JPH03218040A - 半導体素子の実装方法 - Google Patents
半導体素子の実装方法Info
- Publication number
- JPH03218040A JPH03218040A JP2013418A JP1341890A JPH03218040A JP H03218040 A JPH03218040 A JP H03218040A JP 2013418 A JP2013418 A JP 2013418A JP 1341890 A JP1341890 A JP 1341890A JP H03218040 A JPH03218040 A JP H03218040A
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- Japan
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- semiconductor element
- electrode
- mounting
- electrodes
- terminals
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ICチップ等の半導体素子の表面から突出し
たバンプ電極を実装基板上の電極端子に直接接続(フェ
ースダウンボンディング)して半導体素子を実装基板上
に実装する方法に関する。
たバンプ電極を実装基板上の電極端子に直接接続(フェ
ースダウンボンディング)して半導体素子を実装基板上
に実装する方法に関する。
半導体素子上に形成されているバンプ電極を実装基板上
の電極端子に直接接続して、半導体素子を実装基板上に
実装する場合、従来は、テレビカメラや画像処理装置に
より実装基板上の電極端子の位置を確認し、この位置に
半導体素子上のバンプ電極を位置合せして実装していた
。
の電極端子に直接接続して、半導体素子を実装基板上に
実装する場合、従来は、テレビカメラや画像処理装置に
より実装基板上の電極端子の位置を確認し、この位置に
半導体素子上のバンプ電極を位置合せして実装していた
。
しかし、バンプ電極と電極端子は向かい合った状態で位
置合せされるので、その位置合せの状態を実際に観察す
ることはできず、半導体素子の裏側からその外形を観察
し、この外形からパンブ電極の位置を推測するなどして
いた。このため、半導体素子の外形に欠け等の変形があ
ると、正確な位置合せが困難であった。
置合せされるので、その位置合せの状態を実際に観察す
ることはできず、半導体素子の裏側からその外形を観察
し、この外形からパンブ電極の位置を推測するなどして
いた。このため、半導体素子の外形に欠け等の変形があ
ると、正確な位置合せが困難であった。
そこで、上述の事情に鑑み、本発明は半導体素子に欠け
等の変形があっても、半導体素子上のバンプ電極を実装
基板上の電極端子に対して高精度に位置合せして実装す
ることが可能な半導体素子の実装方法を提供することを
目的としている。
等の変形があっても、半導体素子上のバンプ電極を実装
基板上の電極端子に対して高精度に位置合せして実装す
ることが可能な半導体素子の実装方法を提供することを
目的としている。
上述の目的を達成するため、本発明による半導体素子の
実装方法においては、膜面に平行な方向よりも垂直な方
向における導電率の方が高い異方性導電膜を半導体素子
上のバンプ電極と実装基板上の電極端子の相互間に挾み
、少なくとも2つのバンプ電極とこれらに対応する電極
端子相互間の電気抵抗をそれぞれ測定し、電気抵抗が最
小となる位置にて半導体素子を実装基板に対して位置決
めし、異方性導電膜を除去した後、半導体素子を実装基
板上に実装することとしている。
実装方法においては、膜面に平行な方向よりも垂直な方
向における導電率の方が高い異方性導電膜を半導体素子
上のバンプ電極と実装基板上の電極端子の相互間に挾み
、少なくとも2つのバンプ電極とこれらに対応する電極
端子相互間の電気抵抗をそれぞれ測定し、電気抵抗が最
小となる位置にて半導体素子を実装基板に対して位置決
めし、異方性導電膜を除去した後、半導体素子を実装基
板上に実装することとしている。
〔作用〕
このようにすることにより、半導体素子上のバンプ電極
と実装基板上の電極端子相互間の距離(位買ズレ量)が
電気抵抗の大きさとして測定される。
と実装基板上の電極端子相互間の距離(位買ズレ量)が
電気抵抗の大きさとして測定される。
以下、本発明の実施例について第1図及び第2図を参照
しつつ、説明する。
しつつ、説明する。
第1図は本発明が適用されて半導体素子上のバンプ電極
が実装基板上の電極端子に対して相対的に位置合わせさ
れる状態を概略的に示している。
が実装基板上の電極端子に対して相対的に位置合わせさ
れる状態を概略的に示している。
図示したように、半導体素子1の表面には突出したバン
プ電極2が形成されており、他方、この半導体素子1が
実装される実装基板3の表面にはバンプ電極2に接続さ
れる電極端子5がバンプ電極2に対応して形成されてい
る。
プ電極2が形成されており、他方、この半導体素子1が
実装される実装基板3の表面にはバンプ電極2に接続さ
れる電極端子5がバンプ電極2に対応して形成されてい
る。
このように形成されたバンプ電極2を電極端子5に直接
接続して半導体素子1を実装基板3上に実装する場合、
本発明による実装方法では、まず相互に対応して形成さ
