JPH0321867B2 - - Google Patents

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JPH0321867B2
JPH0321867B2 JP59154923A JP15492384A JPH0321867B2 JP H0321867 B2 JPH0321867 B2 JP H0321867B2 JP 59154923 A JP59154923 A JP 59154923A JP 15492384 A JP15492384 A JP 15492384A JP H0321867 B2 JPH0321867 B2 JP H0321867B2
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JP
Japan
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calibration
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JP59154923A
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JPS6131952A (ja
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Takashi Aomi
Hiromi Ookawa
Daizo Yagi
Takashi Ochiai
Yasuo Iguma
Tatsuaki Shinchu
Yoshihiko Ishikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Industries Ltd filed Critical Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication of JPS6131952A publication Critical patent/JPS6131952A/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/416Systems
    • G01N27/4163Systems checking the operation of, or calibrating, the measuring apparatus

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
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  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉 本発明は、自動校正機能を有した濃度計に関す
る。 〈従来技術〉 一般に化学量を対象とする検出器は長期安定性
の劣るものが多いが、要求される測定項目からや
むなく補正、校正等の補修を行ないつつ使用して
いる。このような補修はなるべく手がかからない
ことが望ましく、そのため従来より自動校正機能
を付設した計器が多く使用されている。 しかるに、従来の自動校正機能付計器は、校正
動作を一定の決められた時間おきに行なうもので
あるため、校正と校正との間の測定中に検出器の
変質、劣化等によつて測定精度が低下していて
も、次の校正までの間はその低い精度のままで測
定を続けざるを得ないものであり、そのため測定
途中における精度の予測ができないといつた不都
合がある。このような事情は濃度計も例外ではな
く、特に濃度計の場合、測定中精度を低下する要
因が検出器の汚れ、変質、腐蝕、破損等々と多く
あり、それらが頻繁に生じるものであるから、上
記不都合の解消が急務となつている。 〈発明の目的〉 本発明は、測定中に精度を低下させる要因が生
じた場合、それに対応して次の校正時の校正量が
多くなることに鑑み、校正周期を長短制御して、
校正量が、測定精度をある限度以上に維持する上
で許容できる範囲内であるようにし、もつて上述
した不都合の解決を図つたものである。 〈発明の構成〉 上記目的を達成するため、本発明に係る自動校
正機能付濃度計は、試料及び校正用物質の濃度に
応じた信号を発する検出器と、検出器がある周期
で校正用物質の検出を行なうよう制御するプログ
ラムコントローラと、校正用物質の検出信号によ
つて自動校正し、試料の検出信号によつて濃度を
求める演算を行なう演算部と、校正前と後におけ
る校正用物質の測定値を比較する第1比較部と、
要求される測定精度に応じた管理値が設定された
管理精度設定部と、第1比較部の比較値を管理精
度設定部の管理値と比較する第2比較部と、この
第2比較部の比較結果から校正周期を決定する周
期決定部をからなり、周期決定部で決定された周
期に従つて校正を行なうようプログラムコントロ
