JPH03229638A - 窒素酸化物の分解触媒 - Google Patents
窒素酸化物の分解触媒Info
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Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は窒素酸化物(以下、NOxと略称する)を含有
するガスからNOxを除去する触媒に関するものであり
、さらに詳しくは、NOxを直接分解する触媒を提供す
るものである。
するガスからNOxを除去する触媒に関するものであり
、さらに詳しくは、NOxを直接分解する触媒を提供す
るものである。
工業プラント、自動車等から排出される燃焼排ガス中の
NOxは光化学スモッグの発生原因ともなり得る物質で
あり、環境保全の立場からその除去方法の開発は、重大
かつ緊急の社会的課題である。NOxの中でもNOは特
に除去が困難でありこれまでにも種々の方法が検討され
てきた。
NOxは光化学スモッグの発生原因ともなり得る物質で
あり、環境保全の立場からその除去方法の開発は、重大
かつ緊急の社会的課題である。NOxの中でもNOは特
に除去が困難でありこれまでにも種々の方法が検討され
てきた。
例えば接触還元法は有効な手段のひとつとして提案され
開発が進められているが、アンモニア。
開発が進められているが、アンモニア。
水素あるいは一酸化炭素等の還元剤を必要とし、更に未
反応還元剤を回収あるいは分解するための特別の装置を
必要とする。これに対して接触分解法は還元剤などの特
別な添加剤を必要とせず、触媒層を通すだけで窒素と酸
素に分解する方法であり、プロセスも単純であることか
ら最も望ましい方法である。従来の研究によれば、Pt
、 CuO、CO3O4などにNO分解活性が認めら
れたが、何れも分解生成物である酸素の被毒作用を受け
るため、実用触媒とはなり得なかった(文献 内島俊雄
、表面、Vo1.1B No、3、(1980)
p、 132 ン 。
反応還元剤を回収あるいは分解するための特別の装置を
必要とする。これに対して接触分解法は還元剤などの特
別な添加剤を必要とせず、触媒層を通すだけで窒素と酸
素に分解する方法であり、プロセスも単純であることか
ら最も望ましい方法である。従来の研究によれば、Pt
、 CuO、CO3O4などにNO分解活性が認めら
れたが、何れも分解生成物である酸素の被毒作用を受け
るため、実用触媒とはなり得なかった(文献 内島俊雄
、表面、Vo1.1B No、3、(1980)
p、 132 ン 。
上記触媒に代わる触媒としてシリカゲルやゼオライトに
Cuをイオン交換する方法が提案されているが、次のよ
うな問題がある。
Cuをイオン交換する方法が提案されているが、次のよ
うな問題がある。
(1) イオン交換法によってシリカゲル銅イオンを
担持した触媒は、初期活性はかなり高いが、時間ととも
に活性が急激に低下する。
担持した触媒は、初期活性はかなり高いが、時間ととも
に活性が急激に低下する。
(2)Y型ゼオライトやモルデナイトを用いて銅でイオ
ン交換した触媒は酸素の存在下では分解活性が低い。
ン交換した触媒は酸素の存在下では分解活性が低い。
(3) Z S M −5型ゼオライトを用いて銅で
イオン交換した触媒が提案されているが、NO分解活性
は高いがNOがN2に転化する選択性(2NO−82+
02)が低いという問題がある。(特開昭60−125
250号公報)。
イオン交換した触媒が提案されているが、NO分解活性
は高いがNOがN2に転化する選択性(2NO−82+
02)が低いという問題がある。(特開昭60−125
250号公報)。
本発明は従来技術が有する上記の問題点を解決すること
を目的としたもであり、特定の組成、結晶構造を有する
結晶性シリケートを用いて銅及び■族元素を含有させた
触媒がNOの接触分解触媒として極めて高い活性を示す
ばかりでなく、NOのN2への選択性が高く、かつ酸素
、 SOxの共存下においても活性が安定していること
を見出し、本発明を完成するに至った。
を目的としたもであり、特定の組成、結晶構造を有する
結晶性シリケートを用いて銅及び■族元素を含有させた
触媒がNOの接触分解触媒として極めて高い活性を示す
ばかりでなく、NOのN2への選択性が高く、かつ酸素
、 SOxの共存下においても活性が安定していること
を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は脱水された状態において、酸化物の
モル比で (1,0±0.4)LD−[aM20s”bAIJs〕
”ysi02(上記式中、R:アルカリ金属イオン及び
/又は水素イオン、M:■族元素、希土類元素、チタン
、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモンからなる群
の一種以上の元素のイオン、a+b=1.a>Q、b>
o、y>12)の化学組成を有する結晶性シリケートに
銅及び■族元素を含有させてなることを特徴とする窒素
酸化物の分解触媒である。
