JPH01261351A - 光学活性なベンゼン誘導体およびその製造法 - Google Patents
光学活性なベンゼン誘導体およびその製造法Info
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Landscapes
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、一般式(I)
(式中、Rは炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を示し
、nは1または2である。東印は不斉炭素であることを
示す)で示される光学活性なベンゼン誘導体およびその
製造法に関する。
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を示し
、nは1または2である。東印は不斉炭素であることを
示す)で示される光学活性なベンゼン誘導体およびその
製造法に関する。
〈従来の技術〉
前記一般式(I)で示される光学活性なベンゼン誘導体
は、文献未記載の新規化合物であり、従来よりその製造
法については勿論のこと、化合物としての有用性につい
ても全く知られていない。
は、文献未記載の新規化合物であり、従来よりその製造
法については勿論のこと、化合物としての有用性につい
ても全く知られていない。
〈発明が解決すべき課題〉
前記一般式(I)で示される光学活性なベンゼン誘導体
は医薬、農薬等の中間体としても有用であるが、特に有
機電子材料とりわけ新規な液晶化合物の中間体として非
常に有用である。
は医薬、農薬等の中間体としても有用であるが、特に有
機電子材料とりわけ新規な液晶化合物の中間体として非
常に有用である。
〈課題を解決するための手段〉
本発明は、このような医、農薬中間体としては勿論、有
機電子材料とりわけ液晶化合物の中間体としても有用な
新規化合物である前記一般式(I)で示される光学活性
なベンゼン誘導体を提供するものである。
機電子材料とりわけ液晶化合物の中間体としても有用な
新規化合物である前記一般式(I)で示される光学活性
なベンゼン誘導体を提供するものである。
本発明者らは、かかる新規にして有用な一般式(I)で
示される光学活性なベンゼン誘導体の製造法について検
討の結果、本発明に至った。
示される光学活性なベンゼン誘導体の製造法について検
討の結果、本発明に至った。
本発明は、
[第1工程]
一般式■
(式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を示す。nは1または2であ
る) で示されろケトン類を還元して、一般式(iI[)(式
中、Aおよびnは前記と同じ意味を有する) で示されるアルコール類を得る工程 [第2工程] 第1工程で得られた一般式(III)で示されるアルコ
ール類を低級アルキルカルボン酸類と反応させて一般式
(N) (式中、Aおよびnは前記と同じ意味を有する。Kは低
級アルキル基を意味する。)で示されるエステル類を得
る工程 [第8工程] 第2工程で得られた一般式(ff)で示されるエステル
類を、該エステル類の光学活性体のうちのいずれか一方
を加水分解する能力を有するエステラーゼを用いて不斉
水解して、−般式(V) Ha (式中、Aおよびnは前記と同じ意味を有し、秦印は不
斉炭素である色とを示す)で示される光学活性なアルコ
ール類を得る工程 [第4工程] 第8工程で得られた一般式ff)で示される光学活性な
アルコール類を、一般式(VI)R−COOHCvD (式中、Rは炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を示ス
) で示される脂肪族カルボン酸もしくはその誘導体とを縮
合させて、一般式(■) Ha C式中、A、R,nおよび※印は前記と同じ意味を有す
る) で示される光学活性なエステル類を得る工程[第5工程
] 第4工程で得られた一般式(■)で示される光学活性な
エステル類を脱ベンジル化して、前記一般式(I)で示
される光学活性なベンゼン誘導体を得る工程において、
それぞれ第1〜第5工程、第2〜第5工程、第8〜第5
工程、第4〜第5工程および第5工程よりなる一般式(
I)で示される光学活性なベンゼン誘導体の製造法であ
る。
シル基またはハロゲン原子を示す。nは1または2であ
る) で示されろケトン類を還元して、一般式(iI[)(式
中、Aおよびnは前記と同じ意味を有する) で示されるアルコール類を得る工程 [第2工程] 第1工程で得られた一般式(III)で示されるアルコ
ール類を低級アルキルカルボン酸類と反応させて一般式
(N) (式中、Aおよびnは前記と同じ意味を有する。Kは低
級アルキル基を意味する。)で示されるエステル類を得
る工程 [第8工程] 第2工程で得られた一般式(ff)で示されるエステル
類を、該エステル類の光学活性体のうちのいずれか一方
を加水分解する能力を有するエステラーゼを用いて不斉
水解して、−般式(V) Ha (式中、Aおよびnは前記と同じ意味を有し、秦印は不
斉炭素である色とを示す)で示される光学活性なアルコ
ール類を得る工程 [第4工程] 第8工程で得られた一般式ff)で示される光学活性な
アルコール類を、一般式(VI)R−COOHCvD (式中、Rは炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を示ス
) で示される脂肪族カルボン酸もしくはその誘導体とを縮
合させて、一般式(■) Ha C式中、A、R,nおよび※印は前記と同じ意味を有す
る) で示される光学活性なエステル類を得る工程[第5工程
] 第4工程で得られた一般式(■)で示される光学活性な
エステル類を脱ベンジル化して、前記一般式(I)で示
される光学活性なベンゼン誘導体を得る工程において、
それぞれ第1〜第5工程、第2〜第5工程、第8〜第5
工程、第4〜第5工程および第5工程よりなる一般式(
I)で示される光学活性なベンゼン誘導体の製造法であ
る。
以下、本発明の詳細な説明する。
第1工程における原料であるケトン類■は、たとえば以
下に示されるように、ベンジルハライド類とp−ヒドロ
キシフェニルケトンを反応させることにより、容易に得
ることができる。
下に示されるように、ベンジルハライド類とp−ヒドロ
キシフェニルケトンを反応させることにより、容易に得
ることができる。
ケトン類■の還元は、ケトンを還元してアルコールとす
ることのできる還元剤を用いて行われる。
ることのできる還元剤を用いて行われる。
かかる還元剤として、好適には水素化ホウ素ナトリウム
、リチウムアルミニウムハイドライドまたは水素化ホウ
素が使用され、その使用量は原料ケトン類に対して少く
とも1当量以上必要であり、通常1〜10当量の範囲で
ある。
、リチウムアルミニウムハイドライドまたは水素化ホウ
素が使用され、その使用量は原料ケトン類に対して少く
とも1当量以上必要であり、通常1〜10当量の範囲で
ある。
この反応は通常溶媒中で行われ、かかる溶媒としては、
たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエー
テル、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、ジクロルメタン等のエーテル、ハロゲン化
炭化水素、アルコール等の反応に不活性な溶媒の単独ま
たは混合物が使用される。
たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエー
テル、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、ジクロルメタン等のエーテル、ハロゲン化
炭化水素、アルコール等の反応に不活性な溶媒の単独ま
たは混合物が使用される。
反応温度は通常、−80℃〜100℃の範囲であるが、
好ましくは−20〜90”Cの範囲である。
好ましくは−20〜90”Cの範囲である。
このようにして得られた反応混合物から、分液、濃縮、
蒸留、結晶化等の操作により、アルコール類(III)
を収率よく得ることができるが、次工程のエステル類(
IV)を得るためには必ずしもアルコール類(In)を
単離する必要はなく、反応混合物のまま次工程へ進んで
もよい。
蒸留、結晶化等の操作により、アルコール類(III)
を収率よく得ることができるが、次工程のエステル類(
IV)を得るためには必ずしもアルコール類(In)を
単離する必要はなく、反応混合物のまま次工程へ進んで
もよい。
アルコール類(III)からエステル類(ff)を得る
反応(第2工程)は、アルコール類(III)を低級ア
ルキルカルボン酸類と反応させてアシル化することによ
り行われる。
反応(第2工程)は、アルコール類(III)を低級ア
ルキルカルボン酸類と反応させてアシル化することによ
り行われる。
このアシル化において、低級アルキルカルボン酸類とし
ては低級アルキルカルボン酸の酸無水物または酸ハライ
ドが用いられ、具体的には無水酢酸、酢酸クロリドまた
はプロミド、無水プロピオン酸、プロピオン酸クロリド
またはプロミド、ブチリルクロリドまたはプロミド、バ
レイルクロリドまたはプロミド等が例示される。
ては低級アルキルカルボン酸の酸無水物または酸ハライ
ドが用いられ、具体的には無水酢酸、酢酸クロリドまた
はプロミド、無水プロピオン酸、プロピオン酸クロリド
またはプロミド、ブチリルクロリドまたはプロミド、バ
レイルクロリドまたはプロミド等が例示される。
この反応において、低級アルキルカルボン酸類の使用量
はアルコール類(III)に対して1当量以上必要であ
り、上限については特に制限されないが、好ましくは4
当量である。
はアルコール類(III)に対して1当量以上必要であ
り、上限については特に制限されないが、好ましくは4
当量である。
この反応は、溶媒の存在下もしくは非存在下に、触媒を
用いて反応させることにより行われる。
用いて反応させることにより行われる。
この反応において溶媒を使用する場合、その溶媒として
は、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムア又ド、ヘキサ
ン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロ
ゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混
合物が使用され、その使用量については特に制限されな
い。
は、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムア又ド、ヘキサ
ン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロ
ゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混
合物が使用され、その使用量については特に制限されな
い。
触媒としては、たとえばジメチルアミノピリジン、トリ
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ピコリン、イ
ミダゾール、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等の有
機あるいは無機塩基性物質が挙げられ、また、トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの有機酸また
は無機酸を触媒として用いることもできる。
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ピコリン、イ
ミダゾール、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等の有
機あるいは無機塩基性物質が挙げられ、また、トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの有機酸また
は無機酸を触媒として用いることもできる。
触媒の使用量は、使用する低級アルキルカルボン酸類の
種類、使用する触媒の組合わせ等によっても異なり、必
ずしも特定されないが、たとえば低級アルキルカルボン
酸類として酸ハライドを使用する場合には、核酸ハライ
ドに対して1当量以上である。
種類、使用する触媒の組合わせ等によっても異なり、必
ずしも特定されないが、たとえば低級アルキルカルボン
酸類として酸ハライドを使用する場合には、核酸ハライ
ドに対して1当量以上である。
反応温度は通常−80℃〜90”Cであるが、好ましく
は一20℃〜90℃である。
は一20℃〜90℃である。
反応時間は特に制限されず、原料のアルコール類(II
I)が反応系から消失した時点を反応終点とすることが
できる。
I)が反応系から消失した時点を反応終点とすることが
できる。
反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃
縮、再結晶等によりエステル類(ff)が収率よく得ら
れ、これは必要により更にカラムクロマトグラフィー等
で精製することができるが、次工程へは反応混合物のま
ま使用することができる。
縮、再結晶等によりエステル類(ff)が収率よく得ら
れ、これは必要により更にカラムクロマトグラフィー等
で精製することができるが、次工程へは反応混合物のま
ま使用することができる。
エステル類(ff)から光学活性なアルコール類ci)
を得る反応(第8工程)は、エステル類の光学活性体の
うちのいずれか一方を加水分解する能力を有するエステ
ラーゼを用いて、該エステル類の光学活性体の一方を加
水分解する(不斉水解)ことにより行われる。
を得る反応(第8工程)は、エステル類の光学活性体の
うちのいずれか一方を加水分解する能力を有するエステ
ラーゼを用いて、該エステル類の光学活性体の一方を加
水分解する(不斉水解)ことにより行われる。
この反応で用いられるエステラーゼを生産する微生物と
しては、エステル類(ff)を不斉加水分解する能力を
有するエステラーゼを生産する微生物であればよく、特
に限定されるものではない。
しては、エステル類(ff)を不斉加水分解する能力を
有するエステラーゼを生産する微生物であればよく、特
に限定されるものではない。
尚、本発明におけるエステラーゼとはリパーゼを含む広
義のエステラーゼを意味する。
義のエステラーゼを意味する。
このような微生物の具体例としては、たとえばエンテロ
バクタ−属、アルスロバクタ−属、ブレビバクテリウム
属、シュードモナス属、アルカリ土類金属、ミクロコツ
カス属、クロモバクテリウム属、ミクロバクテリウム属
、コリネバクテリウム属、パシルス属、ラクトバシルス
属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サツカロミセス
属、ロドトルラ属、クリプトコツカス属、トルロプシス
属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、リ
ゾプス属、ムコール属、オーレオパシディウム属、アク
チノムコール属、ノカルデイア属、ストレプトミセス属
、ハンゼヌラ属、アクロモバクタ−属に属する微生物が
例示される。
バクタ−属、アルスロバクタ−属、ブレビバクテリウム
属、シュードモナス属、アルカリ土類金属、ミクロコツ
カス属、クロモバクテリウム属、ミクロバクテリウム属
、コリネバクテリウム属、パシルス属、ラクトバシルス
属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サツカロミセス
属、ロドトルラ属、クリプトコツカス属、トルロプシス
属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、リ
ゾプス属、ムコール属、オーレオパシディウム属、アク
チノムコール属、ノカルデイア属、ストレプトミセス属
、ハンゼヌラ属、アクロモバクタ−属に属する微生物が
例示される。
上記微生物の培養は、通常、常法に従って行われ、たと
えば液体培養を行なうことにより培養液を得ることがで
きる。
えば液体培養を行なうことにより培養液を得ることがで
きる。
たとえば、滅菌した液体培地[かび類、酵母頻用には麦
芽エキス・酵母エキス培地(水llにペプトン5g、グ
ルコースLot、麦芽エキス8g、酵母エキス8Fを溶
解し、pH5,5とする)、細菌用には加糖ブイヨン培
地(水llにグルコース10f、ペプトン51.肉エキ
ス59 Nac18 yを溶解し、pH7,2とする
)]に微生物を接種し、通常20〜40”Cで1〜8日
間往復振盪培養をすることにより行なわれ、また必要に
応じて固体培養を行なってもよい。
芽エキス・酵母エキス培地(水llにペプトン5g、グ
ルコースLot、麦芽エキス8g、酵母エキス8Fを溶
解し、pH5,5とする)、細菌用には加糖ブイヨン培
地(水llにグルコース10f、ペプトン51.肉エキ
ス59 Nac18 yを溶解し、pH7,2とする
)]に微生物を接種し、通常20〜40”Cで1〜8日
間往復振盪培養をすることにより行なわれ、また必要に
応じて固体培養を行なってもよい。
また、これらの微生物起源のエステラーゼのなかには市
販されているものがあり、容易に入手することができる
。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下の
ものが挙げられる。
販されているものがあり、容易に入手することができる
。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下の
ものが挙げられる。
シュードモナス属のリパーゼ(大野製薬製)アスペルギ
ルス属のリパーゼ[リパーゼAP七″ (大野製薬製)〕、ムコール属のりパーpAP(大野製
薬製)、キャンディダ・シリンドラッセのリパーゼ[リ
パーゼMY(多糖産業製)]、アルカリ土類金属のリパ
ーゼ[リパーゼPL(6糖産業tR)]、]アクロモバ
クターのリパーゼ[リパーゼAL(多糖産業製)]、]
アルスロバクターのリパーゼ[新日本化手製]、クロモ
バクテリウム属のリパーゼ(東洋醸造製)、リゾプス・
デレマーのリパーゼ[タリパーゼ(田辺製薬製)]、リ
ゾプス属のリパーゼ[リパーゼサイケン(大阪細菌研究
所)]。
ルス属のリパーゼ[リパーゼAP七″ (大野製薬製)〕、ムコール属のりパーpAP(大野製
薬製)、キャンディダ・シリンドラッセのリパーゼ[リ
パーゼMY(多糖産業製)]、アルカリ土類金属のリパ
ーゼ[リパーゼPL(6糖産業tR)]、]アクロモバ
クターのリパーゼ[リパーゼAL(多糖産業製)]、]
アルスロバクターのリパーゼ[新日本化手製]、クロモ
バクテリウム属のリパーゼ(東洋醸造製)、リゾプス・
デレマーのリパーゼ[タリパーゼ(田辺製薬製)]、リ
ゾプス属のリパーゼ[リパーゼサイケン(大阪細菌研究
所)]。
また、動物・植物エステラーゼを用いることもでき、こ
れらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを挙
げることができる。
れらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを挙
げることができる。
ステアプシン、パンクレアチン、ブタ肝蔵エステラーゼ
、Wheat Germ xy、テラーゼ。
、Wheat Germ xy、テラーゼ。
この反応で用いられるエステラーゼとしては動物、植物
、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態と
しては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培II
:、液、培養物、菌体、培養口液及びそれらを処理した
物など皿々の形態で必要に応じて用いることができ、酵
素と微生物を組合わせて用いることもできる。あるいは
また、樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌体とし
て用いることもできる。
、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態と
しては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培II
:、液、培養物、菌体、培養口液及びそれらを処理した
物など皿々の形態で必要に応じて用いることができ、酵
素と微生物を組合わせて用いることもできる。あるいは
また、樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌体とし
て用いることもできる。
不斉加水分解反応は、原料エステル類(ト)と上記酵素
もしくは微生物の混合物を、通常1mm液液中激しく撹
拌することによって行われる。
もしくは微生物の混合物を、通常1mm液液中激しく撹
拌することによって行われる。
緩衝液としては、通常用いられるリン酸ナトリウム、リ
ン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリウ
ム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が用
いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11、好アルカリ性でな
い微生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラー
ゼではpH5〜8が好ましい。濃度は通常0.05〜2
M、好ましくは0.05〜0.5Mの範囲である。
