JPH03194875A - 電気的接続部材の製造方法 - Google Patents
電気的接続部材の製造方法Info
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- JPH03194875A JPH03194875A JP1333055A JP33305589A JPH03194875A JP H03194875 A JPH03194875 A JP H03194875A JP 1333055 A JP1333055 A JP 1333055A JP 33305589 A JP33305589 A JP 33305589A JP H03194875 A JPH03194875 A JP H03194875A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
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- H01L2224/83101—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member
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- Wire Bonding (AREA)
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電気回路部品同士を電気的に接続する際に用
いられる電気的接続部材の製造方法に関する。
いられる電気的接続部材の製造方法に関する。
電気回路部品同士を電気的に接続する方法としては、ワ
イヤボンディング方法、TAB(Tape Auto−
mated Bonding)法等が従来より知られて
いる。ところがこれらの方法にあっては、両電気回路部
品間の接続点数の増加に対応できない、コスト高である
等の難点があった。このような難点を解決すべく、絶縁
性の保持体中に複数の導電部材を互いに絶縁して埋設さ
せた構成をなす電気的接続部材を用いて、電気回路部品
同士を電気的に接続することが公知である。
イヤボンディング方法、TAB(Tape Auto−
mated Bonding)法等が従来より知られて
いる。ところがこれらの方法にあっては、両電気回路部
品間の接続点数の増加に対応できない、コスト高である
等の難点があった。このような難点を解決すべく、絶縁
性の保持体中に複数の導電部材を互いに絶縁して埋設さ
せた構成をなす電気的接続部材を用いて、電気回路部品
同士を電気的に接続することが公知である。
電気回路部品同士の電気的な多点接続を行うためのこの
ような電気的接続部材の製造方法としては、特願昭63
−133401号に提案されたものがある4以下、この
製造方法についてその工程を模式的に示す第5図に基づ
き簡単に説明する。
ような電気的接続部材の製造方法としては、特願昭63
−133401号に提案されたものがある4以下、この
製造方法についてその工程を模式的に示す第5図に基づ
き簡単に説明する。
まず、基体となる金属シート51を準備しく第5図(a
l)、この金属シート51上に、スピンナにより感光性
樹脂52を塗布して、プリベイクを行う (第5図(b
))。所定パターンをなしたフォトマスク(図示せず)
を介して光を感光性樹脂52に照射した(露光した)後
、現像を行う(第5図(C))。露光された部分には感
光性樹脂52が残存し、露光されない部分は現像処理に
より感光性樹脂52が除去されて穴53が形成される。
l)、この金属シート51上に、スピンナにより感光性
樹脂52を塗布して、プリベイクを行う (第5図(b
))。所定パターンをなしたフォトマスク(図示せず)
を介して光を感光性樹脂52に照射した(露光した)後
、現像を行う(第5図(C))。露光された部分には感
光性樹脂52が残存し、露光されない部分は現像処理に