ーラを制御することを要旨としている。 〈実施例〉 第1図は本発明の基本構成を示すブロツク図
で、1は検出器、2はプログラムコントローラ、
3は演算部、4は第1比較部、5は管理精度設定
部、6は第2比較部、7は周期決定部である。検
出器1は試料及び校正用物質の濃度に応じた信号
を発する。濃度計としてPH計の場合には校正液は
2種の校正液を用い、また検出器1はPH測定用電
極と温度検出器を用いる。プログラムコントロー
ラ2はある周期で校正を行なうよう制御する。自
動校正は、検出器に校正液を流し、そのときの測
定値が校正液の濃度に一致するよう自動的校正す
ることをいう。従つて、自動校正には、校正液を
検出器に流すための弁の切換、ポンプの駆動とい
う作業、及び測定値に基づいて演算するための演
算作業を含む。演算部3では自動校正の結果を利
用し、試料の検出信号から試料の濃度が算出され
る。この濃度は図外の表示部を通じて表示され
る。演算部3は上記演算の他、記憶機能も有して
いる。第1比較部4は校正前と後における校正液
の測定値を比較する。校正前における校正液の測
定値は演算部3の前述した記憶機能によつて記憶
され、校正後の校正液の測定値と同時に出力され
る。第1比較部4の発する出力(比較値)は、ス
パンボリユームの回転量、即ち、いわゆる校正量
に相当し、濃度計に異常がない場合には、ある範
囲内の小さな値である。しかし、校正と校正との
間の測定中に検出器の汚れ、変質等の異常を生じ
た場合には、大きな値となる。管理精度設定部5
は測定精度上から要求される管理値が設定してあ
る。第2比較部6は第1比較部の出力と前記管理
値とを比較する。周期決定部7は、第2比較部6
の比較結果から周期を決定する。第1比較部4の
出力が、管理値を越えている場合、校正周期は短
かく、逆に管理値より小さい場合、校正周期は長
く決定される。前記プログラムコントローラ2
は、周期決定部7で決定された周期に従つて校正
を行なうよう制御される。 このように校正周期を長短制御すれば、校正と
校正の間の測定誤差を所定の範囲におさえること
ができ、測定精度の予測が可能となる。尚、検出
器1以外の構成は、マイクロコンピユータのプロ
グラミングによつて実現することができる。 次に、第2図は本発明の具体例で、電気メツキ
液のPHを測定するよう構成された測定計器を示
し、11はメツキ槽、12はメツキ槽11とは別
個に設けた電極チヤンバである。メツキ槽11内の
試料(メツキ液)は、メツキ液導入弁13が開状
態のときサンプリングポンプ14によつて電極チ
ヤンバに導入され、測定に供される。一方、測定
を終えた試料はもどり管15を通じてメツキ槽1
1に戻される。16は洗浄液タンク、17は第1
校正液タンク、18は第2校正液タンクで、各タ
ンク内の液は各タンクの配管中に設けられた導入
弁19,20,21を開き、導入ポンプ22を作
動することにより電極チヤンバ12内に導入する
ことができる。23は圧力空気導入弁で、前記各
液を電極チヤンバ12内に導入する際、この弁も
一定時間開いて圧力空気によるバブリングを行な
うようにている。24は排出弁、25は電極チヤ
ンバ12内に設けたPH測定用電極、26は温度検
出器である。PH測定用電極自体が温度検出器を内
装している場合にはそれを用いればよく、別個に
温度検出器を設ける必要はない。27はPH測定用
電極25内の比較電極に導入するKclを貯めたタ
ンク、28はメツキ槽11内の試料の温度を検出
するセンサー、29はこのセンサーからの温度信
号及び前記PH測定用電極25と温度検出器26か
らの検出信号の3者から演算によつてメツキ槽1
1内の試料のPHを算出する演算部である。尚、メ
ツキ槽11が一定温度に管理されている場合には
温度センサー28は不要である。その場合、一定
温度を示す信号を抵抗器等によつて作り出し演算
部29に入力するようにすればい。30は上記各
弁、ポンプを一定の順序にしたがつて作動させ、
自動洗浄、校正液の導入、サンプリング動作を遂
行するプログラムコントローラである。 次に、プログラムコントローラ30によつて遂
行される自動洗浄、校正液の導入、サンプリング
の各動作を説明する。 自動洗浄、校正液の導入 排出弁24を開き、電極チヤンバ12内の液
を排出した後、導入弁19を開き、導入ポンプ
22を作動させる。これにより、洗浄液が電極
チヤンバ12内に導入される。このとき同時に
圧力空気導入弁23も開き、電極チヤンバ12
内で洗浄液をバブリングさせ洗浄効果を高め
る。 洗浄を完了すれば、排出弁24を開き、洗浄
液を排出し、次に導入弁20を開く、これによ
つて第1校正液が電極チヤンバ12内に導入さ
れる。この場合も圧力空気導入弁23を開き、
第1の校正液をバブリングさせる。前液の影響
を除去するのに十分な時間バブリングした後、
排出弁24を開き、排出する。排出完了後、再
び導入弁20を開き、第1校正液を電極チヤン
バ12内に導入する。そして、このときの電極
