JP3441939B2 - アライメント方法 - Google Patents

アライメント方法

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JP3441939B2 JP30032097A JP30032097A JP3441939B2 JP 3441939 B2 JP3441939 B2 JP 3441939B2 JP 30032097 A JP30032097 A JP 30032097A JP 30032097 A JP30032097 A JP 30032097A JP 3441939 B2 JP3441939 B2 JP 3441939B2
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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、複数の半導体集積
回路素子が形成された半導体ウェハ及び該半導体ウェハ
を保持するウェハトレイを、複数の半導体集積回路素子
の電気特性を検査するためのプローブカードに対して位
置決めするアライメント方法に関する。 【0002】 【従来の技術】従来、半導体集積回路装置は、半導体集
積回路素子とリードフレームとがボンディングワイヤに
よって電気的に接続された後、半導体集積回路素子とリ
ードフレームのリードとが樹脂又はセラミックスにより
封止された状態で供給されて、プリント基板に実装され
る。 【0003】ところが、電子機器の小型化及び低価格化
の要求から、半導体集積回路装置を半導体ウェハから切
り出したままのベアチップ状態で回路基板に実装する方
法が開発されており、品質が保証されたベアチップを低
価格で供給することが望まれている。 【0004】ベアチップに対して品質保証を行なうため
には、半導体集積回路素子の電気的特性をウェハ状態で
一括してバーンインを行なう必要がある。 【0005】そこで、例えば、NIKKEI MICRODEVICES 19
97年 7月号に記載されているように、複数の半導体集積
回路素子が形成された半導体ウェハを保持するウェハト
レイと、該ウェハトレイに保持された半導体ウェハと対
向するように設けられ、該半導体ウェハの半導体集積回
路素子の検査用端子と接続されるバンプを有するプロー
ブカードとを備えたウェハカセットを用いて行なうウェ
ハバーンイン方法が提案されている。 【0006】以下、前記のウェハバーンイン方法につい
て、図8及び図9を参照しながら説明する。図8はウェ
ハバーンイン装置の断面構造を示し、図9はウェハバー
ンイン装置の部分拡大面構造を示している。 【0007】図8及び図9に示すように、半導体ウェハ
10を保持したウェハトレイ11と、配線基板13に保
持されたプローブカード12とが対向するように設けら
れていると共に、ウェハトレイ11の周縁部に環状のシ
ール材14が設けられており、ウェハトレイ11とプロ
ーブカード12とを接近させると、ウェハトレイ11、
プローブカード12及びシール部材14によって密封空
間15が形成される。 【0008】図9に示すように、半導体ウェハ10上の
各半導体集積回路素子には検査用電極16が形成されて
いる。 【0009】図8及び図9に示すように、プローブカー
ド12における、半導体ウェハ10上の半導体集積回路
素子の検査用電極16と対応する部位にはバンプ17が
設けられていると共に、プローブカード12の周縁部は
剛性のリング18により保持されている。 【0010】図9に示すように、配線基板13には、電
源電圧、接地電圧又は信号電圧等の検査用電圧を供給す
る検査装置25に接続するためのコネクタ19と、一端
側がコネクタ19に接続された多層配線20と、該多層
配線20の他端側とプローブカード12のバンプ17と
を接続する異方導電性ゴム21とが設けられている。 【0011】図8に示すように、ウェハトレイ11に
は、該ウェハトレイ11、プローブカード12及びシー
ル部材14によって形成される密封空間15を減圧する
ための真空ポンプ26に接続される真空バルブ22が設
けられている。 【0012】図8に示す状態で、ウェハトレイ11の真
空バルブ22を真空ポンプ26に接続した後、真空ポン
プ26を作動させて、ウェハトレイ11、プローブカー
ド12及びシール部材14により形成される密封空間1
5を減圧すると、ウェハトレイ11とプローブカード1
2とが一層接近して、図9に示すように、半導体ウェハ
10上の半導体集積回路素子の検査用電極16とプロー
ブカード12のバンプ17とが電気的に確実に接続す
る。その後、検査装置25を配線基板13のコネクタ1
9に接続して、検査用電圧を検査装置25からコネクタ
19、多層配線20、異方導電性ゴム21及びバンプ1
7を介して半導体ウェハ10上の各半導体集積回路素子
に印加すると共に、各半導体集積回路素子からの出力信
号を検査装置25に入力して、検査装置25により各半
導体集積回路素子の電気特性を評価する。 【0013】 【発明が解決しようとする課題】ところで、検査装置2
5により各半導体集積回路素子の電気特性を評価するた
めには、半導体ウェハ10とプローブカード12との位
置決め、半導体ウェハ10を保持しているウェハトレイ
11と真空ポンプ26との位置決め、及びプローブカー
ド12を保持している配線基板13と検査装置25との
位置決めが必要になる。 【0014】この場合、配線基板13と検査装置25と
の位置関係、ひいてはプローブカード12と検査装置2
5との位置関係を予め規制しておくと、プローブカード
12を保持している配線基板13のコネクタ19は、検
査装置25に確実に接続される。 【0015】ところが、ウェハトレイ11の真空バルブ
22が真空ポンプ26に確実に接続されるように、ウェ
ハトレイ11を真空ポンプ26に対して位置決めする
と、ウェハトレイ11に保持されている半導体ウェハ1
0とプローブカード12との間の位置関係が狂ってしま
い、半導体ウェハ10の検査用電極16がプローブカー
ド12のバンプ17に接続されなくなってしまう。一
方、半導体ウェハ10の検査用電極16がプローブカー
ド12のバンプ17に確実に接続されるように、半導体
ウェハ10をプローブカード12に対して位置決めする
と、ウェハトレイ11と真空ポンプ26との間の位置関
係が狂ってしまい、ウェハトレイ11の真空バルブ22
が真空ポンプ26に接続されなくなってしまう。 【0016】前記の問題点は、ウェハトレイ11の真空
バルブ22を真空ポンプ26に接続し、ウェハトレイ1
1、プローブカード12及びシール部材14により形成
される密封空間15を減圧する場合について説明した
が、これに限られず、半導体ウェハ10を保持するウェ
ハトレイ11を、半導体ウェハ10の温度を調節する温
度調節装置(図示は省略している。)の上に載置する場
合においても同様に発生し、ウェハトレイ11を温度調
節装置に対して位置決めすると、半導体ウェハ10とプ
ローブカード12との間の位置関係が狂い、半導体ウェ
ハ10をプローブカード12に対して位置決めすると、
ウェハトレイ11と温度調節装置との間の位置関係が狂
ってしまう。 【0017】以上説明したように、プローブカードを検
査装置に対する所定位置に保持した状態において、半導
体ウェハを保持しているウェハトレイをプローブカード
に対して位置決めすると、ウェハトレイの真空ポンプや
温度調節装置等の外部装置に対する位置が狂い、ウェハ
トレイを外部装置に対して位置決めすると、ウェハトレ
イに保持されている半導体ウェハのプローブカードに対
する位置が狂うという問題がある。 【0018】尚、プローブカードが接続される検査装置
と、ウェハトレイが接続される真空ポンプや温度調節装
置等の外部装置とは予め相対位置を規制しておくことが
できる。従って、ウェハトレイをプローブカードに対し
て位置決めすると、ウェハトレイは外部装置に対しても
位置決めされることになる。 【0019】前記に鑑み、本発明は、半導体ウェハのプ
ローブカードに対する位置決め、及び半導体ウェハを保
持しているウェハトレイのプローブカードに対する位置
決めを確実に行なえるようにすることを目的とする。 【0020】 【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明に係るアライメント方法は、複数の半導体集
積回路素子が形成された半導体ウェハ及び該半導体ウェ
ハを保持しているウェハトレイを、複数の半導体集積回
路素子の電気特性を検査するためのプローブカードに対
して位置決めするアライメント方法を前提とし、半導体
ウェハをウェハトレイ上の所定位置に仮に保持する工程
と、ウェハトレイ上に仮に保持された半導体ウェハを移
動して、該半導体ウェハをアライメント装置内の所定の
平面上の位置に仮に位置決めする工程と、半導体ウェハ
をウェハトレイ上から離脱させて保持する工程と、ウェ
ハトレイを半導体ウェハと同様に移動して、該ウェハト
レイを半導体ウェハに対して位置決めする工程と、半導
体ウェハをウェハトレイ上の所定位置に再び保持する工
程と、ウェハトレイ上に再び保持された半導体ウェハを
移動して、該半導体ウェハをプローブカードに対して位
置決めする工程とを備えている。 【0021】本発明のアライメント方法によると、半導
体ウェハをウェハトレイ上の所定位置に仮に保持した
後、仮に保持された半導体ウェハを移動してプローブカ
ードに対して仮に位置決めし、その後、半導体ウェハを
ウェハトレイ上から脱離させた後、ウェハトレイを半導
体ウェハと同様に移動してプローブカードに対して位置