ン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリウ
ム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が用
いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11、好アルカリ性でな
い微生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラー
ゼではpH5〜8が好ましい。濃度は通常0.05〜2
M、好ましくは0.05〜0.5Mの範囲である。
反応温度は通常10〜60″Cであり、反応時間は一般
的には8〜70時間であるが、これに限定されることは
ない。
的には8〜70時間であるが、これに限定されることは
ない。
このような加水分解反応終了後、加水分解反応液をたと
えばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエー
テル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶媒を留去
したのち濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーで処理す
る等の方法により加水分解生成物である光学活性なアル
コール類ff)と加水分解残である光学活性なエステル
類[原料エステル類(至)中の光学活性体のうち加水分
解されなかったもの]を分離することができる。
えばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエー
テル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶媒を留去
したのち濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーで処理す
る等の方法により加水分解生成物である光学活性なアル
コール類ff)と加水分解残である光学活性なエステル
類[原料エステル類(至)中の光学活性体のうち加水分
解されなかったもの]を分離することができる。
ここで得られた光学活性なエステル類は必要に応じて更
に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類(V)
とは対掌体の光学活性なアルコール類とすることもでき
る。
に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類(V)
とは対掌体の光学活性なアルコール類とすることもでき
る。
なお、この不斉加水分解反応でリパーゼとしてシュード
モナス属あるいはアルスロバクタ−属に属するリパーゼ
を用いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアル
コール類(Y)を得ることができる。
モナス属あるいはアルスロバクタ−属に属するリパーゼ
を用いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアル
コール類(Y)を得ることができる。
また、この不斉加水分解の際、緩衝液に加えてトルエン
、クロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメ
タン等の反応に不活性な有機溶媒を使用することもでき
、これらを使用することによって不斉氷解を有利に行う
ことができる。
、クロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメ
タン等の反応に不活性な有機溶媒を使用することもでき
、これらを使用することによって不斉氷解を有利に行う
ことができる。
光学活性なアルコール類ff>から光学活性なエーテル
類(■)を得る反応(第4工程)は、光学活性なアルコ
ール類ff)を一般式(イ)R−C0OH@ (式中、Rは炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す
。) で示される脂肪族カルボン酸もしく□はその誘導体と反
応させることにより製造することができる。
類(■)を得る反応(第4工程)は、光学活性なアルコ
ール類ff)を一般式(イ)R−C0OH@ (式中、Rは炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す
。) で示される脂肪族カルボン酸もしく□はその誘導体と反
応させることにより製造することができる。
一般式(6)におけるRとしては以下に示すアルキル基
またはアルコキシアルキル基が例示される。
またはアルコキシアルキル基が例示される。
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル
、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデ
シル、エイコシル、1−メチルエチル、2−メチルブチ
ル、2,8−ジメチルブチル、2.8.8−トリメチル
ブチル、2−メチルペンチル、8−メチルペンチル、2
,3−ジメチルペンチル、2゜4−ジメチルペンチル、
2.8.8.4−テトラメチルペンチル、2−メチルヘ
キシル、8−メチルヘキシル、4−メチルヘキシル、2
,5−ジメチルへキシル、2−メチルへブチル、2−メ
チルオクチル、2−トリハロメチルペンチル、2−トリ
ハロメチルヘキシル、2−モノハロメチルへブチル、2
−ハロプロピル、3−ハロー2−メチルプロピル、2,
8−ジハロプロピル、2−ハロブチル、3−ハロブチル
、2゜8−ジハロブチル、2,4−ジハロブチル、3゜
4−ジハロブチル、2−ハロー8−メチルブチル、2−
ハロー8,3−ジメチルブチル、2−ハロペンチル、8
−ハロペンチル、4−ハロペンチル、2,4−ジハロペ
ンチル、2,5−ジハロペンチル、2−ハロー3−メチ
ルペンチル、2−ハロー4−メチルペンチル、2−ハロ
ー8−モノハロメチル−4−メチルペンチル、2−ハロ
ヘキシル、8−ハロヘキシル、4−ハロヘキシル、5−
ハロヘキシル、2−ハロヘプチル、2−ハロオクチル(
但し上記アルキル基中ハロとは、フッ素、塩素、臭素又
はヨウ素を表わす)、メトキシメチル、メトキシエチル
、メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチ
ル、メトキシヘキシル、メトキシヘプチル、メトキシオ
クチル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシメ
チル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブ
チル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキシ
へブチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エトキ
シデシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロ
ポキシプロビル、プロポキシブチル、プロポキシペンチ
ル、プロポキシヘキシル、プロがキシオクチル、プロポ
キシデシル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキ
シプロピル、ブトキシブチル、ブトキシペンチル、ブト
キシヘキシル、ブトキシヘプチル、ブトキシノニル、ペ
ンチルオキシメチル、ペンチルオキシエチル、ペンチル
オキシプロピル、ペンチルオキシブチル、ペンチルオキ
シペンチル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキシ
デシル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル
、ヘキシルオキシプロピル、ヘキシルオキシブチル、ヘ
キシルへキシペンチル、ヘキシルオキシヘキシル、ヘキ
シルオキシオクチル、ヘキシルオキシノニル、ヘキシル
オキシデシル、ヘプチルオキシメチル、ヘプチルオキシ
エチル、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチルオキシペン
チル、オクチルオキシエチル、オクチルオキシエチル、
デシルオキシメチル、デシルオキシメチル、デシルオキ
シプロビル。
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル
、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデ
シル、エイコシル、1−メチルエチル、2−メチルブチ
ル、2,8−ジメチルブチル、2.8.8−トリメチル
ブチル、2−メチルペンチル、8−メチルペンチル、2
,3−ジメチルペンチル、2゜4−ジメチルペンチル、
2.8.8.4−テトラメチルペンチル、2−メチルヘ
キシル、8−メチルヘキシル、4−メチルヘキシル、2
,5−ジメチルへキシル、2−メチルへブチル、2−メ
チルオクチル、2−トリハロメチルペンチル、2−トリ
ハロメチルヘキシル、2−モノハロメチルへブチル、2
−ハロプロピル、3−ハロー2−メチルプロピル、2,
8−ジハロプロピル、2−ハロブチル、3−ハロブチル
、2゜8−ジハロブチル、2,4−ジハロブチル、3゜
4−ジハロブチル、2−ハロー8−メチルブチル、2−
ハロー8,3−ジメチルブチル、2−ハロペンチル、8
−ハロペンチル、4−ハロペンチル、2,4−ジハロペ
ンチル、2,5−ジハロペンチル、2−ハロー3−メチ
ルペンチル、2−ハロー4−メチルペンチル、2−ハロ
ー8−モノハロメチル−4−メチルペンチル、2−ハロ
ヘキシル、8−ハロヘキシル、4−ハロヘキシル、5−
ハロヘキシル、2−ハロヘプチル、2−ハロオクチル(
但し上記アルキル基中ハロとは、フッ素、塩素、臭素又
はヨウ素を表わす)、メトキシメチル、メトキシエチル
、メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチ
ル、メトキシヘキシル、メトキシヘプチル、メトキシオ
クチル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシメ
チル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブ
チル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキシ
へブチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エトキ
シデシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロ
ポキシプロビル、プロポキシブチル、プロポキシペンチ
ル、プロポキシヘキシル、プロがキシオクチル、プロポ
キシデシル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキ
シプロピル、ブトキシブチル、ブトキシペンチル、ブト
キシヘキシル、ブトキシヘプチル、ブトキシノニル、ペ
ンチルオキシメチル、ペンチルオキシエチル、ペンチル
オキシプロピル、ペンチルオキシブチル、ペンチルオキ
シペンチル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキシ
デシル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル
、ヘキシルオキシプロピル、ヘキシルオキシブチル、ヘ
キシルへキシペンチル、ヘキシルオキシヘキシル、ヘキ
シルオキシオクチル、ヘキシルオキシノニル、ヘキシル
オキシデシル、ヘプチルオキシメチル、ヘプチルオキシ
エチル、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチルオキシペン
チル、オクチルオキシエチル、オクチルオキシエチル、
デシルオキシメチル、デシルオキシメチル、デシルオキ
シプロビル。
上記反応においては、これらの脂肪族カルボン酸または
これらの酸無水物または酸クロリド、酸プロミドのごと
き酸ハライドが使用される。
これらの酸無水物または酸クロリド、酸プロミドのごと
き酸ハライドが使用される。
尚、これらの脂肪族カルボン酸もしくはその誘導体はラ
セミ体及び光学活性体のいずれであってもよい。
セミ体及び光学活性体のいずれであってもよい。
上記の光学活性カルボン酸のうちのあるものは、対応す
るアルコールの酸化、アミノ酸の還元的脱アミノ化によ
り得られる。またあるものは天然に存在するか、又は分
割により得られる次のような光学活性アミノ酸及び光学
活性オキシ酸から誘導することができる。
るアルコールの酸化、アミノ酸の還元的脱アミノ化によ
り得られる。またあるものは天然に存在するか、又は分
割により得られる次のような光学活性アミノ酸及び光学
活性オキシ酸から誘導することができる。
アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニル
アラニン、セリン、スレオニン、アロスレオニン、ホモ
セリン、アロイソロイシン、tert−ロイシン、2−
アミノ酪酸、ノルバリン、ノルロイシン、オルニチン、
リジン、ヒドロキシリジン、フェニルグリシン、トリフ
ルオロアラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、乳酸
、マンデル酸、トロバ酸、8−ヒドロキシ酪酸、リンゴ
酸、酒石酸、イソプロピルリンゴ酸等。
アラニン、セリン、スレオニン、アロスレオニン、ホモ
セリン、アロイソロイシン、tert−ロイシン、2−
アミノ酪酸、ノルバリン、ノルロイシン、オルニチン、
リジン、ヒドロキシリジン、フェニルグリシン、トリフ
ルオロアラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、乳酸
、マンデル酸、トロバ酸、8−ヒドロキシ酪酸、リンゴ
酸、酒石酸、イソプロピルリンゴ酸等。
このような光学活性なアルコール化合物ff)と脂肪族
カルボン酸もしくはその誘導体との反応は、通常、溶媒
の存在または非存在下に1、一般には触媒の存在下に行
われる。
カルボン酸もしくはその誘導体との反応は、通常、溶媒
の存在または非存在下に1、一般には触媒の存在下に行
われる。
この反応において溶媒を使用する場合、その溶媒として
はたとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、アセ
トン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、クロ
ルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキサン
等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロゲ
ン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混合
物があげられる。その使用量については特に制限なく使
用することができる。
はたとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、アセ
トン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、クロ
ルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキサン
等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロゲ
ン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混合
物があげられる。その使用量については特に制限なく使
用することができる。
該反応に於て、上記の脂肪族カルボン酸の酸無水物もし
くは酸ハライドを用いる場合、その使用量は、光学活性
なアルコール化合物ff)に対して1当量倍以上必要で
あり、上限については特に制限されないが、好ましくは
4当量倍である。
くは酸ハライドを用いる場合、その使用量は、光学活性
なアルコール化合物ff)に対して1当量倍以上必要で
あり、上限については特に制限されないが、好ましくは
4当量倍である。
触媒としては、たとえばジメチルアミノピリジン、トリ
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ピリジン、ピ
コリン、コリジン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、ナ
トリウムメチラート、炭酸水素カリウム等の有機あるい
は無機塩基性物質があげられる。また、トルエンスルホ
ン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの有機酸あるいは無
機酸を触媒として用いることもできる。
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ピリジン、ピ
コリン、コリジン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、ナ
トリウムメチラート、炭酸水素カリウム等の有機あるい
は無機塩基性物質があげられる。また、トルエンスルホ
ン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの有機酸あるいは無
機酸を触媒として用いることもできる。
かかる触媒を使用するにあたり、たとえば原料として脂
肪族カルボン酸の酸ハライドを使用する場合にはピリジ
ン、トリエチルアミンが特に好ましく使用される。
肪族カルボン酸の酸ハライドを使用する場合にはピリジ
ン、トリエチルアミンが特に好ましく使用される。
触媒の使用量は脂肪族カルボン酸の酸無水物もしくは酸
ハライドの穏類と使用する触媒の組合わせ等によっても
異なり、必ずしも特定されないが、たとえば酸ハライド
を使用する場合には、酸ハライドに対して1当量倍以上
である。
ハライドの穏類と使用する触媒の組合わせ等によっても
異なり、必ずしも特定されないが、たとえば酸ハライド
を使用する場合には、酸ハライドに対して1当量倍以上
である。
また、該反応に於て、脂肪族カルボン酸を用いる場合、
縮合剤の存在下、該カルボン酸を通常光学活性なアルコ
ール類ff)に対して1〜2当景倍用いて脱水縮合させ
ることにより光学活性なエーテル類(■)を得ることが
できる。
縮合剤の存在下、該カルボン酸を通常光学活性なアルコ
ール類ff)に対して1〜2当景倍用いて脱水縮合させ
ることにより光学活性なエーテル類(■)を得ることが
できる。
縮合剤としてはN 、 N’−ジシクロへキシルカルボ
ジイミド、N−シクロへキシル−N’−(4−ジエチル
アミノ)シクロヘキシルカルボジイミドの如きカルボジ
イミドが好ましく用いられ、また必要により4−ビdリ
ジノビリジン、ピリジン、トリエチルアミンの如き有機
塩基が併用される。
ジイミド、N−シクロへキシル−N’−(4−ジエチル
アミノ)シクロヘキシルカルボジイミドの如きカルボジ
イミドが好ましく用いられ、また必要により4−ビdリ
ジノビリジン、ピリジン、トリエチルアミンの如き有機
塩基が併用される。
縮合剤の使用量はカルボン酸に対して1〜1.2当量倍
であり、塩基を使用する場合にその使用量は、縮合剤に
対して0.01〜0.2当量倍である。
であり、塩基を使用する場合にその使用量は、縮合剤に
対して0.01〜0.2当量倍である。
反応温度は通常−30″C〜100″Cであるが、好ま
しくは一25°C〜806Cである。
しくは一25°C〜806Cである。
反応時間は特に制限されず、原料の光学活性アルコール
化合物が消失した時点を反応の終点とすることができる
。
化合物が消失した時点を反応の終点とすることができる
。
反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃
縮等の操作により光学活性なエーテル1(Vl)を収率
よく得ることができ、これは必要に応じてカラムクロマ
トグラフィー、再結晶等により精製することができるが
、次工程へは反応混合物のままで使用することもできる
。
縮等の操作により光学活性なエーテル1(Vl)を収率
よく得ることができ、これは必要に応じてカラムクロマ
トグラフィー、再結晶等により精製することができるが
、次工程へは反応混合物のままで使用することもできる
。
光学活性なエーテル類(■)から目的とする光学活性な
ベンゼン誘導体を得る反応(第5工程)は、通常、光学
活性なエーテル類を、水添触媒の存在下、水素により接
触水添して脱ベンジル化することにより行われる。
ベンゼン誘導体を得る反応(第5工程)は、通常、光学
活性なエーテル類を、水添触媒の存在下、水素により接
触水添して脱ベンジル化することにより行われる。
この脱ベンジル化反応において、水添触媒としてはパラ
ジウム系の金属触媒が好んで用いられ、その具体例とし
てパラジウム−炭素、酸化パラジウム、パラジウム黒、
塩化パラジウム等が挙げられる。
ジウム系の金属触媒が好んで用いられ、その具体例とし
てパラジウム−炭素、酸化パラジウム、パラジウム黒、
塩化パラジウム等が挙げられる。
かかる触媒の使用量は、光学活性なエーテル類(■)に
対して通常o、oot〜0.5重量倍、好ましくは0.
005〜0.8重量倍の範囲である。
対して通常o、oot〜0.5重量倍、好ましくは0.
