JPH03218333A - ヒドロホルミル化方法 - Google Patents
ヒドロホルミル化方法Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は、オレフィン性化合物を第8族金属錯体触媒の
存在下に一酸化炭素及び水素と反応させてヒドロホルミ
ル化反応を行なう方法の改良に関するものである。
存在下に一酸化炭素及び水素と反応させてヒドロホルミ
ル化反応を行なう方法の改良に関するものである。
オレフィン性化合物を触媒の存在下に水性ガスと反応さ
せて、アルデヒドまたはその水添物であるアルコールを
製造する方法はヒドロホルミル化方法として周知である
。触媒としては通常、第8族金属化合物と有機リン化合
物の可溶性錯体が用いられている。
せて、アルデヒドまたはその水添物であるアルコールを
製造する方法はヒドロホルミル化方法として周知である
。触媒としては通常、第8族金属化合物と有機リン化合
物の可溶性錯体が用いられている。
触媒はヒドロホルミル化反応後の反応液中に均一に溶解
した状態にあるので、高価な触媒を効率よく分離回収し
て再び反応系に循環することが工業的に重要な課題であ
る。
した状態にあるので、高価な触媒を効率よく分離回収し
て再び反応系に循環することが工業的に重要な課題であ
る。
ヒドロホルミル化反応で得られる反応生成物が比較的低
沸点である場合には、通常薄留により反応生成物と触媒
液とを分離し、触媒液を反応系に循環再使用することが
可能である。
沸点である場合には、通常薄留により反応生成物と触媒
液とを分離し、触媒液を反応系に循環再使用することが
可能である。
しかし、ヒドロホルミル化反応においては種々の高沸点
物が副生ずるため、触媒液の循環により反応系中に高沸
点副生物が蓄積し、安定な操業ができな《なるため、更
に蒸留等により高沸点副生物を触媒液から除去する必要
があるが、高温下での蒸留では、前記錯体が熱劣化等を
受けて循環触媒の活性が低下する。
物が副生ずるため、触媒液の循環により反応系中に高沸
点副生物が蓄積し、安定な操業ができな《なるため、更
に蒸留等により高沸点副生物を触媒液から除去する必要
があるが、高温下での蒸留では、前記錯体が熱劣化等を
受けて循環触媒の活性が低下する。
ヒドロホルミル化生成物が高沸点である場合にも前記と
同様に循環触媒の活性が低下する。これらの問題点を解
決する手段として、蒸留以外の方法例えば吸着・抽出等
の手段により、ロジウムー有機リン化合物との可熔性錯
体またはロジウム金属を回収する方法が提案されている
。
同様に循環触媒の活性が低下する。これらの問題点を解
決する手段として、蒸留以外の方法例えば吸着・抽出等
の手段により、ロジウムー有機リン化合物との可熔性錯
体またはロジウム金属を回収する方法が提案されている
。
例えば次のような方法がある。
■ オレイン酸メチルをl・リフェニルボスファイト及
びアルミナ担体に担持させたロジウム触媒の存在下にヒ
ト口ホルミル化させて得られた反応生成液を、濾過操作
によってアルミナ担体と濾液に分離し、濾液は蒸留によ
って生成物と可溶性ロジウム触媒に分離する。分離した
可溶性ロジウム触媒は上記アルミナ担体に担持して焼成
により活性化し、ヒドロホルミル化反応に再使用する。
びアルミナ担体に担持させたロジウム触媒の存在下にヒ
ト口ホルミル化させて得られた反応生成液を、濾過操作
によってアルミナ担体と濾液に分離し、濾液は蒸留によ
って生成物と可溶性ロジウム触媒に分離する。分離した
可溶性ロジウム触媒は上記アルミナ担体に担持して焼成
により活性化し、ヒドロホルミル化反応に再使用する。
(Journal of theAmercan
Oil ChemicalSocicty,
50, 455−458 (19 ・73)) ■ 第■族金属一有機リン化合物錯体からなる触媒の存
在下に不飽和脂肪酸化合物をヒドロホルミル化反応させ
、得られた反応液を有機リン化合物を担持した活性炭吸
着剤と接触させることによって錯体を吸着し、その後脱
離液と接触させて吸着剤に吸着されている錯体を溶出さ
せ、一方、遊離した有機リン化合物は上記した吸着処理
後の反応液から蒸留によって回収し、前記した溶出させ
た錯体と合してヒドロホルミル化反応に再使用すること
が示されている。(特開昭63−196537号) 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、上記■の方法では、配位子として加えら
れる有機リン化合物が回収されないこと、回収操作が複
雑であること、またヒドロホルミル化反応自体について
ヒドロホルミル化反応を適当な反応速度および収率で進
行させるには多量のロジウムが必要であり工業的に不利
であること等から工業的には採用しにくいものである。
Oil ChemicalSocicty,
50, 455−458 (19 ・73)) ■ 第■族金属一有機リン化合物錯体からなる触媒の存
在下に不飽和脂肪酸化合物をヒドロホルミル化反応させ
、得られた反応液を有機リン化合物を担持した活性炭吸
着剤と接触させることによって錯体を吸着し、その後脱
離液と接触させて吸着剤に吸着されている錯体を溶出さ
せ、一方、遊離した有機リン化合物は上記した吸着処理
後の反応液から蒸留によって回収し、前記した溶出させ
た錯体と合してヒドロホルミル化反応に再使用すること
が示されている。(特開昭63−196537号) 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、上記■の方法では、配位子として加えら
れる有機リン化合物が回収されないこと、回収操作が複
雑であること、またヒドロホルミル化反応自体について
ヒドロホルミル化反応を適当な反応速度および収率で進
行させるには多量のロジウムが必要であり工業的に不利
であること等から工業的には採用しにくいものである。
また上記■の方法では、遊離した有機リン化合物を蒸留
により回収しなければならないため、操作面で煩雑であ
り経済性を損う。
により回収しなければならないため、操作面で煩雑であ
り経済性を損う。
本発明者らは、上記従来技術の実情に鑑み、第8族金属
錯体触媒を用いるヒドロホルミル化反応生成物から触媒
を簡単な操作で効率よくしかも活性な状態で回収し、再
び反応系に循環する方法について鋭意検討した結果、特
定の有機リン化合物の存在下にヒドロホルミル化反応液
を晶析処理すること、あるいは、該有機リン化合物をヒ
ドロホルミル化触媒における配位子に用いることによっ
