JP3996101B2 - 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造に関し、特に、半導体チップのダイボンディングに適用して有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置では、単結晶シリコン等のウェハに複数のパターンを一括して形成し、夫々のパターン毎に切断して、個々の半導体チップに分離し、分離された半導体チップは、実装方式によって例えばリードフレーム、テープ基板等(以下、単にフレームという)に固定するダイボンディングを行なった後に、ワイヤボンディング等の電気的な接続、更に樹脂封止等が行なわれ半導体装置となる。
【0003】
フレームの半導体チップ搭載領域に半導体チップを接着するダイボンディングを行なうダイボンダでは、トレイに収納された状態となっており、この半導体チップをボンディングヘッドによって取得し、フレームが搬送される搬送路の半導体チップ固定位置にボンディングヘッドが移動し、半導体チップをフレームの所定位置に接着する。
【0004】
半導体装置では、微細化の進展に伴う高集積化によって、より多くの接続端子が半導体装置に求められ、接続端子を増加させることを目的として、半導体装置の実装面に接続端子となるバンプ電極を面状に配置したBGA(Ball Grid Array)型等の半導体装置が用いられている。
【0005】
また、半導体装置では小型化が求められており、半導体装置の外部端子についても、そのサイズ及びピッチが縮小されている。その結果として、半導体チップを基板に接続するダイボンディングについてもより高い精度が求められている。
【0006】
下記特許文献1には、透明な板状部材の確認用サブストレートを用いて、位置合わせされた状態を確認し、位置合わせの精度を向上させる技術が記載されている。
【0007】
【特許文献1】
特開平11−238762号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
この半導体チップと基板との位置合わせを高精度で行なうために、複数の認識点について画像認識し、得られた複数のデータを平準化することにより測定精度を向上させることができる。
【0009】
ボンディングヘッドに吸着された状態で半導体チップが傾斜している場合或いは基板の反り等により基板の半導体チップ接続領域が傾斜している場合には、半導体チップと基板との平行性が確保されないために、半導体チップと基板との接続不良或いは位置のずれ等の問題を生じることがある。このため、このような場合には、半導体チップ或いは基板の傾斜に合わせてステージ実装面或いはボンディングヘッドを傾斜させることによって、基板と半導体チップとの平行性を確保して、半導体チップの接続を行なっている。
【0010】
しかし、このように、基板及び半導体チップが傾斜している場合には、複数の認識点について測定すると、傾斜方向に離間した認識点ではZ方向の位置が傾斜角に応じて異なるため、プローブから半導体チップ或いは基板の認識点までの距離が変化して、認識点の位置が焦点深度を外れて、画像が不鮮明となり、認識精度が低下してしまう。高精度の組立てでは、位置合わせの精度を高めるために高倍率の画像認識を行なっているので、光学系の焦点深度が浅くなっており、わずかな位置の変化によって、認識点が焦点深度から外れやすくなる。焦点深度を外れた場合には、認識点の画像が不鮮明となり正確な位置合わせを行なうことが困難になる。
【0011】
本発明の課題は、このような問題を解決するためになされたものであり、半導体チップ或いは基板が傾斜している場合にも、正確な位置合わせを可能とし、ダイボンディングの精度を向上させる技術を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
ボンディング位置で対向させた半導体チップと基板との間にプローブを進入させて、半導体チップ及び基板に形成された認識点の画像認識を行ない半導体チップと基板とを位置合わせする半導体装置の製造に関して、前記プローブを水平方向に移動させて、半導体チップ及び基板に夫々形成された複数の認識点について画像認識を行ない、基板及び半導体チップが傾斜している場合に、傾斜方向に離間した認識点では、半導体チップ或いは基板の傾斜による認識点のZ方向の位置変化に応じてプローブをZ方向に移動させる。
【0013】
上述した手段によれば、半導体チップ或いは基板が傾斜している場合にも、プローブの焦点深度内で認識点を画像認識することができるので、精度の高い位置合わせを行なうことができる。
【0014】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
本発明の前記ならびにその他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろう。
なお、実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【0015】
【発明の実施の形態】
図1に示すのは、本発明の一実施の形態である半導体装置の製造装置であるダイボンダの構成を示す平面図であり、以下の説明では、平面図内にて、半導体チップを実装する基板等のフレーム搬送方向をX方向(装置の長辺方向)、ボンディング時の半導体チップの移送方向をY方向(装置の短辺方向)、垂直方向をZ方向とする。
【0016】