れたバンプ電極2と電極端子5に、そのバンプ電極2と
電極端子5の相互間の電気抵抗を測定する測定手段が接
続される。この測定手段は、例えば直流電源6と電流計
7とから構成され、バンプ電極2と電極端子5の相互間
に直列に接続される。次に、異方性導電膜8が用意され
る。異方性導電膜8はその膜面に平行な方向における導
電率よりも膜面に垂直な方向における導電率が高い膜で
ある。そして、この異方性導電膜8が半導体素子1上の
バンプ電極2と実装基板3上の電極端子5の相互間に挾
み込まれる。バンプ電極2及び電極端子5が異方性導電
膜8に密着させられた後、それぞれ対応して形成されて
いるバンプ電極2と電極端子5の相互間に電流が流され
、バンプ電極2と電極端子5の相互間の電気抵抗が測定
される。図示した実施例では、この電気抵抗の値はバン
プ電極2と電極端子5相互間の電流値として測定される
。バンプ電極2と電極端子5相互間の電気抵抗は、バン
プ電極2が異方性導電膜8に当接している点と電極端子
5が異方性導電膜8に当接している点の間の距離に応じ
て変化するので、バンプ電極2と電極端子5相互の位置
ズレが大きい程、電気抵抗は大きくなる。したがって、
この抵抗値が最小となるように半導体素子1を実装基板
3に対して相対的に移動させれば、相互に対応して形成
されたバンプ電極2と電極端子5とが正確に位置合せさ
れる。このような位置合せを半導体素子1と実装基板3
にそれぞれ対応して形成された2対以上のバンプ電極2
と電極端子5の相互間について行うことにより、半導体
素子1上に形成された全てのバンプ電極2がこれらに対
応して実装基板3上に形成されている全ての電極端子5
に対してその真上に正確に位置合せされる。そして、こ
のようにして正確に位置合せされた半導体素子1と実装
基板3は、その相対的位置関係が崩れないようにその位
置にて位置決めされ、異方性導電膜8が半導体素子1と
実装基板3の間から除去される。この後、実装基板3が
加熱され、その電極端子5に施された予備ハンダがリフ
ローされて半導体素子1上のバンプ電極2が実装基板3
上の電極端子5に直接接続され、半導体素子1が実装基
板3に対して実装される。
接続して半導体素子1を実装基板3上に実装する場合、
本発明による実装方法では、まず相互に対応して形成さ
れたバンプ電極2と電極端子5に、そのバンプ電極2と
電極端子5の相互間の電気抵抗を測定する測定手段が接
続される。この測定手段は、例えば直流電源6と電流計
7とから構成され、バンプ電極2と電極端子5の相互間
に直列に接続される。次に、異方性導電膜8が用意され
る。異方性導電膜8はその膜面に平行な方向における導
電率よりも膜面に垂直な方向における導電率が高い膜で
ある。そして、この異方性導電膜8が半導体素子1上の
バンプ電極2と実装基板3上の電極端子5の相互間に挾
み込まれる。バンプ電極2及び電極端子5が異方性導電
膜8に密着させられた後、それぞれ対応して形成されて
いるバンプ電極2と電極端子5の相互間に電流が流され
、バンプ電極2と電極端子5の相互間の電気抵抗が測定
される。図示した実施例では、この電気抵抗の値はバン
プ電極2と電極端子5相互間の電流値として測定される
。バンプ電極2と電極端子5相互間の電気抵抗は、バン
プ電極2が異方性導電膜8に当接している点と電極端子
5が異方性導電膜8に当接している点の間の距離に応じ
て変化するので、バンプ電極2と電極端子5相互の位置
ズレが大きい程、電気抵抗は大きくなる。したがって、
この抵抗値が最小となるように半導体素子1を実装基板
3に対して相対的に移動させれば、相互に対応して形成
されたバンプ電極2と電極端子5とが正確に位置合せさ
れる。このような位置合せを半導体素子1と実装基板3
にそれぞれ対応して形成された2対以上のバンプ電極2
と電極端子5の相互間について行うことにより、半導体
素子1上に形成された全てのバンプ電極2がこれらに対
応して実装基板3上に形成されている全ての電極端子5
に対してその真上に正確に位置合せされる。そして、こ
のようにして正確に位置合せされた半導体素子1と実装
基板3は、その相対的位置関係が崩れないようにその位
置にて位置決めされ、異方性導電膜8が半導体素子1と
実装基板3の間から除去される。この後、実装基板3が
加熱され、その電極端子5に施された予備ハンダがリフ
ローされて半導体素子1上のバンプ電極2が実装基板3
上の電極端子5に直接接続され、半導体素子1が実装基
板3に対して実装される。
半導体素子上のバンプ電極と実装基板上の電極端子の位
置合せ精度について、従来と本発明を適用した場合とを
比較して下表に示す。
置合せ精度について、従来と本発明を適用した場合とを
比較して下表に示す。
なお、このときのバンプ電極のサイズ及び電極端子のサ
イズはいずれの場合も直径10μmとした。
イズはいずれの場合も直径10μmとした。
以上説明したように、本発明によれば、半導体素子上の
バンプ電極と実装基板上の電極端子相互間の距離(位置
ズレ量)を電気抵抗の大きさとして測定することができ
る。したがって、この電気抵抗が最小となるように位置
合せをすることにより、半導体素子に欠け等の変形があ
っても、半導体素子上のバンプ電極を実装基板上の電極
端子に対して高精度に位置合せして実装することができ
る。
バンプ電極と実装基板上の電極端子相互間の距離(位置
ズレ量)を電気抵抗の大きさとして測定することができ
る。したがって、この電気抵抗が最小となるように位置