モル比で (1,0±0.4)LD−[aM20s”bAIJs〕
”ysi02(上記式中、R:アルカリ金属イオン及び
/又は水素イオン、M:■族元素、希土類元素、チタン
、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモンからなる群
の一種以上の元素のイオン、a+b=1.a>Q、b>
o、y>12)の化学組成を有する結晶性シリケートに
銅及び■族元素を含有させてなることを特徴とする窒素
酸化物の分解触媒である。
本発明の触媒はNOの分解反応に極めて高い活性を示し
、またその活性が長時間にわたって持続する。本発明の
触媒の作用については、イオン交換した銅イオンの酸化
還元サイクル(Cu2=Cu”)が容易で、酸素を比較
的低温で放出する機構と、本発明の触媒の特異的結晶構
造とその構造安定性及び耐熱性等が複合的に作用してお
り、さらに■族元素を含有させることにより、NOの分
解反応が促進されるとともに■族元素によりイオン交換
した銅イオンが安定化され、耐熱性が向上するものと考
えられる。
、またその活性が長時間にわたって持続する。本発明の
触媒の作用については、イオン交換した銅イオンの酸化
還元サイクル(Cu2=Cu”)が容易で、酸素を比較
的低温で放出する機構と、本発明の触媒の特異的結晶構
造とその構造安定性及び耐熱性等が複合的に作用してお
り、さらに■族元素を含有させることにより、NOの分
解反応が促進されるとともに■族元素によりイオン交換
した銅イオンが安定化され、耐熱性が向上するものと考
えられる。
以下、本発明で使用する触媒を詳細に説明する。
ゼオライトはギリシャ語の「沸騰する石」を語源とする
ことに示される如く洟石水を含む結晶性アルミノシリケ
ートであり、その組成は一般的に次の式で表わされる。
ことに示される如く洟石水を含む結晶性アルミノシリケ
ートであり、その組成は一般的に次の式で表わされる。
XM2/+10 ” Al2O3” ysio2” Z
H20(ここでnは陽イオンMの原子価、Xは0.8〜
2の範囲の数、yは2以上の数、2は0以上の数である
。) その基本構造は珪素を中心として4つの酸素がその頂点
に配位した5104四面体と、この珪素の代りにアルミ
ニウムがその中心にあるA10.四面体とが0/(Al
+Si)の原子比が2となるように互いに酸素を共有し
て規則正しく三次元的に結合したものである。その結果
、この四面体同士の結合方式の違いによって大きさ、形
の異なる細孔を有する三次元的網目構造が形成される。
H20(ここでnは陽イオンMの原子価、Xは0.8〜
2の範囲の数、yは2以上の数、2は0以上の数である
。) その基本構造は珪素を中心として4つの酸素がその頂点
に配位した5104四面体と、この珪素の代りにアルミ
ニウムがその中心にあるA10.四面体とが0/(Al
+Si)の原子比が2となるように互いに酸素を共有し
て規則正しく三次元的に結合したものである。その結果
、この四面体同士の結合方式の違いによって大きさ、形
の異なる細孔を有する三次元的網目構造が形成される。
またA10.四面体の負電荷はアルカリ金属またはアル
カリ土類金属等の陽イオンと結合することにより電気的
に中和されている。一般にこのようにして形成される細
孔は2〜3人から10数人の大きさを有するが、^l口
、四面体と結合している金属陽イオンを、大きさまたは
原子価の異なる他の金属イオンと交換することによって
細孔の大きさを変えることができる。
カリ土類金属等の陽イオンと結合することにより電気的
に中和されている。一般にこのようにして形成される細
孔は2〜3人から10数人の大きさを有するが、^l口
、四面体と結合している金属陽イオンを、大きさまたは
原子価の異なる他の金属イオンと交換することによって
細孔の大きさを変えることができる。
ゼオライトはこの細孔を利用した気体、液体の工業的乾
燥剤または2種以上の分子の混合物中の分子同士を吸着
分離する分子篩として、また、金属陽イオンを水素イオ
ンと交換したものは固体酸として作用するため、この性
質を利用した工業用触媒としても広く用いられている。
燥剤または2種以上の分子の混合物中の分子同士を吸着
分離する分子篩として、また、金属陽イオンを水素イオ
ンと交換したものは固体酸として作用するため、この性
質を利用した工業用触媒としても広く用いられている。
ゼオライトには数多くの種類があり、X11回折図で特
徴づけられる結晶構造の違いによりそれぞれ異なるゼオ
ライト名が付けられている。
徴づけられる結晶構造の違いによりそれぞれ異なるゼオ
ライト名が付けられている。
天然に産出するものとしてはチャバサイト、エリオナイ
ト1モルデナイト、クリノプチロライト等があり、また
合成ゼオライトとしてはA。
ト1モルデナイト、クリノプチロライト等があり、また
合成ゼオライトとしてはA。
X、Y、 ラージ・ボートモルデナイト、 23M5
などがよく知られている。
などがよく知られている。
これらの多くのゼオライトの中で、本発明に使用可能な