005〜0.8重量倍の範囲である。
反応は通常溶媒中で行われ、溶媒としてはたとえば水、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノ
ール、n−プロピルアルコール、アセトン、ジメチルホ
ルムアミド、トルエン、ジクロルメタン、酢酸エチル等
の脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、エー
テル、ケトン、エステル、ハロゲン化炭化水素等の反応
に不活性な溶媒の単独または混合物が使用される。
ジオキサン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノ
ール、n−プロピルアルコール、アセトン、ジメチルホ
ルムアミド、トルエン、ジクロルメタン、酢酸エチル等
の脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、エー
テル、ケトン、エステル、ハロゲン化炭化水素等の反応
に不活性な溶媒の単独または混合物が使用される。
この反応は、水素圧が常圧または加圧下に行われ、水素
の吸収量が原料である光学活性なエーテル類(■)に対
して1〜1.2当量倍となった時点で反応終点とするの
が好ましい。
の吸収量が原料である光学活性なエーテル類(■)に対
して1〜1.2当量倍となった時点で反応終点とするの
が好ましい。
反応温度は一10℃〜100℃、好ましくは10℃〜9
0”Cの範囲である。
0”Cの範囲である。
反応終了後、反応混合物から触媒をろ過処理等により除
去したのち濃縮する等の方法により、目的とする光学活
性なベンゼン誘導体(I)を得るこれは必要に応じてカ
ラムクロマトグラフィー、再結晶等により精製すること
ができる。
去したのち濃縮する等の方法により、目的とする光学活
性なベンゼン誘導体(I)を得るこれは必要に応じてカ
ラムクロマトグラフィー、再結晶等により精製すること
ができる。
〈発明の効果〉
かくして、本発明の方法によれば、新規化合物である一
般式(I)で示される光学活性なベンゼン誘導体を工業
的有利に製造することができ、しかも本発明化合物は液
晶用材料として有用であるのみならず、農薬、医薬等の
中間体としても利用することができる。
般式(I)で示される光学活性なベンゼン誘導体を工業
的有利に製造することができ、しかも本発明化合物は液
晶用材料として有用であるのみならず、農薬、医薬等の
中間体としても利用することができる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
撹拌装置、温度計を装着した4ツロフラスコに4−ベン
ジルオキシアセトフェノン(■−1)90.45y(0
,4モル)、テトラヒドロフラン800−およびメタノ
ール10〇−を仕込み、これに、15〜25”Cにて水
素化ホウ素ナトリウム15.14F(0,4モル)を2
時間を要して加える。同温度にて5時間保温後、氷水中
にあけ、酢酸エチル500mにて2回抽出する。有機層
を減圧下に濃縮してp−ベンジルオキシ1−フェネチル
アルコール(111−1)88.5g(収率97%)を
得た。
ジルオキシアセトフェノン(■−1)90.45y(0
,4モル)、テトラヒドロフラン800−およびメタノ
ール10〇−を仕込み、これに、15〜25”Cにて水
素化ホウ素ナトリウム15.14F(0,4モル)を2
時間を要して加える。同温度にて5時間保温後、氷水中
にあけ、酢酸エチル500mにて2回抽出する。有機層
を減圧下に濃縮してp−ベンジルオキシ1−フェネチル
アルコール(111−1)88.5g(収率97%)を
得た。
次に、ここで得た(II−1)68.44y(0,8モ
ル)をトルエン800rRtとピリジン50−の混合液
に溶解し、これにアセチルクロリド25.91N(0,
88モル)を15〜20°Cにて2時間を要して加える
。その後、同温度で1時間、40〜50℃で2時間保温
する。反応終了後、10°C以下に冷却し、水200−
を加える。分液した有機層を2N−塩酸水、水、6%炭
酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮し、さ
らにカラムクロマトにて精製してp−ベンジルオキシ−
1−フェネチルアルコールの酢酸エステル(■−1)7
9.Bf(収率98.5%)を得た。
ル)をトルエン800rRtとピリジン50−の混合液
に溶解し、これにアセチルクロリド25.91N(0,
88モル)を15〜20°Cにて2時間を要して加える
。その後、同温度で1時間、40〜50℃で2時間保温
する。反応終了後、10°C以下に冷却し、水200−
を加える。分液した有機層を2N−塩酸水、水、6%炭
酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮し、さ
らにカラムクロマトにて精製してp−ベンジルオキシ−
1−フェネチルアルコールの酢酸エステル(■−1)7
9.Bf(収率98.5%)を得た。
次に上で得た(ff−1)67、fM(0,25モル)
を0. f3 Mリン酸バッファ(1)H7,5)70
0rr1tおよびアマノリパーゼ1PJ6.751とと
もに40〜45’Cで40時間激しく撹拌する。反応終
了後、反応混合物を酢酸エチル500−にて抽出し、有
機層を減圧にて濃縮したのち、残渣をトルエン:酢酸エ
チル(5:2)混合液を溶離溶媒としてカラムクロマト
精製し、(ト)−p−ベンジルオキシ−1−フェネチル
アルコール[V−1]28.881(収率41%)〔[
α]D+85.9°(C=11CHC1a)、融点66
〜68”C]を得た。
を0. f3 Mリン酸バッファ(1)H7,5)70
0rr1tおよびアマノリパーゼ1PJ6.751とと
もに40〜45’Cで40時間激しく撹拌する。反応終
了後、反応混合物を酢酸エチル500−にて抽出し、有
機層を減圧にて濃縮したのち、残渣をトルエン:酢酸エ
チル(5:2)混合液を溶離溶媒としてカラムクロマト
精製し、(ト)−p−ベンジルオキシ−1−フェネチル
アルコール[V−1]28.881(収率41%)〔[
α]D+85.9°(C=11CHC1a)、融点66
〜68”C]を得た。
次に、ここで得た←)−p−ベンジルオキシ−1−フェ
ネチルアルコール(V −1)1.141(5ミリモル
)を乾燥したピリジン15−にとかし、これにプロピオ
ン酸クロリド0.5115.5ミリモル)を滴下する。
ネチルアルコール(V −1)1.141(5ミリモル
)を乾燥したピリジン15−にとかし、これにプロピオ
ン酸クロリド0.5115.5ミリモル)を滴下する。
その後室温で1時間撹拌したのち、これを2N塩酸10
〇−中に注ぎ、トルエン50−で抽出処理する。
〇−中に注ぎ、トルエン50−で抽出処理する。
トルエン層を水洗したのち7%重炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、さらに水洗して無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。このトルエン溶液を減圧下に溶媒留去し、得られ
た残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィ
ーにて精製して(ト)−p−ベンジルオキシ−1−フェ
ネチルアルコールのプロピオン酸エステル(■−1)5
.85f(収率q9%)を得tこ。
で洗浄し、さらに水洗して無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。このトルエン溶液を減圧下に溶媒留去し、得られ
た残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィ
ーにて精製して(ト)−p−ベンジルオキシ−1−フェ
ネチルアルコールのプロピオン酸エステル(■−1)5
.85f(収率q9%)を得tこ。
これを更にエタノールを用いて再結晶処理して精製を行
った。
った。
[[a]D=+98°(C= 1 、 CHC5g )
融点 52”C 次に、ここで得た(■−1)1.14ダ(4ミリモル)
をメタノール10−および5%Pd−炭素0.2yと混
合し、水素雰囲気下に常圧にて接触水添する。水素吸収
量が10011Ltになったところで反応を止め、触媒
をP別して除く。rP液を濃縮し、残渣をトルエン−酢
酸エチル(5:2)混合液を溶離溶媒とじてカラムクロ
マトグラフィーで精製し、(ト)−4−(1’−フロピ
オニルオキシエチル)フェノ一ル0.7By(98,5
%)を得た。[[α]D+92°(c= l 、 C,
HCla )、融点71〜72’C]実施例2 実施例1で得た(ト)−p−ベンジルオキシ−1−フェ
ネチルアルコール(V−1)1.14fc5ミリモル)
、トルエン20−、ピリジン5−および無水ヘキサン酸
1.18F(5,5トルエン20−を加えて抽出する。
融点 52”C 次に、ここで得た(■−1)1.14ダ(4ミリモル)
をメタノール10−および5%Pd−炭素0.2yと混
合し、水素雰囲気下に常圧にて接触水添する。水素吸収
量が10011Ltになったところで反応を止め、触媒
をP別して除く。rP液を濃縮し、残渣をトルエン−酢
酸エチル(5:2)混合液を溶離溶媒とじてカラムクロ
マトグラフィーで精製し、(ト)−4−(1’−フロピ
オニルオキシエチル)フェノ一ル0.7By(98,5
%)を得た。[[α]D+92°(c= l 、 C,
HCla )、融点71〜72’C]実施例2 実施例1で得た(ト)−p−ベンジルオキシ−1−フェ
ネチルアルコール(V−1)1.14fc5ミリモル)
、トルエン20−、ピリジン5−および無水ヘキサン酸
1.18F(5,5トルエン20−を加えて抽出する。
以下IN−塩酸水、2%重ソウ水、水にて順次洗浄する
。以下実施例1に準じて後処理及び精製し、(+)−p
−ベンジルオキシ−1−フェネチルアルコールのヘキサ
ン酸エステル(■−2つ1.58F(収率97%)を得
た。
。以下実施例1に準じて後処理及び精製し、(+)−p
−ベンジルオキシ−1−フェネチルアルコールのヘキサ
ン酸エステル(■−2つ1.58F(収率97%)を得
た。
[α]D +78°(C=1、CHCハ)nX)1.5
289 次にここで得た(■−2)1.30f(4ミリモル)を
メタノール10−および5%Pd−炭素0.22と混合
し、水素雰囲気下、常圧にて接触水添する。水素吸収量
が95−のところで反応を止め、触媒を戸別して除く。
289 次にここで得た(■−2)1.30f(4ミリモル)を
メタノール10−および5%Pd−炭素0.22と混合
し、水素雰囲気下、常圧にて接触水添する。水素吸収量
が95−のところで反応を止め、触媒を戸別して除く。
P [を濃縮し、残渣をカラムクロマトにて精製シて←
)−4−(1’−ヘキサノイルオキシエチル)フエ/−
Jllo、859 (収率90%)を得た。
)−4−(1’−ヘキサノイルオキシエチル)フエ/−
Jllo、859 (収率90%)を得た。
[α]背=+79°(c= L CHCl5 )、nせ