半導体チップ1は、ウェハを切断分離して個片化し接続用のバンプ電極を取り付けた状態でトレイ2に収容されて搬入され、先ずトレイ2に収容された状態で、半導体チップ認識部3によって、収容された半導体チップ1の画像認識を行ない、半導体チップ1ごとに割れや欠け等の不良の有無を確認する。
【0017】
トレイ2は、XYテーブル4によって平面移動し、トレイ2の移動によって所定の半導体チップ取得位置に移動した半導体チップ1をフリップヘッド5が吸着し、半導体チップ1を吸着したフリップヘッド5がXYテーブル6に駆動されて、Y方向にボンディング位置まで移動する。
【0018】
半導体チップを実装する基板7は、基板ローダ8に収容されており、先ずアーム9に吸着されてY方向に移動して基板搬送用のステージのボンディングテーブル10に載置される。この基板7が載置されたボンディングテーブル10は、XYテーブル11によって搬送路12に沿って平面移動する構成となっており、X方向にボンディング位置まで移動して、ボンディング位置の半導体チップ1に基板7を対向させる。
【0019】
ここで、ボンディング位置で対向させた半導体チップ1と基板7との間にプローブ13を進入させて、半導体チップ1と基板7との位置合わせを行ない、プローブ13を退避させた後に、半導体チップ1を基板7に接触させて、ボンディングヘッド14による超音波振動を加えて半導体チップ1のバンプ電極を溶融させ、半導体チップ1と基板7とを接続する。
【0020】
ダイボンディングの終了した半導体チップ1を実装した基板7は、再び搬送路12に沿ってボンディングテーブル10が移動して搬送され、アーム9によって吸着されアンローダ15に収容され、次の工程に搬送される。以降の工程では、半導体チップ1と基板7の所要部分を封止体によって被覆する樹脂封止を行ない、半導体装置の外部端子となるバンプ電極を基板に取り付けて、更にはダイシングによる個片化等の所定の工程を経て半導体装置として完成する。
【0021】
この半導体チップ1と基板7との位置合わせでは、図2に示すように、ボンディング位置で対向させた半導体チップ1と基板7との間にプローブ13を進入させて、プローブ13の上視野で半導体チップ1の認識点を画像認識し、プローブ13の下視野で基板7の認識点を画像認識して、半導体チップ1と基板7との位置合わせを行なっている。
【0022】
このプローブ13では、上視野及び下視野の2系統の画像認識を同時に行なうために、半導体チップ1に形成された認識点a,bの像は、上視野の光学系のミラー16uによって反射されて上視野のカメラ17uに入射し、基板7に形成された認識点c,dの像は、下視野の光学系のミラー16dによって反射されて下視野のカメラ17dに入射する。
【0023】
この半導体チップ1と基板7との位置合わせをでは、プローブ13を水平方向に移動させて複数の認識点a,b,c,dについて画像認識を行ない、得られた複数のデータを平準化することにより測定精度を向上させて、高精度の位置合わせを行なっている。なお、図2に示す状態では、本実施の形態の画像認識は従来のものと相違はない。
【0024】
しかし、図3に示すように、基板7及び半導体チップ1が傾斜している場合に、複数の認識点について測定を行なうと、認識点のZ方向の位置が傾斜角に応じて変化してしまう。即ち、傾斜方向に離間した半導体チップ1の認識点a,bではZ方向にZ1の位置変化が生じ、基板7の認識点c,dではZ2の位置変化が生じる。このため、図4に示すようにプローブ13を平行移動させても、プローブ13から半導体チップ1或いは基板7の認識点までの距離がZ1接近する、或いはZ2遠ざかることになる。
【0025】
こうしたプローブ13から認識点b,dまでの距離の変化により、認識点b,dの位置がプローブ13の光学系の焦点深度を外れると、画像が不鮮明となる所謂ボケが生じるため、認識精度が低下し、正確な位置合わせを行なうことが困難になってしまう。高精度の組立てでは、位置合わせの精度を高めるために高倍率の画像認識を行なっているので、光学系の焦点深度が浅くなっており、わずかな位置の変化によって、認識点が焦点深度から外れやすくなる。
【0026】
このため本実施の形態では、予め測定された半導体チップ及び基板の傾斜角からZ方向の位置の変化を算出し、この位置変化に応じてプローブ13及び半導体チップ1をZ方向に移動させる。即ち、図5に示すように、半導体チップ1の認識点bがZ方向にZ1下方移動し、基板7の認識点dがZ方向にZ2下方移動する場合に、プローブ13をZ方向にZ2下方移動させ、半導体チップ1をZ方向にZ2−Z1下方移動させることによって、プローブ13から半導体チップ1の認識点b或いは基板7の認識点dまでの距離を一定に保つことができるので、夫々の認識点b,dがプローブ13の光学系の焦点深度から外れることがない。
【0027】
なお前述した例では、認識点a,bの距離と認識点c,dの距離とが異なっているため、夫々の位置変化Z1,Z2が異なっていたが、認識点a,bの距離と認識点c,dの距離とが同一若しくは近似している場合には、夫々の位置変化Z1,Z2が同一若しくは近似値となるため、半導体チップ1のZ方向移動を行なわずに、プローブ13のZ方向移動のみで画像認識が可能である。
【0028】
また、単一の基板7に複数の半導体チップ1を実装して、複数の半導体チップ1及び基板7の必要部分を一体に封止するMCM(Multi Chip Module)では、図6に示すように、各半導体チップ1については認識点が1箇所であっても、夫々の半導体チップ1について位置合わせのための認識点が形成されているため、複数の認識点について画像認識による位置合わせを行なうことになる。この場合にも、前述した場合と同様に、基板7の傾斜に合わせてプローブ13及び半導体チップ1をZ方向に移動させて画像認識を行なうことによって、プローブ13から半導体チップ1の認識点b或いは基板7の認識点dまでの距離を一定に保つことができるので、夫々の認識点b,dがプローブ13の光学系の焦点深度から外れることがない。