決めするため、ウェハトレイはプローブカードに対して
位置決めされる。 【0022】次に、半導体ウェハをウェハトレイ上の所
定位置に再び保持した後、再び保持された半導体ウェハ
を移動してプローブカードに対して位置決めすると、半
導体ウェハはプローブカードに対して位置決めされる。
この場合、半導体ウェハがウェハトレイ上の所定位置に
保持されているため、ウェハトレイのプローブカードに
対する相対位置が変動することはない。 【0023】 【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態に係る
アライメント方法について図1〜図7を参照しながら説
明する。尚、図1〜図5はアライメント装置の動作の概
略構成を示し、図6はアライメント方法のフローチャー
トを示し、図7はウェハトレイ11の平面構造を示して
いる。 【0024】図8に示したように、バンプ17を有する
プローブカード12は配線基板13に保持され、該配線
基板13はアライメント装置に設けられている図示しな
い基板保持手段に保持されている。この場合、基板保持
手段は配線基板13を、プローブカード12が検査装置
25に対して位置が規制された状態で保持している。こ
れによって、プローブカード12と検査装置25の位置
関係、及びプローブカード12と真空ポンプ26等の外
部装置との位置関係が規制されている。 【0025】図7に示すように、真空バルブ22を有す
るウェハトレイ11には、半導体ウェハ10を載置する
ウェハ載置部11aが設けられている。 【0026】図1において、31はウェハトレイ11を
保持した状態で上下方向(Z軸方向)及び傾斜方法(θ
方向)に移動するZ・θテーブルであり、32はZ・θ
テーブル31ひいてはウェハトレイ11を左右方向(X
軸方向)及び前後方向(Y軸方向)に移動するX・Yテ
ーブルである。 【0027】また、図1において、33は半導体ウェハ
10を保持すると共に、保持した半導体ウェハ10をZ
・θテーブル31の上に搬送するウェハ搬送手段であっ
て、該ウェハ搬送手段33は、半導体ウェハ10を保持
するウェハ保持具34と、該ウェハ保持具34を左右方
向に移動させるウェハ搬送アーム35とを有している。 【0028】まず、ステップS1において、図2に示す
ように、半導体ウェハ10をウェハトレイ11上の所定
位置に仮の保持する。すなわち、ウェハ搬送手段33を
駆動して、半導体ウェハ10をX・Yテーブル32の上
に移動すると共に、半導体ウェハ10がウェハトレイ1
1の所定の位置に来るようにX・Yテーブル32を前後
左右方向に移動する。次に、Z・θテーブル31を上方
に移動して半導体ウェハ10をウェハトレイ11の上に
載置した後、図示は省略したが、ウェハトレイ11に設
けられている吸着手段によって半導体ウェハ10をウェ
ハトレイ11に吸着し、その後、ウェハ搬送手段33を
図1に示す位置に戻す。 【0029】次に、ステップS2において、半導体ウェ
ハ10をアライメント装置内の所定の平面上の位置に位
置決めする。すなわち、図示を省略したCCDカメラを
半導体ウェハ10とプローブカード12との間に移動し
た後、CCDカメラにより半導体ウェハ10の検査用電
極16の映像を取り込み、取り込んだ映像に基づきZ・
θテーブル31及びX・Yテーブル32を移動して、検
査用電極16の位置が所定の位置に来るようにする。こ
の場合、Z・θテーブル31及びX・Yテーブル32の
各移動量を記憶しておく。 【0030】次に、ステップS3において、半導体ウェ
ハ10をウェハトレイ11から分離する。すなわち、図
3に示すように、ウェハ搬送手段33を駆動してウェハ
保持具34を半導体ウェハ10の上に移動した後、ウェ
ハ保持具34により半導体ウェハ10を保持する。次
に、ウェハトレイ11の吸着手段を解放すると共に、Z
・θテーブル31を下方に移動して、半導体ウェハ10
をウェハトレイ11から脱離させる。 【0031】次に、ステップS4において、ウェハトレ
イ11を半導体ウェハ10に対して位置決めする。すな
わち、Z・θテーブル31及びX・Yテーブル32を、
ステップS2において記憶したZ・θテーブル31及び
X・Yテーブル32の各移動量に基づいて移動すること
により、ウェハトレイ11を半導体ウェハ10に対して
位置決めする。 【0032】次に、ステップS5において、Z・θテー
ブル31を上方に移動して、図4に示すように、半導体
ウェハ10をウェハトレイ11の上に保持する。 【0033】次に、ステップS6において、半導体ウェ
ハ10をプローブカード12に対して位置決めする。す
なわち、ステップS2と同様にして、CCDカメラによ
り半導体ウェハ10の検査用電極16及びプローブカー
ド12のバンプ17の映像を取り込み、取り込んだ映像