より感光性樹脂52が除去されて穴53が形成される。
温度を上げて感光性樹脂52の硬化を行った後、エツチ
ング液中に金属シート51を浸漬させてエツチングを行
い、穴53に連通する凹部54を金属シート51に形成
する(第5図(d))。次いで金メツキを施して、穴5
3.凹部54に金55を充填し、バンブが形成される迄
、金メツキを続ける(第5図(e))。最後に金属シー
ト51を金属エツチングにより除去して、電気的接続部
材31を製造する(第5図(f))。
ング液中に金属シート51を浸漬させてエツチングを行
い、穴53に連通する凹部54を金属シート51に形成
する(第5図(d))。次いで金メツキを施して、穴5
3.凹部54に金55を充填し、バンブが形成される迄
、金メツキを続ける(第5図(e))。最後に金属シー
ト51を金属エツチングにより除去して、電気的接続部
材31を製造する(第5図(f))。
このようにして製造される電気的接続部材31にあって
は、金55が導電部材を構成し、感光性樹脂52が保持
体を構成する。なお電気的接続部材31における各部分
の寸法は、感光性樹脂52の厚さが約10μm、穴53
(導電部材)の直径が約20μm、ピンチを約40μm
とし、導電部材の突出量を表裏とも数μm程度とする。
は、金55が導電部材を構成し、感光性樹脂52が保持
体を構成する。なお電気的接続部材31における各部分
の寸法は、感光性樹脂52の厚さが約10μm、穴53
(導電部材)の直径が約20μm、ピンチを約40μm
とし、導電部材の突出量を表裏とも数μm程度とする。
第6図は、このような電気的接続部材を用いた電気回路
部品間の電気的接続を示す模式図であり、図中31は電
気的接続部材、32.33は接続すべき電気回路部品を
示す。電気的接続部材31は、金属または合金からなる
複数の導電部材34を、夫々の導電部材34同士を、電
気的に絶縁して電気的絶縁材料からなる保持体35中に
埋設して構成されており、導電部材34の一端38を一
方の電気回路部品32側に露出させ、導電部材34の他
端39を他方の電気回路部品33側に露出させている(
第6図(a))。そして、一方の電気回路部品32の接
続部36と電気回路部品32側に露出した導電部材34
の一端3Bとを合金化することにより両者を接続し、他
方の電気回路部品33の接続部37と電気回路部品33
側に露出した導電部材34の他#i39とを合金化する
ことにより両者を接続する(第6図(b))。
部品間の電気的接続を示す模式図であり、図中31は電
気的接続部材、32.33は接続すべき電気回路部品を
示す。電気的接続部材31は、金属または合金からなる
複数の導電部材34を、夫々の導電部材34同士を、電
気的に絶縁して電気的絶縁材料からなる保持体35中に
埋設して構成されており、導電部材34の一端38を一
方の電気回路部品32側に露出させ、導電部材34の他
端39を他方の電気回路部品33側に露出させている(
第6図(a))。そして、一方の電気回路部品32の接
続部36と電気回路部品32側に露出した導電部材34
の一端3Bとを合金化することにより両者を接続し、他
方の電気回路部品33の接続部37と電気回路部品33
側に露出した導電部材34の他#i39とを合金化する
ことにより両者を接続する(第6図(b))。
金属シート51に塗布する感光性樹脂52は液状樹脂で
あって溶剤が含まれており、この溶剤の飛散及び樹脂自
身の硬化収縮によって、第5図fb)の状態(硬化前)
と第5図(el以降の状態(硬化後)とでは、感光性樹
脂52の膜厚が異なる。従って、保持体35の所望の膜
厚と同じ膜厚にて感光性樹脂52を塗布した場合には、
所望の膜厚の保持体35が得られない。
あって溶剤が含まれており、この溶剤の飛散及び樹脂自
身の硬化収縮によって、第5図fb)の状態(硬化前)
と第5図(el以降の状態(硬化後)とでは、感光性樹
脂52の膜厚が異なる。従って、保持体35の所望の膜
厚と同じ膜厚にて感光性樹脂52を塗布した場合には、