1.5101実施例8 撹拌装置、温度計を装着した4ツロフラスコに4′−ア
セチル−4−ベンジルオキシビフェニル(II−8)1
2.09ノ(0,04モル)、テトラヒドロフラン40
fntおよびメタノール10−を仕込み、9れに15〜
25℃にて水素化ホウ素ナトリウム1.51 f (0
,4モル)を2時間を要して加える。同温度にて5時間
保温後、氷水中にあけ、クロロホルム50m/にて2回
抽出する。有機層を減圧下に濃縮して4−ベンジルオキ
シ−4’−(1−ヒドロキシエチル)ビフェニル(Il
l−8)11.74jF(収率96.5%)を得た。
1.5101実施例8 撹拌装置、温度計を装着した4ツロフラスコに4′−ア
セチル−4−ベンジルオキシビフェニル(II−8)1
2.09ノ(0,04モル)、テトラヒドロフラン40
fntおよびメタノール10−を仕込み、9れに15〜
25℃にて水素化ホウ素ナトリウム1.51 f (0
,4モル)を2時間を要して加える。同温度にて5時間
保温後、氷水中にあけ、クロロホルム50m/にて2回
抽出する。有機層を減圧下に濃縮して4−ベンジルオキ
シ−4’−(1−ヒドロキシエチル)ビフェニル(Il
l−8)11.74jF(収率96.5%)を得た。
次に、4−ベンジルオキシ−4’−(1−ヒドロキシエ
チル)ビフェニル9.12IC0,8モル)をトルエン
40−およびピリジンl〇−からなる混合液に溶解し、
これにアセチルクロリド2.59f/(0,033モル
)を15〜20’Cにて2時間を要して加える。同温度
で1時間、40〜50℃で2時間保温する。
チル)ビフェニル9.12IC0,8モル)をトルエン
40−およびピリジンl〇−からなる混合液に溶解し、
これにアセチルクロリド2.59f/(0,033モル
)を15〜20’Cにて2時間を要して加える。同温度
で1時間、40〜50℃で2時間保温する。
反応終了後、10℃以下に冷却して水8〇−を加え、有
’amを分液ののち、IN−塩酸水、水、5%炭酸ナト
リウム、水にて順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮し
、さらにカラムクロマトにて精製して4−ベンジルオキ
シ−4’−(1−ヒドロキシエチル)ビフェニルの酢酸
エステル(■−〆)10.16ノ(収率97.8%)を
得た。
’amを分液ののち、IN−塩酸水、水、5%炭酸ナト
リウム、水にて順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮し
、さらにカラムクロマトにて精製して4−ベンジルオキ
シ−4’−(1−ヒドロキシエチル)ビフェニルの酢酸
エステル(■−〆)10.16ノ(収率97.8%)を
得た。
この酢酸エステル1ff−8)8.65F(0,025
モル)を0.8Mリン酸バッフ1(pH7,5)200
mおよびアマノリパーゼrl)J6Fと混合し、40〜
45℃で120時間激しく撹拌する。反応終了後、反応
混合物をクロロホルム100−にて抽出する。有機層を
減圧下に濃縮し、残渣をトルエン:酢酸エチル=5:2
混合液を溶離溶媒としてカラムクロマト精製して任)−
4−ベンジルオキシ−d−(t−ヒドロキシエチル)ビ
フェニル2.89f(Y−3)[[dlD−114,8
°(c=t。
モル)を0.8Mリン酸バッフ1(pH7,5)200
mおよびアマノリパーゼrl)J6Fと混合し、40〜
45℃で120時間激しく撹拌する。反応終了後、反応
混合物をクロロホルム100−にて抽出する。有機層を
減圧下に濃縮し、残渣をトルエン:酢酸エチル=5:2
混合液を溶離溶媒としてカラムクロマト精製して任)−
4−ベンジルオキシ−d−(t−ヒドロキシエチル)ビ
フェニル2.89f(Y−3)[[dlD−114,8
°(c=t。
CHCl5 )、m、p 158〜159℃〕を得た。
次に、ココで得た(V−3)1.22F(4ミリモル)
をジクロルメタン10−、ピリジン101Rtに溶解し
、オクタン酸クロリド0.71ら、氷水中にあけ、ジク
ロルメタンにて抽出する。有機層は、IN−塩酸水、2
%重ソウ水、水にて順次洗浄する。有機層は濃縮ののち
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製スる。(
+)−4−ベンジルオキシ−4′−(1−ヒドロキシエ
チル)ビフェニルのオクタン酸エステル(■−3)を得
た。1.64g(収率 95.5%) [a ] nD+48°(c= 1 、 CHCl5
)融点 92〜98℃ 次に、ここで得た(■−8)1.29F(8ミリモル)
をテトラヒドロフラン20−、メタノール5−および5
%pd−炭素0.251と混合し、水素雰囲気下に常圧
にて接触水添する。水素吸収量70−のところで反応を
止め、触媒を戸別する。以下、実施例1と同様に精製す
る。
をジクロルメタン10−、ピリジン101Rtに溶解し
、オクタン酸クロリド0.71ら、氷水中にあけ、ジク
ロルメタンにて抽出する。有機層は、IN−塩酸水、2
%重ソウ水、水にて順次洗浄する。有機層は濃縮ののち
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製スる。(
+)−4−ベンジルオキシ−4′−(1−ヒドロキシエ
チル)ビフェニルのオクタン酸エステル(■−3)を得
た。1.64g(収率 95.5%) [a ] nD+48°(c= 1 、 CHCl5
)融点 92〜98℃ 次に、ここで得た(■−8)1.29F(8ミリモル)
をテトラヒドロフラン20−、メタノール5−および5
%pd−炭素0.251と混合し、水素雰囲気下に常圧
にて接触水添する。水素吸収量70−のところで反応を
止め、触媒を戸別する。以下、実施例1と同様に精製す
る。
B)−4−(1’−オクタノイルオキシエチル−4′−
ヒドロキシビフェニルo、9y(収率88%)を得た。
ヒドロキシビフェニルo、9y(収率88%)を得た。
[α]、+f39°(c= 1 、 CHCln )n
D 1.5586 実施例4 実施例8で得た(ト)−4−ベンジルオキシ−4’−(
1−ヒドロキシエチル)ビフェニル(マー8)1.22
F(4ミリモル)s(2s。
D 1.5586 実施例4 実施例8で得た(ト)−4−ベンジルオキシ−4’−(
1−ヒドロキシエチル)ビフェニル(マー8)1.22
F(4ミリモル)s(2s。
13s)−2−クロル−8−メチルペンタン酸0.72
IC4,8ミリモル)およびジクロルメタン20−の溶
液中にジシクロへキシルカルボジイミド0.91 f
(4,4ミリモル)および4−ピロリジノピリジン0.
08gを加え、室温下に10時間反応させる。反応終了
後、析出したジシクロへキレルウレアを炉別して除きF
液を減圧下に濃縮する。濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶離溶媒トルエン)にて精製する。
IC4,8ミリモル)およびジクロルメタン20−の溶
液中にジシクロへキシルカルボジイミド0.91 f
(4,4ミリモル)および4−ピロリジノピリジン0.
08gを加え、室温下に10時間反応させる。反応終了
後、析出したジシクロへキレルウレアを炉別して除きF
液を減圧下に濃縮する。濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶離溶媒トルエン)にて精製する。
fF)−4−ベンジルオキシ−4’−(1−ヒドロキシ
エチル)ビフェニルの(23,8S)−2−クロル−8
−メチルペンタン酸エステル(■−4)を得る。
エチル)ビフェニルの(23,8S)−2−クロル−8
−メチルペンタン酸エステル(■−4)を得る。
1.68f(収率95.5%)
[a]D+ 68.8’ (c=1 、 CH(Ja
)融点 125〜126℃ 次に、ここで得た(■−4)1.31f(3ミリモル)
をテトラヒドロフラン10v、)ルエン8fRtおよび
2%pd−炭素0.12と混合し、水素雰囲気下に接触
水添する。反応終了後、戸別し、以下、実施例1に準じ
て後処埋積製して、汗)−4−ヒドロキシ−4’−(1
−(2’S 、 8’5−2−クロル−8−メチルペン
タノイルオキシ)エチル)ビフェニル0.321(収率
31%)を得る。
)融点 125〜126℃ 次に、ここで得た(■−4)1.31f(3ミリモル)
をテトラヒドロフラン10v、)ルエン8fRtおよび
2%pd−炭素0.12と混合し、水素雰囲気下に接触
水添する。反応終了後、戸別し、以下、実施例1に準じ
て後処埋積製して、汗)−4−ヒドロキシ−4’−(1
−(2’S 、 8’5−2−クロル−8−メチルペン
タノイルオキシ)エチル)ビフェニル0.321(収率
31%)を得る。
[αID =+60’ (C=1− CHCl5
)融点 99°〜100℃ 実施例5 実施例1と同様の装置に4−(p−メチルベンジルオキ
シ)アセトフェノン(ll−5)24.0y(0,1モ
ル)、クロロホルム100−およびメタノール80−を
仕込み、これに15〜20℃にて水素化ホウ素ナトリウ
ム4.5ダ(0,12モル)を2時間にて加える。
)融点 99°〜100℃ 実施例5 実施例1と同様の装置に4−(p−メチルベンジルオキ
シ)アセトフェノン(ll−5)24.0y(0,1モ
ル)、クロロホルム100−およびメタノール80−を
仕込み、これに15〜20℃にて水素化ホウ素ナトリウ
ム4.5ダ(0,12モル)を2時間にて加える。
同温度にて5時間保温後、氷水中にあけ、クロロホルム
にて抽出する。有機層を減圧下に濃縮してp−(4−メ
チルベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコール(l
ll−5)28.11(収率96,6%)を得た。
にて抽出する。有機層を減圧下に濃縮してp−(4−メ
チルベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコール(l
ll−5)28.11(収率96,6%)を得た。
次に、ここで得た(1−5)18.16F(0,075
モル)、トルエン100−およびピリジン15−の混合
溶液に、アセチルクロリド6.48F(82,5ミリモ
ル)を10〜20℃にて2時間にて加える。同温度で1
時間保温の後、40〜50℃にてさらに2時間保温する
。以下実施例1に準じて、後処理、精製し、p−(4−
メチルベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコールの
酢酸エステル(IT−5)20.78y(収率97.5
%)を得た。
モル)、トルエン100−およびピリジン15−の混合
溶液に、アセチルクロリド6.48F(82,5ミリモ
ル)を10〜20℃にて2時間にて加える。同温度で1
時間保温の後、40〜50℃にてさらに2時間保温する
。以下実施例1に準じて、後処理、精製し、p−(4−
メチルベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコールの
酢酸エステル(IT−5)20.78y(収率97.5
%)を得た。
次に、(IV−5)19.1g(70ミリモル)を0.