て、ヒドロポルミル化反応液から、第8族金属t{}体
および遊離の有機リン化合物からなる触媒を晶出により
回収でき、更に活性な状態で循環再使用できることを見
出し本発明に到達したものである。
錯体触媒を用いるヒドロホルミル化反応生成物から触媒
を簡単な操作で効率よくしかも活性な状態で回収し、再
び反応系に循環する方法について鋭意検討した結果、特
定の有機リン化合物の存在下にヒドロホルミル化反応液
を晶析処理すること、あるいは、該有機リン化合物をヒ
ドロホルミル化触媒における配位子に用いることによっ
て、ヒドロポルミル化反応液から、第8族金属t{}体
および遊離の有機リン化合物からなる触媒を晶出により
回収でき、更に活性な状態で循環再使用できることを見
出し本発明に到達したものである。
即ち、本願第1の発明は、第8族金属錯体触媒の存在下
にオレフィン性化合物を一酸化炭素及び水素と反応させ
てヒドロホルミル化体を製造するヒドロホルミル化方法
において、ヒドロホルミル化反応液の少なくとも一部を
抜出し、アルキル基の炭素原子数の合計が42個以上で
あるトリアルキルホスフィンの存在下に、晶析処理して
前記第8族金属錯体触媒を晶出さゼて分離回収し、ヒド
ロホルミル化反応帯域に循環させることを特徴とするヒ
ドロホルミル化方法を要旨とするものである。
にオレフィン性化合物を一酸化炭素及び水素と反応させ
てヒドロホルミル化体を製造するヒドロホルミル化方法
において、ヒドロホルミル化反応液の少なくとも一部を
抜出し、アルキル基の炭素原子数の合計が42個以上で
あるトリアルキルホスフィンの存在下に、晶析処理して
前記第8族金属錯体触媒を晶出さゼて分離回収し、ヒド
ロホルミル化反応帯域に循環させることを特徴とするヒ
ドロホルミル化方法を要旨とするものである。
また、本願第2の発明は、有機リン化合物を配位子とし
て有ずる第8族金属錯体触媒の存在下にオレフィン性化
合物を一酸化炭素及び水素と反応させてヒド口ホルミル
化体を製造するヒドロホルミル化方法において、有機リ
ン化合物としてアルキル基の炭素原子数の合計が42個
以上であるトリアルキルホスフィンを用い、かつ、ヒド
ロホルミル化反応液の少なくとも一部を抜出し、晶析処
理して前記第8族金属錯体触媒を晶出させて分離回収し
、ヒドロホルミル化反応帯域に循環させることを特徴と
するヒドロホルミル化方法、を要旨とするものである。
て有ずる第8族金属錯体触媒の存在下にオレフィン性化
合物を一酸化炭素及び水素と反応させてヒド口ホルミル
化体を製造するヒドロホルミル化方法において、有機リ
ン化合物としてアルキル基の炭素原子数の合計が42個
以上であるトリアルキルホスフィンを用い、かつ、ヒド
ロホルミル化反応液の少なくとも一部を抜出し、晶析処
理して前記第8族金属錯体触媒を晶出させて分離回収し
、ヒドロホルミル化反応帯域に循環させることを特徴と
するヒドロホルミル化方法、を要旨とするものである。
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明方法においてヒドロホルミル化反応原料として使
用されるオレフィン性化合物とは、分子内にオレフィン
性二重結合を少なくとも1つ有する有機化合物であれば
特に制限はなく、具体的には、エチレン、プロピレン、
ブテン、ブタジエン、ベンテン、ヘキセン、ヘキサジエ
ン、オクテン、オクタジエン、デセン、ヘキサデセン、
オクタデセン、イコセン、ドコセン、スチレン、α−メ
チルスチレン、シクロヘキセンおよびプロピレン、n−
ブテン、イソブチレン等の低級オレフィンの一量体〜四
景体のようなオレフィンオリゴマー異性体混合物等のオ
レフィン性炭化水素、アクリ口ニトリル、アリルアルコ
ール、■−ヒドロキシ2 7−オクタジエン、3−ヒド
ロキシ−1,7オクタジエン、オレイルアルコール、■
−メ1・キシ−2 7−オクタジエン、7−オクテン−
1アール、酢酸ビニル、1−アセトキシ−2.7オクク
ジエン、アクリル酸メチル、メタアクリル酸メチル、オ
レイン酸メチル、3−メチル−3ブテンー1−オール等
の置換オレフィン類等が挙げられる。
用されるオレフィン性化合物とは、分子内にオレフィン
性二重結合を少なくとも1つ有する有機化合物であれば
特に制限はなく、具体的には、エチレン、プロピレン、
ブテン、ブタジエン、ベンテン、ヘキセン、ヘキサジエ
ン、オクテン、オクタジエン、デセン、ヘキサデセン、
オクタデセン、イコセン、ドコセン、スチレン、α−メ
チルスチレン、シクロヘキセンおよびプロピレン、n−
ブテン、イソブチレン等の低級オレフィンの一量体〜四
景体のようなオレフィンオリゴマー異性体混合物等のオ
レフィン性炭化水素、アクリ口ニトリル、アリルアルコ
ール、■−ヒドロキシ2 7−オクタジエン、3−ヒド
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ジエン、アクリル酸メチル、メタアクリル酸メチル、オ
レイン酸メチル、3−メチル−3ブテンー1−オール等
の置換オレフィン類等が挙げられる。
本発明は、ことに、前記オレフィンを用いた場合のヒド
ロホルミル化反応生成物が160゜C以上もの高沸点と
なる場合あるいは熱安定性が悪い場合のオレフィン原料
にも適用できるところが、特色の一つである。
ロホルミル化反応生成物が160゜C以上もの高沸点と
なる場合あるいは熱安定性が悪い場合のオレフィン原料
にも適用できるところが、特色の一つである。
本発明で使用されるトリアルキルボスフィンは、アルキ
ル基の炭素原子数の合計が42個以上であるトリアルキ
ルホスフィンである。即ち、下記一般式(1) (上記式中、R,,R2及びR3は夫々互いに異なって
いてもよいアルキル基を表わし、R, 、R2及びR3
の炭素原子数の合計は42個以上である)で示される。
ル基の炭素原子数の合計が42個以上であるトリアルキ
ルホスフィンである。即ち、下記一般式(1) (上記式中、R,,R2及びR3は夫々互いに異なって
いてもよいアルキル基を表わし、R, 、R2及びR3
の炭素原子数の合計は42個以上である)で示される。
R1、R2及びR3の3つのアルキル基がいずれも炭素
原子数10個以上であるものが好ましく、特にこれら3
つのアルキル基がいずれも炭素原子数16個以上である
ものが好ましい。
原子数10個以上であるものが好ましく、特にこれら3
つのアルキル基がいずれも炭素原子数16個以上である
ものが好ましい。
R, 、R2及びR3の3つのアルキル基の炭素原子数
が42個よりも少ないと後述する第8族金属の固体錯体
