KR102354344B1 - 반도체 소자 접착 기기 - Google Patents

반도체 소자 접착 기기 Download PDF

Info

Publication number
KR102354344B1
KR102354344B1 KR1020200003083A KR20200003083A KR102354344B1 KR 102354344 B1 KR102354344 B1 KR 102354344B1 KR 1020200003083 A KR1020200003083 A KR 1020200003083A KR 20200003083 A KR20200003083 A KR 20200003083A KR 102354344 B1 KR102354344 B1 KR 102354344B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
frame
substrate
platform
alignment platform
semiconductor
Prior art date
Application number
KR1020200003083A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200096118A (ko
Inventor
수 맥스
라이 윤-진
리앙 바비
치우 캐스퍼
추앙 벤자민
Original Assignee
피테치 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 피테치 컴퍼니 리미티드 filed Critical 피테치 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20200096118A publication Critical patent/KR20200096118A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102354344B1 publication Critical patent/KR102354344B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67144Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • H01L23/49816Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/075Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
    • H01L25/0753Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 소자 접착 기기에 관한 것으로서, 상기 프레임에 배열된 상기 다수의 반도체 소자를 상기 기판의 상기 다수의 전도성 회로에 신속하게 접착하고, 레이저 용접 또는 기타 신속한 용접 방식으로 상기 다수의 반도체 소자와 상기 다수의 전도성 회로를 용접하도록 하며, 반도체 산업의 제조 과정의 속도를 향상시킬 수 있고 원가를 절감할 수 있다.

