JP3018508B2 - 光学活性なシクロペンテノン類の製造方法 - Google Patents
光学活性なシクロペンテノン類の製造方法Info
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- JP3018508B2 JP3018508B2 JP3012309A JP1230991A JP3018508B2 JP 3018508 B2 JP3018508 B2 JP 3018508B2 JP 3012309 A JP3012309 A JP 3012309A JP 1230991 A JP1230991 A JP 1230991A JP 3018508 B2 JP3018508 B2 JP 3018508B2
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Description
【0001】本発明は医薬,農薬中間体、とりわけプロ
スタグランディン中間体として極めて有用な光学活性な
シクロペンテノン類の製造方法に関する。
スタグランディン中間体として極めて有用な光学活性な
シクロペンテノン類の製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】一般式〔4〕 (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示す。) で示される4−ヒドロキシシクロペンテノン類がプロス
タグランディンの中間体として有用であることはジャー
ナル オブ メディシナル ケミストリー(J.Med. Che
m)26巻(1983年)786頁に記載されている。
タグランディンの中間体として有用であることはジャー
ナル オブ メディシナル ケミストリー(J.Med. Che
m)26巻(1983年)786頁に記載されている。
【0003】しかしながら、上記の方法は反応ステップ
数が長いうえ、副原料が高価である等、工業的に利用す
るには問題があり、必ずしも充分なものではなかった。
数が長いうえ、副原料が高価である等、工業的に利用す
るには問題があり、必ずしも充分なものではなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のことから本発明
者らは、工業的にも有利な光学活性なシクロペンテノン
類の製造方法を鋭意検討の結果、効率的に光学活性なシ
クロペンテノン類を製造する方法を見出し、更にその原
料を公知の方法に比べ簡便に製造する方法をも見出し本
発明に到った。
者らは、工業的にも有利な光学活性なシクロペンテノン
類の製造方法を鋭意検討の結果、効率的に光学活性なシ
クロペンテノン類を製造する方法を見出し、更にその原
料を公知の方法に比べ簡便に製造する方法をも見出し本
発明に到った。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式〔1〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示し、*印は不斉炭素を
示す。) で示される光学活性なシクロペンテノン類の製造方法に
関するものである。
般式〔1〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示し、*印は不斉炭素を
示す。) で示される光学活性なシクロペンテノン類の製造方法に
関するものである。
【0006】以下本発明を工程ごとに詳細に説明する。
上記一般式〔1〕で示される光学活性なシクロペンテノ
ン類は、一般式〔2〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示し、R1 はハロゲンで
置換されてもよい低級アルキル基を示す。) で示されるシクロペンテノンエステル類に、該シクロペ
ンテノンエステル類の光学異性体のどちらか一方のみを
優先的に加水分解する能力を有するエステラーゼを用い
て不斉加水分解することにより製造することができる。
上記一般式〔1〕で示される光学活性なシクロペンテノ
ン類は、一般式〔2〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示し、R1 はハロゲンで
置換されてもよい低級アルキル基を示す。) で示されるシクロペンテノンエステル類に、該シクロペ
ンテノンエステル類の光学異性体のどちらか一方のみを
優先的に加水分解する能力を有するエステラーゼを用い
て不斉加水分解することにより製造することができる。
【0007】尚、本発明におけるエステラーゼとはリパ
ーゼを含む広義のエステラーゼを意味する。この反応で
用いられるエステラーゼを生産する微生物としては、シ
クロペンテノンエステル類〔2〕を不斉加水分解する能
力を有するエステラーゼを生産する微生物であればよ
く、特に限定されるものではない。
ーゼを含む広義のエステラーゼを意味する。この反応で
用いられるエステラーゼを生産する微生物としては、シ
クロペンテノンエステル類〔2〕を不斉加水分解する能
力を有するエステラーゼを生産する微生物であればよ
く、特に限定されるものではない。
【0008】このような微生物の具体例としては、たと
えばエンテロバクター属、アルスロバタクー属、ブレビ
バクテリウム属、シュードモナス属、アルカリゲネス
属、ミクロコッカス属、クロモバクテリウム属、ミクロ
バクテリウム属、コリネバクテリウム属、バシルス属、
ラクトバシルス属、トリコデルマ属、キャンディダ属、
サッカロミセス属、ロドトルラ属、クリプトコッカス
属、トルロプシス属、ピヒア属、ペニシリウム属、アス
ペルギルス属、リゾプス属、ムコール属、オーレオパシ
ディウム属、アクチノムコール属、ノカルディア属、ス
トレプトミセス属、ハンゼヌラ属、アクロモバクター属
に属する微生物が例示される。
えばエンテロバクター属、アルスロバタクー属、ブレビ
バクテリウム属、シュードモナス属、アルカリゲネス
属、ミクロコッカス属、クロモバクテリウム属、ミクロ
バクテリウム属、コリネバクテリウム属、バシルス属、
ラクトバシルス属、トリコデルマ属、キャンディダ属、
サッカロミセス属、ロドトルラ属、クリプトコッカス
属、トルロプシス属、ピヒア属、ペニシリウム属、アス
ペルギルス属、リゾプス属、ムコール属、オーレオパシ
ディウム属、アクチノムコール属、ノカルディア属、ス
トレプトミセス属、ハンゼヌラ属、アクロモバクター属
に属する微生物が例示される。
【0009】上記微生物の培養は、通常、常法に従って
行われ、例えば液体培養を行なうことにより培養液を得
ることができる。たとえば、滅菌した液体培地〔かび
類、酵母類用には麦芽エキス・酵母エキス培地(水1l
にペプトン5g、グルコース10g、麦芽エキス3g、
酵母エキス3gを溶解し、pH6.5とする)、細菌用
には加糖ブイヨン培地(水1lにグルコース10g、ペ
プトン5g、肉エキス5g、NaCl3gを溶解し、p
H7.2とする)〕に微生物を接種し、通常20〜40
℃で1〜3日間往復振盪培養をすることにより行なわ
れ、また必要に応じて固体培養を行なってもよい。
行われ、例えば液体培養を行なうことにより培養液を得
ることができる。たとえば、滅菌した液体培地〔かび
類、酵母類用には麦芽エキス・酵母エキス培地(水1l
にペプトン5g、グルコース10g、麦芽エキス3g、
酵母エキス3gを溶解し、pH6.5とする)、細菌用
には加糖ブイヨン培地(水1lにグルコース10g、ペ
プトン5g、肉エキス5g、NaCl3gを溶解し、p
H7.2とする)〕に微生物を接種し、通常20〜40
℃で1〜3日間往復振盪培養をすることにより行なわ
れ、また必要に応じて固体培養を行なってもよい。
【0010】また、これらの微生物起源のエステラーゼ
のなかには市販されているものがあり、容易に入手する
ことができる。市販エステラーゼの具体例としては、た
とえば以下のものが挙げられる。
のなかには市販されているものがあり、容易に入手する
ことができる。市販エステラーゼの具体例としては、た
とえば以下のものが挙げられる。
【0011】シュードモナス属のリパーゼ〔リパーゼP
(天野製薬製)〕、アスペルギルス属のリパーゼ〔リパ
ーゼAP(天野製薬製)〕、ムコール属のリパーゼ〔リ
パーゼM−AP(天野製薬製)〕、キャンディダ・シリ
ンドラッセのリパーゼ〔リパーゼMY(名糖産業
製)〕、アルカリゲネス属のリパーゼ〔リパーゼPL
(名糖産業製)〕、アクロモバクター属のリパーゼ〔リ
パーゼAL(名糖産業製)〕、アルスロバクター属のリ
パーゼ〔リパーゼ合同BSL(合同酒精製)〕、クロモ
バクテリウム属のリパーゼ(東洋醸造製)、リゾプス・
デレマーのリパーゼ(タリパーゼ(田辺製薬製)〕、リ
ゾプス属のリパーゼ〔リパーゼサイケン(大阪細菌研究
所)〕。
(天野製薬製)〕、アスペルギルス属のリパーゼ〔リパ
ーゼAP(天野製薬製)〕、ムコール属のリパーゼ〔リ
パーゼM−AP(天野製薬製)〕、キャンディダ・シリ
ンドラッセのリパーゼ〔リパーゼMY(名糖産業
製)〕、アルカリゲネス属のリパーゼ〔リパーゼPL
(名糖産業製)〕、アクロモバクター属のリパーゼ〔リ
パーゼAL(名糖産業製)〕、アルスロバクター属のリ
パーゼ〔リパーゼ合同BSL(合同酒精製)〕、クロモ
バクテリウム属のリパーゼ(東洋醸造製)、リゾプス・
デレマーのリパーゼ(タリパーゼ(田辺製薬製)〕、リ
ゾプス属のリパーゼ〔リパーゼサイケン(大阪細菌研究
所)〕。
【0012】また、動物・植物エステラーゼを用いるこ
ともでき、これらの具体的なエステラーゼとしては、以
下のものを挙げることができる。
ともでき、これらの具体的なエステラーゼとしては、以
下のものを挙げることができる。
【0013】ステアプシン、パンクレアチン、ブタ肝臓
エステラーゼ、Wheat Germエステラーゼ等。
エステラーゼ、Wheat Germエステラーゼ等。
【0014】この反応で用いられるエステラーゼとして
は動物、植物、微生物から得られた酵素が用いられ、そ
の使用形態としては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、
微生物培養液、培養物、菌体、培養ロ液及びそれらを処
理した物など種々の形態で必要に応じて用いることがで
き、酵素と微生物を組合わせて用いることもできる。あ
るいはまた、樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌
体として用いることもできる。
は動物、植物、微生物から得られた酵素が用いられ、そ
の使用形態としては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、
微生物培養液、培養物、菌体、培養ロ液及びそれらを処
理した物など種々の形態で必要に応じて用いることがで
き、酵素と微生物を組合わせて用いることもできる。あ
るいはまた、樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌
体として用いることもできる。
【0015】不斉加水分解反応は、原料シクロペンテノ
ンエステル類〔2〕と上記酵素もしくは微生物の混合物
を、通常緩衝液中で激しく攪拌することによって行われ
る。
ンエステル類〔2〕と上記酵素もしくは微生物の混合物
を、通常緩衝液中で激しく攪拌することによって行われ
る。
【0016】緩衝液としては、通常用いられるリン酸ナ
トリウム、リン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、
酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の
緩衝液等が用いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培
養液やアルカリ性エステラーゼではpH8〜11、好ア
ルカリ性でない微生物の培養液や耐アルカリ性を有しな
いエステラーゼでは、pH5〜8が好ましい。濃度は通
常0.05〜2M、好ましくは0.05〜0.5Mの範
囲である。
トリウム、リン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、
酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の
緩衝液等が用いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培
養液やアルカリ性エステラーゼではpH8〜11、好ア
ルカリ性でない微生物の培養液や耐アルカリ性を有しな
いエステラーゼでは、pH5〜8が好ましい。濃度は通
常0.05〜2M、好ましくは0.05〜0.5Mの範
囲である。
【0017】反応温度は通常10〜60℃であり、反応
時間は一般的には10〜70時間であるが、これに限定
されることはない。
時間は一般的には10〜70時間であるが、これに限定
されることはない。
【0018】なお、この不斉加水分解反応でリパーゼと
してシュードモナス属あるいはアルスロバクター属に属
するリパーゼを用いる場合には比較的高い光学純度で光
学活性なシクロペンテノン類〔1〕を得ることができ
る。
してシュードモナス属あるいはアルスロバクター属に属
するリパーゼを用いる場合には比較的高い光学純度で光
学活性なシクロペンテノン類〔1〕を得ることができ
る。
【0019】また、不斉加水分解の際、緩衝液に加えて
トルエン、クロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジ
クロルメタン等の反応に不活性な有機溶媒を使用するこ
ともでき、これらを使用することによって不斉加水分解
を有利に行うことができる。
トルエン、クロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジ
クロルメタン等の反応に不活性な有機溶媒を使用するこ
ともでき、これらを使用することによって不斉加水分解
を有利に行うことができる。
【0020】かかる不斉加水分解反応により、原料シク
ロペンテノンエステル類〔2〕の光学異性体のいずれか
一方のみが加水分解されて、目的の一般式〔1〕で示さ
れる光学活性なシクロペンテノン類が生成し、一方、原
料のシクロペンテノンエステル類〔2〕のうちの他方の
光学活性体である光学活性なシクロペンテノンエステル
類は加水分解残としてそのまま残存することになる。
ロペンテノンエステル類〔2〕の光学異性体のいずれか
一方のみが加水分解されて、目的の一般式〔1〕で示さ
れる光学活性なシクロペンテノン類が生成し、一方、原
料のシクロペンテノンエステル類〔2〕のうちの他方の
光学活性体である光学活性なシクロペンテノンエステル
類は加水分解残としてそのまま残存することになる。
【0021】このような不斉加水分解反応終了後、反応
液をたとえばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エ
チルエーテル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶
媒を留去したのち濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー
で処理する等の方法により不斉加水分解生成物である光
学活性なシクロペンテノン類〔1〕と不斉加水分解残で
ある光学活性なシクロペンテノンエステル類〔原料のシ
クロペンテノンエステル類〔2〕中の光学活性体のうち
加水分解されなかったもの〕を分離することができる。
液をたとえばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エ
チルエーテル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶
媒を留去したのち濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー
で処理する等の方法により不斉加水分解生成物である光
学活性なシクロペンテノン類〔1〕と不斉加水分解残で
ある光学活性なシクロペンテノンエステル類〔原料のシ
クロペンテノンエステル類〔2〕中の光学活性体のうち
加水分解されなかったもの〕を分離することができる。
【0022】ここで得られた光学活性なシクロペンテノ
ンエステル類は必要に応じて更に加水分解し、先に得た
光学活性なシクロペンテノン類〔1〕とは対掌体の光学
活性なシクロペンテノン類とすることもできる。
ンエステル類は必要に応じて更に加水分解し、先に得た
光学活性なシクロペンテノン類〔1〕とは対掌体の光学
活性なシクロペンテノン類とすることもできる。
【0023】以上の方法により目的とする一般式〔1〕
で示される光学活性なシクロペンテノン類を得ることが
でき、必要に応じさらにカラムクロマトグラフィーによ
り精製することもできる。
で示される光学活性なシクロペンテノン類を得ることが
でき、必要に応じさらにカラムクロマトグラフィーによ
り精製することもできる。
【0024】光学活性なシクロペンテノン類〔1〕は、
一般式〔3〕 (式中R及び*印は前記と同じ意味を示す。) で示される光学活性なシクロペンテノン誘導体を触媒存
在下部分水添を行うことにより得ることもできる。この
部分水添に利用される水添触媒としては、通常の触媒の
活性を落として二重結合に不活性な触媒としたものがあ
げられ、かかる触媒を利用することにより、三重結合を
選択的に還元しシス型の二重結合とすることができる。
かかる触媒としては、パラジウム−鉛、パラジウム−硫
酸バリウム、パラジウム−鉛−炭酸カルシウム、パラジ
ウム−炭酸カルシウム−酸化鉛等の一般にリンドラ−触
媒と呼ばれる触媒を例示することができる。
一般式〔3〕 (式中R及び*印は前記と同じ意味を示す。) で示される光学活性なシクロペンテノン誘導体を触媒存
在下部分水添を行うことにより得ることもできる。この
部分水添に利用される水添触媒としては、通常の触媒の
活性を落として二重結合に不活性な触媒としたものがあ
げられ、かかる触媒を利用することにより、三重結合を
選択的に還元しシス型の二重結合とすることができる。
かかる触媒としては、パラジウム−鉛、パラジウム−硫
酸バリウム、パラジウム−鉛−炭酸カルシウム、パラジ
ウム−炭酸カルシウム−酸化鉛等の一般にリンドラ−触
媒と呼ばれる触媒を例示することができる。
【0025】かかる水添触媒は、光学活性なシクロペン
テノン誘導体〔3〕に対して通常0.001 〜0.5 重量倍、
好ましくは0.005〜0.3 重量倍使用される。
テノン誘導体〔3〕に対して通常0.001 〜0.5 重量倍、
好ましくは0.005〜0.3 重量倍使用される。
【0026】この反応は通常、溶媒中で行われ、溶媒と
しては水、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、メタノール、エタノール、n−プロピルアル
コール、アセトン、ジメチルホルムアミド、トルエン、
ヘキサン、ジクロルメタン、酢酸エチル等の炭化水素、
アルコール、エーテル、ケトン、エステル、ハロゲン化
炭化水素またはアミド等の反応に不活性な触媒を例示す
ることができ、これらは単独または混合して使用され
る。
しては水、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、メタノール、エタノール、n−プロピルアル
コール、アセトン、ジメチルホルムアミド、トルエン、
ヘキサン、ジクロルメタン、酢酸エチル等の炭化水素、
アルコール、エーテル、ケトン、エステル、ハロゲン化
炭化水素またはアミド等の反応に不活性な触媒を例示す
ることができ、これらは単独または混合して使用され
る。
【0027】反応温度は通常−10〜100℃、好まし
くは10〜60℃である。上記反応は通常、常圧または
加圧下に行われ、原料である光学活性なシクロペンテノ
ン誘導体〔3〕を反応系から検出しなくなったとき、ま
たは水素の吸収量が光学活性なシクロペンテノン誘導体
〔3〕に対して1〜1.1当量倍となったときを反応終
点とすることができる。過剰の還元反応は選択率のうえ
から好ましくない。
くは10〜60℃である。上記反応は通常、常圧または
加圧下に行われ、原料である光学活性なシクロペンテノ
ン誘導体〔3〕を反応系から検出しなくなったとき、ま
たは水素の吸収量が光学活性なシクロペンテノン誘導体
〔3〕に対して1〜1.1当量倍となったときを反応終
点とすることができる。過剰の還元反応は選択率のうえ
から好ましくない。
【0028】反応終了後、反応混合物から触媒をろ過処
理等により除去したのち、濃縮等の操作により目的とす
る光学活性なシクロペンテノン類〔1〕を得ることがで
き、必要に応じてカラムクロマトグラフィー等により精
製することができる。
理等により除去したのち、濃縮等の操作により目的とす
る光学活性なシクロペンテノン類〔1〕を得ることがで
き、必要に応じてカラムクロマトグラフィー等により精
製することができる。
【0029】シクロペンテノンエステル類〔2〕は一般
式〔4〕で示される4−ヒドロキシシクロペンテノン類
を、一般式〔5〕 R1 COOH 〔5〕 (式中、R1 は前記と同じ意味を示す。) で示されるカルボン酸もしくはその誘導体と反応させる
ことにより製造することができる。
式〔4〕で示される4−ヒドロキシシクロペンテノン類
を、一般式〔5〕 R1 COOH 〔5〕 (式中、R1 は前記と同じ意味を示す。) で示されるカルボン酸もしくはその誘導体と反応させる
ことにより製造することができる。
【0030】かかるエステル化において、エステル化剤
であるカルボン酸〔5〕もしくはその誘導体としては通
常、低級アルキルカルボン酸の酸無水物あるいは酸ハラ
イドが使用され、たとえば無水酢酸、無水プロピオン
酸、酢酸クロリドもしくはブロミド、プロピオン酸クロ
リドもしくはブロミド、ブチリルクロリドもしくはブロ
ミド、バレロイルクロリドもしくはブロミドなどが挙げ
られる。
であるカルボン酸〔5〕もしくはその誘導体としては通
常、低級アルキルカルボン酸の酸無水物あるいは酸ハラ
イドが使用され、たとえば無水酢酸、無水プロピオン
酸、酢酸クロリドもしくはブロミド、プロピオン酸クロ
リドもしくはブロミド、ブチリルクロリドもしくはブロ
ミド、バレロイルクロリドもしくはブロミドなどが挙げ
られる。
【0031】さらには、クロル酢酸、クロル酢酸クロリ
ドもしくはブロミド、無水クロル酢酸、クロルプロピオ
ン酸、クロルプロピオン酸クロリドもしくはブロミド、
クロルプロピオン酸クロリド等のハロゲンで置換された
低級アルキルカルボン酸もしくはその誘導体が例示され
る。
ドもしくはブロミド、無水クロル酢酸、クロルプロピオ
ン酸、クロルプロピオン酸クロリドもしくはブロミド、
クロルプロピオン酸クロリド等のハロゲンで置換された
低級アルキルカルボン酸もしくはその誘導体が例示され
る。
【0032】4−ヒドロキシシクロペンテノン類〔4〕
とカルボン酸〔5〕もしくはその誘導体との反応は溶媒
の存在または非存在下に、塩基性物質または酸類を用い
て反応させることにより行われる。
とカルボン酸〔5〕もしくはその誘導体との反応は溶媒
の存在または非存在下に、塩基性物質または酸類を用い
て反応させることにより行われる。
【0033】この反応において、溶媒を使用する場合、
その溶媒としてはたとえばテトラヒドロフラン、エチル
エーテル、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、
ベンゼン、ピリジン、クロルベンゼン、ジクロルメタ
ン、ジクロルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジメ
チルホルムアミド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族
炭化水素、エーテル、ケトン、有機アミン、ハロゲン化
炭化水素あるいは非プロトン性極性溶媒等の反応に不活
性な溶媒の単独または混合物があげられる。その使用量
については特に制限されない。
その溶媒としてはたとえばテトラヒドロフラン、エチル
エーテル、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、
ベンゼン、ピリジン、クロルベンゼン、ジクロルメタ
ン、ジクロルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジメ
チルホルムアミド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族
炭化水素、エーテル、ケトン、有機アミン、ハロゲン化
炭化水素あるいは非プロトン性極性溶媒等の反応に不活
性な溶媒の単独または混合物があげられる。その使用量
については特に制限されない。
【0034】反応に用いるカルボン酸〔5〕もしくはそ
の誘導体の使用量は特に制限されないが、通常は4−ヒ
ドロキシシクロペンテノン類〔4〕に対して、1〜4当
量倍である。
の誘導体の使用量は特に制限されないが、通常は4−ヒ
ドロキシシクロペンテノン類〔4〕に対して、1〜4当
量倍である。
【0035】塩基性物質としては、たとえばジメチルア
ミノピリジン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルア
ミン、ピリジン、ピコリン、イミダゾール、炭酸ナトリ
ウム、ナトリウムメチラート、炭酸水素カリウム等の有
機あるいは無機化合物があげられる。その使用量は特に
制限されないが、通常4−ヒドロキシシクロペンテノン
類〔4〕に対して1〜5当量倍である。
ミノピリジン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルア
ミン、ピリジン、ピコリン、イミダゾール、炭酸ナトリ
ウム、ナトリウムメチラート、炭酸水素カリウム等の有