所望の膜厚の保持体35が得られない。
従来の製造方法ではスピンナにより感光性樹脂52を塗
布しているが、この場合に、金属シート51中心から円
周方向にかけて感光性樹脂52の膜厚にバラツキが生じ
、特に周縁部においては厚く塗布されて不良な電気的接
続部材となる。感光性樹脂52を塗布する方法には、ス
ピンナによる塗布方法以外に、ロールコータ、スキージ
による方法もあるが、これらの塗布方法を採用しても同
様の事態となる。そして塗布時における感光性樹脂52
の膜厚のバラツキは、硬化後の感光性樹脂52(保持体
35)の膜厚のバラツキ及び金55(導電部材34)の
突出高さのバラツキを引き起し、歩留りが低いという難
点が残っている。
布しているが、この場合に、金属シート51中心から円
周方向にかけて感光性樹脂52の膜厚にバラツキが生じ
、特に周縁部においては厚く塗布されて不良な電気的接
続部材となる。感光性樹脂52を塗布する方法には、ス
ピンナによる塗布方法以外に、ロールコータ、スキージ
による方法もあるが、これらの塗布方法を採用しても同
様の事態となる。そして塗布時における感光性樹脂52
の膜厚のバラツキは、硬化後の感光性樹脂52(保持体
35)の膜厚のバラツキ及び金55(導電部材34)の
突出高さのバラツキを引き起し、歩留りが低いという難
点が残っている。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、硬化
に伴う膜厚の減少を考慮して設定された膜厚にて感光性
樹脂を塗布し、しかも基体全域にわたってその膜厚を均
一化する処理を施すことにより、所望の膜厚を有する保
持体を容易に得ることができ、保持体及び導電部材の膜
厚のバラツキを解消して歩留りの向上を図ることができ
る電気的接続部材の製造方法を提供することを目的とす
る。
に伴う膜厚の減少を考慮して設定された膜厚にて感光性
樹脂を塗布し、しかも基体全域にわたってその膜厚を均
一化する処理を施すことにより、所望の膜厚を有する保
持体を容易に得ることができ、保持体及び導電部材の膜
厚のバラツキを解消して歩留りの向上を図ることができ
る電気的接続部材の製造方法を提供することを目的とす
る。
本発明に係る電気的接続部材の製造方法は、電気的絶縁
材からなる保持体と、該保持体中に互いに絶縁状態にて
備えられた複数の導電部材とを有し、前記各導電部材の
一端が前記保持体の一方の面において露出しており、前
記各導電部材の他端が前記保持体の他方の面において露
出している電気的接続部材を製造する方法において、前
記保持体の所望の膜厚よりも厚く、前記保持体となる感
光性樹脂を基体上に設ける工程と、前記感光性樹脂を露
光、現像して、複数の穴を前記感光性樹脂に形成し、前
記基体を露出させる工程と、前記感光性樹脂を硬化させ
る工程と、露出された前記基体の一部をエツチング除去
する工程と、形成された穴に、前記導電部材となる導電
材料を充填する工程と、残存する前記基体を除去する工
程とを有することを特徴とする。
材からなる保持体と、該保持体中に互いに絶縁状態にて
備えられた複数の導電部材とを有し、前記各導電部材の
一端が前記保持体の一方の面において露出しており、前
記各導電部材の他端が前記保持体の他方の面において露
出している電気的接続部材を製造する方法において、前
記保持体の所望の膜厚よりも厚く、前記保持体となる感
光性樹脂を基体上に設ける工程と、前記感光性樹脂を露
光、現像して、複数の穴を前記感光性樹脂に形成し、前
記基体を露出させる工程と、前記感光性樹脂を硬化させ
る工程と、露出された前記基体の一部をエツチング除去
する工程と、形成された穴に、前記導電部材となる導電
材料を充填する工程と、残存する前記基体を除去する工
程とを有することを特徴とする。
本発明の電気的接続部材の製造方法にあっては、製造さ
れる電気的接続部材の保持体の所望の膜厚と硬化に伴う
膜厚の減少度とに基づいて、設ける感光性樹脂の膜厚を
算出しておき、この算出膜厚にて感光性樹脂を設ける。
れる電気的接続部材の保持体の所望の膜厚と硬化に伴う
膜厚の減少度とに基づいて、設ける感光性樹脂の膜厚を
算出しておき、この算出膜厚にて感光性樹脂を設ける。
そうしておくとこの感光性樹脂が硬化した後に、所望の
膜厚を有する保持体が得られる。その後、設けられた感
光性樹脂の膜厚を基体全域にわたって均一化する。そう
しておくと、保持体の膜厚及び導電部材の突出高さは均
一となる。
膜厚を有する保持体が得られる。その後、設けられた感
光性樹脂の膜厚を基体全域にわたって均一化する。そう
しておくと、保持体の膜厚及び導電部材の突出高さは均
一となる。
以下、本発明をその実施例を示す図面に基づいて具体的
に説明する。
に説明する。
第1図は本発明の一実施例の製造工程を示す模式的断面
図である。まず、基体たる銅板lを準備しく第1図(a
)) 、銅板1上に接着補助剤をスピンナにより塗布後
、ネガ型の感光性樹脂たるポリイミド樹脂2をスピンナ
により塗布する(第1図(b))塗布するポリイミド樹
脂2の膜厚tは、保持体の所望の膜厚T(例えば10μ
m)よりも厚く、下記(1)式に示す式にて算出される
膜厚値t0以上とする。プリベイク、硬化前後における
膜厚の変化は、液状ポリイミドに含有される溶剤の飛散
とポリイミド自身の硬化収縮とに起因するので、ポリイ
ミド自身の硬化収縮も考慮して、膜厚tはt0以上とす
る。
図である。まず、基体たる銅板lを準備しく第1図(a
)) 、銅板1上に接着補助剤をスピンナにより塗布後
、ネガ型の感光性樹脂たるポリイミド樹脂2をスピンナ
により塗布する(第1図(b))塗布するポリイミド樹
脂2の膜厚tは、保持体の所望の膜厚T(例えば10μ
m)よりも厚く、下記(1)式に示す式にて算出される
膜厚値t0以上とする。プリベイク、硬化前後における
膜厚の変化は、液状ポリイミドに含有される溶剤の飛散
とポリイミド自身の硬化収縮とに起因するので、ポリイ
ミド自身の硬化収縮も考慮して、膜厚tはt0以上とす
る。
但し、X:ポリイミド樹脂に含有される溶剤の体積濃度
(%) 次に、ポリイミド樹脂2が塗布された銅板1を水平に置
き、30分以上にわたって、N2中または空気中に放置
して、膜厚の均一化を行った後、プリベイクを行う (
第1図(C))。
(%) 次に、ポリイミド樹脂2が塗布された銅板1を水平に置
き、30分以上にわたって、N2中または空気中に放置
して、膜厚の均一化を行った後、プリベイクを行う (
第1図(C))。
次いで、所定パターンをなしたフォトマスク(図示せず
)を介して光をポリイミド樹脂2に照射した(露光した
)後、現像を行う。本例では、露光された部分にはポリ
イミド樹脂2が残存し、露光されない部分は現像処理に
よりポリイミド樹脂2が除去されて直径20μm程度の
穴3が形成される。その後温度を上げてポリイミド樹脂
2の硬化を行う(第1図(d))。
)を介して光をポリイミド樹脂2に照射した(露光した
)後、現像を行う。本例では、露光された部分にはポリ
イミド樹脂2が残存し、露光されない部分は現像処理に
よりポリイミド樹脂2が除去されて直径20μm程度の
穴3が形成される。その後温度を上げてポリイミド樹脂
2の硬化を行う(第1図(d))。
次に、このような処理がなされた銅板1をエツチング液
中に浸漬させてエツチングを行う。穴3の近傍の銅板1
の一部がエツチング除去され、穴3に連通する凹部4が
銅Fi、1に形成される(第1図(e))。銅板1を共
通電極として用いた金メツキにより、穴3.凹部4に金
5を埋設する。この際、埋設高さが20μm程度になる
まで金メツキを続ける(第1図(f))。最後に、銅は
エツチングするが金及びポリイミド樹脂はエツチングし
ないエツチング液を用いた金属エツチングにより銅板l
を除去して、第5図(f)に示すような電気的接続部材
31を製造する。
中に浸漬させてエツチングを行う。穴3の近傍の銅板1
の一部がエツチング除去され、穴3に連通する凹部4が
銅Fi、1に形成される(第1図(e))。銅板1を共
通電極として用いた金メツキにより、穴3.凹部4に金
5を埋設する。この際、埋設高さが20μm程度になる
まで金メツキを続ける(第1図(f))。最後に、銅は
エツチングするが金及びポリイミド樹脂はエツチングし
ないエツチング液を用いた金属エツチングにより銅板l
を除去して、第5図(f)に示すような電気的接続部材
31を製造する。
本実施例にあっては、製造された電気的接続部材31に
おいて、導電部材34は金であり、保持体35はポリイ
ミド樹脂である。
おいて、導電部材34は金であり、保持体35はポリイ
ミド樹脂である。
本発明では銅板1にポリイミド樹脂2を塗布する工程(
第1図(b))において、溶剤の飛散とポリイミド樹脂
2自身の硬化とに伴う膜厚の減少を見込んでその塗布す
る膜厚を設定しているので、所望の膜厚を有する保持体
35を備えた電気的接続部材31の製造が可能である。
第1図(b))において、溶剤の飛散とポリイミド樹脂
2自身の硬化とに伴う膜厚の減少を見込んでその塗布す
る膜厚を設定しているので、所望の膜厚を有する保持体
35を備えた電気的接続部材31の製造が可能である。
ここでブリベイクで主に溶剤の飛散による膜厚の減少が
、また樹脂の硬化で硬化収縮による膜厚の減少がおこる
。また、ポリイミド樹脂2を塗布した後に、その膜厚を
均−化する工程(第1図(C))を施すので、製造さ才
る電気的接続部材31において、保持体35の膜厚Bび
導電部材34の突出高さが均一化し、銅板1の3域にわ
たって良品の電気的接続部材31が製造さ才る。
、また樹脂の硬化で硬化収縮による膜厚の減少がおこる
。また、ポリイミド樹脂2を塗布した後に、その膜厚を
均−化する工程(第1図(C))を施すので、製造さ才
る電気的接続部材31において、保持体35の膜厚Bび
導電部材34の突出高さが均一化し、銅板1の3域にわ
たって良品の電気的接続部材31が製造さ才る。
以下、本発明の別の実施例について説明する。
第2図は、塗布したポリイミド樹脂2の膜厚嶋均−化す
る処理工程の別の実施例を示す断面積デ図である。この
実施例では、線状のエアナイフ6を用いて圧縮気体を塗
布後のポリイミド樹脂2C表面に吹き付けて、膜厚の均
一化を行うこととする。なお、他の製造工程は前述した
実施例と回りであるので、その説明は省略する。
る処理工程の別の実施例を示す断面積デ図である。この
実施例では、線状のエアナイフ6を用いて圧縮気体を塗
布後のポリイミド樹脂2C表面に吹き付けて、膜厚の均
一化を行うこととする。なお、他の製造工程は前述した
実施例と回りであるので、その説明は省略する。
第3図は、ポリイミド樹脂2の塗布工程及びその膜厚の
均一化工程の別の実施例を示す断面模式図である。この
実施例では、スキージ7を用いてポリイミド樹脂2を銅
板1に塗布し、線状のエアナイフ6を用いて圧縮気体を
塗布後のポリイミド樹脂2の表面に吹き付けて膜厚の均
一化を行っている。この際、前述の実施例と同様に、硬
化による減少を考慮して塗布する膜厚を設定することは
勿論である。なお、他の製造工程は前述した実施例と同
様であるので、その説明は省略する。
均一化工程の別の実施例を示す断面模式図である。この
実施例では、スキージ7を用いてポリイミド樹脂2を銅
板1に塗布し、線状のエアナイフ6を用いて圧縮気体を
塗布後のポリイミド樹脂2の表面に吹き付けて膜厚の均
一化を行っている。この際、前述の実施例と同様に、硬
化による減少を考慮して塗布する膜厚を設定することは
勿論である。なお、他の製造工程は前述した実施例と同
様であるので、その説明は省略する。
第4図は、ポリイミド樹脂2の塗布工程及びその膜厚の
均一化工程の更に別の実施例を示す断面模式図である。
均一化工程の更に別の実施例を示す断面模式図である。
この実施例では、ロールコータ8を用いてポリイミド樹
脂2を銅板1に塗布しく第4図(bl)、線状のエアナ
イフ6を用いて圧縮気体を塗布後のポリイミド樹脂2の
表面に吹き付けて膜厚の均一化を行っている(第4図(
C))。この際、前述の実施例と同様に、硬化による減
少を考慮して塗布する膜厚を設定することは勿論である
。なお、他の製造工程は前述した実施例と同様であるの
で、その説明は省略する。
脂2を銅板1に塗布しく第4図(bl)、線状のエアナ
イフ6を用いて圧縮気体を塗布後のポリイミド樹脂2の
表面に吹き付けて膜厚の均一化を行っている(第4図(
C))。この際、前述の実施例と同様に、硬化による減
少を考慮して塗布する膜厚を設定することは勿論である
。なお、他の製造工程は前述した実施例と同様であるの
で、その説明は省略する。
本実施例では、メツキ法により金5 (導電部材34)
を埋設することとしたが、他の方法、例えば蒸着によっ
て行ってもよい。
を埋設することとしたが、他の方法、例えば蒸着によっ
て行ってもよい。
また本実施例では導電部材34の材料として金を使用し
たが、金(Au)の他に、Cur Agr Be、 C
atMg+ Mo+ Ni+ W、 Fe、
Tt、 In、 Ta、 Zn、 八l、
Sn。
たが、金(Au)の他に、Cur Agr Be、 C
atMg+ Mo+ Ni+ W、 Fe、
Tt、 In、 Ta、 Zn、 八l、
Sn。
Pb−5n等の金属または合金を使用できる。導電部材
34は、一種の金属及び合金から形成されていてもよい
し、数種類の金属及び合金を混合して形成されていても
よい。また、金属材料に有機材料または無機材料の一方
あるいは両方を含有せしめた材料でもよい。なお導電部
材34の断面形状は、円形、四角形その他の形状とする
ことができるが、応力の過度の集中を避けるためには角
がない形状が望ましい。また、導電部材34は保持体3
5中に垂直に配する必要はなく、保持体35の一方の面
側から保持体35の他方の面倒に斜行していてもよい。
34は、一種の金属及び合金から形成されていてもよい
し、数種類の金属及び合金を混合して形成されていても
よい。また、金属材料に有機材料または無機材料の一方
あるいは両方を含有せしめた材料でもよい。なお導電部
材34の断面形状は、円形、四角形その他の形状とする
ことができるが、応力の過度の集中を避けるためには角
がない形状が望ましい。また、導電部材34は保持体3
5中に垂直に配する必要はなく、保持体35の一方の面
側から保持体35の他方の面倒に斜行していてもよい。
更に本実施例では感光性樹脂としてポリイミド樹脂2を
用いたが、感光性樹脂であれば特に限定されない。また
感光性樹脂中に、粉体、繊維、板状体、棒状体9球状体
等の所望の形状をなした、無機材料、金属材料1合金材
料の一種または複数種が、分散して含有せしめてもよい
。含有される金属材料1合金材料として具体的には、篩
、八g。
用いたが、感光性樹脂であれば特に限定されない。また
感光性樹脂中に、粉体、繊維、板状体、棒状体9球状体
等の所望の形状をなした、無機材料、金属材料1合金材
料の一種または複数種が、分散して含有せしめてもよい
。含有される金属材料1合金材料として具体的には、篩
、八g。
Cu、 AI、 Be、 (:a、 ML Mo+ F
e、 Ni、 Go、 Mn、 W。
e、 Ni、 Go、 Mn、 W。
Cr、 Nb、 Zr、 Ti、 Ta、 Zn、 S
n、 Pb−5n等があげられ、含有される無機材料と
して、Sing、 fhOs、八1.03゜Na、0.
に2帆CaO,ZnO,Bad、 pbo、 5bzO
z+ As2O3゜Laz03. Zr0z+ PzO
s+ Ti1t、 MgO+ StC+ BeO+ B
P+8N、 八IN+ BaCr TaCr
TIB!1 CrBz+ TINI 513N4
1 Taxes等のセラミック、ダイヤモンド、ガラ
ス、カーボン、ボロン等があげられる。
n、 Pb−5n等があげられ、含有される無機材料と
して、Sing、 fhOs、八1.03゜Na、0.
に2帆CaO,ZnO,Bad、 pbo、 5bzO
z+ As2O3゜Laz03. Zr0z+ PzO
s+ Ti1t、 MgO+ StC+ BeO+ B
P+8N、 八IN+ BaCr TaCr
TIB!1 CrBz+ TINI 513N4
1 Taxes等のセラミック、ダイヤモンド、ガラ
ス、カーボン、ボロン等があげられる。
また本実施例では基体として銅Fi1を用いたが、これ
に限らず、Au+ Ag、 Be、 Ca、 Mg、
Mo+ Ni、 W。
に限らず、Au+ Ag、 Be、 Ca、 Mg、
Mo+ Ni、 W。
Fe+ Tx、 In+ Ta、 Zn+ 八1+ S
n、 Pb−3n等の金属または合金の薄板を使用でき
る。但し、最終工程において基体のみを選択的にエツチ
ング除去するので、導電部材34の材料と基体に用いる
材料とは異ならせておく必要がある。
n、 Pb−3n等の金属または合金の薄板を使用でき
る。但し、最終工程において基体のみを選択的にエツチ
ング除去するので、導電部材34の材料と基体に用いる
材料とは異ならせておく必要がある。
以上詳述した如(、本発明の製造方法では、溶剤の飛散
、樹脂の硬化硬化に伴う膜厚の減少を考慮して、塗布す
る感光性樹脂の膜厚を設定するので、所望の膜厚を有す
る保持体を備えた電気的接続部材を容易に製造すること
ができる。
、樹脂の硬化硬化に伴う膜厚の減少を考慮して、塗布す
る感光性樹脂の膜厚を設定するので、所望の膜厚を有す
る保持体を備えた電気的接続部材を容易に製造すること
ができる。
また、塗布された感光性樹脂の膜厚を均一化する工程を
有するので、本発明の製造方法では、保持体の膜厚、導
電部材の突出高さ夫々が全域にわたって均一化し、歩留
りを大幅に向上することができる。
有するので、本発明の製造方法では、保持体の膜厚、導
電部材の突出高さ夫々が全域にわたって均一化し、歩留
りを大幅に向上することができる。
第1図は本発明に係る製造方法の一実施例の工程を示す
模式的断面図、第2図〜第4図は本発明に係る製造方法
の別の実施例の一部の工程を示す模式的断面図、第5図
は従来の製造方法の工程を示す模式的断面図、第6図は
電気的接続部材の使用例を示す模式図である。
模式的断面図、第2図〜第4図は本発明に係る製造方法
の別の実施例の一部の工程を示す模式的断面図、第5図
は従来の製造方法の工程を示す模式的断面図、第6図は
電気的接続部材の使用例を示す模式図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、電気的絶縁材からなる保持体と、該保持体中に互い
に絶縁状態にて備えられた複数の導電部材とを有し、前
記各導電部材の一端が前記保持体の一方の面において露
出しており、前記各導電部材の他端が前記保持体の他方
の面において露出している電気的接続部材を製造する方
法において、 前記保持体の所望の膜厚よりも厚く、前記 保持体となる感光性樹脂を基体上に設ける工程と、 前記感光性樹脂を露光、現像して、複数の 穴を前記感光性樹脂に形成し、前記基体を露出させる工
程と、 前記感光性樹脂を硬化させる工程と、 露出された前記基体の一部をエッチング除 去する工程と、 形成された穴に、前記導電部材となる導電 材料を充填する工程と、 残存する前記基体を除去する工程と を有することを特徴とする電気的接続部材 の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1333055A JPH03194875A (ja) | 1989-12-22 | 1989-12-22 | 電気的接続部材の製造方法 |
US07/630,881 US5145552A (en) | 1989-12-21 | 1990-12-20 | Process for preparing electrical connecting member |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1333055A JPH03194875A (ja) | 1989-12-22 | 1989-12-22 | 電気的接続部材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03194875A true JPH03194875A (ja) | 1991-08-26 |
Family
ID=18261765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1333055A Pending JPH03194875A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-22 | 電気的接続部材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03194875A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5454161A (en) * | 1993-04-29 | 1995-10-03 | Fujitsu Limited | Through hole interconnect substrate fabrication process |
-
1989
- 1989-12-22 JP JP1333055A patent/JPH03194875A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5454161A (en) * | 1993-04-29 | 1995-10-03 | Fujitsu Limited | Through hole interconnect substrate fabrication process |
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