のは、特定の組成構造を有する結晶性シリケートに限定
される。本発明の結晶性シリケートは天然には存在しな
いが、次の方法で合成される。
のは、特定の組成構造を有する結晶性シリケートに限定
される。本発明の結晶性シリケートは天然には存在しな
いが、次の方法で合成される。
本発明で使用する上記結晶性シリケートは、シリカの給
源、■族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロ
ム、ニオブ、アンチモンの酸化物の給源、アルミナの給
源、アルカリの給源、水及び有機窒素含有化合物を含有
する反応混合物をつくり、この混合物を結晶性シリケー
トが生成するのに至る時間及び温度で加熱することによ
り合成される。
源、■族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロ
ム、ニオブ、アンチモンの酸化物の給源、アルミナの給
源、アルカリの給源、水及び有機窒素含有化合物を含有
する反応混合物をつくり、この混合物を結晶性シリケー
トが生成するのに至る時間及び温度で加熱することによ
り合成される。
シリカの給源はゼオライト合成において普通に使用され
るシリカの化合物であれば、いずれのシリカの給源であ
ってもよく、例えば固型シリカ粉末、コロイド状シリカ
、又は水ガラス等のケイ酸塩などが用いられる。
るシリカの化合物であれば、いずれのシリカの給源であ
ってもよく、例えば固型シリカ粉末、コロイド状シリカ
、又は水ガラス等のケイ酸塩などが用いられる。
■族元素、希土類元素、チタン、バナジウム、クロム、
ニオブ、アンチモンの給源は、これらの硫酸塩、硝酸塩
、塩化物などの化合物が用いられる。
ニオブ、アンチモンの給源は、これらの硫酸塩、硝酸塩
、塩化物などの化合物が用いられる。
■族元素の例としては、鉄、コバルト、ルテニウム、ロ
ジウム、白金、パラジウムなどがあり、また希土類元素
としては、ランタン、セリウム、ネオジウムなどがある
。
ジウム、白金、パラジウムなどがあり、また希土類元素
としては、ランタン、セリウム、ネオジウムなどがある
。
アルミナの給源は、アルミン酸ソーダが最も適している
が、塩化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化物又は水酸化物など
の化合物が用いられる。
が、塩化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化物又は水酸化物など
の化合物が用いられる。
アルカリの給源は、ナトリウムなどのアルカリ金、属の
水酸化物、又はアルミン酸、ケイ酸との化合物などが用
いられる。
水酸化物、又はアルミン酸、ケイ酸との化合物などが用
いられる。
結晶性シリケートの水熱合成原料の一つである有機窒素
含有化合物としては、以下に示すものが使用できる。
含有化合物としては、以下に示すものが使用できる。
(1) 有機アミン類;
n−プロピルアミン、モノエタノールアミンなどの第1
級アミン、 ジプロピルアミン、ジェタノールアミンなどの第2級ア
ミン、 トリプロピルアミン、トリエタノールアミンなどの第3
級アミン、 又はエチレンジアミン、ジグリコールアミンなど、 又は上記化合物とハロゲン化炭化水素(臭化プロピルな
ど)と混合物、 その他テトラプロピルアンモニウム塩などの第4級アン
モニウム塩など、 (2)有機アミン以外の有機窒素化合物;ピリジン、ピ
ラジン、ピラゾールなど、これらの各種有機化合物は例
示であって、本発明はこれらに何等限定されるものでは
ない。
級アミン、 ジプロピルアミン、ジェタノールアミンなどの第2級ア
ミン、 トリプロピルアミン、トリエタノールアミンなどの第3
級アミン、 又はエチレンジアミン、ジグリコールアミンなど、 又は上記化合物とハロゲン化炭化水素(臭化プロピルな
ど)と混合物、 その他テトラプロピルアンモニウム塩などの第4級アン
モニウム塩など、 (2)有機アミン以外の有機窒素化合物;ピリジン、ピ
ラジン、ピラゾールなど、これらの各種有機化合物は例
示であって、本発明はこれらに何等限定されるものでは
ない。
本発明で使用する結晶性シリケートは、従来のゼオライ
トの構造中のA1の一部が■族元素、希土類元素、チタ
ン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモンに置きか
わったものであり、さらに5i02/ (M203+
A1203)比が12以上であることを特徴としており
、下記のモル組成の反応混合物から製造される。
トの構造中のA1の一部が■族元素、希土類元素、チタ
ン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモンに置きか
わったものであり、さらに5i02/ (M203+
A1203)比が12以上であることを特徴としており
、下記のモル組成の反応混合物から製造される。
SiL/(LL+^1203) 12〜3000
(好ましくは、20〜200) OHVSi020〜1.0(好ましくは、0.2〜0.