機あるいは無機化合物があげられる。その使用量は特に
制限されないが、通常4−ヒドロキシシクロペンテノン
類〔4〕に対して1〜5当量倍である。
【0036】また、塩基性物質に代えてトルエンスルホ
ン酸、メタンスルホン酸、硫酸等の酸類を用いることも
できる。塩基性物質または酸類の使用量はカルボン酸
〔5〕もしくはその誘導体の種類と使用する塩基性物質
または酸類の組合わせ等によっても異なり、必ずしも特
定できないが、たとえばカルボン酸〔5〕もしくはその
誘導体として酸ハライドを使用する場合には、当該酸ハ
ライドに対して通常1当量倍以上使用される。
ン酸、メタンスルホン酸、硫酸等の酸類を用いることも
できる。塩基性物質または酸類の使用量はカルボン酸
〔5〕もしくはその誘導体の種類と使用する塩基性物質
または酸類の組合わせ等によっても異なり、必ずしも特
定できないが、たとえばカルボン酸〔5〕もしくはその
誘導体として酸ハライドを使用する場合には、当該酸ハ
ライドに対して通常1当量倍以上使用される。
【0037】反応温度は通常−30〜100℃、好まし
くは−20〜90℃である。反応時間は特に制限され
ず、4−ヒドロキシシクロペンテノン類〔4〕が反応系
から消失した時点を反応の終点とすることができる。
くは−20〜90℃である。反応時間は特に制限され
ず、4−ヒドロキシシクロペンテノン類〔4〕が反応系
から消失した時点を反応の終点とすることができる。
【0038】反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽
出、分液、濃縮、再結晶等の操作によりシクロペンテノ
ンエステル類〔2〕を収率よく得ることができ、これは
必要によりカラムクロマトグラフィーなどで精製するこ
ともできるが、次工程はへ未精製のままで使用すること
ができる。
出、分液、濃縮、再結晶等の操作によりシクロペンテノ
ンエステル類〔2〕を収率よく得ることができ、これは
必要によりカラムクロマトグラフィーなどで精製するこ
ともできるが、次工程はへ未精製のままで使用すること
ができる。
【0039】シクロペンテノンエステル類〔2〕は別
途、一般式〔7〕 (式中、R及びR1 は前記と同じ意味を示す。) で示されるシクロペンテノンエステル誘導体を触媒存在
下部分水添を行うことにより得ることができる。
途、一般式〔7〕 (式中、R及びR1 は前記と同じ意味を示す。) で示されるシクロペンテノンエステル誘導体を触媒存在
下部分水添を行うことにより得ることができる。
【0040】この反応は前記した光学活性なシクロペン
テノン誘導体〔3〕の触媒存在下における部分水添によ
る光学活性なシクロペンテノン類〔1〕の合成と同様に
して行うことができる。
テノン誘導体〔3〕の触媒存在下における部分水添によ
る光学活性なシクロペンテノン類〔1〕の合成と同様に
して行うことができる。
【0041】4−ヒドロキシシクロペンテノン類〔4〕
は、一般式〔6〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示される4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体を触
媒存在下部分水添を行うことにより得ることができる。
は、一般式〔6〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示される4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体を触
媒存在下部分水添を行うことにより得ることができる。
【0042】この反応も前記した光学活性なシクロペン
テノン誘導体〔3〕の触媒存在下における部分水添によ
る光学活性なシクロペンテノン類〔1〕の合成と同様に
して行うことができる。
テノン誘導体〔3〕の触媒存在下における部分水添によ
る光学活性なシクロペンテノン類〔1〕の合成と同様に
して行うことができる。
【0043】光学活性なシクロペンテノン誘導体〔3〕
は、シクロペンテノンエステル誘導体に、該シクロペン
テノンエステル誘導体の光学異性体のどちらか一方のみ
を優先的に加水分解する能力を有するエステラーゼを用
いて不斉加水分解することにより製造することができ
る。
は、シクロペンテノンエステル誘導体に、該シクロペン
テノンエステル誘導体の光学異性体のどちらか一方のみ
を優先的に加水分解する能力を有するエステラーゼを用
いて不斉加水分解することにより製造することができ
る。
【0044】この反応は前記したシクロペンテノンエス
テル類〔2〕のエステラーゼを用いる不斉加水分解によ
る光学活性なシクロペンテノン類〔1〕の合成と同様に
して行うことができる。
テル類〔2〕のエステラーゼを用いる不斉加水分解によ
る光学活性なシクロペンテノン類〔1〕の合成と同様に
して行うことができる。
【0045】シクロペンテノンエステル誘導体〔7〕
は、4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕を、
カルボン酸〔5〕もしくはその誘導体と反応させること
により製造することができる。
は、4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕を、
カルボン酸〔5〕もしくはその誘導体と反応させること
により製造することができる。
【0046】この反応は前記した4−ヒドロキシシクロ
ペンテノン類〔4〕のカルボン酸〔5〕もしくはその誘
導体との反応によるシクロペンテノンエステル類〔2〕
の合成と同様にして行うことができる。
ペンテノン類〔4〕のカルボン酸〔5〕もしくはその誘
導体との反応によるシクロペンテノンエステル類〔2〕
の合成と同様にして行うことができる。
【0047】シクロペンテノンエステル誘導体〔7〕は
別途、一般式〔8〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示される3−ヒドロキシシクロペンテノン類または、
3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロ
キシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物を、カル
ボン酸〔5〕、その酸無水物およびその金属塩の存在下
に反応させることにより、製造することもできる。
別途、一般式〔8〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示される3−ヒドロキシシクロペンテノン類または、
3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロ
キシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物を、カル
ボン酸〔5〕、その酸無水物およびその金属塩の存在下
に反応させることにより、製造することもできる。
【0048】この反応において使用されるカルボン酸
〔5〕は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、クロル
酢酸、クロルプロピオン酸等の脂肪族カルボン酸であ
り、その金属塩としてはこれらカルボン酸〔5〕のリチ
ウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、銅
塩、亜鉛塩、パラジウム塩、鉛塩、スズ塩、マンガン
塩、コバルト塩等が例示される。
〔5〕は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、クロル
酢酸、クロルプロピオン酸等の脂肪族カルボン酸であ
り、その金属塩としてはこれらカルボン酸〔5〕のリチ
ウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、銅
塩、亜鉛塩、パラジウム塩、鉛塩、スズ塩、マンガン
塩、コバルト塩等が例示される。
【0049】この反応において、原料の3−ヒドロキシ
シクロペンテノン類〔8〕または、3−ヒドロキシシク
ロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノ
ン誘導体〔6〕との混合物に対するカルボン酸〔5〕の
使用量は通常1当量倍以上、その金属塩の使用量は通常
0.01〜5当量倍、好ましくは0.01〜0.5 当量倍である。
また、上記カルボン酸〔5〕の酸無水物の使用量は原料
の3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕または、3
−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキ
シシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物に対して通
常1当量倍以上である。
シクロペンテノン類〔8〕または、3−ヒドロキシシク
ロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノ
ン誘導体〔6〕との混合物に対するカルボン酸〔5〕の
使用量は通常1当量倍以上、その金属塩の使用量は通常
0.01〜5当量倍、好ましくは0.01〜0.5 当量倍である。
また、上記カルボン酸〔5〕の酸無水物の使用量は原料
の3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕または、3
−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキ
シシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物に対して通
常1当量倍以上である。
【0050】この反応において、上記カルボン酸
〔5〕、その金属塩およびその酸無水物の3成分を使用
することは重要であって、その何れの成分を欠除しても
有効な方法とはなり得ない。たとえば原料に3−ヒドロ
キシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロ
ペンテノン誘導体〔6〕との混合物、または3−ヒドロ
キシシクロペンテノン類〔8〕を使用し、酸無水物を用
いない場合には反応生成物がシクロペンテノンエステル
誘導体〔7〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体
〔6〕との混合物となり、収率も低くなる。
〔5〕、その金属塩およびその酸無水物の3成分を使用
することは重要であって、その何れの成分を欠除しても
有効な方法とはなり得ない。たとえば原料に3−ヒドロ
キシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロ
ペンテノン誘導体〔6〕との混合物、または3−ヒドロ
キシシクロペンテノン類〔8〕を使用し、酸無水物を用
いない場合には反応生成物がシクロペンテノンエステル
誘導体〔7〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体
〔6〕との混合物となり、収率も低くなる。
【0051】この反応に於いて溶媒を使用する場合、そ
の溶媒としてはたとえばテトラヒドロフラン、エチルエ
ーテル、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベ
ンゼン、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエ
タン、クロロホルム、四塩化炭素、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサン等の脂肪族もしく
は芳香族炭化水素、エーテル、ハロゲン化炭化水素等の
反応に不活性な溶媒の単独または混合物があげられ、そ
の使用量については特に制限されない。また、カルボン
酸〔5〕を溶媒として使用することもできる。
の溶媒としてはたとえばテトラヒドロフラン、エチルエ
ーテル、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベ
ンゼン、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエ
タン、クロロホルム、四塩化炭素、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサン等の脂肪族もしく
は芳香族炭化水素、エーテル、ハロゲン化炭化水素等の
反応に不活性な溶媒の単独または混合物があげられ、そ
の使用量については特に制限されない。また、カルボン
酸〔5〕を溶媒として使用することもできる。
【0052】反応温度は通常0〜150℃であるが、好
ましくは30〜140℃の範囲である。反応時間は、通
常は0.5〜10時間である。反応時間が長くなると、
生成したシクロペンテノンエステル誘導体〔7〕が一部
分解されるため、不必要な時間延長は好ましくない。
ましくは30〜140℃の範囲である。反応時間は、通
常は0.5〜10時間である。反応時間が長くなると、
生成したシクロペンテノンエステル誘導体〔7〕が一部
分解されるため、不必要な時間延長は好ましくない。
【0053】反応方法としては、例えば 3−ヒドロ
キシシクロペンテノン類〔8〕または、3−ヒドロキシ
シクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペン
テノン誘導体〔6〕との混合物、カルボン酸〔5〕、そ
の酸無水物およびその金属塩を同時に反応容器に仕込
み、反応させる方法、 3−ヒドロキシシクロペンテ
ノン類〔8〕または、3−ヒドロキシシクロペンテノン
類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体
〔6〕との混合物にカルボン酸〔5〕およびその酸無水
物を加えて反応させ、一定時間(通常0.1〜5時間で
あるが、特に限定されるものではない。)後、該カルボ
ン酸の金属塩を加えて更に反応させる方法が例示され
る。
キシシクロペンテノン類〔8〕または、3−ヒドロキシ
シクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペン
テノン誘導体〔6〕との混合物、カルボン酸〔5〕、そ
の酸無水物およびその金属塩を同時に反応容器に仕込
み、反応させる方法、 3−ヒドロキシシクロペンテ
ノン類〔8〕または、3−ヒドロキシシクロペンテノン
類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体
〔6〕との混合物にカルボン酸〔5〕およびその酸無水
物を加えて反応させ、一定時間(通常0.1〜5時間で
あるが、特に限定されるものではない。)後、該カルボ
ン酸の金属塩を加えて更に反応させる方法が例示され
る。
【0054】このような方法により、3−ヒドロキシシ
クロペンテノン類〔8〕または、3−ヒドロキシシクロ
ペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン
誘導体〔6〕との混合物から、一般式〔7〕で示される
シクロペンテノンエステル誘導体が容易に、かつ好収率
で得られ、これは必要により更にカラムクロマトグラフ
ィー等で精製することもできるが、次工程へは反応混合
物のまま使用することができる。
クロペンテノン類〔8〕または、3−ヒドロキシシクロ
ペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン
誘導体〔6〕との混合物から、一般式〔7〕で示される
シクロペンテノンエステル誘導体が容易に、かつ好収率
で得られ、これは必要により更にカラムクロマトグラフ
ィー等で精製することもできるが、次工程へは反応混合
物のまま使用することができる。
【0055】4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体
〔6〕は、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕ま
たは、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−
ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物
を、水を主とする溶媒中、pH6〜9の範囲で異性化処
理するか、あるいはクロラールおよび有機アミンの存在
下に異性化処理することにより製造することができる。
〔6〕は、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕ま
たは、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−
ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物
を、水を主とする溶媒中、pH6〜9の範囲で異性化処
理するか、あるいはクロラールおよび有機アミンの存在
下に異性化処理することにより製造することができる。
【0056】まず前者の方法について説明する。この反
応において用いられる溶媒は水を主とするものであっ
て、水単独あるいは水を主成分とする有機溶媒との混合
溶媒である。ここで有機溶媒としては、たとえばエチレ
ングリコール、1,3−プロパンジオール、メタノー
ル、エタノール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、D
MF、DMSO、酢酸エチル、酢酸、ジクロルメタン、
トルエン、ジメチルエーテル等の脂肪族もしくは芳香族
炭化水素、アルコール、脂肪酸、エーテル、エステル、
ハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒をあげるこ
とができる。
応において用いられる溶媒は水を主とするものであっ
て、水単独あるいは水を主成分とする有機溶媒との混合
溶媒である。ここで有機溶媒としては、たとえばエチレ
ングリコール、1,3−プロパンジオール、メタノー
ル、エタノール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、D
MF、DMSO、酢酸エチル、酢酸、ジクロルメタン、
トルエン、ジメチルエーテル等の脂肪族もしくは芳香族
炭化水素、アルコール、脂肪酸、エーテル、エステル、
ハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒をあげるこ
とができる。
【0057】この反応は触媒を必ずしも必要としない
が、触媒を添加することにより反応速度の向上が期待で
きる。この反応で触媒を用いる場合、その触媒としては
例えば各種金属塩、有機第4級アンモニウム塩、界面活
性剤、アルコール等をあげることができる。
が、触媒を添加することにより反応速度の向上が期待で
きる。この反応で触媒を用いる場合、その触媒としては
例えば各種金属塩、有機第4級アンモニウム塩、界面活
性剤、アルコール等をあげることができる。
【0058】各種金属塩としては、例えばナトリウム、
カリウム、マグネシウム、亜鉛、鉄、カルシウム、マン
ガン、コバルト、アルミニウム等のリン酸塩、硫酸塩、
塩化物、臭化物、酸化塩、有機脂肪酸塩、有機スルホン
酸塩等があげられ、有機第4級アンモニウム塩の例とし
ては、テトラブチルアンモニウムブロミド、ベンジルト
リメチルアンモニウムクロリド、トリカプリルメチルア
ンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウム
クロリド、カプリルベンジルジメチルアンモニウムクロ
リド等があげられ、界面活性剤としては、高級脂肪族
塩、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、
高級脂肪族アルコール等があげられ、アルコールとして
は先に溶媒として例示したメタノール、エタノール、エ
チレングリコール等が触媒としても使用され、これらは
単独または混合物として使用される。
カリウム、マグネシウム、亜鉛、鉄、カルシウム、マン
ガン、コバルト、アルミニウム等のリン酸塩、硫酸塩、
塩化物、臭化物、酸化塩、有機脂肪酸塩、有機スルホン
酸塩等があげられ、有機第4級アンモニウム塩の例とし
ては、テトラブチルアンモニウムブロミド、ベンジルト
リメチルアンモニウムクロリド、トリカプリルメチルア
ンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウム
クロリド、カプリルベンジルジメチルアンモニウムクロ
リド等があげられ、界面活性剤としては、高級脂肪族
塩、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、
高級脂肪族アルコール等があげられ、アルコールとして
は先に溶媒として例示したメタノール、エタノール、エ
チレングリコール等が触媒としても使用され、これらは
単独または混合物として使用される。
【0059】触媒を用いる場合、その使用量は通常原料
である3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕また
は、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒ
ドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物に対
して1/200〜5倍重量の範囲であるが、この範囲外
でも適用可能である。ここで用いた触媒は、反応終了
後、回収して再使用することもできる。
である3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕また
は、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒ
ドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物に対
して1/200〜5倍重量の範囲であるが、この範囲外
でも適用可能である。ここで用いた触媒は、反応終了
後、回収して再使用することもできる。
【0060】反応pHは6〜9の範囲が好ましく、更に
好ましくは7〜9の範囲である。かかるpHを維持する
ために使用される酸としては、たとえば塩酸、硫酸、リ
ン酸、ホウ酸、酢酸、プロピオン酸、トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸等の通常の無機酸、有機酸があげ
られ、アルカリとしてはたとえば苛性ソーダ、炭酸カ
リ、炭酸水素ナトリウム、リン酸1水素カリ、有機アミ
ン類等の通常の無機塩基、有機塩基があげられる。
好ましくは7〜9の範囲である。かかるpHを維持する
ために使用される酸としては、たとえば塩酸、硫酸、リ
ン酸、ホウ酸、酢酸、プロピオン酸、トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸等の通常の無機酸、有機酸があげ
られ、アルカリとしてはたとえば苛性ソーダ、炭酸カ
リ、炭酸水素ナトリウム、リン酸1水素カリ、有機アミ
ン類等の通常の無機塩基、有機塩基があげられる。
【0061】あるいはまた、上記酸−塩基の組合せによ
る緩衝溶液があげられ、たとえばリン酸1水素カリ−リ
ン酸、酢酸ソーダ−酢酸、酢酸ソーダ−リン酸、フタル
酸−炭酸カリ、リン酸1水素カリ−塩酸、リン酸2水素
カリ−炭酸水素カリ、コハク酸−炭酸水素ナトリウム等
が例示される。
る緩衝溶液があげられ、たとえばリン酸1水素カリ−リ
ン酸、酢酸ソーダ−酢酸、酢酸ソーダ−リン酸、フタル
酸−炭酸カリ、リン酸1水素カリ−塩酸、リン酸2水素
カリ−炭酸水素カリ、コハク酸−炭酸水素ナトリウム等
が例示される。
【0062】反応温度は通常0〜200℃で任意である
が、好ましくは20〜160℃である。
が、好ましくは20〜160℃である。
【0063】このようにして得られた反応混合物から、
抽出、分液、濃縮、蒸留、クロマトグラフィー等の操作
により、一般式〔6〕で示される4−ヒドロキシシクロ
ペンテノン誘導体を収率よく得ることができる。
抽出、分液、濃縮、蒸留、クロマトグラフィー等の操作
により、一般式〔6〕で示される4−ヒドロキシシクロ
ペンテノン誘導体を収率よく得ることができる。
【0064】また4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導
体〔6〕は3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕ま
たは、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−
ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物を
クロラールおよび有機アミンの存在下に異性化処理する
ことによっても製造することができる。
体〔6〕は3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕ま
たは、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−
ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物を
クロラールおよび有機アミンの存在下に異性化処理する
ことによっても製造することができる。
【0065】クロラールの使用量は、原料である3−ヒ
ドロキシシクロペンテノン誘導体〔8〕に対して通常0.
005 〜1倍モルであり、好ましくは0.01〜0.3 倍モルの
範囲である。
ドロキシシクロペンテノン誘導体〔8〕に対して通常0.