の回収率が極めて不良となる。
が42個よりも少ないと後述する第8族金属の固体錯体
の回収率が極めて不良となる。
炭素数の上限は特定されるものでなく、本発明を効率良
く行なえる以上に炭素原子数を多くする必要はないが炭
素原子数があまりに多くなるとヒドロホルミル化反応条
件下で溶解性が低下するこ9 とから、ヒドロホルミル化反応条件下で反応液が均一溶
液となるよう適宜選択される。通常は90個以下、特に
70個以下で充分である。
く行なえる以上に炭素原子数を多くする必要はないが炭
素原子数があまりに多くなるとヒドロホルミル化反応条
件下で溶解性が低下するこ9 とから、ヒドロホルミル化反応条件下で反応液が均一溶
液となるよう適宜選択される。通常は90個以下、特に
70個以下で充分である。
本発明で用いるトリアルキルホスフィンの具体的な例は
、トリーn−テトラデシルホスフィン、トリーn−ペン
タデシルホスフィン、}’J一nヘキサデシルホスフィ
ン、トリーn−オクタデシルホスフィン、トリーn−エ
イコシルホスフィン、トリ−n−ドコシルホスフィン、
ジーn−ドデシルーn−オクタデシルホスフィン、ジ−
n−テトラデシルーn−オクタデシルホスフィン、ジー
nヘキサデシルーn−デシルホスフィン等が挙げられ、
好ましくはトリ−n−ヘキザデシルホスフィン、トリー
n−オクタデシルホスフィン、トリn−イコシルホスフ
ィン等が使用される。
、トリーn−テトラデシルホスフィン、トリーn−ペン
タデシルホスフィン、}’J一nヘキサデシルホスフィ
ン、トリーn−オクタデシルホスフィン、トリーn−エ
イコシルホスフィン、トリ−n−ドコシルホスフィン、
ジーn−ドデシルーn−オクタデシルホスフィン、ジ−
n−テトラデシルーn−オクタデシルホスフィン、ジー
nヘキサデシルーn−デシルホスフィン等が挙げられ、
好ましくはトリ−n−ヘキザデシルホスフィン、トリー
n−オクタデシルホスフィン、トリn−イコシルホスフ
ィン等が使用される。
トリアルキルホスフィンの使用量は特に制限されるもの
ではな《、後述の如くヒドロボルミル化反応系に存在さ
せる場合には触媒の活性を考慮し、第8族金属錯体の回
収に対して望ましい結果が得られるように任意に設定さ
れるが通常は、第8族10 金属1グラム原子あたり約0.5〜500モル好ましく
は1〜100モル、更に好ましくは3〜30モルの範囲
から選ばれる。
ではな《、後述の如くヒドロボルミル化反応系に存在さ
せる場合には触媒の活性を考慮し、第8族金属錯体の回
収に対して望ましい結果が得られるように任意に設定さ
れるが通常は、第8族10 金属1グラム原子あたり約0.5〜500モル好ましく
は1〜100モル、更に好ましくは3〜30モルの範囲
から選ばれる。
本発明方法において第8族金属錯体は、鉄、コバルト、
ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスシ
ウム、イリジウム、白金から成る群から選ばれた少なく
とも1つの金属を含み、有機化合物含有溶液に可溶な錯
体である。該錯体は、後述する如く、本発明で用いる特
定のトリアルキルホスフィンと錯体を形成することによ
り有機化合物含有溶液より晶出分離される。従って、該
錯体に少なくとも1つの交換可能な配位子が配位してい
ることが、特定のトリアルキルホスフィンと容易に錯体
形成して、本発明を効果的に実施するために好適である
。
ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスシ
ウム、イリジウム、白金から成る群から選ばれた少なく
とも1つの金属を含み、有機化合物含有溶液に可溶な錯
体である。該錯体は、後述する如く、本発明で用いる特
定のトリアルキルホスフィンと錯体を形成することによ
り有機化合物含有溶液より晶出分離される。従って、該
錯体に少なくとも1つの交換可能な配位子が配位してい
ることが、特定のトリアルキルホスフィンと容易に錯体
形成して、本発明を効果的に実施するために好適である
。
このような配位子としては、トリフェニルホスフィン、
トリーP−}リルボスフィン、トリス(m−メトキシフ
ェニル)ホスフィン、トリス(m−クロルフェニル)ホ
スフィン、トリス(4ジメチルアミノフェニル)ボスフ
ィン、ジフェ11 ニルイソプ口ピルホスフィン、トリエチルホスフィン、
トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン
、トリベンジルホスフィン及び前記一i式〔■〕で示さ
れるトリアルキルボスフィン等のボスフィン類、トリフ
ェニルボスファイト、1−リシクロへキシルホスファイ
ト、トリエチルホスファイト、トリオクチルホスファイ
I・、トリス(2−ジメチルアミノエチル)ホスファイ
ト等のホスファイト類、1,5−シクロオクタジェン、
ノルポルナジエン、シクロペンタジェン等のオレフィン
類、ペンゾニトリル、アセトニトリル、アクリロニトリ
ル等のニトリル類、t−プチルイソニトリル、(例えば
、シクロへギシルイソニ1・リル等の)シクロアルキル
イソニl・リル、フェニルイソニトリル等のイソニトリ
ル類、エチレンジアミン、α,α −ビピリジル、1.
10−フェナンスロリン、ピリジン等の含チン素化合物
、アセチルアセトン、ヘンゾイルアセトンなどのβ−ジ
ケトン類、アセト酢酸エステル、トリフルオルアセト酢
酸エステルなどのβ一ケ1・エステル類およ12 び一酸化炭素等が挙げられる。
トリーP−}リルボスフィン、トリス(m−メトキシフ
ェニル)ホスフィン、トリス(m−クロルフェニル)ホ
スフィン、トリス(4ジメチルアミノフェニル)ボスフ
ィン、ジフェ11 ニルイソプ口ピルホスフィン、トリエチルホスフィン、
トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン
、トリベンジルホスフィン及び前記一i式〔■〕で示さ
れるトリアルキルボスフィン等のボスフィン類、トリフ
ェニルボスファイト、1−リシクロへキシルホスファイ
ト、トリエチルホスファイト、トリオクチルホスファイ
I・、トリス(2−ジメチルアミノエチル)ホスファイ
ト等のホスファイト類、1,5−シクロオクタジェン、
ノルポルナジエン、シクロペンタジェン等のオレフィン
類、ペンゾニトリル、アセトニトリル、アクリロニトリ
ル等のニトリル類、t−プチルイソニトリル、(例えば
、シクロへギシルイソニ1・リル等の)シクロアルキル
イソニl・リル、フェニルイソニトリル等のイソニトリ
ル類、エチレンジアミン、α,α −ビピリジル、1.