Description

반도체 소자 접착 기기{SEMICONDUCTOR COMPONENT BONDING EQUIPMENT}
본 발명은 반도체 소자 접착 기기에 관한 것이다.
일반적인 반도체 산업 제조 과정에서, 결정립 공장에서는 결정립 선별기를 이용하여 결정립을 테이프(Tape)에 배열하고, 하방의 결정립 응고 공장에 출하하며, 결정립 응고 공장은 부착기 방식(Pick and Place)을 사용하고, 칩을 회로 기판에 하나씩 배열하여 고정시키며, 과정중에 솔드 크림 등 결정립을 고정시킬 수 있고 전도성을 띤 크림을 점성 매개체로 사용해야 응고된 전체 전도판은 리플로(Reflow) 용접을 거쳐 가열 응고된다.
그러나, 이러한 기존의 제조 과정은 하기의 흠결을 구비한다. 첫째, Reflow 제조 공정 온도의 상승 곡선이 느리고 하나의 칩에 적어도 2개의 리플로 납땜 포인트 응고 반응 시간이 동일하지 않기에, 결정립이 위로 올라와 불량이 발생하게 된다. 둘째, Reflow 제조 공정은 단일한 불량 결정립을 보수하거나 재정비할 수 없고, 전체를 재정비하면 기타 리플로 납땜한 정상적인 칩에 영향을 줄 수 있다. 셋째, 3 밀(mil)보다 작은 결정립은 디스펜싱 기술 일드(yield)를 돌파하기 어렵다. 넷째, 선별기, 다이 본더를 거친 Pick and Place 제조 공정은 작업 시간이 느리고 기기 투가 원가가 상당히 높기에, 이를 개선해야 하는 폐단이 존재한다.
따라서, 진보성을 지닌 신형의 반도체 소자 레이저 용접 장치 및 방법을 제공하여 상기의 문제들을 해결할 필요가 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 반도체 소자 접착 기기를 포함하는 바, 베이스, 기판 검출 수단, 프레임 검출 수단 및 제1 수취 장치를 포함한다. 상기 베이스는 서로 수직되는 X축, Y축 및 Z축을 정의한다. 상기 기판 검출 수단은 상기 베이스에 설치되고 제1 얼라인먼트 플랫폼 및 제1 검출 모듈을 포함하며, 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼은 상기 Z축을 따라 회동하고 기판에 안착되며, 상기 기판에 복수 개의 전도성 회로가 설치되어 있고, 상기 제1 검출 모듈은 상기 기판을 검출 스캐닝하며, 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼은 상기 기판이 제1 기설정 각도로 회동하고 얼라인먼트 되도록 하며. 상기 프레임 검출 수단은 상기 베이스에 설치되고 제2 얼라인먼트 플랫폼 및 제2 검출 모듈을 포함하며, 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼은 상기 Z축을 따라 회동하고 프레임을 안착시키고, 상기 프레임에 코팅 필름 및 상기 코팅 필름에 배열 설치되는 복수 개의 반도체 소자가 설치되어 있으며, 상기 제2 검출 모듈은 상기 프레임을 검출 스캐닝하고, 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼은 상기 프레임이 제2 기설정 각도로 회동하고 얼라인먼트 되도록 하고, 상기 전도성 회로 또는 상기 다수의 반도체 소자에 복수 개의 솔더가 미리 설치되어 있다. 상기 제1 수취 장치는 상기 제1 기설정 각도로 얼라인먼트된 기판 및 상기 제2 기설정 각도로 얼라인먼트된 프레임 중의 하나를 취하여, 다른 하나에 접착하여 상기 접착 완제품을 형성하여, 상기 프레임의 각 상기 반도체 소자가 상기 기판의 상기 다수의 전도성 회로에 정확하게 접착되도록 하고, 각 상기 솔더는 각각 상기 반도체 소자 및 상기 전도성 회로와 서로 접촉한다.
본 발명의 주요한 목적은 반도체 소자 접착 기기를 제공하는 것으로서, 반도체 소자를 회로 기판 접합점 간격에 따라 Tape에 배열하고, Tape와 전도성 기판의 접착을 직접 진행할 수 있으며, 예컨대 레이저 광 가열 방식으로 관통형 스캐닝 용접을 진행하는 바, 그 장점은 하기와 같다.