005 〜1倍モルであり、好ましくは0.01〜0.3 倍モルの
範囲である。
【0066】有機アミン類としては、たとえばトリエチ
ルアミン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジ
ン、N,N′−ジメチルピペラジン、ピリジン、ルチジ
ンなどの有機第3級アミンなどが好適であり、これらは
単独または2種以上で用いられる。
ルアミン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジ
ン、N,N′−ジメチルピペラジン、ピリジン、ルチジ
ンなどの有機第3級アミンなどが好適であり、これらは
単独または2種以上で用いられる。
【0067】かかる有機アミン類の使用量は特に制限さ
れないが、通常は3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕または、3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕
との混合物に対して0.005 〜0.4 倍モルの範囲である。
れないが、通常は3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕または、3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕
との混合物に対して0.005 〜0.4 倍モルの範囲である。
【0068】この反応は無溶媒で実施することができる
が、必要により溶媒を使用することができる。使用され
る溶媒としては、たとえばテトラヒドロフラン、ジオキ
サン、アセトン、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、ク
ロルベンゼン、ヘプタン、ジクロルメタン、ジクロルエ
タン、ジエチルエーテル、シクロヘキサン等の脂肪族も
しくは芳香族炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、
ハロゲン化炭化水素のごとき反応に不活性な溶媒が例示
され、これらは単独または混合物として使用される。
が、必要により溶媒を使用することができる。使用され
る溶媒としては、たとえばテトラヒドロフラン、ジオキ
サン、アセトン、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、ク
ロルベンゼン、ヘプタン、ジクロルメタン、ジクロルエ
タン、ジエチルエーテル、シクロヘキサン等の脂肪族も
しくは芳香族炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、
ハロゲン化炭化水素のごとき反応に不活性な溶媒が例示
され、これらは単独または混合物として使用される。
【0069】反応温度は通常−10〜100℃、好まし
くは0〜90℃の範囲である。反応時間については特に
制限されない。
くは0〜90℃の範囲である。反応時間については特に
制限されない。
【0070】このようにして得られた反応混合物から、
抽出、分液、濃縮等の一般的な操作によって一般式
〔6〕で示される4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導
体を得ることができ、これは必要によりカラムクロマト
グラフィヒーなどで精製することもできるが、次工程へ
は未精製のままで使用することができる。
抽出、分液、濃縮等の一般的な操作によって一般式
〔6〕で示される4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導
体を得ることができ、これは必要によりカラムクロマト
グラフィヒーなどで精製することもできるが、次工程へ
は未精製のままで使用することができる。
【0071】4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体
〔6〕は、さらに別途シクロペンテノンエステル誘導体
〔7〕と、一般式〔14〕 R−OH 〔14〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるアルコールとを、酸触媒の存在下に反応させ
ることにより製造される。
〔6〕は、さらに別途シクロペンテノンエステル誘導体
〔7〕と、一般式〔14〕 R−OH 〔14〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるアルコールとを、酸触媒の存在下に反応させ
ることにより製造される。
【0072】上記反応において使用されるアルコール
〔14〕としては、メタノール、エタノール、n−プロ
パノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブ
タノール、t−ブタノール、n−ペンタノール、イソペ
ンタノール、ヘキサノール等の直鎖もしくは分岐状の脂
肪族アルコールが例示される。その使用量は、シクロペ
ンテノンエステル誘導体〔7〕に対して通常0.5〜1
0重量倍である。もちろん、10重量倍を越える量でも
使用可能である。0.5重量倍未満の場合には、両方の
エステル基が加水分解された4−ヒドロキシ−2−(6
−カルボキシ置換)−2−シクロペンテノン誘導体が副
生し、収率上も好ましくない。
〔14〕としては、メタノール、エタノール、n−プロ
パノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブ
タノール、t−ブタノール、n−ペンタノール、イソペ
ンタノール、ヘキサノール等の直鎖もしくは分岐状の脂
肪族アルコールが例示される。その使用量は、シクロペ
ンテノンエステル誘導体〔7〕に対して通常0.5〜1
0重量倍である。もちろん、10重量倍を越える量でも
使用可能である。0.5重量倍未満の場合には、両方の
エステル基が加水分解された4−ヒドロキシ−2−(6
−カルボキシ置換)−2−シクロペンテノン誘導体が副
生し、収率上も好ましくない。
【0073】この反応で用いられる酸触媒としては、塩
酸、硝酸、リン酸、ポリリン酸、硫酸、臭化水素酸、ト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の通常の無機
酸、有機酸が例示される。
酸、硝酸、リン酸、ポリリン酸、硫酸、臭化水素酸、ト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の通常の無機
酸、有機酸が例示される。
【0074】これら酸触媒の使用形態はさまざまな形が
採用され、水溶液として、あるいは濃硫酸、塩化水素ガ
ス、トルエンスルホン酸等の無水に近い状態でも使用さ
れるが、通常は水溶液として使用される。
採用され、水溶液として、あるいは濃硫酸、塩化水素ガ
ス、トルエンスルホン酸等の無水に近い状態でも使用さ
れるが、通常は水溶液として使用される。
【0075】水溶液の場合、その酸濃度としては、通常
10%以上、好ましくは15%以上である。上限につい
ては酸触媒の種類、つまり水への飽和量によって限定さ
れる。すなわち塩酸では35〜37%程度、臭化水素水
では46〜47%、リン酸、硝酸では60〜70%、硫
酸では98%まで可能である。ただし硫酸の場合、通
常、水溶液の使用では、収率、副生成物の生成等の理由
により80%以下とすることが望ましい。
10%以上、好ましくは15%以上である。上限につい
ては酸触媒の種類、つまり水への飽和量によって限定さ
れる。すなわち塩酸では35〜37%程度、臭化水素水
では46〜47%、リン酸、硝酸では60〜70%、硫
酸では98%まで可能である。ただし硫酸の場合、通
常、水溶液の使用では、収率、副生成物の生成等の理由
により80%以下とすることが望ましい。
【0076】濃度10%未満の酸触媒使用の場合には、
原料のシクロペンテノンエステル誘導体〔7〕に対し
て、多量の酸触媒を必要とし、反応速度を高めるため反
応温度をあげる必要があり、それに伴い、反応収率の低
下、副生物の増加が認められる。
原料のシクロペンテノンエステル誘導体〔7〕に対し
て、多量の酸触媒を必要とし、反応速度を高めるため反
応温度をあげる必要があり、それに伴い、反応収率の低
下、副生物の増加が認められる。
【0077】また、濃度80%を越える硫酸を使用する
場合には副生物、収率の面で好結果を得るために、使用
する酸触媒については、できるだけ少量で、かつ低温で
反応を行うのが望ましい。
場合には副生物、収率の面で好結果を得るために、使用
する酸触媒については、できるだけ少量で、かつ低温で
反応を行うのが望ましい。
【0078】上記酸触媒の使用量はシクロペンテノンエ
ステル誘導体〔7〕に対して通常、0.05〜3重量倍であ
り、使用する酸触媒の濃度に応じ、適宜設定される。反
応温度は通常−10〜80℃、好ましくは0〜60℃の
範囲である。反応時間は、通常は12時間以内である。
ステル誘導体〔7〕に対して通常、0.05〜3重量倍であ
り、使用する酸触媒の濃度に応じ、適宜設定される。反
応温度は通常−10〜80℃、好ましくは0〜60℃の
範囲である。反応時間は、通常は12時間以内である。
【0079】この反応においては有機溶媒を使用するこ
とができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトン、ベンゼン、トルエン、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド、ヘキサン、ジエチルエー
テル、ジクロルメタン、クロロホルム等の脂肪族もしく
は芳香族炭化水素、エーテル、ケトン、ハロゲン化炭化
水素などの反応に不活性な溶媒を単独または混合して用
いることができる。
とができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトン、ベンゼン、トルエン、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド、ヘキサン、ジエチルエー
テル、ジクロルメタン、クロロホルム等の脂肪族もしく
は芳香族炭化水素、エーテル、ケトン、ハロゲン化炭化
水素などの反応に不活性な溶媒を単独または混合して用
いることができる。
【0080】好ましい溶媒としては、先に例示した酸触
媒と均一に混合できるもの、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、アセトン、ジメチルホルムアミド等の
水溶性有機溶媒をあげることができ、さらに、アルコー
ル〔14〕を溶媒として使用することもできる。アルコ
ール〔14〕のみ使用した場合には、後処理後の溶媒の
精製、分離が容易であり、従って、反応形態としてはシ
クロペンテノンエステル誘導体〔7〕−アルコール〔1
4〕−酸触媒のみで実施する方がより好ましい。
媒と均一に混合できるもの、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、アセトン、ジメチルホルムアミド等の
水溶性有機溶媒をあげることができ、さらに、アルコー
ル〔14〕を溶媒として使用することもできる。アルコ
ール〔14〕のみ使用した場合には、後処理後の溶媒の
精製、分離が容易であり、従って、反応形態としてはシ
クロペンテノンエステル誘導体〔7〕−アルコール〔1
4〕−酸触媒のみで実施する方がより好ましい。
【0081】反応終了後、反応液を氷水中にあけ、抽出
あるいは中和、溶媒留去、抽出、濃縮等の通常の後処理
により、目的とする一般式〔6〕で示される4−ヒドロ
キシシクロペンテノン誘導体が高純度、高収率で得られ
る。これらは必要により、蒸留、カラムクロマトグラフ
ィー等で精製することもできる。
あるいは中和、溶媒留去、抽出、濃縮等の通常の後処理
により、目的とする一般式〔6〕で示される4−ヒドロ
キシシクロペンテノン誘導体が高純度、高収率で得られ
る。これらは必要により、蒸留、カラムクロマトグラフ
ィー等で精製することもできる。
【0082】3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕
または、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4
−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物
は、一般式
または、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4
−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物
は、一般式
〔9〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるフランカルビノール類を水と主とする溶媒
中、pH3.5〜6の範囲で触媒の存在もしくは非存在
下に反応させることにより製造することができる。
中、pH3.5〜6の範囲で触媒の存在もしくは非存在
下に反応させることにより製造することができる。
【0083】この時、反応液のpHを、3.5〜4.3
とやや低めに維持し、かつ比較的短時間で反応を終わら
せることにより、3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕を主成分として得ることができる。反応時間を延
長させれば3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕か
ら4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕への異
性化がすすみ、最後には、4−ヒドロキシシクロペンテ
ノン誘導体〔6〕のみにすることができる。しかしなが
ら4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕の製造
は、先に述べた異性化法を適用すればより簡便である。
とやや低めに維持し、かつ比較的短時間で反応を終わら
せることにより、3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕を主成分として得ることができる。反応時間を延
長させれば3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕か
ら4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕への異
性化がすすみ、最後には、4−ヒドロキシシクロペンテ
ノン誘導体〔6〕のみにすることができる。しかしなが
ら4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕の製造
は、先に述べた異性化法を適用すればより簡便である。
【0084】この反応において用いられる溶媒は水を主
とするものあって、水単独あるいは水を主成分とする有
機溶媒との混合溶媒である。ここで有機溶媒としては、
たとえばエチレングリコール、1,3−プロパンジオー
ル、メタノール、エタノール、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、DMF、DMSO、酢酸エチル、酢酸、ジク
ロルメタン、トルエン、ジエチルエーテル等の脂肪族も
しくは芳香族炭化水素、アルコール、脂肪族、エーテ
ル、エステル、ハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な
溶媒があげられる。
とするものあって、水単独あるいは水を主成分とする有
機溶媒との混合溶媒である。ここで有機溶媒としては、
たとえばエチレングリコール、1,3−プロパンジオー
ル、メタノール、エタノール、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、DMF、DMSO、酢酸エチル、酢酸、ジク
ロルメタン、トルエン、ジエチルエーテル等の脂肪族も
しくは芳香族炭化水素、アルコール、脂肪族、エーテ
ル、エステル、ハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な
溶媒があげられる。
【0085】この反応は触媒を必ずしも必要としない
が、触媒を添加することにより反応速度の向上が期待で
きる。この反応で触媒を用いる場合、その触媒としては
例えば各種金属塩、有機第4級アンモニウム塩、界面活
性剤、アルコール等があげられる。各種金属塩として
は、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、亜
鉛、鉄、カルシウム、マンガン、コバルト、アルミニウ
ム等のリン酸塩、硫酸塩、塩化物、臭化物、酸化塩、有
機脂肪酸塩、有機スルホン酸塩等があげられ、有機第4
級アンモニウム塩の例としては、テトラブチルアンモニ
ウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、トリカプリルメチルアンモニウムクロリド、ドデシ
ルトリメチルアンモニウムクロリド、カプリルベンジル
ジメチルアンモニウムクロリド等があげられ、界面活性
剤としては、高級脂肪族塩、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェノールエーテル、高級脂肪族アルコール等があげ
られ、アルコールとしては先に溶媒として例示したメタ
ノール、エタノール、エチレングリコールなどが触媒と
しても使用され、これらは単独または混合物として使用
される。
が、触媒を添加することにより反応速度の向上が期待で
きる。この反応で触媒を用いる場合、その触媒としては
例えば各種金属塩、有機第4級アンモニウム塩、界面活
性剤、アルコール等があげられる。各種金属塩として
は、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、亜
鉛、鉄、カルシウム、マンガン、コバルト、アルミニウ
ム等のリン酸塩、硫酸塩、塩化物、臭化物、酸化塩、有
機脂肪酸塩、有機スルホン酸塩等があげられ、有機第4
級アンモニウム塩の例としては、テトラブチルアンモニ
ウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、トリカプリルメチルアンモニウムクロリド、ドデシ
ルトリメチルアンモニウムクロリド、カプリルベンジル
ジメチルアンモニウムクロリド等があげられ、界面活性
剤としては、高級脂肪族塩、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェノールエーテル、高級脂肪族アルコール等があげ
られ、アルコールとしては先に溶媒として例示したメタ
ノール、エタノール、エチレングリコールなどが触媒と
しても使用され、これらは単独または混合物として使用
される。
【0086】触媒を用いる場合、その使用量は通常フラ
ンカルビノール類
ンカルビノール類
〔9〕に対して1/200〜5倍重量
の範囲であるが、この範囲外でも適用可能である。ここ
で用いた触媒は、反応終了後、回収して再使用すること
もできる。
の範囲であるが、この範囲外でも適用可能である。ここ
で用いた触媒は、反応終了後、回収して再使用すること
もできる。
【0087】反応pHは3.5〜6の範囲が好ましい
が、更に好ましくは3.5〜5.5の範囲である。かか
るpHを維持するために使用される酸としては、たとえ
ば塩酸、硫酸、リン酸、ホウ酸、酢酸、プロピオン酸、
トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の通常の無機
酸、有機酸があげられ、アルカリとしてはたとえば苛性
ソーダ、炭酸カリ、炭酸水素ナトリウム、リン酸1水素
カリ、有機アミン類等の通常の無機塩基、有機塩基があ
げられる。
が、更に好ましくは3.5〜5.5の範囲である。かか
るpHを維持するために使用される酸としては、たとえ
ば塩酸、硫酸、リン酸、ホウ酸、酢酸、プロピオン酸、
トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の通常の無機
酸、有機酸があげられ、アルカリとしてはたとえば苛性
ソーダ、炭酸カリ、炭酸水素ナトリウム、リン酸1水素
カリ、有機アミン類等の通常の無機塩基、有機塩基があ
げられる。
【0088】あるいはまた、上記酸−塩基の組合せによ
る緩衝溶液があげられ、たとえばリン酸1水素カリ−リ
ン酸、酢酸ソーダ−酢酸、酢酸ソーダ−リン酸、フタル
酸−炭酸カリ、リン酸1水素カリ−塩酸、リン酸2水素
カリ−炭酸水素カリ、コハク酸−炭酸水素ナトリウム等
が例示される。反応温度は0〜200℃で任意である
が、好ましくは20〜160℃である。
る緩衝溶液があげられ、たとえばリン酸1水素カリ−リ
ン酸、酢酸ソーダ−酢酸、酢酸ソーダ−リン酸、フタル
酸−炭酸カリ、リン酸1水素カリ−塩酸、リン酸2水素
カリ−炭酸水素カリ、コハク酸−炭酸水素ナトリウム等
が例示される。反応温度は0〜200℃で任意である
が、好ましくは20〜160℃である。
【0089】このようにして得られた反応混合物から、
抽出、分液、濃縮、蒸留等の操作により、 3−ヒドロ
キシシクロペンテノン類〔8〕または、3−ヒドロキシ
シクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペン
テノン誘導体〔6〕との混合物が収率よく得られ、その
まま次の反応に供することができる。
抽出、分液、濃縮、蒸留等の操作により、 3−ヒドロ
キシシクロペンテノン類〔8〕または、3−ヒドロキシ
シクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロキシシクロペン
テノン誘導体〔6〕との混合物が収率よく得られ、その
まま次の反応に供することができる。
【0090】フランカルビノール類
〔9〕は、一般式
〔10〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるフルフリルケトン類を還元することにより製
造される。
〔10〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるフルフリルケトン類を還元することにより製
造される。
【0091】ここで、使用する還元剤としてはエステル
および不飽和炭素結合に不活性でかつケトンのみを還元
できる還元剤であれば任意に使用することができ、かか
る還元剤としては水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素亜
鉛、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素化トリメトキ
シホウ素ナトリウム、t−ブトキシリチウムアルミニウ
ムハイドライドなどの金属水素化物が例示される。
および不飽和炭素結合に不活性でかつケトンのみを還元
できる還元剤であれば任意に使用することができ、かか
る還元剤としては水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素亜
鉛、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素化トリメトキ
シホウ素ナトリウム、t−ブトキシリチウムアルミニウ
ムハイドライドなどの金属水素化物が例示される。
【0092】この反応における溶媒としては、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−
ジメトキシエタン、ジクロルメタン、クロロホルム、メ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコールのよう
な反応に不活性なアルコールやエーテルが好ましく用い
られる。
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−
ジメトキシエタン、ジクロルメタン、クロロホルム、メ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコールのよう
な反応に不活性なアルコールやエーテルが好ましく用い
られる。
【0093】反応温度は通常−20〜50℃の範囲であ
り、好ましくは−15〜30℃の範囲である。反応時間
は特に制限なく、原料のフルフリルケトン類〔10〕が
消失する時点を終点とすればよい。
り、好ましくは−15〜30℃の範囲である。反応時間
は特に制限なく、原料のフルフリルケトン類〔10〕が
消失する時点を終点とすればよい。
【0094】なお、この反応において塩基性物質を用い
ると還元が比較的効率よく進むため、塩基性物質を利用
できる。かかる塩基性物質としては無機化合物、有機化
合物のいずれでもよく、無機化合物としてはアルカリ金
属メチラート(たとえばナトリウムメチラート、カリウ
ムメチラート)やアルカリ金属水酸化物(たとえば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム)が好ましく用いられ、
また有機化合物としてはアミン特に第3級アミン(たと
えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、
N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリ
ン)が好ましく使用される。かかる塩基性物質の使用量
は通常フルフリルケトン類〔10〕に対して0.01〜20
重量%、好ましくは0.05〜5重量%の範囲である。
ると還元が比較的効率よく進むため、塩基性物質を利用
できる。かかる塩基性物質としては無機化合物、有機化
合物のいずれでもよく、無機化合物としてはアルカリ金
属メチラート(たとえばナトリウムメチラート、カリウ
ムメチラート)やアルカリ金属水酸化物(たとえば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム)が好ましく用いられ、
また有機化合物としてはアミン特に第3級アミン(たと
えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、
N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリ
ン)が好ましく使用される。かかる塩基性物質の使用量
は通常フルフリルケトン類〔10〕に対して0.01〜20
重量%、好ましくは0.05〜5重量%の範囲である。
【0095】この還元反応により得られた反応混合物か
ら、過剰の未反応還元剤を処理したのち、抽出、分液、
濃縮等の操作により、一般式
ら、過剰の未反応還元剤を処理したのち、抽出、分液、
濃縮等の操作により、一般式
〔9〕で示されるフランカ
ルビノール類が収率よく得られ、必要によりカラムクロ
マトグラフィーにて精製することができるが、次工程へ
は未精製のままで使用することができる。
ルビノール類が収率よく得られ、必要によりカラムクロ
マトグラフィーにて精製することができるが、次工程へ
は未精製のままで使用することができる。
【0096】フルフリルケトン類〔10〕は、一般式
〔11〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるハーフエステル類とフランとを、トリフルオ
ロ酢酸無水物存在下反応させる、あるいは一般式〔1
2〕 (XYCHCO)2O 〔12〕 (式中、XおよびYは同一または相異なり、水素原子、
塩素原子または臭素原子を示す。但し、XおよびYが同
時に水素原子であることはない。)で示される酸無水物
及び三弗化ホウ素類の存在下反応させることにより製造
することができる。
〔11〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるハーフエステル類とフランとを、トリフルオ
ロ酢酸無水物存在下反応させる、あるいは一般式〔1
2〕 (XYCHCO)2O 〔12〕 (式中、XおよびYは同一または相異なり、水素原子、
塩素原子または臭素原子を示す。但し、XおよびYが同