3Mリン酸バッファ(pH7,0)200−およびアマ
ノリパーゼrpJ2.88Nとともに85へ40℃にて
20時間激しく撹拌する。反応終了後、実施例1に準じ
て後処理、精製する。
3Mリン酸バッファ(pH7,0)200−およびアマ
ノリパーゼrpJ2.88Nとともに85へ40℃にて
20時間激しく撹拌する。反応終了後、実施例1に準じ
て後処理、精製する。
B)−p−(4−メチルベンジルオキシ)−1−フェネ
チルフルコ−Jl/ (V −5) 6.6 F(収率
89%) [α]、+84.2°(c=imCHCIs
)、融点 52〜58 ”C]を得た。
チルフルコ−Jl/ (V −5) 6.6 F(収率
89%) [α]、+84.2°(c=imCHCIs
)、融点 52〜58 ”C]を得た。
次に、ここで得?、:(V−5)1.21f(5ミリモ
ル)をパルミチン酸クロリド1.65F(6ミリモル)
、ピリジン10−およびトルエン10−とともに25〜
80℃にて10時間反応させる。以下、実施例1に準じ
て後処理、精製する。
ル)をパルミチン酸クロリド1.65F(6ミリモル)
、ピリジン10−およびトルエン10−とともに25〜
80℃にて10時間反応させる。以下、実施例1に準じ
て後処理、精製する。
←)−1)−(4−メチルベンジルオキシ)−1−フェ
ネチルアルコールのパルミチン酸エステル(■−5)
2.16 F (収率90%)を得る。
ネチルアルコールのパルミチン酸エステル(■−5)
2.16 F (収率90%)を得る。
[α]、+58°(c= 1 、 CHCds )nD
1.5186 次に、(■−5)1.86f(4ミリモル)を使用し、
実施例1と同様に脱ベンジル化反応、後処理及び精製し
てワックス状固体の←)−4−(1’−バルミトイルオ
キシエチル)フェノール1.41F(94%)を得る。
1.5186 次に、(■−5)1.86f(4ミリモル)を使用し、
実施例1と同様に脱ベンジル化反応、後処理及び精製し
てワックス状固体の←)−4−(1’−バルミトイルオ
キシエチル)フェノール1.41F(94%)を得る。
[αID +58°(c=1 、 CHCds )実施
例6 4−(p−メチルベンジルオキシ)アセトフェノンにか
えて4−(p−メトキシベンジルオキシ)アセトフェノ
ン(n−6)25.6F(0,1モル)を使用する以外
は実施例1と同様に還元反応を行ってp−(4−メトキ
シベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコール(II
I−6)を得る。(収率97%)次に、(Ill−6)
0.075モルを実施例5と同様にアセチル化反応、後
処理及び精製してp−(4−メトキシベンジルオキシ)
−1−フェネチルアルコールの酢酸エステル(IT−6
)を得る(収率96%)。
例6 4−(p−メチルベンジルオキシ)アセトフェノンにか
えて4−(p−メトキシベンジルオキシ)アセトフェノ
ン(n−6)25.6F(0,1モル)を使用する以外
は実施例1と同様に還元反応を行ってp−(4−メトキ
シベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコール(II
I−6)を得る。(収率97%)次に、(Ill−6)
0.075モルを実施例5と同様にアセチル化反応、後
処理及び精製してp−(4−メトキシベンジルオキシ)
−1−フェネチルアルコールの酢酸エステル(IT−6
)を得る(収率96%)。
この(IV−6)を使用する以外は実施例5と同様に不
斉氷解反応、後処理及び精製を行う。f+) −p−(
4−メトキシベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコ
ール(V−6)を得る(収率85%)。
斉氷解反応、後処理及び精製を行う。f+) −p−(
4−メトキシベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコ
ール(V−6)を得る(収率85%)。
この(V−6)を、パルミチン酸クロリドにかえてデカ
ン酸クロリドを使用する以外は実施例5と同様にアシル
化反応、後処理及び精製することにより、←)−p−(
4−メトキシベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコ
−ルのデカン酸エステル()’1−6)を得る(収率9
6%)。
ン酸クロリドを使用する以外は実施例5と同様にアシル
化反応、後処理及び精製することにより、←)−p−(
4−メトキシベンジルオキシ)−1−フェネチルアルコ
−ルのデカン酸エステル()’1−6)を得る(収率9
6%)。
次に、(■−6)を実施例1に準じて脱ベンジル化反応
、後処理及び精製して、fF)−4−(1’−デカノイ
ルオキシエチル)フェノールを収率90%で得た。
、後処理及び精製して、fF)−4−(1’−デカノイ
ルオキシエチル)フェノールを収率90%で得た。
[α]D =+52°(C= 1 、 CHClg )
帽 1.4912 実施例7 4′−アセチル−4−ベンジルオキシビフェニルにかえ
て4′−アセチル−4−(p−クロルベンジルオキシ)
−ビフェニル18.46F(0,04モル)を使用する
以外は実施例3と同様に還元反応及び後処理する。さら
に、これ以降の反応についても実施例8と同様のモル比
、条件にて反応し、さらに後処理及び精製スる。(ト)
−4−(p−クロルベンジルオキシ−4’−(1−ヒド
ロキシエチル)ビフェニル(マー7)を得る。
帽 1.4912 実施例7 4′−アセチル−4−ベンジルオキシビフェニルにかえ
て4′−アセチル−4−(p−クロルベンジルオキシ)
−ビフェニル18.46F(0,04モル)を使用する
以外は実施例3と同様に還元反応及び後処理する。さら
に、これ以降の反応についても実施例8と同様のモル比
、条件にて反応し、さらに後処理及び精製スる。(ト)
−4−(p−クロルベンジルオキシ−4’−(1−ヒド
ロキシエチル)ビフェニル(マー7)を得る。
オクタン酸りロリド昏こかえて、プロピオン酸クロリド
を使用する以外は実施例3と同様にアシル化反応及び後
処理して、←)−4−(p−クロルベンジルオキシ−4
’−(1−ヒドロキシエチル)ビフェニルのプロピオン
酸エステル(■−7)を得る。
を使用する以外は実施例3と同様にアシル化反応及び後
処理して、←)−4−(p−クロルベンジルオキシ−4
’−(1−ヒドロキシエチル)ビフェニルのプロピオン
酸エステル(■−7)を得る。
[α]、=+44°(c= 1 、 CHCA’11
)次に、(■−7)の8ミリモルを実施例8に準じて脱
ベンジル化反応、後処理及び精製する。
)次に、(■−7)の8ミリモルを実施例8に準じて脱
ベンジル化反応、後処理及び精製する。
(+)−4−(1’−プロピオニルオキシエチル)−4
′−ヒドロキシビフェニルヲ得ル。
′−ヒドロキシビフェニルヲ得ル。
[α]D−+60’ (c=1 、CHClg )融点
186〜188°C 実施例8A−10 プロピオン酸クロリドにかえて、表1に示す酸クロリド
(5,5ミリモル)を用いる以外は実施例1と同様にア
シル化反応及び後処理した。次の脱ベンジル化反応は、
一般式(■)の化合物の4ミリモルを原料としてテトラ
ヒドロフラン15m、)ルエン3−および2%pci−
炭素0.11を添加した後に水素添加する。反応終了後
、実施例1に準じて後処理及び精製を行った。結果を表
1に示す。
186〜188°C 実施例8A−10 プロピオン酸クロリドにかえて、表1に示す酸クロリド
(5,5ミリモル)を用いる以外は実施例1と同様にア
シル化反応及び後処理した。次の脱ベンジル化反応は、
一般式(■)の化合物の4ミリモルを原料としてテトラ
ヒドロフラン15m、)ルエン3−および2%pci−
炭素0.11を添加した後に水素添加する。反応終了後
、実施例1に準じて後処理及び精製を行った。結果を表
1に示す。
実施例11
オクタン酸クロリドにかえて、プロピオン酸クロリド0
.411 (4,4ミリモル)を使用する以外は実施例
8と同様の条件にて反応及び後処理して(ト)−4−ベ
ンジルオキシ−4′−(1−プロピオニルオキシエチル
)ビフェニル(■−11)1.40y(収率97.5%
)を得た。
.411 (4,4ミリモル)を使用する以外は実施例
8と同様の条件にて反応及び後処理して(ト)−4−ベ
ンジルオキシ−4′−(1−プロピオニルオキシエチル
)ビフェニル(■−11)1.40y(収率97.5%
)を得た。
〔α]D +55°(C= 1 、 CH(Ja )融
点 125℃ 次に、(■−11)のLO8y(8ミリモル)を使用し
、実施例8と同様に接触水添する。以下同様に後処理、
精製し、(ト)−4−ヒドロキシ−4’−(1−プロピ
オニルオキシエチル)ビフェニル0.75F(収率9a
%)を得た。
点 125℃ 次に、(■−11)のLO8y(8ミリモル)を使用し
、実施例8と同様に接触水添する。以下同様に後処理、
精製し、(ト)−4−ヒドロキシ−4’−(1−プロピ
オニルオキシエチル)ビフェニル0.75F(収率9a
%)を得た。
[α]。+52°(C=1.CHC乙8)融点 188
°〜135aO 実施例12 (ト)−4−ベンジルオキシ−4’−(1−ヒドロキン
エチル)ビフェニル(v−3・)にかえて(ト)−p−
ベンジルオキシ−1−フェネチル7JL/:7−ル(V
−1) 1.14 f (4’l ’)−f:)L/)
を、(2S、85)−2−クロル−8−メチ 。