첫째, LED 등 반도체 소자의 리플로 납땜이 이상 문제를 극복하지 못하는 것을 감소할 수 있고, 기존의 다이 본더, Reflow 기기를 대체할 수 있다.
둘째, 순차적으로 전기 회로판 위치에 따라 다이 본더 기기로 결정립에 대해 Pick and Place 작업을 진행할 필요가 없고, 결정립 분리 섹션의 Tape 필름으로 진공 접착 물질 전달을 진행하여, 스크린의 수만 개의 결정립에 대해 해당되며, 속도는 Pick and Place 수만배로서 제조 공정 시간을 대폭 절감할 수 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예의 기기 입체도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예의 평면도이다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 바람직한 실시예의 접착 완제품 입체 모식도이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예의 접착 완제품 측면 모식도이다.
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예의 다른 한 입체도이다.
하기의 실시예는 단지 본 발명의 실시 가능한 양태를 설명하기 위한 것으로서, 이는 본 발명이 보호하고자 하는 범위를 한정하지 않음을 이에 설명한다.
도 1 내지 7을 참조하면, 이는 본 발명의 바람직한 실시예를 나타내며, 본 발명의 반도체 소자 접착 기기(1)는 베이스(2), 기판 검출 수단(3), 프레임 검출 수단(4) 및 제1 수취 장치(11)를 포함한다.
상기 베이스(2)는 서로 수직되는 X축(L1), Y축(L2) 및 Z축(L3)을 정의한다.
상기 기판 검출 수단(3)은 상기 베이스(2)에 설치되며 제1 얼라인먼트 플랫폼(31) 및 제1 검출 모듈(32)을 포함하며, 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼(31)은 상기 Z축(L3)을 따라 회동하여 상기 기판(91)을 안착시키고, 상기 기판(91)에 복수 개의 전도성 회로(911)가 설치되어 있으며, 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼(31)은 상기 기판(91)을 회동시키고 제1 기설정 각도로 얼라인먼트 되도록 한다.
상기 프레임 검출 수단(4)은 상기 베이스(2)에 설치되며 제2 얼라인먼트 플랫폼(41) 및 제2 검출 모듈(42)을 포함하고, 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼(41)은 상기 Z축(L3)을 따라 회동하여 프레임(92)을 안착시키며, 상기 프레임(92)에 코팅 필름(921) 및 상기 코팅 필름(921)에 배열 설치되는 복수 개의 반도체 소자(922)가 설치되어 있고, 본 실시예에서 상기 반도체 소자(922)는 LED결정립이고, 상기 제2 검출 모듈(42)은 상기 프레임(92)을 검출 스캐닝하며, 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼(41)은 상기 프레임(92)은 제2 기설정 각도로 회동하고 얼라인먼트 되도록 하고, 상기 전도성 회로(911) 또는 상기 다수의 반도체 소자(922)에 복수 개의 솔더(93)가 미리 설치된다.
이 밖에 언급해야 할 것은, 본 실시예에서 상기 제1 검출 모듈(32)과 상기 제2 검출 모듈(42)은 전하 결합 소자(CCD) 센서이고, 상기 제1 검출 모듈(32)은 상기 기판(91)의 전도성 회로(911)를 스캐닝 및 얼라인먼트하도록 하며, 상기 제2 검출 모듈(42)은 상기 다수의 반도체 소자(922)의 배열을 스캐닝 및 얼라인먼트하도록 하여, 정확한 얼라인먼트의 효과를 달성한다. 