホルム）
実施例１１ ４−（４−ベンジルオキシ）フェニル−ブタン−２−オ
ン（０，２モル）に代えて３−（４−ベンジルオキシ）
フェニル−プロパン−２−オン４８．１１　（０，２モ
ル）を用いる以外は実施例１０に準じて反応、後処理お
よび精製して（ハ）３−（４−ベンジルオキシ）フェニ
ル−２−プロパツール２０．５　ｆ　（収率４８％）ヲ
得り。

〔α）”　＝　−１４，８°（ｃ＝　１　、　ＣＨ（４
！ａ）実施例１２ ４−（４−ベンジルオキシ）フェニルブタン−３−オン
（０，２モル）に代えて５−（４−ベンジルオキシ）フ
ェニルペンタン−２−オン５８．７ｆｌ（０，２モル）
を用いる以外は実地例ＩＯに準じて反応、後処理および
精製をおこない、Ｈ−５−（４−ベンジルオキシ）フェ
ニル−２ペンタノール２０．３Ｎ（収率４７％）を得た
。

〔α〕２０＝−５，８°（’ｃ＝１．ＣＨＣハ）実権例
１３ ４−（４−ベンジルオキシ）フェニルブタン−２−オン
（０，２モル）に代えて６−（４−ベンジルオキシ）フ
ェニル−ヘキサン−２−オン５６、５１　（０，２モル
）を用いる以外は実施例１０に準じて還元、アシル化、
不斉氷解および後処理をおこない、（→−６−（４−ベ
ンジルオキシ）フェニル−２−ヘキサノール２０．０９
　（収率４６％）を得た。

（α）　２０　＝＝　　　５．４°（ｃ＝ｌ、ＣＨＣハ
）実施例１４ ４−（４−ベンジルオキシ）フェニルブタン−２−オン
（０，２モル）に代えて４−（３−フルオロ−４−ベン
ジルオキシ）フェニルブタン−２−オン５４．５ｆ（０
，２モル）を用いる以外は実権例１０に準じて還元、ア
シル化、不斉氷解および後処理を行ない、Ｈ−４−（３
−フルオロ−４−ベンジルオキシ）フェニル−２−ブタ
ノール２０．８ｇ（収率４８％）を得た。

〔α：）　２０　＝ニー９．　ａｏ（ｅ−ｔ、ｃＨｃハ
）実施例１５ 温度計、撹拌装置を装着した４ツロフラスコに４−（４
−（ｐ−メチルベンジルオキシ））フェニル−ブタン−
２−オン５Ｂ、７１（０，２モル）、エタノール２００
−およびクロロホルム２００−を仕込み、３０〜４０°
Ｃにて水素化ホウ素ナトリウム５．７Ｎ（０，１５モル
）を約３０分間で加えた。同温度で３時間撹拌したのら
、反応混合物を水５００ｄ中に注ぎ込み、クロロホルム
２００−を加えて抽出処理した。有機層は水でよく水洗
したのち、減圧下に溶媒を留去して、４−（４−（ｐ−
メチルベンジルオキシ））フェニル−２−ブタノール（
Ｘ−Ｌ５’）ｌｔ白色結晶として５８．６Ｎ（収率９９
．２％）得た。

上で得た（Ｘ−１５）５１．４ｙ（０，１９モル）をト
ルエン２００ｒｌＬｔとピリジン１００−の混合溶渫に
溶かし、無水酢酸２９ｇ（０，２８５モル）と４−ジメ
チルアミノピリジンｔｙを加えて、４０〜５０″Ｃに反
応温度を保ちながら６時間反応させた。

反応終了後、反応混合物を４Ｎ塩酸５０〇−中ｆこ注ざ
出し、抽出、分液した。得られた有機層はｊＮＮ塩水水
水、５　ｉｓ重曹水、水の項に洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去して２−アセ
トキシ−４−（４−（ｐ−メチルベンジルオキシ））フ
ェニルブタン（Ｍ−１５）を白色結晶として５８．８ｙ
（収率９９％）得た。

さらに（Ｍ−１５）５０ｆを３Ｎリン酸バッファー５０
０−甲にけんだくさせ、その後、リパーゼ（「アマノＰ
Ｊ　）２．５Ｆを加えて、３６士２　’Ｃで２４時間激
しく撹拌した。反応終了後、反応液に酢酸エチル５００
−を加えて、濾過したのら、抽出、分液して得られた有
機層を水洗した。有機層は減圧下に溶媒を留去したのち
、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出１［：トルエンー酢酸エチル）で分離して（−３
−２−アセトキシ−４−［４−（ｐ−メチルベンジルオ
キシ））フェニルブタン２５．５１（収率５１％）（〔
α）　２Ｇ　＝＝　　７．　ｓｏ（Ｃ＝ｌ。

α クロロホルム））とＨ−４−（４−１）−メチルベンジ
ルオキシ）フェニル−２−ブタノール（Ｉ−１５）２０
．７ｙ（収率４８ｑ６’）（（α〕っ＝−９，０’（Ｃ
＝　１１クロロホルム））を得た。

参考例 実施例１０で得たＨ−４−（４−ベンジルオキシ）フェ
ニル−２−ブタノール（■−１（１２，５６ｇ（１０ミ
リモル）をジメチルホルムアミド２０耐にとかし、２５
〜３０°Ｃにて、６０％水素化ナトリウム０．４８１（
Ｌ２ミリモル）を加えて２時間撹拌した。その後、パラ
トルエンスルホン酸プロピルエステル８．０Ｆ（１４ミ
リモル）を加えて３０〜４０°Ｃで４時間反応させた。

反応終了後、反応混合物を水３ｏｏ−に注ぎ出し、トル
エン３００−で抽出、分液し、有機層はさらに水洗した
のち、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。

減圧下に溶媒を留去したのち、得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液トルエン）で精製
することにより、日−２−プロポキシ−４−（４−ベン
ジルオキシ）フェニルブタン（化合物Ａ）２．８６１（
収率９６％）〔α〕２０＝−８，５°（Ｃ＝１１クロロ
ホルム）、ｎ”＝　１．５２３１　ヲｍｆ＝。

ここで得た（化合物Ａ）１．４９ｙ（５ミリモル）をメ
タノール２０ｒｎｔにとかし、５％Ｐｄ／ＣＯ，ｌ　９
を加えて、水素雰囲気下、脱ベンジル化反応をおこなっ
た。計算量の水素（約１１０ｄ）が消費されたところで
原料が完全に消失していることを確認したうえ、Ｐｄ／
Ｃを枦別し、メタノール溶液を減圧下に濃縮して、ｅ−
１−４−（３−プロポキシブチル）フェノール１．０４
ｙ（収率１００％）を得た。

Ｃ（１〕２０＝　−９，９°（Ｃ＝１　、　クロロホル
Ｌ’）、ｎ”＝１．４９６８ 次に、撹拌装置、温度計を装着した４ツロフラスコに一
一４−（３−プロポキシブチル）フェノール１．０４ｙ
（５ミリモル）、４−デシルオキシ−４′−ビフェニル
カルボン酸２．２１（６ミリモル）と無水ジクロルメタ
ン３０−を仕込み、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボ
ジイミド１．２２ｇ（６ミリモル）と４−ピロリジノピ
リジンｏ、　ｔ　ｙを加えて、室温で一昼夜撹拌した。