10−フェナンスロリン、ピリジン等の含チン素化合物
、アセチルアセトン、ヘンゾイルアセトンなどのβ−ジ
ケトン類、アセト酢酸エステル、トリフルオルアセト酢
酸エステルなどのβ一ケ1・エステル類およ12 び一酸化炭素等が挙げられる。
第8族金属錯体の具体例としては、F e (C O)
s,Ni(C○),,Co(C○)a , RuCj
22(PPh3 ,Rha (Co)+z,Rh (
acac)(CO)z ,RhH (CO)(PPh3
)3 ,PdCL (COD),Pd (OAC)2
,PtCj2z (P hCN) 2 , P t
cj2z (PPh3) 2T r4 (CO)+2
,OsCj23 (PEt3 )3(Phはフエニル基
、acacはアセチルアセトネート基を、Acはアセチ
ル基を、CODは1.5−シクロオクタジエンを夫々表
わす。)などが挙げられるが必ずしもこれに限定される
ものではない。
s,Ni(C○),,Co(C○)a , RuCj
22(PPh3 ,Rha (Co)+z,Rh (
acac)(CO)z ,RhH (CO)(PPh3
)3 ,PdCL (COD),Pd (OAC)2
,PtCj2z (P hCN) 2 , P t
cj2z (PPh3) 2T r4 (CO)+2
,OsCj23 (PEt3 )3(Phはフエニル基
、acacはアセチルアセトネート基を、Acはアセチ
ル基を、CODは1.5−シクロオクタジエンを夫々表
わす。)などが挙げられるが必ずしもこれに限定される
ものではない。
特に本発明は前記した第8族金属錯体を触媒とする反応
で生成する可溶性錯体をも対象とするものであり、反応
抜き出し液中あるいはこれを更に蒸留等によって濃縮し
て得られた触媒液から第8族金属錯体を回収する場合に
有利に適用される。
で生成する可溶性錯体をも対象とするものであり、反応
抜き出し液中あるいはこれを更に蒸留等によって濃縮し
て得られた触媒液から第8族金属錯体を回収する場合に
有利に適用される。
前記第8族金属錯体は、第8族金属の化合物、例えば水
素化物、ハロゲン化物、有機酸塩、無機13 ?塩、酸化物、カルボニル化合物、アミン化合物等と配
位子化合物とから公知の錯体形成方法により容易に調製
することができる。また、場合によっては、第8族金属
化合物と配位子化合物とをヒドロボルミル化反応帯域に
供給してそこで錯体を形成さセることもできる。
素化物、ハロゲン化物、有機酸塩、無機13 ?塩、酸化物、カルボニル化合物、アミン化合物等と配
位子化合物とから公知の錯体形成方法により容易に調製
することができる。また、場合によっては、第8族金属
化合物と配位子化合物とをヒドロボルミル化反応帯域に
供給してそこで錯体を形成さセることもできる。
第8族金属化合物としては例えば、三塩化ルテニウム、
テトラアンミンヒドロキソクロロルテニウムクロリド、
ジクロロトリス(トリフユニルホスフィン)ルテニウム
等のルテニウム化合物、酢酸パラジウム、塩化パラジウ
ム等のパラジウム化合物、三塩化オスミウム等のオスミ
ウム化合物、三塩化イリジウム、イリジウムカルボニル
等のイリジウム化合物、白金酸、ヘキサクロロ白金酸ナ
トリウム、第二白金酸カリウム等の白金化合物、ジコバ
ルトオクタカルボニル、ステアリン酸コバルト等のコバ
ルト化合物、三塩化ロジウム、硝酸ロジウム、酢酸ロジ
ウム、Rh (acac)(CO)2、 [Rh (O
Ac)(COD)] . 、Rh.(Co)I■、HR
h (Co)(PPh3)3、l4 [Rh (u−StBu) (CO)2] z
(acaCはアセチルアセトネート基を、Acはアセ
チル基を、CODは1.5−シクロオククジェンを、P
hはフエニル基を、tBuはターシャリーブチル基を夫
々表わす。)等のロジウム化合物が挙げられるが必ずし
もこれらに限定されるものではない。
テトラアンミンヒドロキソクロロルテニウムクロリド、
ジクロロトリス(トリフユニルホスフィン)ルテニウム
等のルテニウム化合物、酢酸パラジウム、塩化パラジウ
ム等のパラジウム化合物、三塩化オスミウム等のオスミ
ウム化合物、三塩化イリジウム、イリジウムカルボニル
等のイリジウム化合物、白金酸、ヘキサクロロ白金酸ナ
トリウム、第二白金酸カリウム等の白金化合物、ジコバ
ルトオクタカルボニル、ステアリン酸コバルト等のコバ
ルト化合物、三塩化ロジウム、硝酸ロジウム、酢酸ロジ
ウム、Rh (acac)(CO)2、 [Rh (O
Ac)(COD)] . 、Rh.(Co)I■、HR
h (Co)(PPh3)3、l4 [Rh (u−StBu) (CO)2] z
(acaCはアセチルアセトネート基を、Acはアセ
チル基を、CODは1.5−シクロオククジェンを、P
hはフエニル基を、tBuはターシャリーブチル基を夫
々表わす。)等のロジウム化合物が挙げられるが必ずし
もこれらに限定されるものではない。
第8族金属化合物の使用量は、特に制限されるものでは
なく、触媒活性及び経済性等から考慮される限界がある
が、本発明においては通常ヒドロポルミル化反応帯域に
おける濃度が金属原子換算でオレフィン性化合物1lに
対し0.05■〜5g1好ましくは0. 5 mg〜1
gの範囲から選ばれる。
なく、触媒活性及び経済性等から考慮される限界がある
が、本発明においては通常ヒドロポルミル化反応帯域に
おける濃度が金属原子換算でオレフィン性化合物1lに
対し0.05■〜5g1好ましくは0. 5 mg〜1
gの範囲から選ばれる。
ヒドロホルミル化反応を行なうにあたって、反応溶媒の
使用は必須ではないが、必要ならばヒドロホルミル化反
応に不活性な溶媒を存在させることが出来る。好ましい
溶媒の具体例は、トルエン、キシレン、ドデシルヘンゼ
ン等の芳香族炭化水素化合物、アセトン、ジエチルケト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒド口フ
ラン、ジ15 オキサン等のエーテル類、酢酸エチル、ジーnオクチル
フタレ−1・等のエステル類が挙げられる。
使用は必須ではないが、必要ならばヒドロホルミル化反
応に不活性な溶媒を存在させることが出来る。好ましい
溶媒の具体例は、トルエン、キシレン、ドデシルヘンゼ
ン等の芳香族炭化水素化合物、アセトン、ジエチルケト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒド口フ
ラン、ジ15 オキサン等のエーテル類、酢酸エチル、ジーnオクチル
フタレ−1・等のエステル類が挙げられる。
本発明のヒドロホルミル化方法を行なうための反応条件
は従来、通常用いられたものと同様であり、反応温度は
室温〜200゜C、好まし《は50゜C〜150゜Cの
範囲から選ばれ、反応圧力は通常、常圧〜200気圧、
好ましくは5〜100気圧、特に好ましくは5〜50気
圧の範囲から選ばれる。
は従来、通常用いられたものと同様であり、反応温度は
室温〜200゜C、好まし《は50゜C〜150゜Cの
範囲から選ばれ、反応圧力は通常、常圧〜200気圧、
好ましくは5〜100気圧、特に好ましくは5〜50気
圧の範囲から選ばれる。
水素と一酸化炭素のモル比(H2 /Co)は通常、1
0/1〜l/10、好ましくは1/1〜6/1の範囲か
ら選択される。ヒドロホルミル化反応の反応方式として
は、撹拌型反応槽または気泡塔型反応槽中で連続方式ま
たは回分方式のいずれでも行なうことができる。
0/1〜l/10、好ましくは1/1〜6/1の範囲か
ら選択される。ヒドロホルミル化反応の反応方式として
は、撹拌型反応槽または気泡塔型反応槽中で連続方式ま
たは回分方式のいずれでも行なうことができる。
本発明においては、上述したヒドロホルミル化反応の反