合せをすることにより、半導体素子に欠け等の変形があ
っても、半導体素子上のバンプ電極を実装基板上の電極
端子に対して高精度に位置合せして実装することができ
る。
第1図は本発明により相対的に位置合せされる半導体素
子と実装基板を示した図、第2図は位置合せ終了後の半
導体素子と実装基板を示した図である。 1・・・半導体素子、2・・・バンプ電極、3・・・実
装基板、5・・・電極端子、6・・・直流電源、7・・
・電流計、8・・・異方性導電膜。
子と実装基板を示した図、第2図は位置合せ終了後の半
導体素子と実装基板を示した図である。 1・・・半導体素子、2・・・バンプ電極、3・・・実
装基板、5・・・電極端子、6・・・直流電源、7・・
・電流計、8・・・異方性導電膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体素子の表面から突出したバンプ電極を実装基板上
の電極端子に直接接続して前記半導体素子を前記実装基
板上に実装する方法であって、膜面に平行な方向よりも
垂直な方向における導電率の方が高い異方性導電膜を前
記半導体素子上のバンプ電極と前記実装基板上の電極端
子の相互間に挾み、 少なくとも2つのバンプ電極とこれらに対応する電極端
子相互間の電気抵抗をそれぞれ測定し、電気抵抗が最小
となる位置にて前記半導体素子を前記実装基板に対して
位置決めし、 前記異方性導電膜を前記バンプ電極と前記電極端子の相
互間から除去した後、前記半導体素子を前記実装基板上
に実装することを特徴とする半導体素子の実装方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013418A JPH03218040A (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | 半導体素子の実装方法 |
AU69824/91A AU634334B2 (en) | 1990-01-23 | 1991-01-22 | Packaging structure and method for packaging a semiconductor device |
CA002034702A CA2034702A1 (en) | 1990-01-23 | 1991-01-22 | Method for packaging semiconductor device |
KR1019910001106A KR950002744B1 (ko) | 1990-01-23 | 1991-01-23 | 반도체소자의 실장방법 |
US07/644,566 US5092033A (en) | 1990-01-23 | 1991-01-23 | Method for packaging semiconductor device |
EP91100820A EP0439136A2 (en) | 1990-01-23 | 1991-01-23 | Method for electrically connecting and packaging a semiconductor device |
US07/779,280 US5302854A (en) | 1990-01-23 | 1991-10-18 | Packaging structure of a semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013418A JPH03218040A (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | 半導体素子の実装方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03218040A true JPH03218040A (ja) | 1991-09-25 |
Family
ID=11832586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013418A Pending JPH03218040A (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | 半導体素子の実装方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03218040A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8592522B2 (en) | 2002-08-23 | 2013-11-26 | Toyo Seikan Kaisha, Ltd. | Oxygen-absorbing resin composition and laminate |
-
1990
- 1990-01-23 JP JP2013418A patent/JPH03218040A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8592522B2 (en) | 2002-08-23 | 2013-11-26 | Toyo Seikan Kaisha, Ltd. | Oxygen-absorbing resin composition and laminate |
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