時に水素原子であることはない。)で示される酸無水物
及び三弗化ホウ素類の存在下反応させることにより製造
することができる。
【0097】反応は通常溶媒の存在下におこなわれ、か
かる溶媒としてはたとえば、トルエン、キシレン、ジク
ロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム、四塩化炭
素等の反応に不活性な溶媒の単独もしくは混合物が利用
され、その使用量は通常、ハーフエステル類〔11〕に
対して1〜20重量倍である。
かる溶媒としてはたとえば、トルエン、キシレン、ジク
ロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム、四塩化炭
素等の反応に不活性な溶媒の単独もしくは混合物が利用
され、その使用量は通常、ハーフエステル類〔11〕に
対して1〜20重量倍である。
【0098】トリフルオロ酢酸無水物あるいは酸無水物
〔12〕の使用量は、ハーフエステル類〔11〕に対し
て1当量以上が必要であり、好ましくは1.1〜1.3
当量である。使用される酸無水物〔12〕としては無水
クロロ酢酸、無水ブロモ酢酸、無水ジクロロ酢酸等が挙
げられる。
〔12〕の使用量は、ハーフエステル類〔11〕に対し
て1当量以上が必要であり、好ましくは1.1〜1.3
当量である。使用される酸無水物〔12〕としては無水
クロロ酢酸、無水ブロモ酢酸、無水ジクロロ酢酸等が挙
げられる。
【0099】また、使用される三弗化ホウ素類とは三弗
化ホウ素または三弗化ホウ素コンプレックスを意味し、
取り扱い等の点から好ましくは三弗化ホウ素コンプレッ
クスであり、その具体例としては三弗化ホウ素−ジエチ
ルエーテルコンプレックス、三弗化ホウ素−メタノール
コンプレックス、三弗化ホウ素−酢酸コンプレックスな
どがあげられる。
化ホウ素または三弗化ホウ素コンプレックスを意味し、
取り扱い等の点から好ましくは三弗化ホウ素コンプレッ
クスであり、その具体例としては三弗化ホウ素−ジエチ
ルエーテルコンプレックス、三弗化ホウ素−メタノール
コンプレックス、三弗化ホウ素−酢酸コンプレックスな
どがあげられる。
【0100】本発明の方法において、フランの使用量
は、ハーフエステル類〔11〕に対して通常1当量以上
必要であり、好ましくは1.2〜4当量である。
は、ハーフエステル類〔11〕に対して通常1当量以上
必要であり、好ましくは1.2〜4当量である。
【0101】また、三弗化ホウ素類の使用量は、ハーフ
エステル類〔11〕に対して通常0.02〜0.2 当量である
が、この使用量は何ら限定的なものではなく、それ以上
に使用しても差し支えない。
エステル類〔11〕に対して通常0.02〜0.2 当量である
が、この使用量は何ら限定的なものではなく、それ以上
に使用しても差し支えない。
【0102】反応温度は通常−5〜150℃の範囲であ
るが、好ましくは10〜75℃の範囲である。反応時間
はそれぞれの反応条件によって適宜変わり、何ら限定さ
れないが、通常0.5〜20時間である。
るが、好ましくは10〜75℃の範囲である。反応時間
はそれぞれの反応条件によって適宜変わり、何ら限定さ
れないが、通常0.5〜20時間である。
【0103】このようにして得られた反応混合物から、
抽出、分液、濃縮等の一般的な操作によって一般式〔1
0〕で示されるフルフリルケトン類を得ることができ、
これは必要によりカラムクロマトグラフィーなどで精製
することもできるが、次工程へは未精製のままで使用す
ることができる。
抽出、分液、濃縮等の一般的な操作によって一般式〔1
0〕で示されるフルフリルケトン類を得ることができ、
これは必要によりカラムクロマトグラフィーなどで精製
することもできるが、次工程へは未精製のままで使用す
ることができる。
【0104】ハーフエステル類〔11〕は、一般式〔1
3〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるジエステル類をアルカリ土類金属類と反応さ
せた後、酸を加えて分離することにより製造することが
できる。
3〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるジエステル類をアルカリ土類金属類と反応さ
せた後、酸を加えて分離することにより製造することが
できる。
【0105】使用されるジエステル類〔13〕として
は、例えば、1,6−ジカルボメトキシ−3−ヘキシ
ン、1,6−ジカルボエトキシ−3−ヘキシン、1,6
−ジカルボプロポキシ−3−ヘキシン、1,6−ジカル
ボブトキシ−3−ヘキシン、1,6−ジカルボペンチル
オキシ−3−ヘキシン、1,6−ジカルボヘキシルオキ
シ−3−ヘキシン、等をあげることができる。使用され
るアルカリ土類金属類は水酸化カルシウム、水酸化バリ
ウムなどをあげることができ、特に溶解度等の点から水
酸化バリウムが好ましい。
は、例えば、1,6−ジカルボメトキシ−3−ヘキシ
ン、1,6−ジカルボエトキシ−3−ヘキシン、1,6
−ジカルボプロポキシ−3−ヘキシン、1,6−ジカル
ボブトキシ−3−ヘキシン、1,6−ジカルボペンチル
オキシ−3−ヘキシン、1,6−ジカルボヘキシルオキ
シ−3−ヘキシン、等をあげることができる。使用され
るアルカリ土類金属類は水酸化カルシウム、水酸化バリ
ウムなどをあげることができ、特に溶解度等の点から水
酸化バリウムが好ましい。
【0106】使用されるアルカリ土類金属類の量は通常
ジエステル類〔13〕に対し、0.1〜1.5モル倍、
好ましくは0.7〜1.3モル倍である。
ジエステル類〔13〕に対し、0.1〜1.5モル倍、
好ましくは0.7〜1.3モル倍である。
【0107】この反応の際には溶媒を使用することがで
きる。使用される溶媒は水酸化アルカリ土類金属を溶解
するものが好ましく、例えばメタノール、エタノールな
どのアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセタアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスル
ホキサイドなどの非水性の極性溶媒、水、またはこれら
溶媒の混合系を挙げることができる。
きる。使用される溶媒は水酸化アルカリ土類金属を溶解
するものが好ましく、例えばメタノール、エタノールな
どのアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセタアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスル
ホキサイドなどの非水性の極性溶媒、水、またはこれら
溶媒の混合系を挙げることができる。
【0108】反応温度は通常−20〜200℃、好まし
くは−10〜50℃の範囲である。生成したハーフエス
テル類〔11〕の塩は濾過等により反応液から単離する
ことができる。
くは−10〜50℃の範囲である。生成したハーフエス
テル類〔11〕の塩は濾過等により反応液から単離する
ことができる。
【0109】使用される酸は生成したハーフエステル類
〔11〕の塩を分解するものならば特に制限されない。
例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などをあげることがで
き、特に水酸化アルカリ土類金属類と易溶性の塩を生成
することから塩酸を使用するのが好ましい。
〔11〕の塩を分解するものならば特に制限されない。
例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などをあげることがで
き、特に水酸化アルカリ土類金属類と易溶性の塩を生成
することから塩酸を使用するのが好ましい。
【0110】本反応において得られるハーフエステル類
〔11〕を分離するため、溶媒を用いることができる。
使用される溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族系溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の炭
化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テルなどのエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチルな
どのエステル系溶媒、クロロホルム、1,2−ジクロロ
エタン、クロロベンゼン等を挙げることができる。もち
ろんこれらの混合溶媒などを用いてもよい。
〔11〕を分離するため、溶媒を用いることができる。
使用される溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族系溶媒、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の炭
化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テルなどのエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチルな
どのエステル系溶媒、クロロホルム、1,2−ジクロロ
エタン、クロロベンゼン等を挙げることができる。もち
ろんこれらの混合溶媒などを用いてもよい。
【0111】酸による塩分解の後、抽出、濃縮等の操作
により一般式〔11〕で示されるハーフエステル類が得
られ、再結晶等により精製することもできるが、次工程
へはそのまま使用することができる。
により一般式〔11〕で示されるハーフエステル類が得
られ、再結晶等により精製することもできるが、次工程
へはそのまま使用することができる。
【0112】また、ジエステル類〔13〕、ハーフエス
テル類〔11〕、フルフリルケトン類〔10〕、フラン
カルビノール類
テル類〔11〕、フルフリルケトン類〔10〕、フラン
カルビノール類
〔9〕、3−ヒドロキシシクロペンテノ
ン類〔8〕または、3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕
との混合物のいずれの場合も予め、その側鎖の三重結合
を部分水添することにより、対応する側鎖が二重結合で
ある化合物とすることができ、同様にしてその後の工程
の反応に供することにより、最終的に光学活性なシクロ
ペンテノン類〔1〕へと導くことができる。これらの部
分水添反応は前記した光学活性なシクロペンテノン誘導
体〔3〕の触媒存在下における部分水添による光学活性
なシクロペンテノン類〔1〕の合成と同様にして行うこ
とができる。
ン類〔8〕または、3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕
との混合物のいずれの場合も予め、その側鎖の三重結合
を部分水添することにより、対応する側鎖が二重結合で
ある化合物とすることができ、同様にしてその後の工程
の反応に供することにより、最終的に光学活性なシクロ
ペンテノン類〔1〕へと導くことができる。これらの部
分水添反応は前記した光学活性なシクロペンテノン誘導
体〔3〕の触媒存在下における部分水添による光学活性
なシクロペンテノン類〔1〕の合成と同様にして行うこ
とができる。
【0113】また、ジエステル類〔13〕は、例えば、
一般式〔15〕 (式中、X1 ,X2 はそれぞれ塩素原子、臭素原子、沃
素原子、メタンスルホニルオキシ基またはp−トルエン
スルホニルオキシ基を示す。) で示されるアセチレン誘導体と、一般式〔16〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるアセト酢酸エステル類とを、金属アルコキシ
ド類存在下反応させる方法や、一般式〔17〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるアセト酢酸誘導体を金属アルコキシド類存在
下反応させる方法により製造することができる。
一般式〔15〕 (式中、X1 ,X2 はそれぞれ塩素原子、臭素原子、沃
素原子、メタンスルホニルオキシ基またはp−トルエン
スルホニルオキシ基を示す。) で示されるアセチレン誘導体と、一般式〔16〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるアセト酢酸エステル類とを、金属アルコキシ
ド類存在下反応させる方法や、一般式〔17〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるアセト酢酸誘導体を金属アルコキシド類存在
下反応させる方法により製造することができる。
【0114】まず、前者の反応について説明する。この
反応において、使用されるアセチレン誘導体〔15〕と
しては、1,4−ジクロロ−2−ブチン、1,4−ジブ
ロモ−2−ブチン、1,4−ジヨード−2−ブチン、
1,4−ジメタンスルホニルオキシ−2−ブチン、1,
4−ジp−トルエンスルホニルオキシ−2−ブチン、1
−ブロモ−4−クロロ−2−ブチン、1−クロロ−4−
ヨード−2−ブチン、1−ブロモ−4−ヨード−2−ブ
チンなどをあげることができる。
反応において、使用されるアセチレン誘導体〔15〕と
しては、1,4−ジクロロ−2−ブチン、1,4−ジブ
ロモ−2−ブチン、1,4−ジヨード−2−ブチン、
1,4−ジメタンスルホニルオキシ−2−ブチン、1,
4−ジp−トルエンスルホニルオキシ−2−ブチン、1
−ブロモ−4−クロロ−2−ブチン、1−クロロ−4−
ヨード−2−ブチン、1−ブロモ−4−ヨード−2−ブ
チンなどをあげることができる。
【0115】本反応において使用されるアセト酢酸エス
テル類〔16〕としては、アセト酢酸メチル、アセト酢
酸エチル、アセト酢酸n−プロピル、アセト酢酸イソプ
ロピル、アセト酢酸n−ブチル、アセト酢酸n−ペンチ
ル、アセト酢酸n−ヘキシルなどをあげることができ
る。炭素数7以上のアセト酢酸エステル類を使用しても
基本的に問題はない。
テル類〔16〕としては、アセト酢酸メチル、アセト酢
酸エチル、アセト酢酸n−プロピル、アセト酢酸イソプ
ロピル、アセト酢酸n−ブチル、アセト酢酸n−ペンチ
ル、アセト酢酸n−ヘキシルなどをあげることができ
る。炭素数7以上のアセト酢酸エステル類を使用しても
基本的に問題はない。
【0116】本反応において使用される金属アルコキシ
ド類としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、カリウムメトキシド、カリウムt−ブトキシド
などをあげることができる。
ド類としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、カリウムメトキシド、カリウムt−ブトキシド
などをあげることができる。
【0117】アセチレン誘導体〔15〕、アセト酢酸エ
ステル類〔16〕および金属アルコキシド類の仕込み方
法は特に制限されない。また金属アルコキシド類は必要
に応じて反応の途中で追加することもできる。
ステル類〔16〕および金属アルコキシド類の仕込み方
法は特に制限されない。また金属アルコキシド類は必要
に応じて反応の途中で追加することもできる。
【0118】本反応の溶媒は反応を阻害するものでなけ
れば必要に応じて加えることができる。例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ペンタ
ン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸
エチルなどのエステル系溶媒、メタノール、エタノール
などのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテル系溶媒等をあげることが
でき、これらの溶媒を任意の割合で混合して使用するこ
ともできる。
れば必要に応じて加えることができる。例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ペンタ
ン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸
エチルなどのエステル系溶媒、メタノール、エタノール
などのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテル系溶媒等をあげることが
でき、これらの溶媒を任意の割合で混合して使用するこ
ともできる。
【0119】本反応で使用するアセト酢酸エステル類
〔16〕の使用量は、アセチレン誘導体〔15〕に対
し、1〜10倍モルであり、好ましくは2〜4倍モルで
ある。また使用する金属アルコキシド類の量は、アセト
酢酸エステル類〔16〕に対し、0.5〜10倍モルで
あり、好ましくは1〜4倍モルである。本反応の反応温
度は通常20℃以上であり、好ましくは50〜150℃
である。反応時間は特に制限されない。
〔16〕の使用量は、アセチレン誘導体〔15〕に対
し、1〜10倍モルであり、好ましくは2〜4倍モルで
ある。また使用する金属アルコキシド類の量は、アセト
酢酸エステル類〔16〕に対し、0.5〜10倍モルで
あり、好ましくは1〜4倍モルである。本反応の反応温
度は通常20℃以上であり、好ましくは50〜150℃
である。反応時間は特に制限されない。
【0120】反応終了後、溶媒留去、洗浄、抽出、濃縮
等の通常の後処理により、一般式〔13〕で示されるジ
エステル類が得られ、蒸留等により精製することができ
る。
等の通常の後処理により、一般式〔13〕で示されるジ
エステル類が得られ、蒸留等により精製することができ
る。
【0121】次に、アセト酢酸誘導体の金属アルコキシ
ド類存在下における反応によるジエステル類〔13〕の
製法について説明する。
ド類存在下における反応によるジエステル類〔13〕の
製法について説明する。
【0122】この反応において使用されるアセト酢酸誘
導体としては例えば3,8−ジメトキシカルボニル−5
−デシン−2,9−ジオン、3,8−ジエトキシカルボ
ニル−5−デシン−2,9−ジオン、3,8−ジプロポ
キシカルボニル−5−デシン−2,9−ジオン、3,8
−ジブトキシカルボニル−5−デシン−2,9−ジオ
ン、3,8−ジペンチルオキシカルボニル−5−デシン
−2,9−ジオン、3,8−ヘキシルオキシカルボニル
−5−デシン−2,9−ジオン等をあげることができ
る。
導体としては例えば3,8−ジメトキシカルボニル−5
−デシン−2,9−ジオン、3,8−ジエトキシカルボ
ニル−5−デシン−2,9−ジオン、3,8−ジプロポ
キシカルボニル−5−デシン−2,9−ジオン、3,8
−ジブトキシカルボニル−5−デシン−2,9−ジオ
ン、3,8−ジペンチルオキシカルボニル−5−デシン
−2,9−ジオン、3,8−ヘキシルオキシカルボニル
−5−デシン−2,9−ジオン等をあげることができ
る。
【0123】この反応において、使用される金属アルコ
キシド類としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムメトキシド、カリウムt−ブトキ
シドなどをあげることができる。
キシド類としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムメトキシド、カリウムt−ブトキ
シドなどをあげることができる。
【0124】アセト酢酸誘導体〔17〕および金属アル
コキシド類の仕込み方法は特に制限されない。また金属
アルコキシド類は必要に応じて反応の途中で追加するこ
ともできる。本反応における金属アルコキシド類の使用
量はアセト酢酸誘導体〔17〕に対し通常0.01〜10倍
モルであり、好ましくは0.1〜1倍モルである。
コキシド類の仕込み方法は特に制限されない。また金属
アルコキシド類は必要に応じて反応の途中で追加するこ
ともできる。本反応における金属アルコキシド類の使用
量はアセト酢酸誘導体〔17〕に対し通常0.01〜10倍
モルであり、好ましくは0.1〜1倍モルである。
【0125】本反応の溶媒は反応を阻害するものでなけ
れば必要に応じて加えることができ、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ペンタ
ン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸
エチルなどのエステル系溶媒、メタノール、エタノール
などのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテル系溶媒等をあげることが
でき、これらの溶媒を任意の割合で混合して使用するこ
ともできる。本反応の反応温度は通常0℃以上であり、
好ましくは20〜100℃である。反応時間は特に制限
されず、アセト酢酸誘導体〔17〕を反応系から検出し
なくなったときを反応終点とすることができる。
れば必要に応じて加えることができ、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ペンタ
ン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸
エチルなどのエステル系溶媒、メタノール、エタノール
などのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテル系溶媒等をあげることが
でき、これらの溶媒を任意の割合で混合して使用するこ
ともできる。本反応の反応温度は通常0℃以上であり、
好ましくは20〜100℃である。反応時間は特に制限
されず、アセト酢酸誘導体〔17〕を反応系から検出し
なくなったときを反応終点とすることができる。
【0126】反応終了後、溶媒留去、洗浄、抽出、濃縮
等の通常の後処理により、一般式〔13〕で示されるジ
エステル類が得られ、蒸留等により精製することができ
る。
等の通常の後処理により、一般式〔13〕で示されるジ
エステル類が得られ、蒸留等により精製することができ
る。
【0127】また、アセト酢酸誘導体〔17〕は、アセ
チレン誘導体〔15〕と、アセト酢酸エステル類〔1
6〕とを、炭酸塩類存在下反応させることにより得るこ
とができる。
チレン誘導体〔15〕と、アセト酢酸エステル類〔1
6〕とを、炭酸塩類存在下反応させることにより得るこ
とができる。
【0128】この反応において、アセチレン誘導体〔1
5〕とアセト酢酸エステル類〔16〕は、前記したもの
と同じものを使用することができる。
5〕とアセト酢酸エステル類〔16〕は、前記したもの
と同じものを使用することができる。
【0129】本反応において使用される炭酸塩類として
は、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどがあげられる。
は、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどがあげられる。
【0130】アセチレン誘導体〔15〕、アセト酢酸エ
ステル類〔16〕および炭酸塩類の仕込み方法は特に制
限されない。また炭酸塩類は必要に応じて反応の途中で
追加することもできる。
ステル類〔16〕および炭酸塩類の仕込み方法は特に制
限されない。また炭酸塩類は必要に応じて反応の途中で
追加することもできる。
【0131】本反応の溶媒は反応を阻害するものでなけ
れば必要に応じて加えることができる。例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ペンタ
ン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸
エチルなどのエステル系溶媒、メタノール、エタノール
などのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテル系溶媒等をあげることが
でき、これらの溶媒を任意の割合で混合して使用するこ
ともできる。
れば必要に応じて加えることができる。例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ペンタ
ン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸
エチルなどのエステル系溶媒、メタノール、エタノール
などのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテルなどのエーテル系溶媒等をあげることが
でき、これらの溶媒を任意の割合で混合して使用するこ
ともできる。
【0132】本反応で使用するアセト酢酸エステル類
〔16〕の使用量は、アセチレン誘導体〔15〕に対
し、通常1〜10倍モルであり、好ましくは2〜4倍モ
ルである。
〔16〕の使用量は、アセチレン誘導体〔15〕に対
し、通常1〜10倍モルであり、好ましくは2〜4倍モ
ルである。
【0133】また使用する炭酸塩類の量は、アセト酢酸
エステル類〔16〕に対し、通常0.5〜10倍モルで
あり、好ましくは1〜4倍モルである。
エステル類〔16〕に対し、通常0.5〜10倍モルで
あり、好ましくは1〜4倍モルである。
【0134】本反応の反応温度は通常20℃以上であ
り、好ましくは50〜150℃である。反応時間は特に
制限されず、アセチレン誘導体〔15〕を反応系から検
出しなくなったときを反応終点とすることができる。
り、好ましくは50〜150℃である。反応時間は特に
制限されず、アセチレン誘導体〔15〕を反応系から検
出しなくなったときを反応終点とすることができる。
【0135】反応終了後、濾過、溶媒留去、洗浄、抽
出、濃縮等の通常の後処理により、一般式〔17〕で示
されるアセト酢酸誘導体が得られ、蒸留等により精製す
ることができる。
出、濃縮等の通常の後処理により、一般式〔17〕で示
されるアセト酢酸誘導体が得られ、蒸留等により精製す
ることができる。
【0136】
【発明の効果】本発明の方法によれば、高品質の光学活
性なシクロペンテノン類〔1〕を得ることができ、しか
もその原料である4−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔4〕やその類縁化合物を短いステップで、しかもコス
ト、安全の面においても工業的に有利に製造することが
できる。
性なシクロペンテノン類〔1〕を得ることができ、しか
もその原料である4−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔4〕やその類縁化合物を短いステップで、しかもコス
ト、安全の面においても工業的に有利に製造することが
できる。
【0137】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【0138】 実施例1 1,6−ジカルボメトキシ−3−ヘキシン(含量83.9
%)20.0g(0.0847mol)をメタノール40gに溶解し5
℃まで冷却した。その中に無水水酸化バリウム(2N)
33.9gを加え攪拌した。17時間後反応液を濾過し減圧
下で乾燥し結晶18.4gを1,2−ジクロロタン100g
に懸濁させ10%HCl16g水50gを加え40〜4
5℃として2時間攪拌し分液した。有機層は水50gで
洗浄後減圧濃縮し6−メトキシカルボニル−1−カルボ
キシ−3−ヘキシン〔11−1〕12.5gを得た。(収率
80.2%) m.p. 71.5〜72.0℃
%)20.0g(0.0847mol)をメタノール40gに溶解し5
℃まで冷却した。その中に無水水酸化バリウム(2N)
33.9gを加え攪拌した。17時間後反応液を濾過し減圧
下で乾燥し結晶18.4gを1,2−ジクロロタン100g
に懸濁させ10%HCl16g水50gを加え40〜4
5℃として2時間攪拌し分液した。有機層は水50gで
洗浄後減圧濃縮し6−メトキシカルボニル−1−カルボ
キシ−3−ヘキシン〔11−1〕12.5gを得た。(収率
80.2%) m.p. 71.5〜72.0℃
【0139】 実施例2 実施例1で得た6−メトキシカルボニル−1−カルボキ
シ−3−ヘキシン〔11−1〕27.6g(0.15モル) 、フ
ラン30.7g(0.45モル)およびジクロルメタン150ml
の混合液に室温にてトリフルオロ酢酸無水物37.8g (0.
18モル)を加え、30〜35℃にて24時間反応させ
た。反応終了後、反応液を氷水中にあけ20%NaOH
水にて中和した。有機層を分液しさらに5%重曹水、水
にて順次洗浄した。有機層を減圧にて濃縮することによ
り1−オキソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−
4−ヘプチン〔10−1〕32.3g(収率92%)を得
た。 nD 25 1.5164
シ−3−ヘキシン〔11−1〕27.6g(0.15モル) 、フ
ラン30.7g(0.45モル)およびジクロルメタン150ml
の混合液に室温にてトリフルオロ酢酸無水物37.8g (0.
18モル)を加え、30〜35℃にて24時間反応させ
た。反応終了後、反応液を氷水中にあけ20%NaOH
水にて中和した。有機層を分液しさらに5%重曹水、水
にて順次洗浄した。有機層を減圧にて濃縮することによ
り1−オキソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−
4−ヘプチン〔10−1〕32.3g(収率92%)を得
た。 nD 25 1.5164
【0140】 実施例3 次に実施例2で得た〔10−1〕30.4g(0.13モル)、
メタノール150mlおよび28%ナトリウムメチラート
/メタノール溶液1.5gの混合溶液に水素化ホウ素ナ
トリウム2.46g(0.065 モル)を5℃にて加えた。同温
度にて3時間、さらに10〜15℃にて2時間反応させ
た。反応終了後、反応液を氷水中にあけトルエンにて抽
出した。有機層を分液後さらに水にて洗浄し、有機層を
濃縮することにより1−ヒドロキシ−1−フリル−7−
メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕29.2g
(収率95%)を得た。 nD 25 1.5082
メタノール150mlおよび28%ナトリウムメチラート
/メタノール溶液1.5gの混合溶液に水素化ホウ素ナ
トリウム2.46g(0.065 モル)を5℃にて加えた。同温
度にて3時間、さらに10〜15℃にて2時間反応させ
た。反応終了後、反応液を氷水中にあけトルエンにて抽
出した。有機層を分液後さらに水にて洗浄し、有機層を
濃縮することにより1−ヒドロキシ−1−フリル−7−
メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕29.2g
(収率95%)を得た。 nD 25 1.5082
【0141】 実施例4 次に実施例3で得た〔9−1〕28.3g(0.12モル)、水
1200g、酢酸1.5gを加え、5%NaOH水にて
pHを4.4に調整し、100℃にて25時間加熱攪拌
した。反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチル
ケトン300mlにて2回抽出、分液、濃縮することによ
り4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3
−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕およ
び3−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3
−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔8−1〕の混
合物(組成比6:4)21.5g(収率76%)を得た。
1200g、酢酸1.5gを加え、5%NaOH水にて
pHを4.4に調整し、100℃にて25時間加熱攪拌
した。反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチル
ケトン300mlにて2回抽出、分液、濃縮することによ
り4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3
−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕およ
び3−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3
−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔8−1〕の混
合物(組成比6:4)21.5g(収率76%)を得た。
【0142】 実施例5 次に実施例4で得た〔6−1〕と〔8−1〕の混合物9.
45g(0.04モル)、酢酸14g、無水酢酸4gおよび酢
酸ナトリウム0.2gの混合物を115〜120℃にて
4時間反応させた。反応液をガスクロマトグラフィーに
てチェックし、反応液中に反応原料が検出されないこと
を確認して反応を終了した。反応液を減圧下に濃縮し、
濃縮残渣にトルエン100mlおよび水50mlを加え、分
液して有機層を得た。有機層を8%重ソウ水にて洗浄
後、さらに水洗し、得られた有機層を無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥後、濃縮して4−アセトキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン〔7−1〕10.5g(収率94.5%)を得た。
b.p. 170〜175℃/0.5〜0.6mmHg
45g(0.04モル)、酢酸14g、無水酢酸4gおよび酢
酸ナトリウム0.2gの混合物を115〜120℃にて
4時間反応させた。反応液をガスクロマトグラフィーに
てチェックし、反応液中に反応原料が検出されないこと
を確認して反応を終了した。反応液を減圧下に濃縮し、
濃縮残渣にトルエン100mlおよび水50mlを加え、分
液して有機層を得た。有機層を8%重ソウ水にて洗浄
後、さらに水洗し、得られた有機層を無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥後、濃縮して4−アセトキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン〔7−1〕10.5g(収率94.5%)を得た。
b.p. 170〜175℃/0.5〜0.6mmHg
【0143】 実施例6 実施例5で得られた4−アセトキシ−2−(6−メトキ
シカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノ
ン〔7−1〕4.17g、ジクロルメタン2ml、アルスロバ
クター属リパーゼ(新日本化学製)60mg及び0.2モ
ル濃度のリン酸バッファ(pH7.5)50mlをフラス
コに仕込み、35〜40℃にて15時間激しく攪拌し
た。反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40
mlにて2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、
濃縮残渣4.02gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチ
ル(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R
(+)−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン1.24g
〔α〕D 20+18.1°(c=1,CHCl3)97.9% e.e.およ
び4S(−)−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボ
ニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン2.59g
〔α〕D 20+29.2° (c=1,CHCl3) を得た。
シカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノ
ン〔7−1〕4.17g、ジクロルメタン2ml、アルスロバ
クター属リパーゼ(新日本化学製)60mg及び0.2モ
ル濃度のリン酸バッファ(pH7.5)50mlをフラス
コに仕込み、35〜40℃にて15時間激しく攪拌し
た。反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40
mlにて2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、
濃縮残渣4.02gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチ
ル(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R
(+)−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン1.24g
〔α〕D 20+18.1°(c=1,CHCl3)97.9% e.e.およ
び4S(−)−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボ
ニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン2.59g
〔α〕D 20+29.2° (c=1,CHCl3) を得た。
【0144】 実施例7 次に実施例6で得た4R(+)−ヒドロキシ−2−(6
−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロ
ペンテノン1.18g、リンドラー触媒(5%Pb-CaCO3-Pb
O) 60mg、シクロヘキセン0.5gおよびトルエン3
0mlを常圧水添装置に仕込み室温下、常圧にて還元し
た。1時間にて反応は終了した。反応終了後、触媒を濾
別して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラム精製する
ことにより4R(+)−ヒドロキシ−2−(6−メトキ
シカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペ
ンテノン1.14gを得た。(収率96%)〔α〕D 20+1
9.4° (c=1,CHCl3) 97.8% e.e.
−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロ
ペンテノン1.18g、リンドラー触媒(5%Pb-CaCO3-Pb
O) 60mg、シクロヘキセン0.5gおよびトルエン3
0mlを常圧水添装置に仕込み室温下、常圧にて還元し
た。1時間にて反応は終了した。反応終了後、触媒を濾
別して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラム精製する
ことにより4R(+)−ヒドロキシ−2−(6−メトキ
シカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペ
ンテノン1.14gを得た。(収率96%)〔α〕D 20+1
9.4° (c=1,CHCl3) 97.8% e.e.
【0145】 実施例8 6−メトキシカルボニル−1−カルボキシ−3−ヘキシ
ン〔11−1〕18.4g(0.1モル)、フラン13.6g
(0.2モル)、ジクロル酢酸無水物28.8g(0.12モ
ル) 、三弗化ホウ素・エーテルコンプレックス3.2g
およびトルエン100mlの混合溶液を20〜30℃にて
10時間反応させた。反応終了後反応液を冷却し、水、
5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮後、シリ
カゲルを充填したカラムクロマトグラフィーにより精製
して1−オキソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル
−4−ヘプチン〔10−1〕15.2gを得た。b.p. 12
0〜125℃/0.3mmHg
ン〔11−1〕18.4g(0.1モル)、フラン13.6g
(0.2モル)、ジクロル酢酸無水物28.8g(0.12モ
ル) 、三弗化ホウ素・エーテルコンプレックス3.2g
およびトルエン100mlの混合溶液を20〜30℃にて
10時間反応させた。反応終了後反応液を冷却し、水、
5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮後、シリ
カゲルを充填したカラムクロマトグラフィーにより精製
して1−オキソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル
−4−ヘプチン〔10−1〕15.2gを得た。b.p. 12
0〜125℃/0.3mmHg
【0146】 実施例9 次に実施例8で得た〔10−1〕14.1g(0.06モル)、
水素化トリメトキシホウ素ナトリウム10g(0.078 モ
ル) およびジメトキシエタン100mlを室温にて攪拌し
た。原料の消失を確認後、反応液を氷中にあけ酢酸エチ
ル100mlにて2回抽出し、有機層はさらに水にて洗浄
し、濃縮することにより1−ヒドロキシ−1−フリル−
7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕13.7
g(収率96.5%)を得た。
水素化トリメトキシホウ素ナトリウム10g(0.078 モ
ル) およびジメトキシエタン100mlを室温にて攪拌し
た。原料の消失を確認後、反応液を氷中にあけ酢酸エチ
ル100mlにて2回抽出し、有機層はさらに水にて洗浄
し、濃縮することにより1−ヒドロキシ−1−フリル−
7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕13.7
g(収率96.5%)を得た。
【0147】 実施例10 次に実施例9で得た〔9−1〕11.8g (0.05モル)、5
00gの水および0.3gのリン酸1水素カリウムとリ
ン酸にてpH4.2に調整した緩衝水溶液を仕込み、窒
素雰囲気下に100℃にて原料がなくなるまで加熱攪拌
を続けた。反応液中には、3−ヒドロキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロペ
ンテノン〔8−1〕と4−ヒドロキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテ
ノン〔6−1〕の混合物が生成していた。
00gの水および0.3gのリン酸1水素カリウムとリ
ン酸にてpH4.2に調整した緩衝水溶液を仕込み、窒
素雰囲気下に100℃にて原料がなくなるまで加熱攪拌
を続けた。反応液中には、3−ヒドロキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロペ
ンテノン〔8−1〕と4−ヒドロキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテ
ノン〔6−1〕の混合物が生成していた。
【0148】 実施例11 次に、実施例10で得た〔8−1〕と〔6−1〕の反応
混合物を冷却し、1N水酸化カリウム水溶液にてpH
7.6に調整したのち、再び窒素雰囲気下に100℃に
て先の反応で生成した3−ヒドロキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロペンテ
ノン〔8−1〕がなくなるまで加熱攪拌を続けた。反応
終了後、反応混合物を冷却し、メチルイソブチルケトン
600gにて2回抽出し、分液処理し、得られた有機層
からメチルイソブチルケトンを留去して4−ヒドロキシ
−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−
2−シクロペンテノン〔6−1〕8.1g(収率69
%)を得た。
混合物を冷却し、1N水酸化カリウム水溶液にてpH
7.6に調整したのち、再び窒素雰囲気下に100℃に
て先の反応で生成した3−ヒドロキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロペンテ
ノン〔8−1〕がなくなるまで加熱攪拌を続けた。反応
終了後、反応混合物を冷却し、メチルイソブチルケトン
600gにて2回抽出し、分液処理し、得られた有機層
からメチルイソブチルケトンを留去して4−ヒドロキシ
−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−
2−シクロペンテノン〔6−1〕8.1g(収率69
%)を得た。
【0149】 実施例12 次に実施例11で得た〔6−1〕7.09g(0.03モル)、
無水酢酸4.59g(0.045 モル)、濃硫酸0.1gおよび
メチルイソブチルケトン20mlを40℃にて3時間攪拌
した。反応終了後、反応液を冷却し、氷水中にあけメチ
ルイソブチルケトン30mlを加え抽出した。有機層は5
%重ソウ水、水にて順次洗浄し、濃縮することにより4
−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘ
キシニル)−2−シクロペンテノン〔7−1〕8.35g
(収率96%)を得た。
無水酢酸4.59g(0.045 モル)、濃硫酸0.1gおよび
メチルイソブチルケトン20mlを40℃にて3時間攪拌
した。反応終了後、反応液を冷却し、氷水中にあけメチ
ルイソブチルケトン30mlを加え抽出した。有機層は5
%重ソウ水、水にて順次洗浄し、濃縮することにより4
−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘ
キシニル)−2−シクロペンテノン〔7−1〕8.35g
(収率96%)を得た。
【0150】 実施例13 次に、実施例12で得た〔7−1〕4.17g、アルスロバ
クター属リパーゼ(新日本化学製)80mgおよび0.2
モル濃度のリン酸バッファ(pH7.0)80mlをフラ
スコに仕込み、25〜30℃にて20時間攪拌した。反
応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40mlにて
2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃縮残
渣4.06gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘ
キシニル)−2−シクロペンテノン1.25g〔〔α〕D 20
+17.9°(c=1,CHCl3)(96.7%e.e.)〕および4S
(−)−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン2.57gを得
た。〔α〕D 20−28.7°(c=1,CHCl3)
クター属リパーゼ(新日本化学製)80mgおよび0.2
モル濃度のリン酸バッファ(pH7.0)80mlをフラ
スコに仕込み、25〜30℃にて20時間攪拌した。反
応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40mlにて
2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃縮残
渣4.06gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘ
キシニル)−2−シクロペンテノン1.25g〔〔α〕D 20
+17.9°(c=1,CHCl3)(96.7%e.e.)〕および4S
(−)−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン2.57gを得
た。〔α〕D 20−28.7°(c=1,CHCl3)
【0151】 実施例14 次に実施例13で得た4R(+)−ヒドロキシ−2−
(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シ
クロペンテノン1.18g、リンドラ−触媒(5%Pd-BaS
O4)60mg、キノリン3gおよびイソプロピルアルコー
ル10mlを常圧水添装置に仕込み、室温下、常圧にて還
元した。1時間にて反応は終了した。反応終了後、触媒
を濾別して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラム精製
することにより4R(+)−ヒドロキシ−2−(6−メ
トキシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シク
ロペンテノン1.14gを得た。(収率94%)〔α〕D 20
+19.2°(c=1,CHCl3) (96.7% e.e.)
(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シ
クロペンテノン1.18g、リンドラ−触媒(5%Pd-BaS
O4)60mg、キノリン3gおよびイソプロピルアルコー
ル10mlを常圧水添装置に仕込み、室温下、常圧にて還
元した。1時間にて反応は終了した。反応終了後、触媒
を濾別して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラム精製
することにより4R(+)−ヒドロキシ−2−(6−メ
トキシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シク
ロペンテノン1.14gを得た。(収率94%)〔α〕D 20
+19.2°(c=1,CHCl3) (96.7% e.e.)
【0152】実施例15実施例4で得た〔8−1〕と
〔6−1〕の混合物9.45g、クロラール0.24gおよびト
リエチルアミン0.43gの混合物を60℃にて5時間反応
させた。反応終了後、メチルイソブチルケトン30mlと
水20mlを加え、有機層を分液後、1%塩酸水、水にて
順次洗浄した。得られた有機層からメチルイソブチルケ
トンを留去して4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカ
ルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン
〔6−1〕8.13g(収率86%)を得た。nD 251.5000
〔6−1〕の混合物9.45g、クロラール0.24gおよびト
リエチルアミン0.43gの混合物を60℃にて5時間反応
させた。反応終了後、メチルイソブチルケトン30mlと
水20mlを加え、有機層を分液後、1%塩酸水、水にて
順次洗浄した。得られた有機層からメチルイソブチルケ
トンを留去して4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカ
ルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン
〔6−1〕8.13g(収率86%)を得た。nD 251.5000
【0153】 実施例16 次に、実施例15で得た〔6−1〕7.09g(0.03モ
ル)、ジクロルメタン15mlおよびピリジン15mlを加
え、10〜15℃にて塩化アセチル3.06g(0.039 モ
ル)を1時間かけて加えた。同温度にて3時間保温後、
反応液を氷水中にあけ、ジクロルメタン30mlを加え、
有機層は5%塩酸水、水にて順次洗浄した。有機層を濃
縮して4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル
−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔7−1〕
8.1g(収率97%)を得た。
ル)、ジクロルメタン15mlおよびピリジン15mlを加
え、10〜15℃にて塩化アセチル3.06g(0.039 モ
ル)を1時間かけて加えた。同温度にて3時間保温後、
反応液を氷水中にあけ、ジクロルメタン30mlを加え、
有機層は5%塩酸水、水にて順次洗浄した。有機層を濃
縮して4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル
−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔7−1〕
8.1g(収率97%)を得た。
【0154】 実施例17 次に実施例16で得た4−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテ
ノン〔7−1〕4.17g、クロロホルム3ml、シュードモ
ナス属リパーゼ(アマノ「P」)200mg及び0.2モ
ル濃度のリン酸バッファ(pH7.5)50mlをフラス
コに仕込み、25〜30℃にて8時間激しく攪拌した。
反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40mlに
て2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃縮
残渣4.15gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘ
キシニル)−2−シクロペンテノン1.02g〔〔α〕D 20
+17.8°(c=1,CHCl3) (96.4%e.e.) 〕および4
S(−)−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル
−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン2.70g
〔〔α〕D 20−25.7°(c=1,CHCl3)〕を得た。
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテ
ノン〔7−1〕4.17g、クロロホルム3ml、シュードモ
ナス属リパーゼ(アマノ「P」)200mg及び0.2モ
ル濃度のリン酸バッファ(pH7.5)50mlをフラス
コに仕込み、25〜30℃にて8時間激しく攪拌した。
反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40mlに
て2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃縮
残渣4.15gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘ
キシニル)−2−シクロペンテノン1.02g〔〔α〕D 20
+17.8°(c=1,CHCl3) (96.4%e.e.) 〕および4
S(−)−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル
−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン2.70g
〔〔α〕D 20−25.7°(c=1,CHCl3)〕を得た。
【0155】 実施例18 次に実施例17で得た4R(+)−ヒドロキシ−2−
(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シ
クロペンテノン1.18g、リンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3
-PbO) 70mg、シクロヘキセン0.5gおよび酢酸エチ
ル30mlを常圧水添装置に加え、室温下、常圧にて還元
した。1.5時間にて反応は終了した。反応終了後、触
媒を濾別して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラム精
製することにより4R(+)−ヒドロキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シ
クロペンテノン1.14g〔〔α〕D 20+19.1°(c=1,
CHCl 3)(96.4% e.e.) ,収率95.5%〕を得た。
(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シ
クロペンテノン1.18g、リンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3
-PbO) 70mg、シクロヘキセン0.5gおよび酢酸エチ
ル30mlを常圧水添装置に加え、室温下、常圧にて還元
した。1.5時間にて反応は終了した。反応終了後、触
媒を濾別して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラム精
製することにより4R(+)−ヒドロキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シ
クロペンテノン1.14g〔〔α〕D 20+19.1°(c=1,
CHCl 3)(96.4% e.e.) ,収率95.5%〕を得た。
【0156】 実施例19 6−メトキシカルボニル−1−カルボキシ−3−ヘキシ
ン〔11−1〕27.6g(0.15モル) 、フラン30.7g (0.