応液の少なくとも一部を抜出し、晶析処理して第8族金
属錯体触媒を晶出させて分離回収し、ヒドロボルミル化
反応帯域に循環させる。
応液の少なくとも一部を抜出し、晶析処理して第8族金
属錯体触媒を晶出させて分離回収し、ヒドロボルミル化
反応帯域に循環させる。
例えば、上述したヒドロホルミル化反応の反応器から流
出する第8族金属錯体を含むヒドロホルl6 ミル化反応液あるいはこれから生成アルデヒドや反応溶
媒の一部を蒸留等の公知の方法により除去し反応液中の
第8族金属錯体濃度を金属原子の重量換算で溶液1lあ
たり1 mg〜100g、好ましくは10mg〜10g
程度に高めたものを晶析処理する。
出する第8族金属錯体を含むヒドロホルl6 ミル化反応液あるいはこれから生成アルデヒドや反応溶
媒の一部を蒸留等の公知の方法により除去し反応液中の
第8族金属錯体濃度を金属原子の重量換算で溶液1lあ
たり1 mg〜100g、好ましくは10mg〜10g
程度に高めたものを晶析処理する。
本発明においては、前述の如く特定の炭素原子数を有す
るトリアルキルホスフィンと第8族金属との錯体のヒド
ロホルミル化反応液に対する溶解性を利用して晶析処理
により第8族金属錯体触媒が分離回収される。その際、
第8族金属錯体の晶出に伴って遊離の前記トリアルキル
ホスフィンをも晶出させることができるので、同時に分
離回収することができる。
るトリアルキルホスフィンと第8族金属との錯体のヒド
ロホルミル化反応液に対する溶解性を利用して晶析処理
により第8族金属錯体触媒が分離回収される。その際、
第8族金属錯体の晶出に伴って遊離の前記トリアルキル
ホスフィンをも晶出させることができるので、同時に分
離回収することができる。
晶析処理に際しては該触媒に対して不活性な貧溶媒を使
用する方が晶出速度を高める上で好ましい。貧溶媒の好
適な例としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、n−ブチルアルコール、アセトニトリル、ジメチル
ホルムアミド等が挙げられる。
用する方が晶出速度を高める上で好ましい。貧溶媒の好
適な例としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、n−ブチルアルコール、アセトニトリル、ジメチル
ホルムアミド等が挙げられる。
17
晶析処理は、公知の晶析装置を使用し、1段晶析または
、多段晶析等いずれの方法を用いても好適に実施し得る
。晶析温度は、該触媒と反応液が分離可能な限りにおい
て特に制限されないが、通常、−78゜C〜80゜C、
好ましくは−20゜C〜50゜Cの範囲で実′施される
。
、多段晶析等いずれの方法を用いても好適に実施し得る
。晶析温度は、該触媒と反応液が分離可能な限りにおい
て特に制限されないが、通常、−78゜C〜80゜C、
好ましくは−20゜C〜50゜Cの範囲で実′施される
。
晶出した第8族金属錯体触媒は、通常の固液分離法、例
えば濾過、遠心濾過、遠心分離などにより反応液より分
離回収される。
えば濾過、遠心濾過、遠心分離などにより反応液より分
離回収される。
上記晶析処理及び晶出した固体錯体の分離回収は、前記
トリアルキルホスフィンが酸素の存在下で容易に酸化さ
れてトリアルキルボスフィンオキシドになるので、これ
を防止するためには不活性ガス、例えば窒素又はアルゴ
ン等の雰囲気下で実施する。
トリアルキルホスフィンが酸素の存在下で容易に酸化さ
れてトリアルキルボスフィンオキシドになるので、これ
を防止するためには不活性ガス、例えば窒素又はアルゴ
ン等の雰囲気下で実施する。
晶出した第8族金属固体錯体は通常の固液分離法、例え
ば濾過、遠心濾過、遠心分離などにより固液分離し、第
8族金属固体錯体を分離取得できる。
ば濾過、遠心濾過、遠心分離などにより固液分離し、第
8族金属固体錯体を分離取得できる。
回収された第8族金属固体錯体は、そのまま、18
あるいは適宜空気酸化、有機過酸化物による酸化等の公
知の再生処理が施された後、あるいは再結晶等の精製処
理や配位子交換等の処理を行なった後、再び活性な可溶
性錯体触媒としてヒドロホルミル化反応帯域へ循環させ
て触媒として再使用される。循環の際には別途公知方法
で回収される配位子成分をも循環再使用することができ
る。
知の再生処理が施された後、あるいは再結晶等の精製処
理や配位子交換等の処理を行なった後、再び活性な可溶
性錯体触媒としてヒドロホルミル化反応帯域へ循環させ
て触媒として再使用される。循環の際には別途公知方法
で回収される配位子成分をも循環再使用することができ
る。
また、第8族金属錯体触媒が一般式CI)で示されるト
リアルキルホスフィンを配位子として有する場合には、
前記した回収された第8族金属固体錯体をそのままヒド
ロホルミル化反応帯域に循環させることができる。
リアルキルホスフィンを配位子として有する場合には、
前記した回収された第8族金属固体錯体をそのままヒド
ロホルミル化反応帯域に循環させることができる。
以上、詳細に説明したように本発明方法によればヒドロ
ホルミル化反応液から晶析処理および固液分離処理とい
う簡単な処理で有用かつ高価な、第8族金属錯体触媒を
高収率で選択的に分離回収でき、その際遊離のトリアル
キルホスフィンをも同時に分離回収することができる。
ホルミル化反応液から晶析処理および固液分離処理とい
う簡単な処理で有用かつ高価な、第8族金属錯体触媒を
高収率で選択的に分離回収でき、その際遊離のトリアル
キルホスフィンをも同時に分離回収することができる。
回収した該触媒はヒドロホルミル化反応に再使用される
ので本発明の工業的価値は、極めて大きい。
ので本発明の工業的価値は、極めて大きい。
19
〔実施例〕
次に本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発
明はその要旨を超えない限り、以下の実施例によって限
定されるものではない。
明はその要旨を超えない限り、以下の実施例によって限
定されるものではない。
実施例−1
内容積10mflのステンレス鋼製スピナー撹拌型ミク
ロオートクレープに粗オレイン酸メチル原料27ml(
オレイン酸メチル8 5. 3 4 w t%、ステア
リン酸メチル11.29wt%、ヘキサデヵン酸メチル
0. 1 7 w t%、バルミチン酸メチル2.66
wt%、リノール酸メチル0. 2 w t%以下)、
n一テトラデカン3 ml、Rh (acac)(CO
)214.7mg及び(n一68837)3Pをロジウ
ム原子1モルあたり6モルをアルゴン雰囲気下で仕込ん
だ後、オートクレープを密閉した。更にアルゴンガスを
5 kg / c+II Gまで圧大した後、常圧に戻
す操作を3回反復した後で130゜Cに昇温した。13
0゜Cに到達後、直ちに水性ガス(H2/CO一l)を
7.5kg/cAGとなるように圧大して反応を開始し
、5時間反応を継続した。
ロオートクレープに粗オレイン酸メチル原料27ml(
オレイン酸メチル8 5. 3 4 w t%、ステア
リン酸メチル11.29wt%、ヘキサデヵン酸メチル
0. 1 7 w t%、バルミチン酸メチル2.66
wt%、リノール酸メチル0. 2 w t%以下)、
n一テトラデカン3 ml、Rh (acac)(CO
)214.7mg及び(n一68837)3Pをロジウ
ム原子1モルあたり6モルをアルゴン雰囲気下で仕込ん
だ後、オートクレープを密閉した。更にアルゴンガスを
5 kg / c+II Gまで圧大した後、常圧に戻
す操作を3回反復した後で130゜Cに昇温した。13
0゜Cに到達後、直ちに水性ガス(H2/CO一l)を