8)H,0/Sin、 2〜1000 (好ましくは
、10〜200)有機窒素含有化合物/ (M20s+
A110s)(好ましくは、5〜50) 本発明で使用する結晶性シリケートは前記原料混合物を
結晶性シリケートが生成するに充分な温度と時間加熱す
ることにより合成されるが、水熱合成温度は80〜30
0℃好ましくは130〜200℃の範囲であり、また水
熱合成時間は0.5〜14日好ましくは1〜10日であ
る。圧力は特に制限を受けないが、自圧で実施するのが
望ましい。
(好ましくは、20〜200) OHVSi020〜1.0(好ましくは、0.2〜0.
8)H,0/Sin、 2〜1000 (好ましくは
、10〜200)有機窒素含有化合物/ (M20s+
A110s)(好ましくは、5〜50) 本発明で使用する結晶性シリケートは前記原料混合物を
結晶性シリケートが生成するに充分な温度と時間加熱す
ることにより合成されるが、水熱合成温度は80〜30
0℃好ましくは130〜200℃の範囲であり、また水
熱合成時間は0.5〜14日好ましくは1〜10日であ
る。圧力は特に制限を受けないが、自圧で実施するのが
望ましい。
水熱合成反応は所望の温度に原料混合物を加熱し、必要
であれば攪拌下に結晶性シリケートが形成されるまで継
続される。かくして結晶が形成さた後、反応混合物を室
温まで冷却し、ろ過し、水洗を行い、結晶を分別する。
であれば攪拌下に結晶性シリケートが形成されるまで継
続される。かくして結晶が形成さた後、反応混合物を室
温まで冷却し、ろ過し、水洗を行い、結晶を分別する。
さらに普通は100℃以上で5〜24時間程度乾燥が行
われる。
われる。
前述した方法で製造された結晶性シリケートは、周知の
技術により、そのままで、あるいは従来から触媒成型用
として用いられている粘結剤等と混合して適当な大きさ
に成型して、触媒として使用されつる。
技術により、そのままで、あるいは従来から触媒成型用
として用いられている粘結剤等と混合して適当な大きさ
に成型して、触媒として使用されつる。
本発明で使用する結晶性シリケートは、一定の結晶構造
を有する規則正しい多孔性の結晶性物質であり、一般に
表1に示すX′m回折パターンを示す。
を有する規則正しい多孔性の結晶性物質であり、一般に
表1に示すX′m回折パターンを示す。
表
VS:非常に強い
M :
中級
S :
強い
W :
弱い
上記の水熱合成で得られる結晶性シリケートは、Na+
などのアルカリ金属イオン、(C3H7)4N”などの
有機窒素含有化合物のイオンを含有している。これらの
イオンの一部又は全部を水素イオンに置換するためには
、空気中で400〜700℃の範囲の温度で2〜48時
間焼成することにより有機化合物を除去した後、塩酸な
どの強酸に浸漬して直接H型にする方法、又はアンモニ
ウム化合物の水溶液に浸漬してNH,型にした後、焼成
によりH型にする方法などがある。
などのアルカリ金属イオン、(C3H7)4N”などの
有機窒素含有化合物のイオンを含有している。これらの
イオンの一部又は全部を水素イオンに置換するためには
、空気中で400〜700℃の範囲の温度で2〜48時
間焼成することにより有機化合物を除去した後、塩酸な
どの強酸に浸漬して直接H型にする方法、又はアンモニ
ウム化合物の水溶液に浸漬してNH,型にした後、焼成
によりH型にする方法などがある。
上記方法で得られる結晶性シリケート中のアルカリ金属
イオン、水素イオンなどのイオン交換サイトは、次の方
法によって銅イオンさらには■族元素のイオンに交換さ
れ、また銅イオン交換後、■族元素の金属又は酸化物を
担持され、本発明の触媒が得られる。
イオン、水素イオンなどのイオン交換サイトは、次の方
法によって銅イオンさらには■族元素のイオンに交換さ
れ、また銅イオン交換後、■族元素の金属又は酸化物を
担持され、本発明の触媒が得られる。
銅イオン交換は硫酸鋼、硝酸銅などの鉱酸塩または酢酸
銅などの有機酸塩を溶解した水溶液中に結晶性シリケー
トを浸漬するなどの通常の方法によって行われる。水溶
液中の銅イオンの濃度は、目的とする銅イオン交換率に
よって任意に選ぶことができ、銅イオンはCu十、 C
u”CuDH+のいずれかの形で結晶性シリケート中の
陽イオンと交換している。イオン交換終了後は水で充分
洗浄した後、乾燥する。本発明で使用される触媒の銅イ
オン交換率は、触媒基剤である結晶性シリケート中に含
有される交換可能な全陽イオンの少なくとも10%以上
であることが必須であり、交換率が高い程NO分解活性
が高いので、好ましくは40〜180%の範囲である。
銅などの有機酸塩を溶解した水溶液中に結晶性シリケー
トを浸漬するなどの通常の方法によって行われる。水溶