상세하게 말하자면, 상기 제1 검출 모듈(32)은 상기 기판(2)에 한하여 인버팅, 기준점 포지셔닝을 진행할 뿐만 아니라, 상기 기판(2)의 상기 다수의 전도성 회로의 배선 위치에 대해서도 정확하게 검사하며, 검출 방법은 CCD로 상기 기판(2)의 상기 다수의 전도성 회로 특징점을 캡쳐, 포지셔닝하고, 특징점 좌표를 획득하고 허용 오차를 비교하며, 상기 기판에서 상기 다수의 전도성 회로의 복수 개의 용접 포인트의 상기 X축(L1), 상기 Y축(L2), 상기 Z축(L3)이 상기 기판에 대응되는 기준점의 허용 편차량을 검사하는 것을 모니터링할 수 있고, 이상이 검출될 경우 즉시 알리며, 이상한 상기 기판의 접착 작업을 진행하지 않는다. 상기 제2 검출 모듈(42)은 상기 코팅 필름(921)의 상기 다수의 반도체 소자(922)에 한하여 인버팅, 기준점 포지셔닝을 진행할 뿐만 아니라, 상기 코팅 필름(921)의 상기 다수의 반도체 소자(922) 위치 정확도를 검사하며, 그 모니터링 방법은 CCD로 상기 코팅 필름(921)의 상기 다수의 반도체 소자(922)를 갭쳐 포지셔닝하고, 상기 다수의 반도체 소자(922)의 특징점을 획득하여 허용 오차를 비교하며, 상기 다수의 반도체 소자(922)의 상기 X축(L1), 상기 Y축(L2)을 모니터링할 수 있고, 각도 오차가 기준점에 상대한 허용 편차량을 모니터링하며, 이상이 모니터링될 경우 즉시 알리며, 이상한 상기 상기 프레임(92)의 접착 작업을 진행하지 않는다.
상기 제1 수취 장치(11)는 상기 제1 기설정 각도의 기판(91) 및 상기 프레임(92) 중의 하나를 취하여, 다른 하나에 접착하여 상기 접착 완제품(94)을 형성하며(본 실시예에서 상기 제1 수취 장치(11)는 상기 프레임(92)을 취하여 상기 기판(91)에 접착시킴), 언급해야 할 것은, 본 실시예에서 상기 반도체 소자 접착 기기(1)에 접착 모니터링 모듈(16)(도 7에 도시됨)이 더 설치되어 있고, 상기 기판(91)과 상기 프레임(4)을 접착하는 과정에서 모니터링을 통해 상기 다수의 반도체 소자(922)가 상기 다수의 전도성 회로(911)에 원활하게 접착되는 지를 확인하고, 상세하게 말하자면, 그 검출 방법은 CCD로 상기 프레임(92)의 상기 기판(2)과 상기 다수의 반도체 소자(922)를 접착한 후의 복수 개의 특징점을 캡쳐 포지셔닝하고, 상기 기판(2)과 상기 다수의 반도체 소자(922) 특징점 좌표를 획득하며 허용 오차를 비교하고, 접착된 후의 상기 다수의 반도체 소자(922)의 X축(L1), Y축(L2), Z축(L3)이 접착된 후의 상기 기판(2)의 기준점과 대응되는 허용 펀차량을 모니터링한다. 이상이 모니터링될 경우 즉시 기록하고, 접촉 이상이 발생한 상기 프레임(92)은 상기 프레임 박스 홀더(96)에 반환되고, 작업자에게 오류 정정 검사를 진행할 것을 알린다.
설명해야 할 것은, 본 실시예에서 상기 제1 수취 장치(11)는 선택적으로 X축(L1) 및 Z축(L3)을 이동시킬 수 있고, 상기 제1 수취 장치(11)는 흡입반이며, 상기 제1 수취 장치(11)는 상기 기판(91)과 상기 프레임(92)을 상기 Z축(L3)의 방향을 따라 서로 접착시켜, 상기 프레임(92)의 각 상기 반도체 소자(922)가 상기 기판(91)의 상기 다수의 전도성 회로(911)에 정확하게 접착되도록 하여, 각 상기 솔더(93)는 각각 상기 반도체 소자(922) 및 상기 전도성 회로(911)와 서로 접촉한다. 이로써, 상기 접착 완제품(94)은 레이저 광 등 가열 방식으로 관통형 스캐닝 용접을 진행하여, 상기 다수의 반도체 소자(922)를 상기 다수의 전도성 회로(911)에 용접시키고, 따라서 상기 반도체 소자 접착 기기(1)는 기존의 다이 본더 방식으로 Pick and Place 작업 및 리플로 용접(Reflow) 제조하는 공정에 비해 신속한 제조 공정을 구비한다. 상기 기판(91)은 투명하거나 불투명한 세라믹 패널, 실리콘 웨이퍼, PCB 판, 유리판 또는 사파이어 판일 수 있고, 상기 코팅 필름(921)의 재질은 PE 블루 필름, UV 필름 또는 기타 투명하고 가용성을 띤 코팅 필름일 수 있으며, 상기 다수의 반도체 소자(922)는 접착제가 필요 없고 상기 코팅 필름(921)에 접착할 수 있기에, 따라서 비교적 간단한 제조 공정을 구비하며, 상기 다수의 솔더(93)는 인쇄, 디스펜싱, 전기 도금 또는 에칭의 방식으로 상기 다수의 반도체 소자에 설치되어, 효율을 향상시킨다.