7.5kg/cAGとなるように圧大して反応を開始し
、5時間反応を継続した。
20
反応の間消費された水性ガスは二次圧力調整器を通じて
ボンベより補給し、反応圧力を7. 5 kg/c+f
lGに一定に保った。
ボンベより補給し、反応圧力を7. 5 kg/c+f
lGに一定に保った。
反応後、アルゴン雰囲気下で反応液をシュレンク管に抜
き出し、一部をガスクロマトグラフィー(カラム;Th
ermon−3000キャビラリ−0.25φX50m
)分析で生成物濃度を測定した。オレイン酸メチル(以
下rMo,と略す。)及びリノール酸メチル(以下rM
L.と略す。)の変換率は88.2mo1%、メチルホ
ルミルステアレート(以下rMFS,と略す。)収率は
86.3mo 1%、ステアリン酸メチル(以下rMs
Jと略す。)収率は1.1mol%であった。
き出し、一部をガスクロマトグラフィー(カラム;Th
ermon−3000キャビラリ−0.25φX50m
)分析で生成物濃度を測定した。オレイン酸メチル(以
下rMo,と略す。)及びリノール酸メチル(以下rM
L.と略す。)の変換率は88.2mo1%、メチルホ
ルミルステアレート(以下rMFS,と略す。)収率は
86.3mo 1%、ステアリン酸メチル(以下rMs
Jと略す。)収率は1.1mol%であった。
次に、得られた反応液にアルゴン脱気したメタノールを
反応液に対して4倍容量加えて4〜5℃に冷却したとこ
ろ、ロジウム錯体が晶出し始めた。
反応液に対して4倍容量加えて4〜5℃に冷却したとこ
ろ、ロジウム錯体が晶出し始めた。
この状態で2時間保った後、晶出物を062μメンプラ
ンフィルターで減圧濾過し固液分離した。晶析処理後の
濾液についてゼーマン型原子吸光装置を用いてロジウム
分析を行なったところ、溶解ロ21 ジウムは仕込みロジウムに対して0.06%であった。
ンフィルターで減圧濾過し固液分離した。晶析処理後の
濾液についてゼーマン型原子吸光装置を用いてロジウム
分析を行なったところ、溶解ロ21 ジウムは仕込みロジウムに対して0.06%であった。
99.9%のロジウムが固体錯体として回収された。一
方、回収した固体錯体は更に室温で真空乾燥させた後、
前記したオレイン酸メチル原料27戚及びn−テトラデ
カン3戚をアルゴン雰囲気下で加え、続いて上述した初
回反応と同様の方法で操作して、2回目の反応を実施し
た。反応抜き出し液のガスクロマトグラフィー分析結果
は、(MO+ML)変換率91.3%、MFS収率89
,6%、MS収率1.2%であった。また、反応液を上
述した晶析処理と同様の方法で操作して固液分離した後
、濾液についてロジウム分析を行なったところ、溶解ロ
ジウムは仕込みロジウムに対して0.59%であった。
方、回収した固体錯体は更に室温で真空乾燥させた後、
前記したオレイン酸メチル原料27戚及びn−テトラデ
カン3戚をアルゴン雰囲気下で加え、続いて上述した初
回反応と同様の方法で操作して、2回目の反応を実施し
た。反応抜き出し液のガスクロマトグラフィー分析結果
は、(MO+ML)変換率91.3%、MFS収率89
,6%、MS収率1.2%であった。また、反応液を上
述した晶析処理と同様の方法で操作して固液分離した後
、濾液についてロジウム分析を行なったところ、溶解ロ
ジウムは仕込みロジウムに対して0.59%であった。
99.4%のロジウムが固体錯体として回収された。
比較例−1
(n C+eH:++)3Pの代わりに(n CI
21{25)3Pを用いた以外は実施例一lにおけるの
と同様の方法で初回ヒドロホルミル化反応を実施した。
21{25)3Pを用いた以外は実施例一lにおけるの
と同様の方法で初回ヒドロホルミル化反応を実施した。
反応後の抜き出し液のガスクロマトグラフィー分析22
結果は、(MO+ML)変換率90.3mo1%、MF
S収率8B.5mo1%、MS収率1.3mo1%であ
った。しかしながら、実施例−1におけるのと同様の方
法での晶析処理によるロジウム錯体の晶析分離を試みた
が錯体は全く晶出しなかった。
S収率8B.5mo1%、MS収率1.3mo1%であ
った。しかしながら、実施例−1におけるのと同様の方
法での晶析処理によるロジウム錯体の晶析分離を試みた
が錯体は全く晶出しなかった。
実施例−2
オレイン酸メチルの代わりに1−オクテン(純度99%
以上)を同容量用いてヒドロホルミル化反応を3時間行
ない、また晶析操作の添加溶媒としてアセトニトリルを
用いた以外は実施例=1におけるのと同様の操作でヒド
ロホルミル化反応及び晶析処理を行なった。初回のヒド
ロホルミル化反応成績は、オクテン変換率94.7mo
1%、ノニルアルデヒド収率94.1mo1%であり、
また、晶析処理後のロジウム回収率は仕込みロジウム量
に対して99.6%であった。更に、上述した回収ロジ
ウム錯体を用いた2回目のヒドロホルミル化反応成績は
、オクテン変換率94.0mo1%、ノニルアルデヒド
収率93.5mo1%であり、また、晶析処理によるロ
ジウム回収率は仕込みロジウム23 に対して99.8%であった。
以上)を同容量用いてヒドロホルミル化反応を3時間行
ない、また晶析操作の添加溶媒としてアセトニトリルを
用いた以外は実施例=1におけるのと同様の操作でヒド
ロホルミル化反応及び晶析処理を行なった。初回のヒド
ロホルミル化反応成績は、オクテン変換率94.7mo
1%、ノニルアルデヒド収率94.1mo1%であり、
また、晶析処理後のロジウム回収率は仕込みロジウム量
に対して99.6%であった。更に、上述した回収ロジ
ウム錯体を用いた2回目のヒドロホルミル化反応成績は
、オクテン変換率94.0mo1%、ノニルアルデヒド
収率93.5mo1%であり、また、晶析処理によるロ
ジウム回収率は仕込みロジウム23 に対して99.8%であった。
比較例−2
(n C+aHa7)3Pの代わりに(n CI2
H2S)3Pを用いた以外は実施例−2におけるのと同
様の方法で初回ヒドロホルミル化反応を実施した。反応
成績は、オクテン変換率92.9mo1%、ノニルアル
デヒド収率92.Omo1%であった。しかしながら、
実施例−2におけるのと同様の方法での晶析処理による
ロジウム錯体の晶析分離を試みたが、錯体は全く晶出し
なかった。
H2S)3Pを用いた以外は実施例−2におけるのと同
様の方法で初回ヒドロホルミル化反応を実施した。反応
成績は、オクテン変換率92.9mo1%、ノニルアル
デヒド収率92.Omo1%であった。しかしながら、
実施例−2におけるのと同様の方法での晶析処理による
ロジウム錯体の晶析分離を試みたが、錯体は全く晶出し
なかった。
実施例−3
内容積200rdのステンレス鋼製上下撹拌式オートク
レープに、3−メチル−3−ブテンー1オール(以下I
PEAと略す)50mf,}ルエン5 mfl、Rh
(acac)(Co)2 13.2mgと、(n
C+eHzq) 3Pをロジウム原子1モルあたり4モ
ルをN2雰囲気下で仕込んだ。更にオートクレープ内を
N2ガス10kg/c++tGで3回置換した後で常圧
に戻し、120゜Cに昇温した。120゜Cに到達後、
全圧が30kg/cnlGとなるように水24 性ガス(H2/CO=1)を圧大して反応を開始させ、
反応圧力を絶えず30kg/aflGに保ちながら4時
間反応を継続した。反応後のガスクロマトグラフィー(
カラムHThermon−3000キャピラリ−〇.2
5φx50m)分析結果を第1表に示す。次に、この反
応溶液全量に貧溶媒としてメタノールの代わりにアセト
ニトリル200成を添加し、0゛Cに冷却し、3時間保
った以外は実施例−1におけるのと同様の操作で晶析処