45モル) およびジクロルメタン150mlの混合液に室温
にてトリフルオロ酢酸無水物37.8g (0.18モル) を加
え、30〜35℃にて24時間反応させた。反応終了
後、反応液を氷水中にあけ20%NaOH水にて中和し
た。有機層を分液しさらに5%重曹水、水にて順次洗浄
し、有機層を減圧にて濃縮することにより1−オキソ−
1−フリル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン
〔10−1〕32.3g(収率92%)を得た。 nD 25
1.5164
ン〔11−1〕27.6g(0.15モル) 、フラン30.7g (0.
45モル) およびジクロルメタン150mlの混合液に室温
にてトリフルオロ酢酸無水物37.8g (0.18モル) を加
え、30〜35℃にて24時間反応させた。反応終了
後、反応液を氷水中にあけ20%NaOH水にて中和し
た。有機層を分液しさらに5%重曹水、水にて順次洗浄
し、有機層を減圧にて濃縮することにより1−オキソ−
1−フリル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン
〔10−1〕32.3g(収率92%)を得た。 nD 25
1.5164
【0157】 実施例20 次に実施例19で得た〔10−1〕30.4g (0.13モ
ル)、メタノール150mlおよび28%ナトリウムメチ
ラート/メタノール溶液1.5gの混合溶液に水素化ホ
ウ素ナトリウム2.46g(0.065 モル) を5℃にて加え
た。同温度にて3時間、さらに10〜15℃にて2時間
反応させた。反応終了後、反応液を氷水中にあけトルエ
ンにて抽出し、有機層を分液後さらに水にて洗浄した。
有機層を濃縮することにより1−ヒドロキシ−1−フリ
ル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕
29.2g(収率95%)を得た。 nD 25 1.5082
ル)、メタノール150mlおよび28%ナトリウムメチ
ラート/メタノール溶液1.5gの混合溶液に水素化ホ
ウ素ナトリウム2.46g(0.065 モル) を5℃にて加え
た。同温度にて3時間、さらに10〜15℃にて2時間
反応させた。反応終了後、反応液を氷水中にあけトルエ
ンにて抽出し、有機層を分液後さらに水にて洗浄した。
有機層を濃縮することにより1−ヒドロキシ−1−フリ
ル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕
29.2g(収率95%)を得た。 nD 25 1.5082
【0158】 実施例21 次に実施例20で得た〔9−1〕28.3(0.12モル)、水
1200g、酢酸1.5gを加え、5%NaOH水にて
pHを4.4に調製し、100℃にて25時間加熱攪拌
した。反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチル
ケトン300mlにて2回抽出し、分液処理し、得られた
有機層からメチルイソブチルケトンを留去することによ
り4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3
−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕およ
び3−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3
−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔8−1〕の混
合物(組成比6:4)21.5g(収率76%)を得た。
1200g、酢酸1.5gを加え、5%NaOH水にて
pHを4.4に調製し、100℃にて25時間加熱攪拌
した。反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチル
ケトン300mlにて2回抽出し、分液処理し、得られた
有機層からメチルイソブチルケトンを留去することによ
り4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3
−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕およ
び3−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3
−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔8−1〕の混
合物(組成比6:4)21.5g(収率76%)を得た。
【0159】 実施例22 次に実施例21で得た〔6−1〕と〔8−1〕の混合物
9.45g(0.04モル)、酢酸14g、無水酢酸4gおよび
酢酸ナトリウム0.2gの混合物を115〜120℃に
て4時間反応させた。反応液をガスクロマトグラフィー
にてチェックし、反応液中に反応原料が検出されないこ
とを確認して反応を終了した。反応液を減圧下に濃縮
し、濃縮残渣にトルエン100mlおよび水50mlを加え
分液し、有機層を8%重ソウ水にて洗浄後、さらに水洗
した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥
後、濃縮して4−アセトキシ−2−(6−メトキシカル
ボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔7
−1〕10.5g(収率94.5%)を得た。 b.p. 170〜
175℃/0.5〜0.6mmHg
9.45g(0.04モル)、酢酸14g、無水酢酸4gおよび
酢酸ナトリウム0.2gの混合物を115〜120℃に
て4時間反応させた。反応液をガスクロマトグラフィー
にてチェックし、反応液中に反応原料が検出されないこ
とを確認して反応を終了した。反応液を減圧下に濃縮
し、濃縮残渣にトルエン100mlおよび水50mlを加え
分液し、有機層を8%重ソウ水にて洗浄後、さらに水洗
した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥
後、濃縮して4−アセトキシ−2−(6−メトキシカル
ボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔7
−1〕10.5g(収率94.5%)を得た。 b.p. 170〜
175℃/0.5〜0.6mmHg
【0160】 実施例23 次に実施例22で得られた〔7−1〕4.17g、リンドラ
−触媒(5%pd-CaCO3-PbO) 200mg、ヘキセン4gお
よびトルエン20mlを常圧水添装置に入れ室温下、常圧
にて還元した。反応終了後、触媒を濾別して除き、濃縮
後、残渣をシリカゲルカラム精製することにより4−ア
セトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−
ヘキセニル)−2−シクロペンテノン〔2−1〕3.95g
(収率94%)を得た。
−触媒(5%pd-CaCO3-PbO) 200mg、ヘキセン4gお
よびトルエン20mlを常圧水添装置に入れ室温下、常圧
にて還元した。反応終了後、触媒を濾別して除き、濃縮
後、残渣をシリカゲルカラム精製することにより4−ア
セトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−
ヘキセニル)−2−シクロペンテノン〔2−1〕3.95g
(収率94%)を得た。
【0161】 実施例24 次に実施例23で得た4−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−3−シス−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン2.80g、ジクロルメタン2ml、アルスロバク
ター属リパーゼ(新日本化学製)40mg及び0.2モル
濃度のリン酸バッファ(pH6.5)50mlをフラスコ
に仕込み、35〜40℃にて15時間激しく攪拌した。
反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40mlに
て2回抽出する。有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃
縮残渣2.75gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−
3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン0.6g
〔〔α〕D 20+17.2° (c=1,CHCl3 )(91.8% e.
e.)〕および4S(−)−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン1.97g〔〔α〕D 20−31.6°(c=1,CHCl
3 )〕を得た。
キシカルボニル−3−シス−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン2.80g、ジクロルメタン2ml、アルスロバク
ター属リパーゼ(新日本化学製)40mg及び0.2モル
濃度のリン酸バッファ(pH6.5)50mlをフラスコ
に仕込み、35〜40℃にて15時間激しく攪拌した。
反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40mlに
て2回抽出する。有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃
縮残渣2.75gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−
3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン0.6g
〔〔α〕D 20+17.2° (c=1,CHCl3 )(91.8% e.
e.)〕および4S(−)−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン1.97g〔〔α〕D 20−31.6°(c=1,CHCl
3 )〕を得た。
【0162】 実施例25 6−メトキシカルボニル−1−カルボキシ−3−ヘキシ
ン〔11−1〕18.4g(0.1モル)、フラン13.6g
(0.2モル)、ジクロル酢酸無水物28.8g(0.12モ
ル) 、三弗化ホウ素・エーテルコンプレックス3.2g
およびトルエン100mlの混合溶液を20〜30℃にて
10時間反応させた。反応終了後反応液を冷却し、水、
5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮後、濃縮
残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィー
により精製して1−オキソ−1−フリル−7−メトキシ
カルボニル−4−ヘプチン〔10−1〕15.2g(収率6
5%)を得た。 b.p. 120〜125℃/0.3mmH
g
ン〔11−1〕18.4g(0.1モル)、フラン13.6g
(0.2モル)、ジクロル酢酸無水物28.8g(0.12モ
ル) 、三弗化ホウ素・エーテルコンプレックス3.2g
およびトルエン100mlの混合溶液を20〜30℃にて
10時間反応させた。反応終了後反応液を冷却し、水、
5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮後、濃縮
残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィー
により精製して1−オキソ−1−フリル−7−メトキシ
カルボニル−4−ヘプチン〔10−1〕15.2g(収率6
5%)を得た。 b.p. 120〜125℃/0.3mmH
g
【0163】 実施例26 次に実施例25で得た〔10−1〕14.1g(0.06モ
ル)、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム10g(0.0
78モル)およびジメトキシエタン100mlを室温にて攪
拌した。原料の消失を確認後、反応液を氷水にあけ酢酸
エチル100mlにて2回抽出し、有機層はさらに水にて
洗浄、濃縮することにより1−ヒドロキシ−1−フリル
−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕1
3.7g(収率96.5%)を得た。
ル)、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム10g(0.0
78モル)およびジメトキシエタン100mlを室温にて攪
拌した。原料の消失を確認後、反応液を氷水にあけ酢酸
エチル100mlにて2回抽出し、有機層はさらに水にて
洗浄、濃縮することにより1−ヒドロキシ−1−フリル
−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕1
3.7g(収率96.5%)を得た。
【0164】 実施例27 次に実施例26で得た〔9−1〕11.8g(0.05モル) に
500gの水および0.3gのリン酸1水素カリウムと
リン酸にてpH4.2に調整した緩衝水溶液を仕込み、
窒素雰囲気下に100℃にて原料がなくなるまで加熱攪
拌を続けた。反応液中には、3−ヒドロキシ−2−(6
−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロ
ペンテノン〔8−1〕と4−ヒドロキシ−2−(6−メ
トキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペン
テノン〔6−1〕の混合物が生成していた。次に、反応
混合物を冷却し、1N水酸化カリウム水溶液にてpH
7.6に調整したのち、再び窒素雰囲気下に100℃に
て先の反応で生成した3−ヒドロキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロペンテ
ノンがなくなるまで加熱攪拌を続けた。反応終了後、反
応混合物を冷却し、メチルイソブチルケトン600gに
て2回抽出、分液処理し、得られた有機層からメチルイ
ソブチルケトンを留去して4−ヒドロキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン〔6−1〕8.1g(収率69%)を得た。
500gの水および0.3gのリン酸1水素カリウムと
リン酸にてpH4.2に調整した緩衝水溶液を仕込み、
窒素雰囲気下に100℃にて原料がなくなるまで加熱攪
拌を続けた。反応液中には、3−ヒドロキシ−2−(6
−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロ
ペンテノン〔8−1〕と4−ヒドロキシ−2−(6−メ
トキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペン
テノン〔6−1〕の混合物が生成していた。次に、反応
混合物を冷却し、1N水酸化カリウム水溶液にてpH
7.6に調整したのち、再び窒素雰囲気下に100℃に
て先の反応で生成した3−ヒドロキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロペンテ
ノンがなくなるまで加熱攪拌を続けた。反応終了後、反
応混合物を冷却し、メチルイソブチルケトン600gに
て2回抽出、分液処理し、得られた有機層からメチルイ
ソブチルケトンを留去して4−ヒドロキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン〔6−1〕8.1g(収率69%)を得た。
【0165】 実施例28 次に実施例27で得た4−ヒドロキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテ
ノン〔6−1〕4.72g、リンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3
-PbO)200mg、シクロヘキセン4gおよびトルエン5
0mlを常圧水添装置に加え、室温下、常圧にて還元し
た。1時間にて反応は終了した。反応終了後、触媒を濾
別して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムで精製す
ることにより4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカル
ボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノ
ン〔4−1〕4.5g(収率94.5%)を得た。nD 25
1.5023
キシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペンテ
ノン〔6−1〕4.72g、リンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3
-PbO)200mg、シクロヘキセン4gおよびトルエン5
0mlを常圧水添装置に加え、室温下、常圧にて還元し
た。1時間にて反応は終了した。反応終了後、触媒を濾
別して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムで精製す
ることにより4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカル
ボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノ
ン〔4−1〕4.5g(収率94.5%)を得た。nD 25
1.5023
【0166】 実施例29 次に実施例28で得られた〔4−1〕3.57g(0.015モ
ル)、無水酢酸4.59g(0.03モル)、濃硫酸0.05gおよ
びメチルイソブチルケトン10mlを40℃にて3.5時
間攪拌した。反応終了後、反応液を冷却し、氷水中にあ
けメチルイソブチルケトン20mlを加え抽出した。有機
層は5%重ソウ水、水にて順次洗浄し、濃縮することに
より4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン〔2−
1〕4.03g(収率96.5%)を得た。
ル)、無水酢酸4.59g(0.03モル)、濃硫酸0.05gおよ
びメチルイソブチルケトン10mlを40℃にて3.5時
間攪拌した。反応終了後、反応液を冷却し、氷水中にあ
けメチルイソブチルケトン20mlを加え抽出した。有機
層は5%重ソウ水、水にて順次洗浄し、濃縮することに
より4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン〔2−
1〕4.03g(収率96.5%)を得た。
【0167】 実施例30 次に実施例29で得られた〔2−1〕2.78g、アルスロ
バクター属リパーゼ(新日本化学製)50mgおよび0.
2モル濃度のリン酸バッファ(pH7.0)30mlをフ
ラスコに仕込み、25〜30℃にて7時間攪拌した。反
応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン20mlにて
2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃縮残
渣2.68gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−
3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン0.67g
〔〔α〕D 20+17°(c=1,CHCl3)(90.7% e.
e.) 〕および4S(−)−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン1.89gを得た。〔α〕D 20−30.9°(c=
1,CHCl3)
バクター属リパーゼ(新日本化学製)50mgおよび0.
2モル濃度のリン酸バッファ(pH7.0)30mlをフ
ラスコに仕込み、25〜30℃にて7時間攪拌した。反
応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン20mlにて
2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃縮残
渣2.68gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−
3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン0.67g
〔〔α〕D 20+17°(c=1,CHCl3)(90.7% e.
e.) 〕および4S(−)−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン1.89gを得た。〔α〕D 20−30.9°(c=
1,CHCl3)
【0168】 実施例31 実施例21で得た〔6−1〕と〔8−1〕の混合物9.45
g、クロラール0.24gおよびトリエチルアミン0.43gの
混合物を60℃にて5時間反応させた。反応終了後、メ
チルイソブチルケトン30mlと水20mlを加え、有機層
を分液後、1%塩酸水、水にて順次洗浄した。得られた
有機層からメチルイソブチルケトンを留去して4−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕8.13g(収率8
6%)を得た。
g、クロラール0.24gおよびトリエチルアミン0.43gの
混合物を60℃にて5時間反応させた。反応終了後、メ
チルイソブチルケトン30mlと水20mlを加え、有機層
を分液後、1%塩酸水、水にて順次洗浄した。得られた
有機層からメチルイソブチルケトンを留去して4−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕8.13g(収率8
6%)を得た。
【0169】 実施例32 次に実施例31で得られた〔6−1〕7.09g(0.03モ
ル)、ジクロルメタン15mlおよびピリジン15mlを加
え、10〜15℃にて塩化アセチル3.06g(0.039モル)
を1時間かけて加えた。同温度にて3時間保温後、反応
液を氷水中にあけ、ジクロルメタン30mlを加えた。有
機層は5%塩酸水、水にて順次洗浄し、濃縮することに
より4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔7−1〕
8.1g(収率97%)を得た。
ル)、ジクロルメタン15mlおよびピリジン15mlを加
え、10〜15℃にて塩化アセチル3.06g(0.039モル)
を1時間かけて加えた。同温度にて3時間保温後、反応
液を氷水中にあけ、ジクロルメタン30mlを加えた。有
機層は5%塩酸水、水にて順次洗浄し、濃縮することに
より4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
3−ヘキシニル)−2−シクロペンテノン〔7−1〕
8.1g(収率97%)を得た。
【0170】 実施例33 次に実施例32で得られた4−アセトキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン4.17g、リンドラ−触媒(5%Pd-BaSO4)15
0mg、キノリン6gおよびイソプロピルアルコール20
mlを常圧水添装置に加え、室温下、常圧にて還元した。
15時間にて反応は終了した。反応終了後、触媒を濾別
して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラム精製するこ
とにより、4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボ
ニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン
〔2−1〕3.99g(収率95%)を得た。
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン4.17g、リンドラ−触媒(5%Pd-BaSO4)15
0mg、キノリン6gおよびイソプロピルアルコール20
mlを常圧水添装置に加え、室温下、常圧にて還元した。
15時間にて反応は終了した。反応終了後、触媒を濾別
して除き、濃縮後、残渣をシリカゲルカラム精製するこ
とにより、4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボ
ニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン
〔2−1〕3.99g(収率95%)を得た。
【0171】 実施例34 実施例33で得られた4−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン〔2−1〕2.80g、トルエン2ml、シュード
モナス属リパーゼ(アマノ「P」)80mg及び0.2モ
ル濃度のリン酸バッファ(pH6.5)50mlをフラス
コに仕込み、25〜30℃にて6時間激しく攪拌した。
反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン30mlに
て2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃縮
残渣2.71gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−
3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン0.64g
〔〔α〕D 20+16.8(c=1,CHCl3)(89.4% e.
e.)〕および4S(−)−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン1.74gを得た。〔α〕D 20−29.9°(c=
1,CHCl3)
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン〔2−1〕2.80g、トルエン2ml、シュード
モナス属リパーゼ(アマノ「P」)80mg及び0.2モ
ル濃度のリン酸バッファ(pH6.5)50mlをフラス
コに仕込み、25〜30℃にて6時間激しく攪拌した。
反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン30mlに
て2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、濃縮
残渣2.71gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチル
(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R(+)
−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−
3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン0.64g
〔〔α〕D 20+16.8(c=1,CHCl3)(89.4% e.
e.)〕および4S(−)−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン1.74gを得た。〔α〕D 20−29.9°(c=
1,CHCl3)
【0172】 実施例35 6−メトキシカルボニル−1−カルボキシ−3−ヘキシ
ン〔11−1〕27.6g(0.15モル)、フラン30.7g (0.
45モル)およびジクロルメタン150mlの混合液に室温
にてトリフルオロ酢酸無水物37.8g (0.18モル)を加
え、30〜35℃にて24時間反応させた。反応終了
後、反応液を氷水中にあけ20%NaOH水にて中和
し、有機層を分液しさらに5%重曹水、水にて順次洗浄
した。有機層を減圧にて濃縮することにより、1−オキ
ソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチ
ン〔10−1〕32.3g(収率92%)を得た。
ン〔11−1〕27.6g(0.15モル)、フラン30.7g (0.