液中の銅イオンの濃度は、目的とする銅イオン交換率に
よって任意に選ぶことができ、銅イオンはCu十、 C
u”CuDH+のいずれかの形で結晶性シリケート中の
陽イオンと交換している。イオン交換終了後は水で充分
洗浄した後、乾燥する。本発明で使用される触媒の銅イ
オン交換率は、触媒基剤である結晶性シリケート中に含
有される交換可能な全陽イオンの少なくとも10%以上
であることが必須であり、交換率が高い程NO分解活性
が高いので、好ましくは40〜180%の範囲である。
交換率は10%以下では有効なNO分解活性を示さない
。
。
銅のイオン交換率は、イオン交換サイトの中の銅イオン
の割合を示すものであり、Na” 2原子とCu2+1
原子がイオン交換するとして計算している。
の割合を示すものであり、Na” 2原子とCu2+1
原子がイオン交換するとして計算している。
従って交換率200%とは、イオン交換サイト全部が銅
でイオン交換された状態(Cuが1個の状態でイオン交
換されている)を示す。銅イオン及び■族元素のイオン
をイオン交換する場合には、上記工程において銅の化合
物と■族元素の化合物の混合水溶液を用いる。
でイオン交換された状態(Cuが1個の状態でイオン交
換されている)を示す。銅イオン及び■族元素のイオン
をイオン交換する場合には、上記工程において銅の化合
物と■族元素の化合物の混合水溶液を用いる。
銅イオン交換後の結晶性シリケートに■族元素の金属又
は酸化物を担持する方法としては、■族元素の化合物の
水溶液に上記結晶性シリケートを浸漬し、乾燥、焼成す
る方法さらに還元する方法が用いられる。
は酸化物を担持する方法としては、■族元素の化合物の
水溶液に上記結晶性シリケートを浸漬し、乾燥、焼成す
る方法さらに還元する方法が用いられる。
結晶性シリケートにCuO及び■族元素を担持する場合
は、Cu及び■族元素の化合物を含有する水溶液に結晶
性シリケートを浸漬し、乾燥、焼成する方法が用いられ
る。
は、Cu及び■族元素の化合物を含有する水溶液に結晶
性シリケートを浸漬し、乾燥、焼成する方法が用いられ
る。
こ\で■族元素としては、Fe、Co、Ni。
Pt、 Pd、 Rh、 Os、 Irをさす。また■
族金属の含有量としては0.1〜20重量%(触媒全重
量ベース)の範囲が好ましい。
族金属の含有量としては0.1〜20重量%(触媒全重
量ベース)の範囲が好ましい。
本発明のNO分解触媒は従来の触媒と比較して使用温度
範囲が広く、300〜1000tの範囲、好ましくは、
400〜700℃の範囲で用いられる。
範囲が広く、300〜1000tの範囲、好ましくは、
400〜700℃の範囲で用いられる。
本発明の触媒の工業的使用に際しては、適当な形に成形
して使用することが望ましい。例えば、シリカ、アルミ
ナ等の無機酸化物または粘土をバインダーとし、場合に
より有機物等の成型助剤を使用して球状、柱状、ハニカ
ム状に成形する。銅イオンで交換する前の結晶性シリケ
ートをあらかじめ成形してもよく、成形体の大きさは特
に制限されない。
して使用することが望ましい。例えば、シリカ、アルミ
ナ等の無機酸化物または粘土をバインダーとし、場合に
より有機物等の成型助剤を使用して球状、柱状、ハニカ
ム状に成形する。銅イオンで交換する前の結晶性シリケ
ートをあらかじめ成形してもよく、成形体の大きさは特
に制限されない。
〔実施例1〕
結晶性シリケートを次のようにして合成した。
水ガラス、硫酸第二鉄、硫酸アルミニウム。
水を36 NazO” (0,I FeJs” 0.9
A1.0s) ” 80Sin2・1600 H2O
のモル比になるように調合し、これに硫酸を適当量添加
し、上記混合物のpHが9前後になるようにした後、有
機化合物としてプロピルアミン、臭化プロピルをFez
es 、Al2O3の合計のモル数の20倍加え、よく
混合し、500 ccのステンレス製オートクレーブに
はり込んだ。
A1.0s) ” 80Sin2・1600 H2O
のモル比になるように調合し、これに硫酸を適当量添加
し、上記混合物のpHが9前後になるようにした後、有
機化合物としてプロピルアミン、臭化プロピルをFez
es 、Al2O3の合計のモル数の20倍加え、よく
混合し、500 ccのステンレス製オートクレーブに
はり込んだ。
上記混合物を約500 rpmにて攪拌しながら160
℃で3日間反応させた。冷却後、固形分をろ過し、洗浄
水のpHが約8になるまで充分水洗し、110℃で12
時間乾燥し、550℃で3時間焼成した。
℃で3日間反応させた。冷却後、固形分をろ過し、洗浄
水のpHが約8になるまで充分水洗し、110℃で12
時間乾燥し、550℃で3時間焼成した。