チヤンバ内の液温度TAと、電極電位EAとを検
出し、その検出信号TA,EAを演算に入力する。 検出を終わると、排出弁24を開き、第1校
正液を排出した後、導入弁21を開き、第2校
正液を電極チヤンバ12内に導入する。この場
合も、の第1校正液の場合と同様、2回導入
する。1回目は前液の影響除去のため、2回目
は温度TBと電極電位EBの検出のためである。
2回目の導入によつて検出された検出信号TB
EBは演算部29に入力される。 サンプリング動作 上記動作を終わると、排出弁24を開き、第2
の校正液を排出した後、サンプリングポンプ14
が作動し、メツキ液導入弁13が開いて、試料が
電極チヤンバ12内に採取される。このときの電
極電位EX、電極チヤンバ内の液温度TXが検出さ
れ、メツキ槽11内の温度Ttを示す温度信号と
共に演算部29に入力される。 演算部での処理 上記各検出信号及び温度信号Ttが入力される
と、演算部は次の如き処理を行なう。 校正液のPH値算出 第1、第2校正液の温度検出値TA,TBから校
正液のPH値を次式に基づいて求める。 PH=a/T+b+cT+dT2 …(1) 但し、Tは校正液の絶対温度である。上式中
a,b,c及びdは液固有の定数で、一例として
しゆう酸塩とフタル酸塩についてのa,b,c及
びdの値を次表に示す。
【表】 電極感度Aと不斉電位Bの算出 次式に基づいて電極感度Aを算出する。 A=EA−EB/a{TA(PHA−7)−TB(PHB
7)}…(2) 又、次式に基づいて不斉電位Bを算出する。 B=EB・TA(PHA−7)−EA・TB(PHB−7)
/TA(PHA−7)−TB(PHB−7)…(3) ここに、PHAは第1校正液のPH値、PHBは第2校
正液のPH値で夫々第(1)式に従つて求められる。a
はガラス電極の温度補正係数(1/273.15)であ
る。これらA,Bを算出することによつて自動校
正が完了する。 電極チヤンバ内のPH値の算出 電極チヤンバ内のPH値(PHX)は次式によつて
求められる。 PHX=EX−B/A・a・TX+7 …(4) 但し、EX:電極チヤンバ内試料の電極電位 TX:電極チヤンバ内試料の温度(゜K) メツキ槽内試料のPH値の算出 上記〜によつてPHXが求まると、メツキ槽
内温度Ttを示す温度信号と共に次式に従つて演
算することによりメツキ液槽内試料のPH値を求め
ることができる。 PHt=PHX−k(Tt−TX) …(5) 但し、kはメツキ液の温度補正係数である。こ
のkはメツキ液の種類によつて異なる。kの値は
メツキ液の分析により求めることができる。例え
ばZn−Fe系メツキ液の場合、kは k=0.013−0.07WFe 3+ …(6) で与えられる。但し、WFe 3+はメツキ液のFe3+
濃度(w/v%)である。上記(6)式のようにkの
値がイオン濃度によつて変化する場合には、(6)式
を演算部に記憶させておくと共に、測定の都度イ
オン濃度を入力してkを演算によつて求めるよう
にしておけば、メツキ液のkが刻々変化してもそ
れに対応してPHtを誤差なく求めることができ、
便利である。 上記の如くして求められたPHtは伝送出力とし
て演算部29から出力され、図外表示部にて表示
される。尚、校正中において、第1校正液から第
2校正液に切替えた際、電極電位がEAからEB
変化するが、その全変化量の90%に達する時間を
計測したり、或いは単位時間当りの電位変化量を
計測して電極の応答速度を算出するようにすれ
ば、電極の寿命の客観的な判断に供することがで
きる。 次に、第3図は演算部29の出力信号を用いて
校正周期を自動調節するようにした回路で、第1
比較部31と、管理精度設定部32と第2比較部
33と、周期決定部34とから構成されている。
第1比較部31は、校正前と後とにおける校正液
の測定値の差を求める。ここで校正前における校
正液の測定値とは、不斉電位や電極感度の調整を
する前に測定した校正液の測定値をいい、校正後
における校正液の測定値とは、そのような調整を
行なつた後の校正液の測定値をいう。管理精度設
定部32は、校正前後における校正液測定値の差
として測定精度上許容できる限界の値が設定され
ている。第2比較部33は前記比較値と管理精度
設定部32の設定値とを比較する。周期決定部3
4は、第2比較部33の比較結果から校正周期を
決定する。即ち、第1比較部31の比較値が管理
精度設定部32の設定値を越えている場合には、
校正周期を短かくし、逆に比較値が設定値を越え
ていない場合には校正周期を長くする。校正周期
を長く或いは短かくする方法としては、例えば校
正周期を単位時間ずつ長く或いは短かくするとい
う方法によればよい。周期決定部34で決定され
た校正周期はプログラムコントローラ30に入力
され、該コントローラ30に設定された校正周期
を長短制御する。図中、35は第1警報器で、第
1比較部31の比較値が管理精度設定部32の設
定値を越えた場合に作動する。36は第2警報器