본 실시예에서 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼(31) 및 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼(41)은 또한 선택적으로 상기 X축(L1), Y축(L2)을 따라 이동한다.
바람직하게는, 상기 베이스(2)에 기판 수취 암(12)이 더 설치되어 있고, 상기 기판 수취 암(12)은 크리스탈 홀더 박스(95)에서 상기 기판(91)을 취하여 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼(31)에 안착시킨다. 본 실시예에서 상기 베이스(2)에 제1 코스 얼라인먼트 플랫폼(14)이 더 설치되어 있고, 상기 기판 수취 암(12)은 우선 상기 기판(91)을 상기 제1 코스 얼라인먼트 플랫폼(14)에 안착하여 코스 얼라인먼트를 진행한 후, 다시 상기 기판(91)을 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼(31)에 안착시켜, 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼(31)의 작업 시간을 절약할 수 있다.
상기 베이스(2)에 프레임 수취 암(13) 및 중계 플랫폼(15)이 더 설치되어 있고, 상기 중계 플랫폼(15) 및 상기 프레임 수취 암(13)은 상기 Y축(L2) 방향에 따라 이동하며, 상기 프레임 수취 암(13)은 프레임 박스 홀더(96)가 상기 프레임(92)을 취하여 상기 중계 플랫폼(15)에 안착시키도록 하고, 상기 제1 수취 장치(11)는 또한 상기 프레임(92)을 상기 중계 플랫폼(15)에서 취하여 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼(41)에 안착시키며, 상기 제1 수취 장치(11)는 또한 상기 접착 완제품(94)을 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼(41)에서 취하여, 상기 중계 플랫폼(15)에 반환하고, 상기 프레임 수취 암(13)은 상기 접착 완제품(94)을 상기 중계 플랫폼(15)에서 취하여 상기 프레임 박스 홀더(96)에 안착시켜, 다음 번의 용접 제조 공정에 사용된다. 본 실시예에서 상기 프레임 수취 암(13)은 클램프(131)이고, 상기 프레임 수취 암(13)은 선택적으로 상기 Y축(L2)을 따라 이동할 수 있으며, 상기 접착 모니터링 모듈(16)은 상기 중계 플랫폼(15)과 상기 프레임 박스 홀더(96)의 사이에 설치된다.
상기 내용을 종합해보면, 본 발명의 반도체 소자 접착 기기는 상기 프레임의 상기 다수의 반도체 소자를 상기 기판의 상기 다수의 전도성 회로에 신속하게 접착시켜, 레이저 용접하여 상기 다수의 반도체 소자와 상기 다수의 전도성 회로를 용접하며, 코팅 필름을 이용하여 1회에 대량(수천 내지 수만 입자)의 1 내지 80 밀 등 작은 크기의 반도체 소자의 접착을 실현할 수 있고, 레이저 용접으로 대량의 반도체 소자를 용접하기에, 반도체 산업의 제조 공정 속도를 향상시킬 수 있고 원가를 절감할 수 있다.
1: 반도체 소자 접착 기기 2: 베이스
3: 기판 검출 수단 4: 프레임 검출 수단
11: 제1 수취 장치 12: 기판 수취 암
13: 프레임 수취 암 14: 제1 코스 얼라인먼트 플랫폼
15: 중계 플랫폼 16: 접착 모니터링 모듈
131: 클램프 31: 제1 얼라인먼트 플랫폼
32: 제1 검출 모듈 41: 제2 얼라인먼트 플랫폼
42: 제2 검출 모듈 91: 기판
92: 프레임 93: 솔더
94: 접착 완제품 95: 크리스탈 홀더 박스
96: 프레임 박스 홀더 911: 전도성 회로
921: 코팅 필름 922: 반도체 소자
L1: X축 L2: Y축
L3: Z축