この生成物の結晶粒径は、1L前後であり、酸化物のモ
ル比で表わした組成は脱水の形態で表わして、(H,N
a)、0− (0,I Fe2030,9A120.)
・80 Sin、であった。これを結晶性シリケート1
と称する。
ル比で表わした組成は脱水の形態で表わして、(H,N
a)、0− (0,I Fe2030,9A120.)
・80 Sin、であった。これを結晶性シリケート1
と称する。
この結晶性シリケート1を合成する場合、原料の中で硫
酸の代わりに塩酸などを用いても、又、硫酸第二鉄の代
わりに塩化第二鉄を用いても、又水ガラスの代わりにシ
リカゾルを用いても同様のシリケートが得られた。
酸の代わりに塩酸などを用いても、又、硫酸第二鉄の代
わりに塩化第二鉄を用いても、又水ガラスの代わりにシ
リカゾルを用いても同様のシリケートが得られた。
又、水熱合成条件として160℃で3日間反応させる代
わりに170℃または180℃で2日間反応させても同
様のシリケートが得られた。
わりに170℃または180℃で2日間反応させても同
様のシリケートが得られた。
結晶性シリケート1の原料調合時の硫酸第二鉄と硫酸ア
ルミニウムの添加量をFe、03とAl2O。
ルミニウムの添加量をFe、03とAl2O。
のモル比に換算して下記のように変えた以外は、結晶性
シリケート1の場合と同じ操作を繰り返して結晶性シ リ ケ − ト 2〜4を調整した。
シリケート1の場合と同じ操作を繰り返して結晶性シ リ ケ − ト 2〜4を調整した。
結晶性シリケート1の調合時において、硫酸の代わりに
塩酸を用い、また硫酸第二鉄の代わりに、塩化コバルト
、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ランタン、塩化
セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩化クロム、
塩化アンチモンを各々酸化物換算でFe2Lと同じモル
数だけ添加した以外は結晶性シリケート1と同じ操作を
繰返して結晶性シリケート5〜13を調製した。これら
の結晶性シリケートの有機化合物を除外した組成は、酸
化物のモル比(脱水の形態)で表わして、(H,Na)
=0 ・(0,1M2O,・0.9^1.03)・8
05102であった。ここでMはCo、 Ru、 Rh
、 La、 Ce、 Ti、 V、 Cr、 Sb
(結晶性シリケート5〜13の番号順)である。
塩酸を用い、また硫酸第二鉄の代わりに、塩化コバルト
、塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ランタン、塩化
セリウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩化クロム、
塩化アンチモンを各々酸化物換算でFe2Lと同じモル
数だけ添加した以外は結晶性シリケート1と同じ操作を
繰返して結晶性シリケート5〜13を調製した。これら
の結晶性シリケートの有機化合物を除外した組成は、酸
化物のモル比(脱水の形態)で表わして、(H,Na)
=0 ・(0,1M2O,・0.9^1.03)・8
05102であった。ここでMはCo、 Ru、 Rh
、 La、 Ce、 Ti、 V、 Cr、 Sb
(結晶性シリケート5〜13の番号順)である。
また結晶性シリケート1において調合時の5i02/
(0,IFezL+ 0.9AI20s)比を20,2
00とした以外は結晶性シリケート1と同じ操作を繰り
返して各々結晶性シリケー)14.15を調製した。
(0,IFezL+ 0.9AI20s)比を20,2
00とした以外は結晶性シリケート1と同じ操作を繰り
返して各々結晶性シリケー)14.15を調製した。
以上の結晶性シリケート1〜15の粉末X線回折パター
ンは表1に示すパターンを示すことが確認された。
ンは表1に示すパターンを示すことが確認された。
以上の結晶性シリケート1〜15のそれぞれLogを酢
酸銅1gを500 ccの水に溶解した水溶液の中に入
れ、室温にて12時間攪拌するイオン交換操作を行った
。このイオン交換操作を3回繰返し行った後、水洗し、
さらに所定濃度の塩化白金水溶液に浸漬した後、100
℃で12時間乾燥し、300℃で3時間水素量元を行い
、白金を0.5重量%(触媒全量ベース)担持した触媒
1〜15 (結晶性シリケートの番号に対応)を調製し
た。
酸銅1gを500 ccの水に溶解した水溶液の中に入
れ、室温にて12時間攪拌するイオン交換操作を行った
。このイオン交換操作を3回繰返し行った後、水洗し、
さらに所定濃度の塩化白金水溶液に浸漬した後、100
℃で12時間乾燥し、300℃で3時間水素量元を行い