【0029】
また本発明は、前述した基板7の上面に半導体チップ1を接続する方法の他に、半導体チップをマウントステージに移送し、半導体チップを載せたマウントステージをボンディング位置の基板下に移動させて、フレームと半導体チップとを重ね合わせた状態で、フレーム上に下降させた荷重ヘッドとマウントステージとによって、半導体チップをフレームの下面に接着してダイボンディングするマウンタに適用することもできる。
【0030】
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。
【0031】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)本発明によれば、半導体チップ或いは基板が傾斜している場合に、認識点のZ方向の位置変化に応じてプローブをZ方向に移動させることができるという効果がある。
(2)本発明によれば、上記効果(1)により、半導体チップ或いは基板が傾斜している場合にも、プローブの光学系の焦点深度内で認識点を画像認識することができるという効果がある。
(3)本発明によれば、上記効果(2)により、精度の高い位置合わせを可能とし、ダイボンディングの精度を向上させることができるという効果がある。
(4)本発明によれば、上記効果(3)により、ダイボンディングに起因する不良品の発生を防止することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態である半導体装置製造装置の構成を示す平面図である。
【図2】本発明の一実施の形態である半導体装置製造装置による画像認識を説明するための側面図である。
【図3】本発明の一実施の形態である半導体装置製造装置による画像認識を説明するための側面図である。
【図4】本発明の一実施の形態である半導体装置製造装置による画像認識を説明するための側面図である。
【図5】本発明の一実施の形態である半導体装置製造装置による画像認識を説明するための側面図である。
【図6】本発明の一実施の形態である半導体装置製造装置による画像認識を説明するための側面図である。
【符号の説明】
1…半導体チップ、2…トレイ、3…半導体チップ認識部、4,6,11…XYテーブル、5…フリップヘッド、7…基板、8…基板ローダ、9…アーム、10…ボンディングテーブル、12…搬送路、13…プローブ、14…ボンディングヘッド、15…アンローダ、16u,16d…ミラー、17u,17d…カメラ。
Claims (5)
- 半導体チップを吸着するボンディングヘッドと、基板を載置するボンディングテーブルと、前記半導体チップと前記基板を対向させた状態で前記半導体チップと前期基板との間に進入させて前記半導体チップと前記基板の認識点を画像認識するプローブと、からなる半導体装置の製造装置において、
前記プローブを水平方向に移動させて、前記半導体チップ及び前記基板に夫々形成された複数の認識点について画像認識を行ない、前記基板及び前記半導体チップが傾斜している場合に、傾斜方向に離間した認識点では、前記半導体チップ或いは前記基板の傾斜による認識点のZ方向の位置変化に応じて前記プローブをZ方向に移動させることを特徴とする半導体装置の製造装置。 - 半導体チップを吸着するボンディングヘッドと、基板を載置するボンディングテーブルと、前記半導体チップと前記基板を対向させた状態で前記半導体チップと前期基板との間に進入させて前記半導体チップと前記基板の認識点を画像認識するプローブと、からなる半導体装置の製造装置において、
前記プローブを水平方向に移動させて、前記半導体チップ及び前記基板に夫々形成された複数の認識点について画像認識を行ない、前記基板及び前記半導体チップが傾斜している場合に、傾斜方向に離間した認識点では、前記半導体チップ或いは前記基板の傾斜による認識点のZ方向の位置変化に応じて前記半導体チップ或いは前記プローブがZ方向に移動することを特徴とする半導体装置の製造装置。 - 前記半導体チップの複数の認識点が、単一の半導体チップに形成された認識点であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置の製造装置。
- 前記半導体チップの複数の認識点が、複数の半導体チップに形成された認識点であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置の製造装置。
- ボンディング位置で対向させた半導体チップと基板との間にプローブを進入させて、半導体チップ及び基板に形成された認識点の画像認識を行ない半導体チップと基板とを位置合わせする半導体装置の製造方法において、前記プローブを水平方向に移動させて、半導体チップ及び基板に夫々形成された複数の認識点について画像認識を行ない、基板及び半導体チップが傾斜している場合に、傾斜方向に離間した認識点では、半導体チップ或いは基板の傾斜による認識点のZ方向の位置変化に応じてプローブをZ方向に移動させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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