Claims (10)

  1. 베이스, 기판 검출 수단, 프레임 검출 수단 및 제1 수취 장치를 포함하고,
    베이스는 서로 수직되는 X축, Y축 및 Z축을 정의하며;
    기판 검출 수단은 상기 베이스에 설치되고 제1 얼라인먼트 플랫폼 및 제1 검출 모듈을 포함하며, 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼은 상기 Z축을 따라 회동하고 기판을 안착시키며, 상기 기판에 복수 개의 전도성 회로가 설치되어 있고, 상기 제1 검출 모듈은 상기 기판을 검출 스캐닝하며, 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼은 상기 기판이 제1 기설정 각도로 회동하고 얼라인먼트 되도록 하며;
    프레임 검출 수단은 상기 베이스에 설치되고 제2 얼라인먼트 플랫폼 및 제2 검출 모듈을 포함하며, 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼은 상기 Z축을 따라 회동하고 프레임을 안착시키고, 상기 프레임에 코팅 필름 및 상기 코팅 필름에 배열 설치되는 복수 개의 반도체 소자가 설치되어 있으며, 상기 제2 검출 모듈은 상기 프레임을 검출 스캐닝하고, 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼은 상기 프레임이 제2 기설정 각도로 회동하고 얼라인먼트 되도록 하며, 상기 전도성 회로 또는 상기 다수의 반도체 소자에 복수 개의 솔더가 미리 설치되어 있고;
    제1 수취 장치는 상기 제1 기설정 각도로 얼라인먼트된 기판 및 상기 제2 기설정 각도로 얼라인먼트된 프레임 중의 하나를 취하여, 다른 하나에 접착하여 접착 완제품을 형성하며, 상기 프레임의 각 상기 반도체 소자가 상기 기판 상의 상기 다수의 전도성 회로의 정해진 위치에 접착되도록 하고, 각 상기 솔더는 각각 상기 반도체 소자 및 상기 전도성 회로와 서로 접촉하는 반도체 소자 접착 기기.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼은 또한 선택적으로 상기 X축, Y축을 따라 이동하는 반도체 소자 접착 기기.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼은 또한 선택적으로 상기 X축, Y축을 따라 이동하는 반도체 소자 접착 기기.
  4. 제1항에 있어서, 상기 베이스에 기판 수취 암이 더 설치되어 있고, 상기 기판 수취 암은 크리스탈 홀더 박스에서 상기 기판을 취하여 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼에 안착시키는 반도체 소자 접착 기기.
  5. 제4항에 있어서, 상기 베이스에 제1 코스(coarse) 얼라인먼트 플랫폼이 더 설치되어 있고, 상기 기판 수취 암은 우선 상기 기판을 상기 제1 코스 얼라인먼트 플랫폼에 안착시켜 코스 얼라인먼트를 진행한 후, 다시 상기 기판을 상기 제1 얼라인먼트 플랫폼에 안착시키는 반도체 소자 접착 기기.
  6. 제1항에 있어서, 상기 베이스에 프레임 수취 암 및 중계 플랫폼이 더 설치되어 있고, 상기 프레임 수취 암은 프레임 박스 홀더에서 상기 프레임을 취하여 상기 중계 플랫폼에 안착시키고, 상기 제1 수취 장치는 또한 상기 프레임을 상기 중계 플랫폼에서 취하여 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼에 안착시키며, 상기 제1 수취 장치는 또한 상기 접착 완제품을 상기 제2 얼라인먼트 플랫폼에서 취하고, 상기 중계 플랫폼에 반환하며, 상기 프레임 수취 암은 상기 접착 완제품을 상기 중계 플랫폼에서 취하고 상기 프레임 박스 홀더에 안착시키는 반도체 소자 접착 기기.
  7. 제6항에 있어서, 상기 프레임 수취 암은 클램프이고, 상기 프레임 수취 암은 선택적으로 상기 Y축을 따라 이동하는 반도체 소자 접착 기기.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 수취 장치는 선택적으로 X축 및 Z축을 따라 이동하고, 상기 제1 수취 장치는 흡입반이며, 상기 제1 수취 장치는 상기 기판과 상기 프레임을 상기 Z축의 방향을 따라 서로 접착시키는 반도체 소자 접착 기기.
  9. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 검출 모듈은 전하 결합 소자(CCD) 센서이고, 상기 제1 검출 모듈은 상기 기판의 전도성 회로를 스캐닝 및 얼라인먼트하며, 상기 제2 검출 모듈은 전하 결합 소자(CCD) 센서이고(CCD) 센서이고, 상기 제2 검출 모듈은 상기 다수의 반도체 소자의 배열을 스캐닝 및 얼라인먼트하는 반도체 소자 접착 기기.
  10. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 소자 접착 기기에 접착 모니터링 모듈이 더 설치되어 있고, 상기 기판과 상기 프레임을 접착하는 과정에서 모니터링을 통해 상기 다수의 반도체 소자가 상기 다수의 전도성 회로의 정해진 위치에 접착되는 지를 확인하는 반도체 소자 접착 기기.
KR1020200003083A 2019-01-31 2020-01-09 반도체 소자 접착 기기 KR102354344B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW108107465 2019-01-31
TW108107465A TWI711088B (zh) 2019-01-31 2019-01-31 半導體元件貼合設備

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200096118A KR20200096118A (ko) 2020-08-11
KR102354344B1 true KR102354344B1 (ko) 2022-01-20

Family

ID=71875844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200003083A KR102354344B1 (ko) 2019-01-31 2020-01-09 반도체 소자 접착 기기

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2020127002A (ko)
KR (1) KR102354344B1 (ko)
CN (1) CN111508861B (ko)
TW (1) TWI711088B (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112366268B (zh) * 2020-11-20 2021-06-08 深圳中科精工科技有限公司 一种高密度led固晶工艺
CN115579440B (zh) * 2022-12-09 2023-07-18 惠科股份有限公司 Led芯片、刷料装置及led芯片的刷料固晶方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000068687A (ja) 1998-08-26 2000-03-03 Sony Corp チップ部品のマウント装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4361572B2 (ja) * 2007-02-28 2009-11-11 株式会社新川 ボンディング装置及び方法
TWI478272B (zh) * 2007-08-15 2015-03-21 尼康股份有限公司 A positioning device, a bonding device, a laminated substrate manufacturing device, an exposure device, and a positioning method
KR100924548B1 (ko) * 2007-11-09 2009-11-02 주식회사 하이닉스반도체 다이 본딩 장치
JP5766420B2 (ja) * 2010-09-22 2015-08-19 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置とボンディング方法
WO2012133760A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 ボンドテック株式会社 電子部品実装方法、電子部品実装システムおよび基板
JP6367084B2 (ja) * 2014-10-30 2018-08-01 株式会社東芝 半導体チップの接合方法及び半導体チップの接合装置
US10141287B2 (en) * 2015-07-14 2018-11-27 Goertek, Inc. Transferring method, manufacturing method, device and electronic apparatus of micro-LED
US10446532B2 (en) * 2016-01-13 2019-10-15 Invensas Bonding Technologies, Inc. Systems and methods for efficient transfer of semiconductor elements
CN108257900A (zh) * 2016-12-28 2018-07-06 惠特科技股份有限公司 半导体制程输送系统及方法
CN106971970B (zh) * 2017-04-28 2024-04-30 东莞市安达自动化设备有限公司 一种用于半导体贴膜的贴合机

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000068687A (ja) 1998-08-26 2000-03-03 Sony Corp チップ部品のマウント装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020127002A (ja) 2020-08-20
CN111508861A (zh) 2020-08-07
KR20200096118A (ko) 2020-08-11
CN111508861B (zh) 2023-03-31
TWI711088B (zh) 2020-11-21
TW202030804A (zh) 2020-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4596422B2 (ja) ダイボンダ用撮像装置
US10107853B2 (en) Apparatus and method for inspecting PCB-mounted integrated circuits
KR102354344B1 (ko) 반도체 소자 접착 기기
KR102132094B1 (ko) 전자 부품 실장 장치 및 전자 부품 실장 방법
JP2014060363A (ja) 電子部品装着装置
JPWO2006118018A1 (ja) フリップチップ実装ずれ検査方法および実装装置
US6337221B1 (en) Die bonding method for manufacturing fine pitch ball grid array packages
KR102326855B1 (ko) 반도체 소자 레이저 용접 장치 및 방법
KR20140003281A (ko) 반도체칩 본딩 시스템
TW202107657A (zh) 晶片拾取方法
JP2004146776A (ja) フリップチップ実装装置及びフリップチップ実装方法
TWI603410B (zh) 用於重組晶圓之測試系統及其方法
TWI803128B (zh) 面板級封裝中半導體晶粒的接合後檢測方法及系統
JPH11238762A (ja) フリップチップボンディング方法及び装置
JP4932203B2 (ja) ペースト塗布装置及びペースト塗布方法
JPH0587949U (ja) 半導体チップ
KR20090062944A (ko) 본딩 장비의 카메라 촛점 자동조정장치
KR20100029228A (ko) 본딩 장비의 카메라 촛점 자동조정장치
CN109616427B (zh) 半导体材料附接方法
JP3996101B2 (ja) 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法
JPH10123176A (ja) ベアチップ検査用プローブ基板及びベアチップ検査システム
JPH10223687A (ja) フリップチップ実装モジュール及び製造方法、製造装置
JP3441939B2 (ja) アライメント方法
KR20240021117A (ko) 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
KR20230125518A (ko) 인쇄회로기판 전기검사장치 및 전기검사방법

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant