JPH03210363A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JPH03210363A
JPH03210363A JP338190A JP338190A JPH03210363A JP H03210363 A JPH03210363 A JP H03210363A JP 338190 A JP338190 A JP 338190A JP 338190 A JP338190 A JP 338190A JP H03210363 A JPH03210363 A JP H03210363A
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JP
Japan
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formula
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formulas
parts
tables
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JP338190A
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English (en)
Inventor
Akira Toko
都甲 明
Nobuyuki Sashita
暢幸 指田
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は密着性が良く、弾性率が小さく、しかも保存安
定性に優れた、扁感度で高耐熱の感光性ポリイミド樹脂
組成物に関するものである。
[従来の技術] 従来、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜などには、
耐熱性が優れ、また卓越した電気的特性、機械的特性な
どを有するポリイミド樹脂が用いられているが、近年半
導体素子の高集積化、大型化、封止樹脂パッケージの薄
型化、小型化、半田リフローによる表面実装方式などへ
の移行により耐熱サイクル性、耐熱ショック性等の著し
い向上の要求があり、これまでのポリイミド樹脂では、
対応が困難となってきた。
この対策として、例えばポリイミド樹脂にシリコーン成
分を導入して、密着性を上げ弾性率を低くすることが知
られている。(特開昭61−64730号公報、特開昭
62−223228号公報等)一方、ポリイミド樹脂自
身に感光性を付与する技術が最近注目を集めてきた。
これらの感光性を付与したポリイミド樹脂を使用すると
、付与していないポリイミド樹脂に比較してパターン作
成工程の簡素化効果があるだけでなく、毒性の強いエツ
チング液を使用しなくてすむので、安全、公害上も優れ
ており、ポリイミド樹脂の感光性化はポリイミド樹脂へ
高密着、低弾性率化とともに今後−層重要な技術となる
ことが期待されている。
感光性ポリイミド樹脂としては、例えば下式で示される
ような構造のエステル基で感光性基を付与したポリイミ
ド前駆体組成物(特公昭55−41422号公報)ある
いは下式 で示されるような構造のポリアミック酸に化学線により
2量化、または重合可能な炭素−炭素二重結合およびア
ミノ基または、その四級化塩を含む化合物を添加した組
成91(例えば特開昭54−145794号公報)など
が知られている。
これらは、いずれも適当な有機溶剤に溶解し、ワニス状
態で塗布、乾燥した後、フォトマスクを介して紫外線照
射し、現像、リンス処理して所望のパターンを得、さら
に加熱処理することによりポリイミド被膜としている。
しかし、かかる従来の感光化技術をポリイミド樹脂成分
にシリコーン基を導入した高密着、低弾性率のポリイミ
ド樹脂に適用すると、紫外線を照射してもバターニング
することは難しいか、または著しく感度が低く、半導体
工業で通常用いられている露光装置で処理するには不充
分であった。
更には、これらの感光性ポリイミド樹脂の膜厚を厚くし
ていくと光感度が極端に低下してしまい、適正露光時間
が極端に長くなってしまうという欠点があった。
また、吸水性が大きいために、露光皮膜を長期保存する
と、現像時間が長くなるだけでなく、できたパターンが
クラックを起こすなどの不都合があった。
[発明が解決しようとする課願] 本発明の目的とするところは、ポリアミック酸中にシリ
コーン基を導入して密着性を向上させ、弾性率を低下さ
せたにもかかわらず高感度の光硬化性を有し、保存安定
性が良く、さらに硬化後の被膜の耐熱性に優れた感光性
樹脂組成物を提供するにある。
[課題を解決するための手段] 本発明は下記式CI)で示されるシリコーン系ジアミン 1 CH3CH3・・・・CI) (式中n: 1〜50) を0.5〜25重量%共重合した、 下記式(il )で示 されるポリアミック酸(A) (式中R1、 R2;芳香族環状基 n ; 1〜2、 m : 0〜2 ) に、 感光剤として下記式〔■〕 で示されるアクリ ルアミド類(B) (式中R3: −H。
CH3 41 R5: −H。
−CH:s。
−CH20H) と、感光助剤として下記式(IV)で示されるアミノア
クリレート類(C) (式中R8ニーH。
CH3 R7゜ RsニーH+ −CH3。
C2H3) 下記式(V) で示される3位にカルボニル置換さ れたビスクマリン化合物(D) (式中Re。
R工。;−H。
アルコキシ基。
ジアルキルアミノ基 ) 下記式(Vl)で示されるオキサシロン化合物(E) Rib、に?:13 −H、−CH3,−C2H5,−C3H7,−C4H9
゜−CsHs、−〇H、−OCH=、−OC2H5゜−
OC:=H7,−OC−He、−OCsHs。
−CJ−I2CeH5,−CH2CH2CsH5゜−C
I20 H、−CH2CI20H。
−CHzCH:+、−CH(CH:+)2.−C(CH
3)3゜−COCH3,−COC2H5,−0COCH
3゜−OCOC2H5,−CH2N I2゜−CH2C
H2N I2.−CON I2゜−CONHCH3,−
CON(CH3)2゜−CONHC2H5,−CON(
C2H5)2゜−N HCH3,−N (CH3)2.
−N (C2H5)2)を必須成分とし、(A)100
重量部に対して(B)100〜2(10重量部、(C)
10〜50重量部、(D)1〜10重量部、(E)1〜
20重量部を配してなる感光性樹脂組成物を用いること
にある。
[作用] 本発明において用いる一般式CI)で示されるシリコー
ン系ジアミンはポリイミド被膜の密着性を向上させ、弾
性率を低下させる効果を有する。
シワコーン系ジアミンの重合度nは1〜50であること
が必要であり、nが1未満であると密着性を向上させ、
弾性率を低下させる効果が得られず、またnが50を越
える長鎖シリコーン系ジアミンを使用すると、テトラカ
ルボン酸二無水物との反応が定量的に進行しにくくなり
、未反応物として残存し、分子量が大きくならないばか
りか柔軟性を低下させ、クラックを発生し易くなるので
好ましくない。
またシリコーン系ジアミンの使用量は、ポリアミック酸
成分に対して0.5〜25重量%が好ましい。
0.5重蓋%未満では密着性の向上、弾性率の低下の効
果が得られず、また25重量%を越えると耐熱性が著し
く低下し、ポリイミド樹脂本来の特徴が得られなくなる
ので好ましくない。
本発明において用いる一般式(II )で示されるポリ
アミック酸(A)は、R工の芳香族環状基を有する酸と
、R2の芳香族環状基を有するアミンによって合成され
る。R1の芳香族環状基を有する酸としては、r】〜1
のトリカルボン酸無水物やn=2のテトラカルボン酸二
無水物などが用いられ、酸無水物成分は1種類でも、2
種類以上の混合物でもかまわない。用いられる酸無水物
の種類としては、例えば、トリメリット酸無水物、ピロ
メリット酸二無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テト
ラカルボン酸二無水物、3.3’ 、4.4’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、2.2’ 、3.
3’−へンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,
3.3’ 、4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二
無水物、ナフタレン−2,3,6,7−テトラカルボン
酸二無水物、ナフタレン−1,2,5,6−テトラカル
ボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,4,5−テトラ
カルボン酸二無水物、ナフタレン−1,4,5,8−テ
トラカルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,6,7
−テトラカルボン酸二無水物、4.8−ジメチル−1,
2,3,5,6,7−へキサヒドロナフタレン−1,2
,5,6−テトラカルボン酸二無水物、4.8−ジメチ
ル−1,2,3,5,6,7−へキサヒドロナフタレン
2.3,6.7−テトラカルボン酸二無水物、2.6−
シクロロナフタレンー1.4,5.8−テI・ラヵルボ
ン酸二無水物、2.7−シクロロナフタレンー1.4,
5.8−テトラカルボン酸二無水物、2,3,6.7−
テトラクロロナフタレンー1.4,5.8−テトラカル
ボン酸二無水物、1.4,5゜8−テトラクロロナフタ
レン−2,3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、3
.3’ 、4.4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物、2.2’ 、3.3’−ジフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、2,3.3’ 、4’−ジフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、3.3″、4.4″−p−テル
フェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2″、3.3
”−p−テルフェニルテI・ラカルボン酸二無水物、2
,3゜3”、4”−p−テルフェニルテトラカルボン酸
二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)−プロパンニ無水物、2,2−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)−ブロバンニ無水物、ビス(2,3
−ジヵルボキジフェニル)エーテルニ無水物、ビス(3
,4−ジカルボキシフェニル)エーテルニ無水物、ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物、
ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホンニ無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホンニ
無水物、1.1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル
)エタンニ無水物、1.1−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)エタンニ無水物、ペリレン−2,3,8,
9−テトラカルボン酸二無水物、ペリレン−3,4,9
,10−テトラカルボン酸二無水物、ペリレン−4,5
,10,11−テトラカルボン酸二無水物、ペリレン−
5,6,11,12−テトラカルボン酸二無水物、フェ
ナンスレン−1,2,7,8−テトラカルボン酸二無水
物、フェナンスレン−1,2,6,7−テトラカルボン
酸二無水物、フェナンスレン−1,2゜9.10−テト
ラカルボン酸二無水物、シクロペンタン−1,2,3,
4−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−2゜3.5
.6−テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン−2゜3
.4.5−テトラカルボン酸二無水物、チオフェン−2
゜3.4.5−テトラカルボン酸二無水物などがあげら
れるが、これらに限定されるものではない。
R2の芳香族環状基を有するアミンとしては、m=0の
ジアミンやm、 = 1のジアミノカルボン酸、m=2
のジアミノジカルボン酸などが用いられ、アミン成分は
1種類でも、2種類以上の混合物でもかまわない。用い
られるアミンの種類としては例えばm−フェニレン−ジ
アミン、1−イソプロピル−2,4−フェニレン−ジア
ミン、p−フェニレン−ジアミン、4,4′−ジアミノ
−ジフェニルプロパン、3.3’−ジアミノ−ジフェニ
ルプロパン、4.4′−ジアミノ−ジフェニルエタン、
3,3′−ジアミノ−ジフェニルエタン、4.4′−ジ
アミノ−ジフェニルメタン、3.3’−ジアミノ−ジフ
ェニルメタン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルスルフ
ィド、3,3′−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、4
,4′−ジアミノ−ジフェニルスルホン、3.3′−ジ
アミノ−ジフェニルスルホン、4,4′−ジアミノ−ジ
フェニルエーテル、3.3′−ジアミノ−ジフェニルエ
ーテル、ベンジジン、3,3′−ジアミノ−ビフェニル
、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノ−ビフェニ
ル、3,3′−ジメトキシ−ベンジジン、4.4”−ジ
アミノ−p−テルフェニル、3.3”−ジアミノ−p−
テルフェニル、ビス(p−アミノ−シクロヘキシル)メ
タン、ビス(p−β−アミノ−し−ブチルフェニル)エ
ーテル、ビス(p−β−メチル−δ−アミノペンチル)
ベンゼン、p−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペンチ
ル)ベンゼン、p−ビス(1,l−ジメチル−5−アミ
ノ−ペンチル)ベンゼン、1.5−ジアミノ−ナフタレ
ン、2,6−シアミツーナフタレン、2.4−ビス(β
−アミノ−も−ブチル)トルエン、2,4−ジアミノ−
トルエン、トキシレンー2.5−ジアミン、p−キシレ
ン−2,5−ジアミン、m−キシリレン−ジアミン、p
−キシリレン−ジアミン、2,6−シアミツービリジン
、2,5−ジアミノ−ピリジン、2.5−ジアミノ−1
,3,4−オキサジアゾール、1,4−ジアミノ−シク
ロヘキサン、ピペラジン、メチレン−ジアミン、エチレ
ン−ジアミン、プロピレン−ジアミン、2.2−ジメチ
ル−プロピレン−ジアミン、テトラメチレン−ジアミン
、ペンタメチレン−ジアミン、ヘキサメチレン−ジアミ
ン、2,5〜ジメチル−へキサメチレン−ジアミン、3
−メトキシ−へキサメチレン−ジアミン、ヘプタメチレ
ン−ジアミン、2,5−ジメチル−ヘプタメチレン−ジ
アミン、3−メチル−ヘプタメチレン−ジアミン、4,
4−ジメチル−へブタメチレン−ジアミン、オクタメチ
レン−ジアミン、ノナメチレン−ジアミン、5−メチル
−ノナメチレン−ジアミン、2.5−ジメチル−ノナメ
チレン−ジアミン、デカメチレン−ジアミン、■、10
−ジアミノー1,10−ジメチル−デカン、2,11−
ジアミノ−トチカン、1,12−ジアミノ−オクタデカ
ン、2,12−ジアミノ−オクタデカン、2,17−ジ
アミノシロキサン、ジアミノシロキサン、2,6−ジア
ミツー4−カルボキシリックベンゼン、3.3′−ジア
ミノ−4,4′−ジカルボキシリックベンジジンなどが
あげられるが、これらに限定されるものではない。
本発明において用いる一般式(III)で示されるアク
リルアミド類(B)には、例えば、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N、N−
ジエチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ドなどがあげられるが、これに限定されるものではない
。アクリルアミド類を感光剤として配合した感光性樹脂
は、吸水性が小さいため、バターニング工程で、基板に
塗布し乾燥した後長期に放置しても、あるいは露光した
ま・ま長期に放置した後現像しパターン化しても、塗布
皮膜にクラックが発生するということはない。
また、アクリルアミド類の使用量は、ポリアミック酸成
分100重量部に対して100〜200重量部が好まし
い。100重量部未満では感度が不充分であり、200
重量部をこえると析出がおこり多量に添加しても無意味
となる。
本発明において用いる一般式(TV)で示されるアミノ
アクリレート類(C)は、例えば、N、N−ジメチルア
ミンエチルアクリレート、N、N−ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、N、N−ジエチルアミンエチルアク
リレート、N、N−ジエチルアミノエチルメタクリレー
トなどがあげられるが、これらに限定されるものではな
い。アミノアクリレート類は、感光助剤として配合する
ものであり、その使用量はポリアミック酸成分100重
量部に対して10〜50重量部が好ましい。10重量部
未満では充分な光架橋物が得られず、50重量部をこえ
ると吸水性が大きくなり保存安定性が低下する。
本発明において用いられる増感剤は下記式(V)(式中
H9,R1o : −H、アルコキシ基。
ジアルキルアミノ基) で示される3位にカルボニル置換されたビスクマワン化
合物(D)である。
このビスクマリン化合物としては、例えば、3.3′−
カルボニル−ビス(7−シエチルアミノクマリン)、3
,3′−カルボニル−ビス(5,7−シメトキシカルボ
ニルクマリン)などがあげられるが、これに限定される
ものではない。
感光性樹脂組成物に用いられる増感剤としてはベンゾフ
ェノン、アセトフェノン、アントロン、p、p’−テト
ラメチルジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、
フェナントレン、2−ニトロフルオレン、5−ニトロア
セナフテン、ベンゾキノン、N−アセチル−ρ−ニトロ
アニリン、p−ニトロアニリン、2−エチルアントラキ
ノン、2−ターシャリ−ブチルアントラキノン、N−ア
セチル−4−ニトロ−1−ナフチルアミン、ビクラミド
、1.2−ベンズアンスラキノン、3−メチル−1,3
−ジアザ−1,9−ベンズアンスロン、p、p′−テト
ラエチルジアミノベンゾフェノン、2−クロロ−4〜ニ
トロアニリン、ジベンザルアセトン、1.2−ナフトキ
ノン、2,5−ビス−(4′−ジエチルアミノベンザル
)−シクロペンクン、2,6−ピスーク4′−ジエチル
アミノベンザル)−シクロヘキサノン、2.6−ビス−
(4′−ジメチルアミノベンザル)−4−メチル−シク
ロヘキサノン、2,6−ビス−(4′−ジエチルアミノ
ベンザル)−4−メチル−シクロヘキサノン、4.4′
−ビス−(ジメチルアミノ)−カルコン、4,4′−ビ
ス−(ジエチルアミノ)−カルコン、p−ジメチルアミ
ノベンジリデンインダノン、1,3−ビス−(4′−ジ
メチルアミノベンザル)−アセトン、1,3−ビス−(
4′−ジエチルアミノベンザル)−アセトン、N−フェ
ニノトジエタノールアミン、N−p−トワルージエチル
アミンなどがあげられるが、本発明において見いだされ
たビスクマリン化合物は、本発明において開始剤として
用いるオキサシロン化合物との組み合わせで用いること
によってのみ、驚くほど優れた増感効果を示す。この驚
くべき相乗効果がいかにして発現されるのか、その理由
は今のところ明確ではない。
なお、ビスクマリン化合物の配合量はポリアミック酸1
00重量部に対して1重量部以上、10重量部以下が最
も好ましく、ビスクマリン化合物以外の増感剤もこれに
併用しても差し支えがない。
ビスクマリン化合物の配合量が1重量部未満であると、
光エネルギーの吸収量が不足し架橋が不充分となり、ま
た、10重量部を越えると、光エネルギーの透過量が不
足し、深部の光硬化が迅速に進まず好ましくない。
本発明において用いる開始剤は下記式(Vl)R121
R1コ ニ ーH、−CH3,−C2H5,−C3H7,−C4H9
゜−CaH2・−OH、−OCH3,−OC2H5゜−
OC3H7;−OC4Hs、−OC6H5゜−CH2C
H2,−CH2Cl 2csH5゜−CH20H、−C
H2CH20H。
−CH2CH2,−CH(CH:+’h、−C(CH3
:h。
−COCH3,−COCxHs、−0COCH3゜−0
COC2H5,−CH2NH2゜ −CH2CH2NH2,−CONH2゜−CONHCH
3,−CON(CHa)2゜−CONHC2Hi−C0
N(C2HI!、)2゜−N HCH3,−N (CH
3)2.−N (C2H5)2)で示される芳香族基を
持ったオキサシロン化合物化合物(E)である。
感光性樹脂組成物に用いられる開始剤としては2.2−
ジメトキシ−2−フェニル−アセトフェノン、1−ヒド
ロキシ−シクロへキシル−フェニルケトン、2−メチル
−14−(メチルチオ)フェニル1−2−モルフォリノ
−1−プロパン、3.3’ 、4.4’−テトラ−(t
−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ベン
ジル、ベンゾイン−イソプロピルエーテル、ベンゾイン
−イソブチルエーテル、4.4’−ジメトキシベンジル
、1.4−ジベンゾイルベンゼン、4−ベンゾイルビフ
ェニル、2−ベンゾイルナフタレン、メチル−□−ベン
ゾイルベンゾエート、2.2′−ビス(Q−クロロフェ
ニル)−4,4’ 、5.5’−テトラフェニル−1,
2′−ビイミダゾール、10−ブチル−2−クロロアク
リドン、エチ/l、−4−ジメチルアミノベンゾエート
、ジベンゾイルメタン、2.4−ジエチルチオキサント
ン、3,3−ジメチル−4−メトキシ−ベンゾフェノン
、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン
−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−
ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4
−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロパン−1−オン、1−フェニル−1,2−プタンジオ
ンー2−(0−メトキシカルボニル)オキシム、1−フ
ェニル−プロパンブタンジオン−2−(0−ベンゾイル
)オキシム、1,2−ジフェニル−エタンジオン−1−
(o−ベンゾイル)オキシム、1,3−ジフェニ/l、
−プロパントソオン−2−(Q−ベンゾイル)オキシム
、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2
−(o−ベゾイル)オキシムなどが使用されているが、
本発明において見いだされたオキサシロン化合物は、増
感剤としてのビスクマリン化合物との組み合わせによっ
て、他の開始剤にくらべて格段の光反応開始効果を示し
た。
この驚くべき効果がいかにして発現されるのがその理由
は現在のところ明確ではない。
なお、オキサシロン化合物の配合量は、ポリアミック酸
100重量部に対して1〜20重量部を必須とし、オキ
サシロン化合物以外の開始剤もこれと併用しても差し支
えない。
開始剤としてのオキサシロン化合物が1重量部未満であ
ると光感度が充分でなく、好ましくない。
また、20重量部を越えると、熱処理硬化後の皮膜特性
が低下する。
本発明による耐熱性、感光性樹脂組成物には、接着助剤
やレベリング剤その他各種充填剤を添加してもよい。
本発明による感光性樹脂組成物の使用方法は、まず、該
組成物を適当な支持体、例えばシリコンウェハーやセラ
ミック基板などに塗布する。塗布方法は、スピンナーを
用いた回転塗布、スプレーコーターを用いた噴霧塗布、
浸漬、印刷、ロールコーティングなどで行なう。次に、
60〜80℃の低温でプリベークして塗膜を乾燥後、所
望のパターン形状に化学線を照射する。化学線としては
、X線、電子線、紫外線、可視光線などが使用できるが
、200〜500nmの波長のものが好ましい。
次に、未照射部を現像液で溶解除去することによりレリ
ーフパターンを得る。現像液としては、N−メチル−2
−ピロリドン、N 、 N−ジメチルアセトアミド、N
、N−ジメチルホルムアミドなどや、メタノール、イソ
プロピルアルコール、水、トルエン、キシレンなどを単
独または混合して使用する。現像方法としては、スプレ
ー、パドル、浸漬、超音波などの方式が可能である。
次に、現像によって形成したレリーフパターンをリンス
する。リンス液としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール、酢酸ブチルなどを使用する。次
に加熱処理を行ない、イミド環を形成し、耐熱性に富む
最終パターンを得る。
本発明による感光性樹脂組成物は、半導体用途のみなら
ず、多層回路の層間絶縁膜やフレキシブル銅張板のカバ
ーコート、ソルダーレジスト膜や液晶配向膜などとして
も有用である。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1 3.3’ 、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物57gと、アミンとして4.4′−ジアミノ
ジフェニルエーテル33gと下記式で示されるシリコー
ンジアミン10gとの混合物をN−メチルピロリドンに
投入し CH3CH3 1] H2N @ CH2−卜rS 1−(0−S i 矢「
(CH2←NH21 CH3CH3 20°Cで6時間反応させた。
得られたポリアミック酸に、メタクリルアミド170g
とN、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート45g
と3,3′−カルボニル−ビス−(7−シエチルアミノ
クマリン)3gと3−フェニル−5−イソオキサシロン
6gを添加し、室温で混合溶解した。
得られた溶液をアルミ板上にスピンナーで塗布し、乾M
4機により65°Cで1時間乾燥した。
このフィルムにコダック社製フォトグラフィックスデツ
プタブレットNo2.21ステツプ(本グレースケール
では、段数が一段増加するごとに透過光量が前段の1/
f2に減少するので現像後の残存段階が大きいものほど
感度が良い)を重ね、500mj/cm2の紫外線を照
射した。2日間体日で放置後、N−メチルピロリドン6
0重量%、メタノール40重量%の現像液を用い現像、
さらにイソプロピルアルコールでリンスをしたところ1
4段までパターンが残存し、クラックもなく、高感度で
あることが判った。
次に、前述と同様な方法でシリコンウェハー上に塗布し
全面露光し、現像、リンスの各工程を行い、さらに15
0.250.350℃で各々30分間加熱硬化した。
密着力試験のため1mm角に100個カットし、セロテ
ープで引き剥がそうとしたが、1個も剥がれず、高密着
性であることが判った。
また、別途アルミ板上に塗布し、全面露光、現像、リン
ス、熱硬化したあとアルミ板をエツチングで除去し、フ
ィルムを得た。
得られたフィルムの引張弾性率(JIS K−6760
)は120Kg/mm2と小さく(小さい方が良い)、
熱分解開始温度は430°Cと高かった(高い方が良い
)。
比較例1〜14 実施例1にの方法に従い、シリコーン系ジアミンのシロ
キサン結合数と添加量、感光剤であるアクリルアミドの
添加量、感光助剤であるアミノアクリレートの添加量、
増感剤、開始剤の種類と添加量をそれぞれかえ、同様の
実験を行ない、第1表の結果を得た。
比較例1は、開始剤の添加量を0.8重量部にしたもの
で、光感度が著しく低くなってしまった。
比較例2は、比較例1とは逆に28重量部にしたもので
、この場合フィルム中に開始剤が残留し、弾性率が高く
なってしまった。
比較例3は、本発明以外の開始剤を使用したもので、光
感度が低く、実用的ではなかった。
比較例4は、増感剤の添加量を0.4重量部にしたもの
で、この場合光感度が著しく低く、架橋も不充分であっ
た。
比較例5は、増感剤量を24重量部としたもので、この
場合深部への光透過量が不足し、深部の硬化が不充分で
ボイドを発生し、均一なフィルムにはならなかった。
比較例6は、本発明以外の増感剤を使用した場合で光感
度が低く、実用的ではなかった。
比較例7では、N、N−ジメチルアミノエチルメタクリ
レートの添加量を5重量部に減らしたところ、架橋不足
で現像時に剥がれてしまい、パターンが残らなかった。
比較例8では、N、N−ジメチルアミンエチルメタクリ
レートの添加量を60重量部に増やしたところ、露光後
の2日の放置で吸湿し、現像したパターンがクラックし
ていた。
比較例9では、メタクリルアミドの添加量を80重量部
に減らしたところ、感度が低く、クラックも発生した。
比較例10では、メタクリルアミドの添加量を210重
量部に増やしたところ、塗布後の乾燥時にメタクリアミ
ドが結晶となって析出し、きれいなフィルムが得られな
かった。
比較例11では、シリコーン系ジアミンの添加量を0.
2重量%に減らしたところ、弾性率を低下させることが
できなかった。
比較例12では、シリコーン系ジアミンの添加量を30
重量%に増やしたところ、フィルムが脆く、密着性もよ
くなかった。
比較例13では、シリコーン系ジアミンのシロキサン結
合数をn=0にしたところ、柔軟性に欠け、フィルム化
時点でクラックが発生しバラバラになった。
比較例14では、シリコーン系ジアミンのシロキサン結
合数をn=80にしたところ、反応率が低く未反応シリ
コーンがフィルム表面にブjノードし剥がれてしまった
[発明の効果] ポリイミド樹脂は本質的に吸湿性が大きく、このため、
従来の感光性化技術では、塗布、乾燥、露光したものを
長期に放置しておくと、吸湿してしまい、現像時にクラ
ックが発生するという保存安定性の悪さを解決すること
ができなかった。
また一方ポリイミド樹脂の密着性向上と低弾性化のため
にシリコーン変性する試みがなされてきたが、光感度が
低く、良好なパターンが得られなかった。
しかるに、本発明では、特殊な感光剤と感光助剤の組合
せにより、保存安定性が著しく向上し、しかも特殊な増
感剤と開始剤の組合せにより光感度が向上し、その結果
高感度でクラックのない良好なパターンが得られるよう
になった。
さらには、ポリイミド樹脂としての耐熱性の優秀さ、特
殊なシリコーン変性による高密着性、低弾性をも併備し
たものが得られた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記式〔 I 〕で示されるシリコーン系ジアミン ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔 I 〕 (式中n:1〜50) を0.5〜25重量%共重合した、下記式〔II〕で示さ
    れるポリアミック酸(A) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔II〕 (式中R_1、R_2:芳香族環状基 n:1〜2、m:0〜2) に、感光剤として下記式〔III〕で示されるアクリルア
    ミド類(B) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔III〕 (式中R_3:−H、−CH_3 R_4、R_5:−H、−CH_3、−CH_2OH)
    と、感光助剤として下記式〔IV〕で示されるアミノアク
    リレート類(C) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔IV〕 (式中R_6:−H、−CH_3 R_7、R_8:−H、−CH_3、−C_2H_5)
    下記式〔V〕で示される3位にカルボニル置換されたビ
    スクマリン化合物(D) ▲数式、化学式、表等があります▼−−−−−−〔V〕 (式中R_9、R_1_0:−H、アルコキシ基、ジア
    ルキルアミノ基) 下記式〔VI〕で示されるオキサゾロン化合物(E)▲数
    式、化学式、表等があります▼−−−−−−−−〔VI〕 (式中R_1_1:▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼ R_1_2、R_1_3: −H、−CH_3、−C_2H_5、−C_3H_7、
    −C_4H_9、−C_6H_5、−OH、−OCH_
    3、−OC_2H_5、−OC_3H_7、−OC_4
    H_9、−OC_6H_5、−CH_2C_6H_5、
    −CH_2CH_2C_6H_5、−CH_2OH、−
    CH_2CH_2OH、−CH_2CH_3、−CH(
    CH_3)_2、−C(CH_3)_3、−COCH_
    3、−COC_2H_5、−OCOCH_3、−OCO
    C_2H_5、−CH_2NH_2、−CH_2CH_
    2NH_2、−CONH_2、−CONHCH_3、−
    CON(CH_3)_2、−CONHC_2H_5、−
    CON(C_2H_5)_2、−NHCH_3、−N(
    CH_3)_2、−N(C_2H_5)_2)を必須成
    分とし、(A)100重量部に対して(B)100〜2
    00重量部、(C)10〜50重量部、(D)1〜10
    重量部、(E)1〜20重量部を配してなる感光性樹脂
    組成物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110892004A (zh) * 2018-06-21 2020-03-17 株式会社Lg化学 支化共聚物以及使用其的光敏树脂组合物、光敏树脂膜和光学器件

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