で、校正周期が最小周期設定部37に設定された
最小校正周期よりも短かくなると作動する。38
は比較器である。 尚、上記実施例で、第1警報部35が作動すれ
ば、計器に何らかの異常が発生したと判断できる
が、このような異常判断は第4図に示す回路によ
つても実現できる。同図の回路は、記憶部39
と、比較部40と管理精度設定部41と判定部4
2とから構成される。記憶部39は、前回の校正
時における測定値を記憶している。比較部40
は、記憶部39から出力される前回の校正時の測
定値と、演算部29から出力される今回の校正時
の測定値を比較する。通常、この比較値はある小
さな範囲内の値である筈であるが、前回の校正と
今回の校正との間に例えばガラス電極の応答膜の
破れ、汚れ、変質、比較電極の汚れ、内極の化学
変化等の異常が生じると、前記範囲を越える大き
な値となる。管理精度設定部41は、前記比較値
として許容できる最大の値が設定してある。この
値は計器として要求される測定精度から決定され
る。判定部42は、比較値が管理精度設定部41
の設定値を越えているかどうかをみ、越えている
場合、異常信号を発する。このようにして異常動
作の検出を行なうことにより、校正と校正との間
の測定時における計器精度を管理することができ
ると共に、要求される測定精度の範囲で出来るだ
け校正周期を長くすることができるし、またそれ
に伴なつて高価な校正液の有効利用が図れるとい
つた利点がある。 〈発明の効果〉 本発明に係る自動校正機能付濃度計は上述の如
く構成したので次のような効果がある。 各校正時において校正前と後との校正用物質
の測定値の差が一定の管理値の範囲内におさま
るよう校正周期が調整されるため、校正と校正
との間の測定中における精度が予測でき、測定
の信頼度も高まる。 校正周期が自動的に最適に調整される結果、
高価な校正用物質の有効利用、ランニングコス
トの低下を図ることができる。 校正周期の長さの変化から検出器の寿命を把
握することができ、検出器の交換を適正時期に
実施できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基本的な構成を示すブロツク
図、第2図、第3図は電気メツキ液のPH測定装置
に本発明を適用した例を示す図、第4図は第2図
の装置の異常判断を行なう回路を示す図である。 1,25……検出器、2,30……プログラム
コントローラ、3,29……演算部、4,31…
…第1比較部、5,32……管理精度設定部、
6,33……第2比較部、7,34……周期決定
部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 試料及び校正用物質の濃度に応じた信号を発
    する検出器と、検出器がある周期で校正用物質の
    検出を行なうよう制御するプログラムコントロー
    ラと、校正用物質の検出信号によつて自動校正
    し、試料の検出信号によつて濃度を求める演算を
    行なう演算部と、校正前と後における校正用物質
    の測定値を比較する第1比較部と、要求される測
    定精度に応じた管理値が設定された管理精度設定
    部と、第1比較部の比較値を管理精度設定部の管
    理値と比較する第2比較部と、この第2比較部の
    比較結果から校正周期を決定する周期決定部とか
    らなり、周期決定部で決定された周期に従つて校
    正を行なうようプログラムコントローラを制御す
    ることを特徴とする自動校正機能付濃度計。
JP15492384A 1984-07-25 1984-07-25 自動校正機能付濃度計 Granted JPS6131952A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15492384A JPS6131952A (ja) 1984-07-25 1984-07-25 自動校正機能付濃度計

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JP15492384A JPS6131952A (ja) 1984-07-25 1984-07-25 自動校正機能付濃度計

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JPS6131952A JPS6131952A (ja) 1986-02-14
JPH0321867B2 true JPH0321867B2 (ja) 1991-03-25

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JP15492384A Granted JPS6131952A (ja) 1984-07-25 1984-07-25 自動校正機能付濃度計

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