に基づきZ・θテーブル31及びX・Yテーブル32を
移動して、検査用電極16の位置とバンプ17の位置と
を一致させる。その後、Z・θテーブル31を上方に移
動して、図5に示すように、ウェハトレイ11に保持さ
れた半導体ウェハ10と配線基板13に保持されたプロ
ーブカード12とを接触させる。これにより、半導体ウ
ェハ10のプローブカード12に対する位置決めが完了
する。 【0034】以上説明したように、本実施形態による
と、半導体ウェハ10をウェハトレイ11に仮に保持さ
せた状態で、半導体ウェハ10を移動してアライメント
装置内の所定の平面上の位置に仮に位置決めした後、半
導体ウェハ10をウェハトレイ11から分離し、ウェハ
トレイ11を半導体ウェハ10の移動量と同じ量だけ移
動するので、ウェハトレイ11の半導体ウェハ10に対
する位置決めができる。 【0035】ウェハトレイ11のプローブカード12に
対する位置決めが完了した状態で、半導体ウェハ10を
再びウェハトレイ11に保持させ、半導体ウェハ10の
プローブカード12に対する位置決めをするため、半導
体ウェハ10及びウェハトレイ11のプローブカード1
2に対する位置決めを確実に行なうことができる。 【0036】 【発明の効果】本発明のアライメント方法によると、ウ
ェハトレイ上の所定位置に仮に保持された半導体ウェハ
を移動してアライメント装置内の所定の平面上の位置に
仮に位置決めした後、半導体ウェハをウェハトレイから
脱離させて、ウェハトレイを半導体ウェハと同様に移動
して半導体ウェハに対して位置決めするため、ウェハト
レイはプローブカードに対して位置決めされ、また、ウ
ェハトレイ上の所定位置に再び保持された半導体ウェハ
を移動してプローブカードに対して位置決めするため、
半導体ウェハはプローブカードに対して位置決めされ
る。これによって、ウェハトレイ及び半導体ウェハはプ
ローブカードに対して正確に位置決めされる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施形態に係るアライメント方法の
一工程を説明する図である。 【図2】本発明の一実施形態に係るアライメント方法の
一工程を説明する図である。 【図3】本発明の一実施形態に係るアライメント方法の
一工程を説明する図である。 【図4】本発明の一実施形態に係るアライメント方法の
一工程を説明する図である。 【図5】本発明の一実施形態に係るアライメント方法の
一工程を説明する図である。 【図6】本発明の一実施形態に係るアライメント方法を
説明するフロー図である。 【図7】本発明の一実施形態に係るアライメント方法に
用いるウェハトレイの平面図である。 【図8】本発明の一実施形態に係るアライメント方法が
適用されるウェハバーンイン装置の概略構成図である。 【図9】本発明の一実施形態に係るアライメント方法が
適用されるウェハバーンイン装置の部分拡大断面図であ
る。 【符号の説明】 10 半導体ウェハ 11 ウェハトレイ 12 プローブカード 13 配線基板 14 シール部材 15 密封空間 16 検査用電極 17 バンプ 18 剛性のリング 19 コネクタ 20 多層配線 21 異方導電性ゴム 22 真空バルブ 25 検査装置 26 真空ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66 G01R 1/06 G01R 31/28

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 複数の半導体集積回路素子が形成された
    半導体ウェハ及び該半導体ウェハを保持しているウェハ
    トレイを、前記複数の半導体集積回路素子の電気特性を
    検査するためのプローブカードに対して位置決めするア
    ライメント方法であって、 前記半導体ウェハを前記ウェハトレイ上の所定位置に仮
    に保持する工程と、 前記ウェハトレイ上に仮に保持された半導体ウェハを移
    動して、該半導体ウェハをアライメント装置内の所定の
    平面上の位置に仮に位置決めする工程と、 前記半導体ウェハを前記ウェハトレイ上から離脱させて
    保持する工程と、 前記ウェハトレイを前記半導体ウェハと同様に移動し
    て、該ウェハトレイを前記半導体ウェハに対して位置決
    めする工程と、 前記半導体ウェハを前記ウェハトレイ上の所定位置に再
    び保持する工程と、 前記ウェハトレイ上に再び保持された半導体ウェハを移
    動して、該半導体ウェハを前記プローブカードに対して
    位置決めする工程とを備えていることを特徴とするアラ
    イメント方法。
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