反応終了後、生じた沈殿をＰ別し、トルエン２００　ｍ
ｌで希釈した。有機層は、水、５％酢酸水、水、５％重
曹水、水の順に洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマト精製（溶出液トルエン／酢酸エチル）する
ことによりｔ−１−４−デシルオキシ−４′−ビフェニ
ルカルホン酸４−（３−プロポキシブチル）フェニルエ
ステル２．９５９（収率８９９６）を得た。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ａは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
   シ基またはハロゲン原子を、Ｚは水素原子またはハロゲ
   ン原子を、Ｗは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼を示す。 ここで、ｎは１〜５の整数を、＊印は不斉炭素原子を示
   す。） で示される光学活性なアルコール類。
2. （２）一般式（ I ）において、Ｗが▲数式、化学式、
   表等があります▼である請求項１記載の光学活性なアル
   コール類。
3. （３）一般式（ I ）において、Ｗが▲数式、化学式、
   表等があります▼である請求項１記載の光学活性なアル
   コール類。
4. （４）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｚは水素原子またはハロゲン原子を、Ｗは▲数
   式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、
   表等があります▼を示 す。ここでｎは１〜５の整数を、＊印は不斉炭素原子を
   示す。） で示される光学活性なジオール類と、一般式▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、Ａは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
   シ基またはハロゲン原子を、Ｙはハロゲン原子を示す。 ） で示されるハロゲン化ベンジル類とを、溶媒中、塩基の
   存在下に反応させることを特徴とする請求項１記載の光
   学活性なアルコール類（ I ）の製造法。
5. （５）一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾１は低級アルキル基を、Ｒ＾２は水素原子
   または炭素数２〜６のアシル基を、Ｚは水素原子または
   ハロゲン原子を、Ｗは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼を示す。 ここで、ｎは１〜５の整数を、＊印は不斉炭素原子を示
   す。） で示される光学活性なフェニレン類を加水分解して光学
   活性なジオール類（II）を得る請求項４記載の光学活性
   なアルコール類（ I ）の製造法。
6. （６）一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＾１は低級アルキル基を、Ｒ＾２は水素原子
   または炭素数２〜６のアシル基を、Ｚは水素原子または
   ハロゲン原子を、Ｗは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼を示す。ここで、ｎは１〜５の整
   数を、＊印は不斉炭素原子を示す。） で示される光学活性なアシルベンゼン類を、溶媒中でバ
   イヤービリガー酸化して一般式（III）で示される光学
   活性なフェニレン類を得る請求項５記載の光学活性なア
   ルコール類（ I ）の製造法。
7. （７）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は低級アルキル基を、Ｒ＾２は水素原子
   または炭素数２〜６のアシル基を、Ｚは水素原子または
   ハロゲン原子を、Ｗは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼を示す。 ここでｎは１〜５の整数を、ｎ′は１，３〜５の整数を
   、＊印は不斉炭素原子を示す。）で示される光学活性な
   フェニレン類。
8. （８）一般式（IV）において、Ｒ＾２が２〜６のアシル
   基である光学活性なアシルベンゼン類。
9. （９）一般式（VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） （式中、Ａは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
   シ基またはハロゲン原子を、Ｚは水素原子またはハロゲ
   ン原子を、ｎは１〜５の整数を、※印は不斉炭素原子を
   、Ｒ′は水素原子または低級アルキル基をそれぞれ示す
   。） で示される光学活性なカルボン酸類を、溶媒中で還元す
   ることを特徴とする一般式（ I ）において、Ｗが▲数
   式、化学式、表等があります▼である請求項１記載の光
   学活性 なアルコール類の製造法。
10. （１０）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｚは水素原子またはハロゲン原子を、ｎは１〜
    ５の整数を、※印は不斉炭素原子を、Ｒ′は水素原子ま
    たは低級アルキル基をそれぞれ示す。） で示される光学活性なヒドロキシベンゼン誘導体を、塩
    基性触媒または脱水剤の存在下に溶媒中でベンジル化し
    て光学活性なカルボン酸類（VIII）を得ることを特徴と
    する一般式（ I ）において、Ｗが▲数式、化学式、表
    等があります▼である請求項１記載の光学活性な アルコール類の製造法。
11. （１１）一般式（Ｘ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） （式中、Ａは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
    シ基またはハロゲン原子を、Ｚは水素原子またはハロゲ
    ン原子を、ｎは１〜５の整数を、Ｒ′は低級アルキル基
    をそれぞれ示す。）で示されるエステル類を、該エステ
    ル類の光学活性体のうちのいずれか一方を優先的に加水
    分解する能力を有するエステラーゼを用いて不斉加水分
    解することを特徴とする一般式（ I ）において、Ｗが
    ▲数式、化学式、表等があります▼である請求項１記載
    の光学活性 なアルコール類の製造法。
12. （１２）一般式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） （式中、Ａは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
    シ基またはハロゲン原子を、Ｚは水素原子またはハロゲ
    ン原子を、ｎは１〜５の整数をそれぞれ示す。） で示されるアルコール類を、縮合剤または触媒の存在下
    に低級アルキルカルボン酸類と反応させてエステル類（
    Ｘ I ）を得る請求項１１記載の光学活性なアルコール
    類の製造法。
13. （１３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ａは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
    シ基またはハロゲン原子を、Ｚは水素原子またはハロゲ
    ン原子を、ｎは１〜５の整数をそれぞれ示す。） で示されるケトン類を溶媒中で還元してアルコール類（
    Ｘ）を得る請求項１２に記載の光学活性なアルコール類
    の製造法。