°〜135aO 実施例12 (ト)−4−ベンジルオキシ−4’−(1−ヒドロキン
エチル)ビフェニル(v−3・)にかえて(ト)−p−
ベンジルオキシ−1−フェネチル7JL/:7−ル(V
−1) 1.14 f (4’l ’)−f:)L/)
を、(2S、85)−2−クロル−8−メチ 。
ルペンタン酸にかえて2−5−メチルブタン酸0.49
fI(4,8tリモル)を使用する以外は実施例4と同
様にアシル化反応、後処理及び精製する。
fI(4,8tリモル)を使用する以外は実施例4と同
様にアシル化反応、後処理及び精製する。
←)−p−ベンジルオキシ−1−フェネチルアルコール
の2−5−メチルブタン酸エステル(■−12)1.3
6F(収率95%)を得た。
の2−5−メチルブタン酸エステル(■−12)1.3
6F(収率95%)を得た。
[a]D+88°(c= 1 、 CHCl5 )帽
1.5826 次に、(■−12)0.9418ミリモル)、酢酸エチ
ル15−および5%pd−炭X O,Bfを混合し、常
圧Iζて接触水添する。後処理および精製は実施例1に
準じて行った。
1.5826 次に、(■−12)0.9418ミリモル)、酢酸エチ
ル15−および5%pd−炭X O,Bfを混合し、常
圧Iζて接触水添する。後処理および精製は実施例1に
準じて行った。
(−1−)−4−[1’−28−2−メチルブチリルオ
キシエチル)フェノール0.61F(1[Sl91.5
%)を得た。
キシエチル)フェノール0.61F(1[Sl91.5
%)を得た。
[α]D+88.2°(c= l 、 CHCl5 )
1201.4976 実施例13 実施例1で得た(→−p−ベンジルオキシー1−フェネ
チルアルコールの酢酸エステル18.5F、メタノール
100−および・10%NaOH80Fの混合物を20
℃で5時間反応させる。反応終了後、水50mAおよび
トルエン200−を加え抽出する。トルエン層は水洗後
、減圧にて濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製する。
1201.4976 実施例13 実施例1で得た(→−p−ベンジルオキシー1−フェネ
チルアルコールの酢酸エステル18.5F、メタノール
100−および・10%NaOH80Fの混合物を20
℃で5時間反応させる。反応終了後、水50mAおよび
トルエン200−を加え抽出する。トルエン層は水洗後
、減圧にて濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製する。
(→−p−ベンジルオキシー1−フェネチルアルコール
(マー、18)11.IPを得る。
(マー、18)11.IPを得る。
次に、(マー18)1.14y(5ミリモル)をピリジ
ン10−およびトルエン10tILtに溶解し、20°
Cにてヘキサン酸クロリド0.741(5,5ミリモル
)を滴下する。さらに同温度で2時間、40℃にて8時
間保温する。以下、実施例1に準じて後処理、精製し、
H−p−ベンジルオキシ−1−フェネチルアルコールの
ヘキサン酸エステル(■−13) 1.57y(収率9
6.5%)を得た。
ン10−およびトルエン10tILtに溶解し、20°
Cにてヘキサン酸クロリド0.741(5,5ミリモル
)を滴下する。さらに同温度で2時間、40℃にて8時
間保温する。以下、実施例1に準じて後処理、精製し、
H−p−ベンジルオキシ−1−フェネチルアルコールの
ヘキサン酸エステル(■−13) 1.57y(収率9
6.5%)を得た。
[α]D −67°(c = 1 、 CHCla )
1251、5281 次に、(■−13)1.301(4ミリモル)を使用し
、実施例2と同様に脱ベンジル化反応、後処理及び精製
する。
1251、5281 次に、(■−13)1.301(4ミリモル)を使用し
、実施例2と同様に脱ベンジル化反応、後処理及び精製
する。
(−)−4−(1−ヘキサノイルオキシエチル)(以下
余白)
余白)
Claims (6)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を示し
、nは1または2である。※印は不斉炭素であることを
示す) で示される光学活性なベンゼン誘導体 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を示し
、nは1または2である。Aは水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシル基またはハロゲン原子を示し、※
印は不斉炭素であることを示す) で示される光学活性なエーテル誘導体を脱ベンジル化す
ることを特徴とする請求項1の光学活性なベンゼン誘導
体の製造法 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を示し、nは1または2であ
る。※印は不斉炭素であることを示す) で示される光学活性なアルコール類と、一般式 R−COOH (式中、Rは炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す
) で示される脂肪族カルボン酸もしくはその誘導体とを縮
合させて光学活性なエーテル誘導体を製造する請求項2
に記載の光学活性なベンゼン誘導体の製造法 - (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を示し、R′は低級アルキル
基を意味する。nは1または2である。) で示されるエステル類を、該エステル類の光学活性体の
うちのいずれか一方を加水分解する能力を有するエステ
ラーゼを用いて不斉水解して光学活性なアルコール類を
製造する請求項8に記載の光学活性なベンゼン誘導体の
製造法 - (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を示す。nは1または2であ
る) で示されるアルコール類を低級アルキルカルボン酸類と
反応させてエステル類を製造する請求項4に記載の光学
活性なベンゼン誘導体の製造法 - (6)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を示す。nは1または2であ
る) で示されるケトン類を還元してアルコール類を製造する
請求項5に記載の光学活性なベンゼン誘導体の製造法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63089560A JP2580698B2 (ja) | 1988-04-12 | 1988-04-12 | 光学活性なベンゼン誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63089560A JP2580698B2 (ja) | 1988-04-12 | 1988-04-12 | 光学活性なベンゼン誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01261351A true JPH01261351A (ja) | 1989-10-18 |
JP2580698B2 JP2580698B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=13974208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63089560A Expired - Lifetime JP2580698B2 (ja) | 1988-04-12 | 1988-04-12 | 光学活性なベンゼン誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2580698B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02142746A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 光学活性化合物の製法 |
JPH02262536A (ja) * | 1989-04-01 | 1990-10-25 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 光学活性化合物およびその製法 |
-
1988
- 1988-04-12 JP JP63089560A patent/JP2580698B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02142746A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 光学活性化合物の製法 |
JP2761008B2 (ja) * | 1988-11-24 | 1998-06-04 | 荒川化学工業株式会社 | 光学活性化合物の製法 |
JPH02262536A (ja) * | 1989-04-01 | 1990-10-25 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 光学活性化合物およびその製法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2580698B2 (ja) | 1997-02-12 |
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