45モル)およびジクロルメタン150mlの混合液に室温
にてトリフルオロ酢酸無水物37.8g (0.18モル)を加
え、30〜35℃にて24時間反応させた。反応終了
後、反応液を氷水中にあけ20%NaOH水にて中和
し、有機層を分液しさらに5%重曹水、水にて順次洗浄
した。有機層を減圧にて濃縮することにより、1−オキ
ソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチ
ン〔10−1〕32.3g(収率92%)を得た。
【0173】 実施例36 次に実施例35で得た〔10−1〕30.4g (0.13モル)
、メタノール150mlおよび28%ナトリウムメチラ
ート/メタノール溶液1.5gの混合溶液に水素化ホウ
素ナトリウム2.46g(0.065 モル)を5℃にて加えた。
同温度にて3時間、さらに10〜15℃にて2時間反応
した。反応終了後、反応液を氷水中にあけトルエンにて
抽出した。有機層を分液後さらに水にて洗浄した。有機
層を濃縮して、1−ヒドロキシ−1−フリル−7−メト
キシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕29.2g (収率
95%)を得た。
、メタノール150mlおよび28%ナトリウムメチラ
ート/メタノール溶液1.5gの混合溶液に水素化ホウ
素ナトリウム2.46g(0.065 モル)を5℃にて加えた。
同温度にて3時間、さらに10〜15℃にて2時間反応
した。反応終了後、反応液を氷水中にあけトルエンにて
抽出した。有機層を分液後さらに水にて洗浄した。有機
層を濃縮して、1−ヒドロキシ−1−フリル−7−メト
キシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕29.2g (収率
95%)を得た。
【0174】 実施例37 次に実施例36で得た〔9−1〕28.3g (0.12モル)、
水1200g、酢酸1.5gを加え、5%NaOH水に
てpHを4.4に調製し、100℃にて25時間加熱攪
拌した。反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチ
ルケトン300mlにて2回抽出、分液処理し、得られた
有機層からメチルイソブチルケトンを留去して4−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕および3−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔8−1〕の混合物(組成
比6:4)21.5g(収率76%)を得た。
水1200g、酢酸1.5gを加え、5%NaOH水に
てpHを4.4に調製し、100℃にて25時間加熱攪
拌した。反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチ
ルケトン300mlにて2回抽出、分液処理し、得られた
有機層からメチルイソブチルケトンを留去して4−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕および3−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔8−1〕の混合物(組成
比6:4)21.5g(収率76%)を得た。
【0175】 実施例38 次に実施例37で得た〔6−1〕と〔8−1〕の混合物
9.45g (0.04モル) 、酢酸14g、無水酢酸4gおよび
酢酸ナトリウム0.2gの混合物を115〜120℃に
て4時間反応させた。反応液をガスクロマトグラフィー
にチェックし、反応液中に反応原料が検出されないこと
を確認して反応を終了した。反応液を減圧下に濃縮し、
濃縮残渣にトルエン100mlおよび水50mlを加え、分
液した有機層を得た。有機層を8%重ソウ水にて洗浄
後、さらに水洗し、得られた有機層を無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥後、濃縮して4−アセトキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン〔7−1〕10.5g(収率94.5%)を得た。 b.
p. 170〜175℃/0.5〜0.6mmHg
9.45g (0.04モル) 、酢酸14g、無水酢酸4gおよび
酢酸ナトリウム0.2gの混合物を115〜120℃に
て4時間反応させた。反応液をガスクロマトグラフィー
にチェックし、反応液中に反応原料が検出されないこと
を確認して反応を終了した。反応液を減圧下に濃縮し、
濃縮残渣にトルエン100mlおよび水50mlを加え、分
液した有機層を得た。有機層を8%重ソウ水にて洗浄
後、さらに水洗し、得られた有機層を無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥後、濃縮して4−アセトキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン〔7−1〕10.5g(収率94.5%)を得た。 b.
p. 170〜175℃/0.5〜0.6mmHg
【0176】 実施例39 次に、実施例38で得た〔7−1〕5.56g、メタノール
20gおよび35%塩酸水1.1gを加え40〜45℃
にて4時間反応した。反応終了後、反応液を10℃以下
に冷却し、10%苛性ソーダ水にてpHを4.0に調整
し、次にメタノールを留去した。残渣をメチルイソブチ
ルケトン30mlにて抽出し、有機層を水洗した。有機層
を減圧にて濃縮し、濃縮残渣をトルエン:酢エチ=5:
3にてカラムクロマト精製することにより4−ヒドロキ
シ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)
−2−シクロペンテノン4.48g(収率94.8%)を得た。
20gおよび35%塩酸水1.1gを加え40〜45℃
にて4時間反応した。反応終了後、反応液を10℃以下
に冷却し、10%苛性ソーダ水にてpHを4.0に調整
し、次にメタノールを留去した。残渣をメチルイソブチ
ルケトン30mlにて抽出し、有機層を水洗した。有機層
を減圧にて濃縮し、濃縮残渣をトルエン:酢エチ=5:
3にてカラムクロマト精製することにより4−ヒドロキ
シ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)
−2−シクロペンテノン4.48g(収率94.8%)を得た。
【0177】 実施例40 実施例38で得た〔7−1〕2.78g、70%硫酸1gお
よびメタノール15gを30℃で6時間反応させた。反
応終了後、実施例13に準じて後処理、精製して4−ヒ
ドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシ
ニル)−2−シクロペンテノン2.28g(収率96.5%)を
得た。
よびメタノール15gを30℃で6時間反応させた。反
応終了後、実施例13に準じて後処理、精製して4−ヒ
ドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシ
ニル)−2−シクロペンテノン2.28g(収率96.5%)を
得た。
【0178】 実施例41 6−メトキシカルボニル−1−カルボキシ−3−ヘキシ
ン〔11−1〕18.4g(0.1モル)、フラン13.6g
(0.2モル)、ジクロル酢酸無水物28.8g(0.12モ
ル)、三弗化ホウ素・エーテルコンプレックス3.2g
およびトルエン100mlの混合溶液を20〜30℃にて
10時間反応させた。反応終了後反応液を冷却し、水、
5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥した有機層を減
圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラム
クロマトグラフィーにより精製して1−オキソ−1−フ
リル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔10−
1〕15.2g(収率65%)を得た。 b.p. 120〜1
25℃/0.3mmHg
ン〔11−1〕18.4g(0.1モル)、フラン13.6g
(0.2モル)、ジクロル酢酸無水物28.8g(0.12モ
ル)、三弗化ホウ素・エーテルコンプレックス3.2g
およびトルエン100mlの混合溶液を20〜30℃にて
10時間反応させた。反応終了後反応液を冷却し、水、
5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥した有機層を減
圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラム
クロマトグラフィーにより精製して1−オキソ−1−フ
リル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔10−
1〕15.2g(収率65%)を得た。 b.p. 120〜1
25℃/0.3mmHg
【0179】 実施例42 次に実施例41で得た〔10−1〕14.1g (0.06モ
ル)、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム10g(0.
078 モル)およびジメトキシエタン100mlを室温にて
攪拌した。原料の消失を確認後、反応液を氷中にあけ酢
酸エチル100mlにて2回抽出し、有機層はさらに水に
て洗浄した。有機層を濃縮し1−ヒドロキシ−1−フリ
ル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕
13.7g(収率96.5%)を得た。
ル)、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム10g(0.
078 モル)およびジメトキシエタン100mlを室温にて
攪拌した。原料の消失を確認後、反応液を氷中にあけ酢
酸エチル100mlにて2回抽出し、有機層はさらに水に
て洗浄した。有機層を濃縮し1−ヒドロキシ−1−フリ
ル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕
13.7g(収率96.5%)を得た。
【0180】 実施例43 次に実施例42で得られた〔9−1〕11.8g(0.05モ
ル)、500gの水および0.3gのリン酸1水素カリ
ウムとリン酸にてpH4.2に調整した緩衝水溶液を仕
込み、窒素雰囲気下に100℃にて原料がなくなるまで
加熱攪拌を続けた。反応液中には、3−ヒドロキシ−2
−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−
シクロペンテノン〔8−1〕と4−ヒドロキシ−2−
(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シ
クロペンテノン〔6−1〕の混合物が生成していた。次
に、反応混合物を冷却し、1N水酸化カリウム水溶液に
てpH7.6に調整したのち、再び窒素雰囲気下に10
0℃にて先の反応で生成した3−ヒドロキシ−2−(6
−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロ
ペンテノンがなくなるまで加熱攪拌を続けた。反応終了
後、反応混合物を冷却し、メチルイソブチルケトン60
0gにて2回抽出、分液処理し、得られた有機層からメ
チルイソブチルケトンを留去して4−ヒドロキシ−2−
(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シ
クロペンテノン〔6−1〕8.1g(収率69%)を得
た。
ル)、500gの水および0.3gのリン酸1水素カリ
ウムとリン酸にてpH4.2に調整した緩衝水溶液を仕
込み、窒素雰囲気下に100℃にて原料がなくなるまで
加熱攪拌を続けた。反応液中には、3−ヒドロキシ−2
−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−
シクロペンテノン〔8−1〕と4−ヒドロキシ−2−
(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シ
クロペンテノン〔6−1〕の混合物が生成していた。次
に、反応混合物を冷却し、1N水酸化カリウム水溶液に
てpH7.6に調整したのち、再び窒素雰囲気下に10
0℃にて先の反応で生成した3−ヒドロキシ−2−(6
−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−4−シクロ
ペンテノンがなくなるまで加熱攪拌を続けた。反応終了
後、反応混合物を冷却し、メチルイソブチルケトン60
0gにて2回抽出、分液処理し、得られた有機層からメ
チルイソブチルケトンを留去して4−ヒドロキシ−2−
(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シ
クロペンテノン〔6−1〕8.1g(収率69%)を得
た。
【0181】 実施例44 実施例37で得た〔6−1〕と〔8−1〕の混合物9.45
g、クロラール0.24gおよびトリエチルアミン0.43gの
混合物を60℃にて5時間反応させた。反応終了後、メ
チルイソブチルケトン30mlと水20mlを加え、有機層
を分液後、1%塩酸水、水にて順次洗浄した。得られた
有機層からメチルイソブチルケトンを留去して4−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕8.13g(収率8
6%)を得た。
g、クロラール0.24gおよびトリエチルアミン0.43gの
混合物を60℃にて5時間反応させた。反応終了後、メ
チルイソブチルケトン30mlと水20mlを加え、有機層
を分液後、1%塩酸水、水にて順次洗浄した。得られた
有機層からメチルイソブチルケトンを留去して4−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔6−1〕8.13g(収率8
6%)を得た。
【0182】 実施例45 6−メトキシカルボニル−1−カルボキシ−3−ヘキシ
ン〔11−1〕27.6g(0.15モル)、フラン30.7g(0.
45モル)およびジクロルメタン150mlの混合液に室温
にてトリフルオロ酢酸無水物37.8g(0.18モル)を加
え、30〜35℃にて24時間反応させた。反応終了
後、反応液を氷水中にあけ20%NaOH水にて中和
し、有機層を分液しさらに5%重曹水、水にて順次洗浄
した。有機層を減圧にて濃縮することにより、1−オキ
ソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチ
ン〔10−1〕32.3g(収率92%)を得た。
ン〔11−1〕27.6g(0.15モル)、フラン30.7g(0.
45モル)およびジクロルメタン150mlの混合液に室温
にてトリフルオロ酢酸無水物37.8g(0.18モル)を加
え、30〜35℃にて24時間反応させた。反応終了
後、反応液を氷水中にあけ20%NaOH水にて中和
し、有機層を分液しさらに5%重曹水、水にて順次洗浄
した。有機層を減圧にて濃縮することにより、1−オキ
ソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−4−ヘプチ
ン〔10−1〕32.3g(収率92%)を得た。
【0183】 実施例46 次に実施例45で得た〔10−1〕30.4g (0.13モル)
、メタノール150mlおよび28%ナトリウムメチラ
ート/メタノール溶液1.5gの混合溶液に水素化ホウ
素ナトリウム2.46g(0.065 モル) を5℃にて加えた。
同温度にて3時間、さらに10〜15℃にて2時間反応
した。反応終了後、反応液を氷水中にあけトルエンにて
抽出した。有機層を分液後さらに水にて洗浄した。有機
層を濃縮して、1−ヒドロキシ−1−フリル−7−メト
キシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕29.2g(収率
95%)を得た。
、メタノール150mlおよび28%ナトリウムメチラ
ート/メタノール溶液1.5gの混合溶液に水素化ホウ
素ナトリウム2.46g(0.065 モル) を5℃にて加えた。
同温度にて3時間、さらに10〜15℃にて2時間反応
した。反応終了後、反応液を氷水中にあけトルエンにて
抽出した。有機層を分液後さらに水にて洗浄した。有機
層を濃縮して、1−ヒドロキシ−1−フリル−7−メト
キシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕29.2g(収率
95%)を得た。
【0184】 実施例47 次に実施例46で得た〔9−1〕28.3g(0.12モル)、
水1200g、酢酸1.5gを加え、5%NaOH水に
てpHを3.2に調製し、90℃にて12時間加熱攪拌
した。反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチル
ケトン300mlにて2回抽出、分液処理し、得られた有
機層からメチルイソブチルケトンを留去して3−ヒドロ
キシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔8−1〕19.5g(収率6
9%)を得た。
水1200g、酢酸1.5gを加え、5%NaOH水に
てpHを3.2に調製し、90℃にて12時間加熱攪拌
した。反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチル
ケトン300mlにて2回抽出、分液処理し、得られた有
機層からメチルイソブチルケトンを留去して3−ヒドロ
キシ−2−(6−メトキシカルボニル−3−ヘキシニ
ル)−2−シクロペンテノン〔8−1〕19.5g(収率6
9%)を得た。
【0185】 実施例48 実施例47で得た〔8−1〕5.12g、クロラール0.33g
およびトリエチルアミン0.58gの混合物を60℃にて8
時間反応させた。反応終了後、メチルイソブチルケトン
20mlと水15mlを加え、有機層を分液後、1%塩酸
水、水にて順次洗浄した。得られた有機層からメチルイ
ソブチルケトンを留去して4−ヒドロキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン〔6−1〕4.66g(収率91%)を得た。
およびトリエチルアミン0.58gの混合物を60℃にて8
時間反応させた。反応終了後、メチルイソブチルケトン
20mlと水15mlを加え、有機層を分液後、1%塩酸
水、水にて順次洗浄した。得られた有機層からメチルイ
ソブチルケトンを留去して4−ヒドロキシ−2−(6−
メトキシカルボニル−3−ヘキシニル)−2−シクロペ
ンテノン〔6−1〕4.66g(収率91%)を得た。
【0186】 参考例1 1,6−ジカルボメトキシ−3−ヘキシン〔13−1〕
5g、リンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3-PbO) 50mg、合
成キノリン25mg、メタノール15mlを常圧水添装置に
入れ室温下、常圧にて還元した。反応終了後、触媒を濾
別して除き、濃縮して、1,6−ジメトキシカルボニル
−シス−3−ヘキセン、4.70g(収率93.0%)を得た。
b.p. 92〜95℃/0.3mmHg
5g、リンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3-PbO) 50mg、合
成キノリン25mg、メタノール15mlを常圧水添装置に
入れ室温下、常圧にて還元した。反応終了後、触媒を濾
別して除き、濃縮して、1,6−ジメトキシカルボニル
−シス−3−ヘキセン、4.70g(収率93.0%)を得た。
b.p. 92〜95℃/0.3mmHg
【0187】 参考例2 参考例1で得た1,6−ジメトキシカルボニル−シス−
3−ヘキセン75.7gをメタノール30gに溶解し5℃ま
で冷却した。その中に無水水酸化バリウム(15%メタ
ノール溶液)216gを加え攪拌した。17時間後、反
応液を濾過し、減圧下で乾燥し結晶66.8gを1,2−ジ
クロロエタン330gに懸濁させ10%塩酸水115
g、水200gを加え40−45℃として2時間攪拌し
分液した。有機層は水200gで洗浄後減圧濃縮し6−
メトキシカルボニル−1−カルボキシ−シス−3−ヘキ
セン32.2g(収率45.7%)を得た。 b.p. 118〜1
24℃/0.2mmHg
3−ヘキセン75.7gをメタノール30gに溶解し5℃ま
で冷却した。その中に無水水酸化バリウム(15%メタ
ノール溶液)216gを加え攪拌した。17時間後、反
応液を濾過し、減圧下で乾燥し結晶66.8gを1,2−ジ
クロロエタン330gに懸濁させ10%塩酸水115
g、水200gを加え40−45℃として2時間攪拌し
分液した。有機層は水200gで洗浄後減圧濃縮し6−
メトキシカルボニル−1−カルボキシ−シス−3−ヘキ
セン32.2g(収率45.7%)を得た。 b.p. 118〜1
24℃/0.2mmHg
【0188】 参考例3 参考例2で得た6−メトキシカルボニル−1−カルボキ
シ−シス−3−ヘキセン25.1g、フラン13.8g (0.20モ
ル) およびクロロホルム100mlの混合液に、室温にて
トリフルオロ酢酸無水物15.5g(0.074モル) を加え、2
0〜25℃にて24時間反応した。反応終了後、反応液
を5%Na2CO3水200mlにあけ、有機層を分液後、さら
に水にて洗浄した。有機層を濃縮することにより1−オ
キソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−シス−4
−ヘプテン14.5g(収率91%)を得た。
シ−シス−3−ヘキセン25.1g、フラン13.8g (0.20モ
ル) およびクロロホルム100mlの混合液に、室温にて
トリフルオロ酢酸無水物15.5g(0.074モル) を加え、2
0〜25℃にて24時間反応した。反応終了後、反応液
を5%Na2CO3水200mlにあけ、有機層を分液後、さら
に水にて洗浄した。有機層を濃縮することにより1−オ
キソ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−シス−4
−ヘプテン14.5g(収率91%)を得た。
【0189】 参考例4 次に参考例3で得た1−オキソ−1−フリル−7−メト
キシカルボニル−シス−4−ヘプテン12.8g(0.054モ
ル)をメタノール100mlとクロロホルム50mlに溶解
し、水素化ホウ素ナトリウム20.4g(0.054モル) を10
−20℃にて加えた。同温度にて2時間保温後、反応液
を氷中にあけトルエンにて抽出した。有機層を分液後、
さらに水にて洗浄し、有機層を濃縮すれば1−ヒドロキ
シ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−シス−4−
ヘプテン12.3g(収率96%)を得た。
キシカルボニル−シス−4−ヘプテン12.8g(0.054モ
ル)をメタノール100mlとクロロホルム50mlに溶解
し、水素化ホウ素ナトリウム20.4g(0.054モル) を10
−20℃にて加えた。同温度にて2時間保温後、反応液
を氷中にあけトルエンにて抽出した。有機層を分液後、
さらに水にて洗浄し、有機層を濃縮すれば1−ヒドロキ
シ−1−フリル−7−メトキシカルボニル−シス−4−
ヘプテン12.3g(収率96%)を得た。
【0190】 参考例5 次に参考例4で得た1−ヒドロキシ−1−フリル−7−
メトキシカルボニル−シス−4−ヘプテン11.3g(0.047
モル)水473g、酢酸0.34gを加え、5%KOH水に
てpHを4.3に調整し、100℃にて原料がなくなる
まで加熱攪拌した。反応系内には4−ヒドロキシ−2−
(6−メトキシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−
2−シクロペンテノンおよび3−ヒドロキシ−2−(6
−メトキシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−
シクロペンテノン(生成比65:35)が存在した。次
に反応液のpHを7.0まで上昇し、系内の3−ヒドロ
キシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−ヘキ
セニル)−2−シクロペンテノンが消失するまでさらに
10時間反応を続けた。反応終了後、反応液を酢酸エチ
ル300mlにて2回抽出した。有機層を濃縮し、得られ
た残渣をトルエン:酢酸エチル=5:3にてクロマト精
製した。4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニ
ル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン
〔4−1〕7.97g(収率71%)を得た。 nD 20 1.5
023
メトキシカルボニル−シス−4−ヘプテン11.3g(0.047
モル)水473g、酢酸0.34gを加え、5%KOH水に
てpHを4.3に調整し、100℃にて原料がなくなる
まで加熱攪拌した。反応系内には4−ヒドロキシ−2−
(6−メトキシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−
2−シクロペンテノンおよび3−ヒドロキシ−2−(6
−メトキシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−
シクロペンテノン(生成比65:35)が存在した。次
に反応液のpHを7.0まで上昇し、系内の3−ヒドロ
キシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−ヘキ
セニル)−2−シクロペンテノンが消失するまでさらに
10時間反応を続けた。反応終了後、反応液を酢酸エチ
ル300mlにて2回抽出した。有機層を濃縮し、得られ
た残渣をトルエン:酢酸エチル=5:3にてクロマト精
製した。4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニ
ル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン
〔4−1〕7.97g(収率71%)を得た。 nD 20 1.5
023
【0191】 実施例49 次に参考例5で得られた〔4−1〕7.14g (0.03モル)
、無水酢酸9.18g (0.06モル) 、濃硫酸0.1gおよ
びメチルイソブチルケトン20mlを40℃にて3.5時
間攪拌した。反応終了後、反応液を冷却し、氷水中にあ
けメチルイソブチルケトン40mlを加え抽出した。有機
層は5%重ソウ水、水にて順次洗浄し、濃縮することに
より4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン〔2−
1〕8.06g(収率96.5%)を得た。
、無水酢酸9.18g (0.06モル) 、濃硫酸0.1gおよ
びメチルイソブチルケトン20mlを40℃にて3.5時
間攪拌した。反応終了後、反応液を冷却し、氷水中にあ
けメチルイソブチルケトン40mlを加え抽出した。有機
層は5%重ソウ水、水にて順次洗浄し、濃縮することに
より4−アセトキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン〔2−
1〕8.06g(収率96.5%)を得た。
【0192】 実施例50 次に実施例49で得られた〔2−1〕5.56g、アルスロ
バクター属リパーゼ(新日本化学製)100mgおよび
0.2モル濃度のリン酸バッファ(pH7.0)60ml
をフラスコに仕込み、25〜30℃にて7時間攪拌し
た。反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40
mlにて2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、
濃縮残渣5.36gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチ
ル(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R
(+)−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン1.34g
〔〔α〕D 20+17.3°(c=1,CHCl3)(92.3% e.
e.) 〕および4S(−)−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン3.78gを得た。〔α〕D 20 −30.8°(c=
1,CHCl3)
バクター属リパーゼ(新日本化学製)100mgおよび
0.2モル濃度のリン酸バッファ(pH7.0)60ml
をフラスコに仕込み、25〜30℃にて7時間攪拌し
た。反応終了後、反応液をメチルイソブチルケトン40
mlにて2回抽出し、有機層を合わせて減圧下に濃縮し、
濃縮残渣5.36gを得た。濃縮残渣をトルエン:酢酸エチ
ル(5:3)を用いてカラムクロマト精製し、4R
(+)−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−
シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン1.34g
〔〔α〕D 20+17.3°(c=1,CHCl3)(92.3% e.
e.) 〕および4S(−)−アセトキシ−2−(6−メト
キシカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロ
ペンテノン3.78gを得た。〔α〕D 20 −30.8°(c=
1,CHCl3)
【0193】 参考例6 6−メトキシカルボニル−1−カルボキシ−3−ヘキシ
ン〔11−1〕4.0g、リンドラ−触媒(5%Pd-BaSO4)
40mg、合成キノリン80mg、メタノール12mlを常
圧水添装置に入れ、室温下に、常圧にて還元した。反応
終了後、触媒を濾別して除き濃縮した。得られた残渣を
トルエン20mlに溶解し、5%塩酸水、さらに水で洗浄
した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濾別し、濃
縮することにより、6−メトキシカルボニル−1−カル
ボキシ−シス−3−ヘキセン3.38g(収率83.7%)を得
た。b.p. 118〜124℃/0.2mmHg
ン〔11−1〕4.0g、リンドラ−触媒(5%Pd-BaSO4)
40mg、合成キノリン80mg、メタノール12mlを常
圧水添装置に入れ、室温下に、常圧にて還元した。反応
終了後、触媒を濾別して除き濃縮した。得られた残渣を
トルエン20mlに溶解し、5%塩酸水、さらに水で洗浄
した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、濾別し、濃
縮することにより、6−メトキシカルボニル−1−カル
ボキシ−シス−3−ヘキセン3.38g(収率83.7%)を得
た。b.p. 118〜124℃/0.2mmHg
【0194】 参考例7 実施例35で得た1−オキソ−1−フリル−7−メトキ
シカルボニル−4−ヘプチン〔10−1〕3.0g、リ
ンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3-PbO) 30mg、シクロヘキ
セン5.26gおよびトルエン12mlを常圧水添装置に入
れ、室温下、常圧にて還元した。反応終了後、触媒を濾
別して除き濃縮して、1−オキソ−1−フリル−7−メ
トキシカルボニル−シス−4−ヘプテン2.74g (収率9
0.4%) を得た。nD 25 1.5096以下、参考例4〜5、
実施例49〜50と同様に反応すれば、4(R)−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−ヘ
キセニル)−2−シクロペンテノンを得ることができ
る。
シカルボニル−4−ヘプチン〔10−1〕3.0g、リ
ンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3-PbO) 30mg、シクロヘキ
セン5.26gおよびトルエン12mlを常圧水添装置に入
れ、室温下、常圧にて還元した。反応終了後、触媒を濾
別して除き濃縮して、1−オキソ−1−フリル−7−メ
トキシカルボニル−シス−4−ヘプテン2.74g (収率9
0.4%) を得た。nD 25 1.5096以下、参考例4〜5、
実施例49〜50と同様に反応すれば、4(R)−ヒド
ロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−ヘ
キセニル)−2−シクロペンテノンを得ることができ
る。
【0195】 参考例8 実施例36で得た1−ヒドロキシ−1−フリル−7−メ
トキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕4.23g、リ
ンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3-PbO) 42mg、シクロヘキ
セン4.41g、およびトルエン21mlを常圧水添装置に入
れ室温下、常圧にて還元した。反応終了後、触媒を濾別
して除き、濃縮して1−ヒドロキシ−1−フリル−7−
メトキシカルボニル−シス−4−ヘプテン3.77g(収率
88.3%) を得た。 nD 25 1.4937
トキシカルボニル−4−ヘプチン〔9−1〕4.23g、リ
ンドラ−触媒(5%Pd-CaCO3-PbO) 42mg、シクロヘキ
セン4.41g、およびトルエン21mlを常圧水添装置に入
れ室温下、常圧にて還元した。反応終了後、触媒を濾別
して除き、濃縮して1−ヒドロキシ−1−フリル−7−
メトキシカルボニル−シス−4−ヘプテン3.77g(収率
88.3%) を得た。 nD 25 1.4937
【0196】 参考例9 次に参考例8で得た1−ヒドロキシ−1−フリル−7−
メトキシカルボニル−シス−4−ヘプテン2.50g、水12
3.8 g、酢酸0.19gを加え、5%NaOH水にてpHを
4.2に調整し、100℃にて26時間加熱攪拌した。
反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチルケトン
50mlにて2回抽出、分液、濃縮することにより4−ヒ
ドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−
ヘキセニル)−2−シクロペンテノンおよび3−ヒドロ
キシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−ヘキ
セニル)2−シクロペンテノンの混合物(組成比4.
9:5.1)1.78g(収率71%)を得た。
メトキシカルボニル−シス−4−ヘプテン2.50g、水12
3.8 g、酢酸0.19gを加え、5%NaOH水にてpHを
4.2に調整し、100℃にて26時間加熱攪拌した。
反応終了後、反応液を冷却し、メチルイソブチルケトン
50mlにて2回抽出、分液、濃縮することにより4−ヒ
ドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−
ヘキセニル)−2−シクロペンテノンおよび3−ヒドロ
キシ−2−(6−メトキシカルボニル−シス−3−ヘキ
セニル)2−シクロペンテノンの混合物(組成比4.
9:5.1)1.78g(収率71%)を得た。
【0197】 参考例10 次に参考例9で得た4−ヒドロキシ−2−(6−メトキ
シカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペ
ンテノンおよび3−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカ
ルボニル−シス−3−ヘキセニル)2−シクロペンテノ
ンの混合物1.60g、クロラール15mgおよびトリエチル
アミン17mgの混合物を60℃にて5時間反応させた。
反応終了後、メチルイソブチルケトン20mlと水10ml
を加え、有機層を分液後、1%塩酸水、水にて順次洗浄
した。得られた有機層からメチルイソブチルケトンを留
去して4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル
−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン〔4
−1〕1.40g(収率87.8%) を得た。nD 25 1.5023
シカルボニル−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペ
ンテノンおよび3−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカ
ルボニル−シス−3−ヘキセニル)2−シクロペンテノ
ンの混合物1.60g、クロラール15mgおよびトリエチル
アミン17mgの混合物を60℃にて5時間反応させた。
反応終了後、メチルイソブチルケトン20mlと水10ml
を加え、有機層を分液後、1%塩酸水、水にて順次洗浄
した。得られた有機層からメチルイソブチルケトンを留
去して4−ヒドロキシ−2−(6−メトキシカルボニル
−シス−3−ヘキセニル)−2−シクロペンテノン〔4
−1〕1.40g(収率87.8%) を得た。nD 25 1.5023
【0198】 参考例11 1,4−ジクロロ−2−ブチン200g(1.63mol)中に
トルエン796gを加えた。その中にアセト酢酸メチル
568g(4.89mol)および28%ナトリウムメチラート
/メタノール溶液896g(4.65mol)の混合液を室温で
加えた。反応温度を60℃とし、16時間攪拌した。反
応終了後減圧下で濃縮しメタノールを除去した後、水
1.5lおよびトルエン1lを加え攪拌した。水層を除
去した後、さらに水1.5lでトルエン層を洗浄した。
その後トルエン層を減圧下で濃縮後さらに減圧下で蒸留
し、1,6−ジカルボメトキシ−3−ヘキシン109.7 g
(含量95.8%)を得た。
トルエン796gを加えた。その中にアセト酢酸メチル
568g(4.89mol)および28%ナトリウムメチラート
/メタノール溶液896g(4.65mol)の混合液を室温で
加えた。反応温度を60℃とし、16時間攪拌した。反
応終了後減圧下で濃縮しメタノールを除去した後、水
1.5lおよびトルエン1lを加え攪拌した。水層を除
去した後、さらに水1.5lでトルエン層を洗浄した。
その後トルエン層を減圧下で濃縮後さらに減圧下で蒸留
し、1,6−ジカルボメトキシ−3−ヘキシン109.7 g
(含量95.8%)を得た。
【0199】 参考例12 アセト酢酸メチル757g(6.52mol)中に28%ナトリ
ウムメチラート/メタノール溶液1258g(6.52mol)
を加え、室温まで冷却した。その中に1,4−ジクロロ
−2−ブチン200g(1.63mol)を加えた。その後反応
温度を60℃とし、16時間攪拌した。反応終了後減圧
下で濃縮しメタノールを除去した後、水2lおよびトル
エン1lを加え攪拌した。水槽を除去した後、さらに水
2lでトルエン層を洗浄した。その後トルエン層を減圧
下で濃縮し、さらに減圧下で蒸留を行い、1,6−ジカ
ルボメトキシ−3−ヘキシン(含量93.7%)を得た。
ウムメチラート/メタノール溶液1258g(6.52mol)
を加え、室温まで冷却した。その中に1,4−ジクロロ
−2−ブチン200g(1.63mol)を加えた。その後反応
温度を60℃とし、16時間攪拌した。反応終了後減圧
下で濃縮しメタノールを除去した後、水2lおよびトル
エン1lを加え攪拌した。水槽を除去した後、さらに水
2lでトルエン層を洗浄した。その後トルエン層を減圧
下で濃縮し、さらに減圧下で蒸留を行い、1,6−ジカ
ルボメトキシ−3−ヘキシン(含量93.7%)を得た。
【0200】 参考例13 1,4−ジクロロ−2−ブチン200g(1.63mol)中に
トルエン796gを加えた。その中にアセト酢酸メチル
568g(4.89mol)および28%ナトリウムメチラート
/メタノール溶液942g(4.89mol)の混合液を室温で
加えた。反応温度を64℃とし、9時間攪拌したとき、
さらに28%ナトリウムメチラート/メタノール溶液9
4.2g(0.489mol)を加えた。その後6時間64℃で攪
拌した。反応終了後減圧下で濃縮しメタノールを除去し
た後、水1.5lおよびトルエン1lを加え攪拌した。
水層を除去した後、さらに水1.5lでトルエン層を洗
浄した。その後トルエン層を減圧下で濃縮後さらに減圧
下で蒸留し、1,6−ジカルボメトキシ−3−ヘキシン
117.3 g(含量96.3%)を得た。
トルエン796gを加えた。その中にアセト酢酸メチル
568g(4.89mol)および28%ナトリウムメチラート
/メタノール溶液942g(4.89mol)の混合液を室温で
加えた。反応温度を64℃とし、9時間攪拌したとき、
さらに28%ナトリウムメチラート/メタノール溶液9
4.2g(0.489mol)を加えた。その後6時間64℃で攪
拌した。反応終了後減圧下で濃縮しメタノールを除去し
た後、水1.5lおよびトルエン1lを加え攪拌した。
水層を除去した後、さらに水1.5lでトルエン層を洗
浄した。その後トルエン層を減圧下で濃縮後さらに減圧
下で蒸留し、1,6−ジカルボメトキシ−3−ヘキシン
117.3 g(含量96.3%)を得た。
【0201】 参考例14 アセト酢酸メチル144.5 g(1.245mol) 、1,4−ジク
ロロ−2−ブチン67.7g(0.550mol) およびトルエン5
00gをフラスコ内に入れ、80℃まで加温した。その
中に炭酸カリウム100gを加え、80℃で1.5時間
攪拌した。その後さらに炭酸カリウム104gを加え、
80℃で8時間攪拌した。さらにアセト酢酸メチル21.5
g(0.185mol) および炭酸カリウム51.1gを加え4時間
攪拌反応した。反応終了後反応混合物中の塩を濾過して
除いたのち、反応液を10%塩酸で中和し、さらに水洗
したのち減圧下で濃縮した。濃縮物は減圧下で蒸留し、
3,8−ジメトキシカルボニル−5−デシン−2,9−
ジオン44.4g(含量84.3%)を得た。b.p. 168〜1
72℃
ロロ−2−ブチン67.7g(0.550mol) およびトルエン5
00gをフラスコ内に入れ、80℃まで加温した。その
中に炭酸カリウム100gを加え、80℃で1.5時間
攪拌した。その後さらに炭酸カリウム104gを加え、
80℃で8時間攪拌した。さらにアセト酢酸メチル21.5
g(0.185mol) および炭酸カリウム51.1gを加え4時間
攪拌反応した。反応終了後反応混合物中の塩を濾過して
除いたのち、反応液を10%塩酸で中和し、さらに水洗
したのち減圧下で濃縮した。濃縮物は減圧下で蒸留し、
3,8−ジメトキシカルボニル−5−デシン−2,9−
ジオン44.4g(含量84.3%)を得た。b.p. 168〜1
72℃
【0202】 参考例15 参考例14で得られた3,8−ジメトキシカルボニル−
5−デシン−2,9−ジオン11.7g(含量84.3%)およ
びトルエン60gをフラスコに入れ、その中に28%ナ
トリウムメチラート/メタノール溶液60gを加え70
〜73℃まで加熱し13時間反応させた。反応終了後反
応液は減圧下で濃縮したのちトルエン100gおよび水
100gを加え振とうしたのち、トルエン層を分離し
た。トルエン層は水100gで洗浄したのち減圧下で濃
縮した。濃縮物は減圧下で蒸留し、1,6−ジカルボメ
トキシ−3−ヘキシン2.89g(含量94.5%)を得た。
5−デシン−2,9−ジオン11.7g(含量84.3%)およ
びトルエン60gをフラスコに入れ、その中に28%ナ
トリウムメチラート/メタノール溶液60gを加え70
〜73℃まで加熱し13時間反応させた。反応終了後反
応液は減圧下で濃縮したのちトルエン100gおよび水
100gを加え振とうしたのち、トルエン層を分離し
た。トルエン層は水100gで洗浄したのち減圧下で濃
縮した。濃縮物は減圧下で蒸留し、1,6−ジカルボメ
トキシ−3−ヘキシン2.89g(含量94.5%)を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07C 69/606 C07C 69/606 69/738 69/738 A C07D 307/54 C07D 307/54 (31)優先権主張番号 特願平2−185930 (32)優先日 平成2年7月13日(1990.7.13) (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 甲斐 静一 大阪府高槻市塚原2丁目10番1号 住友 化学工業株式会社内 (72)発明者 今津 幸子 大阪府高槻市塚原2丁目10番1号 住友 化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭57−175161(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C12P 41/00 C07C 67/08 C07C 67/14 C07C 67/303 - 67/31 C07C 69/606 C07C 69/738 C07D 307/54 BIOSIS(DIALOG) CA(STN) REGISTRY(STN) WPI(DIALOG)
Claims (18)
- 【請求項1】一般式〔2〕 (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、R1 は
ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を示
す。) で示されるシクロペンテノンエステル類に、該シクロペ
ンテノンエステル類の光学異性体のどちらか一方のみを
優先的に加水分解する能力を有するエステラーゼを作用
させることを特徴とする一般式〔1〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示し、*印は不斉炭素を
示す。) で示される光学活性なシクロペンテノン類の製造方法。 - 【請求項2】一般式〔3〕 (式中、R及び*印は前記と同じ意味を示す。) で示される光学活性なシクロペンテノン誘導体を触媒存
在下部分水添を行うことを特徴とする一般式〔1〕で示
される光学活性なシクロペンテノン類の製造方法。 - 【請求項3】シクロペンテノンエステル類〔2〕が、一
般式〔4〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示される4−ヒドロキシシクロペンテノン類を塩基性
物質または酸類の存在下に一般式〔5〕 R1−COOH 〔5〕 (式中、R1 は前記と同じ意味を示す。) で示されるカルボン酸もしくはその誘導体と反応させる
ことにより得られたものであることを特徴とする請求項
1に記載の方法。 - 【請求項4】4−ヒドロキシシクロペンテノン類〔4〕
が、一般式〔6〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示される4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体を触
媒存在下部分水添することにより得られたものであるこ
とを特徴とする請求項3に記載の方法。 - 【請求項5】シクロペンテノンエステル類〔2〕が、一
般式〔7〕 (式中、R及びR1 は前記と同じ意味を示す。) で示されるシクロペンテノンエステル誘導体を触媒存在
下部分水添することにより得られたものであることを特
徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項6】光学活性なシクロペンテノン誘導体〔3〕
が、シクロペンテノンエステル誘導体〔7〕に、該シク
ロペンテノンエステル誘導体の光学異性体のどちらか一
方のみを優先的に加水分解する能力を有するエステラー
ゼを作用させることにより得られたものであることを特
徴とする請求項2に記載の方法。 - 【請求項7】シクロペンテノンエステル誘導体〔7〕
が、4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕を塩
基性物質または酸類の存在下にカルボン酸〔5〕もしく
はその誘導体と反応させることにより得られたものであ
ることを特徴とする請求項5または6に記載の方法。 - 【請求項8】4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体
〔6〕が、一般式〔8〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示される3−ヒドロキシシクロペンテノン類または、
3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロ
キシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物を、水を
主とする溶媒中、pH6〜9の範囲で異性化処理する
か、あるいはクロラールおよび有機アミンの存在下に異
性化処理することにより得られたものであることを特徴
とする請求項4または7に記載の方法。 - 【請求項9】シクロペンテノンエステル誘導体〔7〕
が、3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕または、
3−ヒドロキシシクロペンテノン類〔8〕と4−ヒドロ
キシシクロペンテノン誘導体〔6〕との混合物をカルボ
ン酸〔5〕、その酸無水物およびその金属塩の存在下に
反応させることより得られたものであることを特徴とす
る請求項5または6に記載の方法。 - 【請求項10】3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕または、3−ヒドロキシシクロペンテノン類
〔8〕と4−ヒドロキシシクロペンテノン誘導体〔6〕
との混合物が、一般式〔9〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるフランカルビノール類を、水を主とする溶媒
中、pH3.5〜6の範囲で触媒の存在もしくは非存在
下に反応させることにより得られたものであることを特
徴とする請求項8または9に記載の方法。 - 【請求項11】フランカルビノール類〔9〕が、一般式
〔10〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるフルフリルケトン類を還元することにより得
られたものであることを特徴とする請求項10に記載の
方法。 - 【請求項12】フルフリルケトン類〔10〕が、一般式
〔11〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるハーフエステル類とフランとを、一般式〔1
2〕(XYCHCO)2O 〔12〕(式中、XおよびYは同
一または相異なり、水素原子、塩素原子または臭素原子
を示す。但し、XおよびYが同時に水素原子であること
はない。) で示される酸無水物及び三弗化ホウ素類の存在下反応さ
せる、あるいはトリフルオロ酢酸無水物存在下反応させ
ることにより得られたものであることを特徴とする請求
項11に記載の方法。 - 【請求項13】ハーフエステル類〔11〕が、一般式
〔13〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるジエステル類を水酸化アルカリ土類金属類と
反応させたのち酸を加えて分解することにより得られた
ものであることを特徴とする請求項12に記載の方法。 - 【請求項14】一般式〔7〕 (式中、R及びR1 は前記と同じ意味を示す。) で示されるシクロペンテノンエステル誘導体。
- 【請求項15】一般式〔8〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示される3−ヒドロキシシクロペンテノン類。
- 【請求項16】一般式〔9〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるフランカルビノール類。
- 【請求項17】一般式〔10〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるフルフリルケトン類。
- 【請求項18】一般式〔11〕 (式中、Rは前記と同じ意味を示す。) で示されるハーフエステル類。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3012309A JP3018508B2 (ja) | 1990-02-02 | 1991-02-01 | 光学活性なシクロペンテノン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2473890 | 1990-02-02 | ||
JP2-24740 | 1990-02-02 | ||
JP2473990 | 1990-02-02 | ||
JP2-24738 | 1990-02-02 | ||
JP2-24739 | 1990-02-02 | ||
JP2474090 | 1990-02-02 | ||
JP18593090 | 1990-07-13 | ||
JP2-185930 | 1990-07-13 | ||
JP3012309A JP3018508B2 (ja) | 1990-02-02 | 1991-02-01 | 光学活性なシクロペンテノン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04211397A JPH04211397A (ja) | 1992-08-03 |
JP3018508B2 true JP3018508B2 (ja) | 2000-03-13 |
Family
ID=27519384
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3012309A Expired - Lifetime JP3018508B2 (ja) | 1990-02-02 | 1991-02-01 | 光学活性なシクロペンテノン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3018508B2 (ja) |
-
1991
- 1991-02-01 JP JP3012309A patent/JP3018508B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04211397A (ja) | 1992-08-03 |
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