、白金を0.5重量%(触媒全量ベース)担持した触媒
1〜15 (結晶性シリケートの番号に対応)を調製し
た。
触媒1〜15を16〜32メツシユに整粒し、触媒0.
5gを常圧固定床流通式反応器に充填し、次の反応条件
下で活性評価試験を行った。その結果を表2に示す。
5gを常圧固定床流通式反応器に充填し、次の反応条件
下で活性評価試験を行った。その結果を表2に示す。
ガス組成:NO:0.5%、02:1%。
He:バランス
ガス流量: I Ni/h、反応温度=500℃表
〔実施例2〕
実施例1の結晶性シリケート1を実施例1と同じ方法で
Cuイオン交換(Cuイオン交換率120%)したもの
を用い、以下の水溶液に浸漬し、乾燥した後、所定の焼
成、水素還元処理を行い、触媒16〜23を調製した。
Cuイオン交換(Cuイオン交換率120%)したもの
を用い、以下の水溶液に浸漬し、乾燥した後、所定の焼
成、水素還元処理を行い、触媒16〜23を調製した。
○触媒16〜18:硝酸鉄、硝酸コバルト、硝酸ニッケ
ルの各水溶液にそれぞれ浸漬した後、乾燥し、500℃
で3時間焼成し、触媒16〜18を調製した。
ルの各水溶液にそれぞれ浸漬した後、乾燥し、500℃
で3時間焼成し、触媒16〜18を調製した。
○触媒19〜23:硝酸パラジウム、塩化ロジウム、塩
化ルテニウムの各水溶液、また塩化白金と塩化パラジウ
ムの混合水溶液、塩化白金、塩化パラジウムと塩化ロジ
ウムの混合水溶液にそれぞれ浸漬した後、300℃で水
素還元を行い、触媒19〜23を調製した。
化ルテニウムの各水溶液、また塩化白金と塩化パラジウ
ムの混合水溶液、塩化白金、塩化パラジウムと塩化ロジ
ウムの混合水溶液にそれぞれ浸漬した後、300℃で水
素還元を行い、触媒19〜23を調製した。
これらの触媒を、実施例1と同じ方法で活性評価を行っ
た。結果を表3に示す。
た。結果を表3に示す。
表
3
〔実施例3〕
実施例1の触媒lを0.5 g 、常圧固定床流通式反
応器に充填し、反応条件を変えて、活性評価試験を行っ
た。その結果を表4に示す。
応器に充填し、反応条件を変えて、活性評価試験を行っ
た。その結果を表4に示す。
なお反応したNOは全てN、、 0.に転化していた。
以上のように本発明の触媒は、SO3が含有したガスを
用いても活性が高いこと、また活性の経時変化が少ない
ことがわかった。
用いても活性が高いこと、また活性の経時変化が少ない
ことがわかった。
〔実施例4〕
実施例1の結晶性シリケート1の原料調合時の硫酸第二
鉄の代わりに塩化第2鉄と塩化クロムの混合物を用い、
36 Na20− (0,09Fe2O,・0.01
Crx03・ 0.9 ^120−) ・ 80
5i02・ 1600 H−0のモル比になるよう
に調合した点以外は、結晶性シリケート1と同じ方法で
結晶性シリケート16を得、同じ方法でCuイオン交換
を行った(ただしイオン交換操作2回繰返した)後、同
じ方法で白金を0.5重量担持した触媒24(Cuイオ
ン交換率110%)を得た。
鉄の代わりに塩化第2鉄と塩化クロムの混合物を用い、
36 Na20− (0,09Fe2O,・0.01
Crx03・ 0.9 ^120−) ・ 80
5i02・ 1600 H−0のモル比になるよう
に調合した点以外は、結晶性シリケート1と同じ方法で
結晶性シリケート16を得、同じ方法でCuイオン交換
を行った(ただしイオン交換操作2回繰返した)後、同
じ方法で白金を0.5重量担持した触媒24(Cuイオ
ン交換率110%)を得た。
実施例1と同じ活性評価を行った結果、NO転化率は8
1%であった。
1%であった。
実施例1の結晶シリケート1の原料調合時の硫酸第二鉄
を添加せず36Na、0 ・^1*0. ’ gosi
o2 ’1600H20のモル比になるように調合し、
これに塩酸を適当量添加し、上記混合物のPHが9前後
になるようにした後、有機化合物として臭化テトラプロ
ピルアンモニウムを^120,020倍加えた以外は実
施例1と同じ操作を繰返した。
を添加せず36Na、0 ・^1*0. ’ gosi
o2 ’1600H20のモル比になるように調合し、
これに塩酸を適当量添加し、上記混合物のPHが9前後
になるようにした後、有機化合物として臭化テトラプロ
ピルアンモニウムを^120,020倍加えた以外は実
施例1と同じ操作を繰返した。
実施例1と同様、銅でイオン交換しくCuイオン交換率
105%)だ後、白金を0.5重量%担持し同じ条件活
性評価を行った結果、NO転化率は76%と高かったが
、反応したNOのN2への転化率は、73%と低く、N
O2などの副生が多いことがわかった。
105%)だ後、白金を0.5重量%担持し同じ条件活
性評価を行った結果、NO転化率は76%と高かったが