理を行なった。ロジウム回収率を第1表に示す。
レープに、3−メチル−3−ブテンー1オール(以下I
PEAと略す)50mf,}ルエン5 mfl、Rh
(acac)(Co)2 13.2mgと、(n
C+eHzq) 3Pをロジウム原子1モルあたり4モ
ルをN2雰囲気下で仕込んだ。更にオートクレープ内を
N2ガス10kg/c++tGで3回置換した後で常圧
に戻し、120゜Cに昇温した。120゜Cに到達後、
全圧が30kg/cnlGとなるように水24 性ガス(H2/CO=1)を圧大して反応を開始させ、
反応圧力を絶えず30kg/aflGに保ちながら4時
間反応を継続した。反応後のガスクロマトグラフィー(
カラムHThermon−3000キャピラリ−〇.2
5φx50m)分析結果を第1表に示す。次に、この反
応溶液全量に貧溶媒としてメタノールの代わりにアセト
ニトリル200成を添加し、0゛Cに冷却し、3時間保
った以外は実施例−1におけるのと同様の操作で晶析処
理を行なった。ロジウム回収率を第1表に示す。
続いて晶析により回収したロジウム錯体と遊離の(n
Cl8H37) 3Pの全量を用いて、上述した初回
反応と同様の条件でIPEAのヒドロホルミル化反応及
び晶析処理を行なった。結果を第1表に示す。
Cl8H37) 3Pの全量を用いて、上述した初回
反応と同様の条件でIPEAのヒドロホルミル化反応及
び晶析処理を行なった。結果を第1表に示す。
25
(*1)
IVA
:イソバレルアルデヒド
IPEA:3
メチル−2
ブテン
オール
HMTP
ヒドロキシ
メチルテトラヒドロビラン
(*2)
反応仕込みロジウム量に対する回収率
実施例−4
1−イコセン60戚、トルエン60d、Rh(a c
a c) (Co) 2 28.6■と、 (n
CIBHz,)3Pをロジウム原子1モルあたり6モ
ルをオートクレープに仕込み、実施例−3と同様の反応
圧力、反応温度で2時間ヒドロホルミル化反応を行なっ
た。この反応液のガスクロマトグラフィー分析結果では
、1−イコセンの変換率は97.7mo1%、生成アル
デヒドの収率は95.5mo1%であった。
a c) (Co) 2 28.6■と、 (n
CIBHz,)3Pをロジウム原子1モルあたり6モ
ルをオートクレープに仕込み、実施例−3と同様の反応
圧力、反応温度で2時間ヒドロホルミル化反応を行なっ
た。この反応液のガスクロマトグラフィー分析結果では
、1−イコセンの変換率は97.7mo1%、生成アル
デヒドの収率は95.5mo1%であった。
次に、得られた反応液に対して撹拌下、アルゴン脱気し
たアセトニトリル500rdを添加したところ、生成物
の一部とともにロジウム錯体及び遊離(n CIll
H37) 3Pが晶出し始めた。この状態で2時間放置
した後、0.2μメンプランフィルターで固液分離した
。分離後、固体錯体として回収されたロジウム量は仕込
みロジウムに対して99.2%であった。
たアセトニトリル500rdを添加したところ、生成物
の一部とともにロジウム錯体及び遊離(n CIll
H37) 3Pが晶出し始めた。この状態で2時間放置
した後、0.2μメンプランフィルターで固液分離した
。分離後、固体錯体として回収されたロジウム量は仕込
みロジウムに対して99.2%であった。
続いて上記により回収したロジウム錯体及び遊離(n
CIBH37)3Pの全量を用いて、初回反27 応と同様の条件でヒドロホルミル化反応及び晶析処理を
行なった。■−イコセン変換率は9 7. 5 mo1
%、アルデヒド収率は95.7mo1%、また晶析によ
るロジウム回収率は99.1%であった。
CIBH37)3Pの全量を用いて、初回反27 応と同様の条件でヒドロホルミル化反応及び晶析処理を
行なった。■−イコセン変換率は9 7. 5 mo1
%、アルデヒド収率は95.7mo1%、また晶析によ
るロジウム回収率は99.1%であった。
実施例−5
1−ヒドロキシ−2.7−オクタジエン(以下r 1−
HODJと略す)60ml,n−テトラデカン5d,R
h (acac)(Co)2 15.6■、及びロジウ
ムに対し6当量の(n CIllH3?) 3Pを2
00dオートクレープに仕込んだ後、H2/Co(1,
/1)圧力8 kg / cボG、110゜C条件下で
3時間反応を行なった。
HODJと略す)60ml,n−テトラデカン5d,R
h (acac)(Co)2 15.6■、及びロジウ
ムに対し6当量の(n CIllH3?) 3Pを2
00dオートクレープに仕込んだ後、H2/Co(1,
/1)圧力8 kg / cボG、110゜C条件下で
3時間反応を行なった。
得られた反応液についてガスクロマトグラフィー(カラ
ム;島津製作所製CBPIキャピラリ−〇.25φX5
0m)分析で生成物濃度を測定した結果、l−HOD変
換率89.2mo1%、全生成アルデヒド収率81.O
mo1%であった。この反応液全量に貧溶媒としてアセ
トニトリル2 0 0 Idを添加し、0゜Cに冷却し
一昼夜放置した以外は実施例−1と同様の操作で晶析処
理したところ、仕28 込みロジウムに対して99.3%のロジウムが固体錯体
として回収された。
ム;島津製作所製CBPIキャピラリ−〇.25φX5
0m)分析で生成物濃度を測定した結果、l−HOD変
換率89.2mo1%、全生成アルデヒド収率81.O
mo1%であった。この反応液全量に貧溶媒としてアセ
トニトリル2 0 0 Idを添加し、0゜Cに冷却し
一昼夜放置した以外は実施例−1と同様の操作で晶析処
理したところ、仕28 込みロジウムに対して99.3%のロジウムが固体錯体
として回収された。
続いて回収した錯体と遊離の(n C+eH3q)
sPの全量を用いて、初回反応と同様の操作・条件でヒ
ドロホルミル化反応及び晶析処理を行なった。
sPの全量を用いて、初回反応と同様の操作・条件でヒ
ドロホルミル化反応及び晶析処理を行なった。
1−HOD変換率89.3mol%、全生成アルデヒド
収率81.9mo1%、であり、仕込みロジウムに対し
て99.1%のロジウムが固体錯体として回収された。
収率81.9mo1%、であり、仕込みロジウムに対し
て99.1%のロジウムが固体錯体として回収された。
実施例−6
内容積2 0 0 mlのステンレス鋼製上下撹拌式オ
ートクレープに1−オクテン55mL}ルエン5d,R
h (acac)(Co)z 14.3mgをN2雰
囲気下で仕込んだ。更にオートクレープ内をN2ガス1
0kg/c+flGで3回置換した後で常圧に戻し、そ
の後120゜Cまで昇温した。
ートクレープに1−オクテン55mL}ルエン5d,R
h (acac)(Co)z 14.3mgをN2雰
囲気下で仕込んだ。更にオートクレープ内をN2ガス1
0kg/c+flGで3回置換した後で常圧に戻し、そ
の後120゜Cまで昇温した。
120゜Cに到達後、全圧が1 0 0 kg/c+I
IGとなるようにH2/Co (1/1)ガスをオート
クレープに圧大して反応を開始し、1時間反応を継続し
た。
IGとなるようにH2/Co (1/1)ガスをオート
クレープに圧大して反応を開始し、1時間反応を継続し
た。
29
反応の間に消費された水性ガスは二次圧力調節弁を通じ
て絶えず1 0 0 kg/cnlGとなるようリザー
バーから供給した。
て絶えず1 0 0 kg/cnlGとなるようリザー
バーから供給した。
反応後、アルゴン雰囲気下で反応液を抜き出し、これに
(n Cl8H37) 3Pをロジウム原子1モルあ
たり5モルを添加して錯体を形成させた。また、反応液
の一部をガスクロマトグラフィー(カラム;Therm
on−3000キャビラリ一〇.25φX50m)で分
析して生成物濃度を測定した。
(n Cl8H37) 3Pをロジウム原子1モルあ
たり5モルを添加して錯体を形成させた。また、反応液
の一部をガスクロマトグラフィー(カラム;Therm
on−3000キャビラリ一〇.25φX50m)で分
析して生成物濃度を測定した。
次に、上記反応液にアルゴン脱気したアセトニトリル2
00mを加えて4〜5℃に冷却し、この状態で約3時間
保った後、晶析したロジウム錯体及び遊離(n CI
llH37) 3Pを0.2uメンプランフィルターを
用いて減圧濾過し固液分離した。
00mを加えて4〜5℃に冷却し、この状態で約3時間
保った後、晶析したロジウム錯体及び遊離(n CI
llH37) 3Pを0.2uメンプランフィルターを
用いて減圧濾過し固液分離した。
晶析処理後の濾液中に溶解しているロジウムについては
、ゼーマン型原子吸光装置によりロジウム分析を行なっ
た。
、ゼーマン型原子吸光装置によりロジウム分析を行なっ
た。
一方、回収した固体錯体は更に室温にて真空乾燥させた
後で、■−オクテン過酸化物を含有する30 1−オクテン55mlを加えて室温下30分撹拌させた
。その後、5゜C〜−10゛Cに冷却させて晶析してき
た(n CIIIH37) 3P = 0を濾過分離
した後でトルエン5 mlを添加して再びオートクレー
プに仕込んだ。
後で、■−オクテン過酸化物を含有する30 1−オクテン55mlを加えて室温下30分撹拌させた
。その後、5゜C〜−10゛Cに冷却させて晶析してき
た(n CIIIH37) 3P = 0を濾過分離
した後でトルエン5 mlを添加して再びオートクレー
プに仕込んだ。
上述した一連の操作を3回繰り返した結果を第2表に示
した。
した。
第2表
〔発明の効果〕
本発明方法によればヒドロホルミル化反応触媒を簡単な
操作方法で効率よくしかも活性状態で回収し再び反応系
に循環し、ヒドロホルミル化反応31 を工業的に有利に実施することができる。
操作方法で効率よくしかも活性状態で回収し再び反応系
に循環し、ヒドロホルミル化反応31 を工業的に有利に実施することができる。
特に高
価な第8族貴金属錯体触媒を用いる場合の工業的価値は
極めて大きい。
極めて大きい。
Claims (2)
- (1)第8族金属錯体触媒の存在下にオレフィン性化合
物を一酸化炭素及び水素と反応させてヒドロホルミル化
体を製造するヒドロホルミル化方法において、ヒドロホ
ルミル化反応液の少なくとも一部を抜出し、アルキル基
の炭素原子数の合計が42個以上であるトリアルキルホ
スフィンの存在下に晶析処理して前記第8族金属錯体触
媒を晶出させて分離回収し、ヒドロホルミル化反応帯域
に循環させることを特徴とするヒドロホルミル化方法。 - (2)有機リン化合物を配位子として有する第8族金属
錯体触媒の存在下にオレフィン性化合物を一酸化炭素及
び水素と反応させてヒドロホルミル化体を製造するヒド
ロホルミル化方法において、有機リン化合物としてアル
キル基の炭素原子数の合計が42個以上であるトリアル
キルホスフィンを用い、かつ、ヒドロホルミル化反応液
の少なくとも一部を抜出し、晶析処理して前記第8族金
属錯体触媒を晶出させて分離回収し、ヒドロホルミル化
反応帯域に循環させることを特徴とするヒドロホルミル
化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2304534A JP2913820B2 (ja) | 1989-11-20 | 1990-11-09 | ヒドロホルミル化方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1-301524 | 1989-11-20 | ||
JP30152489 | 1989-11-20 | ||
JP2304534A JP2913820B2 (ja) | 1989-11-20 | 1990-11-09 | ヒドロホルミル化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03218333A true JPH03218333A (ja) | 1991-09-25 |
JP2913820B2 JP2913820B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=26562717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2304534A Expired - Fee Related JP2913820B2 (ja) | 1989-11-20 | 1990-11-09 | ヒドロホルミル化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2913820B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005049202A1 (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-02 | Mitsubishi Chemical Corporation | ロジウム錯体触媒の回収方法 |
JP2006131573A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Mitsubishi Chemicals Corp | アルデヒドの製造方法 |
JP2006169131A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | ヒドロホルミル化方法 |
JPWO2022209855A1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 |
-
1990
- 1990-11-09 JP JP2304534A patent/JP2913820B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005049202A1 (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-02 | Mitsubishi Chemical Corporation | ロジウム錯体触媒の回収方法 |
JP2006131573A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Mitsubishi Chemicals Corp | アルデヒドの製造方法 |
JP4595495B2 (ja) * | 2004-11-08 | 2010-12-08 | 三菱化学株式会社 | アルデヒドの製造方法 |
JP2006169131A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | ヒドロホルミル化方法 |
JPWO2022209855A1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 | ||
WO2022209855A1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 | 三菱ケミカル株式会社 | アルデヒドの製造方法及び触媒の製造方法 |
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---|---|
JP2913820B2 (ja) | 1999-06-28 |
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