、反応したNOのN2への転化率は、73%と低く、N
O2などの副生が多いことがわかった。
以上、実施例に示したように、本発明の結晶性シリケー
トに銅を含有させた触媒は、排ガス中のNOxをN2.
[12に分解する触媒として使用できる。
トに銅を含有させた触媒は、排ガス中のNOxをN2.
[12に分解する触媒として使用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 脱水された状態において、酸化物のモル比で(1.0±
0.4)R_2O・〔aM_2O_3・bAl_2O_
3〕・ySiO_2(上記式中、R:アルカリ金属イオ
ン及び/又は水素イオン、M:VIII族元素、希土類元素
、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモンか
らなる群の一種以上の元素のイオン、a+b=1、a>
0、b>0、y>12)の化学組成を有する結晶性シリ
ケートに銅及びVIII族元素を含有させてなることを特徴
とする窒素酸化物の分解触媒。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024388A JP2734480B2 (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | 窒素酸化物の分解触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024388A JP2734480B2 (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | 窒素酸化物の分解触媒 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03229638A true JPH03229638A (ja) | 1991-10-11 |
JP2734480B2 JP2734480B2 (ja) | 1998-03-30 |
Family
ID=12136784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024388A Expired - Fee Related JP2734480B2 (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | 窒素酸化物の分解触媒 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2734480B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5738832A (en) * | 1993-02-15 | 1998-04-14 | Mitsubishi Jidosha Kogyo Kabushiki Kaisha | Exhaust gas purifying apparatus |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1988002659A1 (en) * | 1986-10-16 | 1988-04-21 | Steuler-Industriewerke Gmbh | Catalyst for removing nitric oxides from exhaust gases |
-
1990
- 1990-02-05 JP JP2024388A patent/JP2734480B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1988002659A1 (en) * | 1986-10-16 | 1988-04-21 | Steuler-Industriewerke Gmbh | Catalyst for removing nitric oxides from exhaust gases |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5738832A (en) * | 1993-02-15 | 1998-04-14 | Mitsubishi Jidosha Kogyo Kabushiki Kaisha | Exhaust gas purifying apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2734480B2 (ja) | 1998-03-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |