JPH03269975A - 電気的接続部材の製造方法 - Google Patents
電気的接続部材の製造方法Info
- Publication number
- JPH03269975A JPH03269975A JP6781990A JP6781990A JPH03269975A JP H03269975 A JPH03269975 A JP H03269975A JP 6781990 A JP6781990 A JP 6781990A JP 6781990 A JP6781990 A JP 6781990A JP H03269975 A JPH03269975 A JP H03269975A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper plate
- etching
- exposed
- residuals
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 32
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 31
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 31
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract description 14
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 13
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 14
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 CrBz Substances 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005091 Si3N Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910009037 WFe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/811—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector the bump connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
- H01L2224/81101—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector the bump connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a bump connector, e.g. provided in an insulating plate member
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/36—Assembling printed circuits with other printed circuits
- H05K3/368—Assembling printed circuits with other printed circuits parallel to each other
Landscapes
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
- Combinations Of Printed Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電気回路部品同士を電気的に接続する際に用
いられる電気的接続部材の製造方法に関する。
いられる電気的接続部材の製造方法に関する。
電気回路部品同士を電気的に接続する方法としては、ワ
イヤボンディング方法、TAB(Tape Aut。
イヤボンディング方法、TAB(Tape Aut。
IIIated Bonding)法等が従来より知ら
れている。しかしこれらの方法はいずれもコスト高であ
り、しかも両電気回路部品間の接続点数が増加し、接続
点密度が高くなるとこれに対応できない等の難点があっ
た。
れている。しかしこれらの方法はいずれもコスト高であ
り、しかも両電気回路部品間の接続点数が増加し、接続
点密度が高くなるとこれに対応できない等の難点があっ
た。
このような難点を解決すべく、絶縁性の保持体中に複数
の導電部材を互いに絶縁状態に備えた電気的接続部材を
用いて、電気回路部品同士を電気的に接続する技術が知
られている。
の導電部材を互いに絶縁状態に備えた電気的接続部材を
用いて、電気回路部品同士を電気的に接続する技術が知
られている。
このような電気的接続部材の製造方法としては、従来特
願昭63−133401号に提案されたものがある。
願昭63−133401号に提案されたものがある。
以下、この製造方法について第2図に基づき説明する。
第2図は従来の電気的接続部材の製造方法の主要工程を
示す模式的断面図であり、まず基体となる金属シート5
1を用意しく第2図(al)、この金属シート51上に
スピンナにより感光性樹脂52を塗布し、プリベイクを
行う(第2図(b))。所定パターンをなすフォトマス
ク(図示せず)を介して光を感光性樹脂52に照射し、
露光し、現像を行う、(第2図(C))。これによって
露光された部分には感光性樹脂52が残存し、露光され
ない部分は現像処理により感光性樹脂52が除去され、
底部に金属シート51の表面が露出する穴53が形成さ
れる。温度を上げて感光性樹脂52の硬化を行った後、
これらをエツチング液中に浸漬させて穴53内に露出す
る金属シート51の表面をエツチングし、ここに凹部5
4を形成する(第2図(d))。次いで穴53.凹部5
4内に金55が充填され、且つこれを感光性樹脂52の
表面に所定高さに盛り上がらせるよう金メツキを施して
バンプを形成する(第2図(e))。最後に金属シート
51をエツチング除去して、金55が導電部材を、また
感光性樹脂52が保持体を夫々構成する電気的接続部材
31を製造する(第2図(f))。
示す模式的断面図であり、まず基体となる金属シート5
1を用意しく第2図(al)、この金属シート51上に
スピンナにより感光性樹脂52を塗布し、プリベイクを
行う(第2図(b))。所定パターンをなすフォトマス
ク(図示せず)を介して光を感光性樹脂52に照射し、
露光し、現像を行う、(第2図(C))。これによって
露光された部分には感光性樹脂52が残存し、露光され
ない部分は現像処理により感光性樹脂52が除去され、
底部に金属シート51の表面が露出する穴53が形成さ
れる。温度を上げて感光性樹脂52の硬化を行った後、
これらをエツチング液中に浸漬させて穴53内に露出す
る金属シート51の表面をエツチングし、ここに凹部5
4を形成する(第2図(d))。次いで穴53.凹部5
4内に金55が充填され、且つこれを感光性樹脂52の
表面に所定高さに盛り上がらせるよう金メツキを施して
バンプを形成する(第2図(e))。最後に金属シート
51をエツチング除去して、金55が導電部材を、また
感光性樹脂52が保持体を夫々構成する電気的接続部材
31を製造する(第2図(f))。
なお電気的接続部材31における各部分の寸法は、感光
性樹脂52の厚さがv’−JIOμm、穴53(導電部
材の柱状部)の直径が約20μm、ピンチが約40μm
、導電部材の突出量が表裏とも数μm程度である。
性樹脂52の厚さがv’−JIOμm、穴53(導電部
材の柱状部)の直径が約20μm、ピンチが約40μm
、導電部材の突出量が表裏とも数μm程度である。
第3図は、このような電気的接続部材を用いた電気回路
部品間の電気的接続を示す模式図であり、図中31は電
気的接続部材、32.33は接続すべき電気回路部品を
示す。電気的接続部材31は、金属または合金からなる
複数の導電部材34同士を、電気的に絶縁して電気的絶
縁材料からなる保持体35中に設けられており、導電部
材34の一端38が露出する側に対向させて一方の電気
回路部品32を、また導電部材34の他端39が露出す
る側に対向させて他方の電気回路部品33を臨ませる(
第3図(a))。そして、一方の電気回路部品32の接
続部36と導電部材34の一端3日とを合金化し、他方
の電気回路部品33の接続部37と導電部材34の他端
39とを合金化することにより夫々両者を接続する(第
3図化))。
部品間の電気的接続を示す模式図であり、図中31は電
気的接続部材、32.33は接続すべき電気回路部品を
示す。電気的接続部材31は、金属または合金からなる
複数の導電部材34同士を、電気的に絶縁して電気的絶
縁材料からなる保持体35中に設けられており、導電部
材34の一端38が露出する側に対向させて一方の電気
回路部品32を、また導電部材34の他端39が露出す
る側に対向させて他方の電気回路部品33を臨ませる(
第3図(a))。そして、一方の電気回路部品32の接
続部36と導電部材34の一端3日とを合金化し、他方
の電気回路部品33の接続部37と導電部材34の他端
39とを合金化することにより夫々両者を接続する(第
3図化))。
ところでこのような従来の製造方法にあっては感光性樹
脂52を露光し、現像して底部に金属シート51の表面
が露出する穴53を形成するが、第4図に示す如く感光
性樹脂52の穴53内底部に樹脂状残渣56が存在した
ままとなることがある。これは穴53内で現像液の滞留
が生じ底部での現像がされにくくなったり、また感光性
樹脂52と金属シート51との間の密着力が大きいため
現像がされにくくなったり、またそれらが複合される場
合がある。樹脂状残渣56の発生は、穴53のアスペク
ト比(膜厚/開口径)が大であったり、露光、現像条件
が適切でなかったり、回折光及び/又は反射光が露光さ
れるべきでない感光性樹脂部分を照射したりすると顕著
となる。このような樹脂状残渣の存在は穴53の底部に
おける金属シート51表面の露出を妨げ、金属シート5
1表面のエツチング過程で凹部54の形状にバラツキを
生しさせ(第4図(b))、第4図(C)に示す如くハ
ンプ形状が一定しないという難点があった。
脂52を露光し、現像して底部に金属シート51の表面
が露出する穴53を形成するが、第4図に示す如く感光
性樹脂52の穴53内底部に樹脂状残渣56が存在した
ままとなることがある。これは穴53内で現像液の滞留
が生じ底部での現像がされにくくなったり、また感光性
樹脂52と金属シート51との間の密着力が大きいため
現像がされにくくなったり、またそれらが複合される場
合がある。樹脂状残渣56の発生は、穴53のアスペク
ト比(膜厚/開口径)が大であったり、露光、現像条件
が適切でなかったり、回折光及び/又は反射光が露光さ
れるべきでない感光性樹脂部分を照射したりすると顕著
となる。このような樹脂状残渣の存在は穴53の底部に
おける金属シート51表面の露出を妨げ、金属シート5
1表面のエツチング過程で凹部54の形状にバラツキを
生しさせ(第4図(b))、第4図(C)に示す如くハ
ンプ形状が一定しないという難点があった。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、穴内
における樹脂状残渣を効果的に除去し、基体に形成すべ
き凹部形状を均一化し、バンプ形状のバラツキを解消し
て特性の安定化、歩留りの向上を図れるようにした電気
的接続部材の製造方法を提供することを目的とする。
における樹脂状残渣を効果的に除去し、基体に形成すべ
き凹部形状を均一化し、バンプ形状のバラツキを解消し
て特性の安定化、歩留りの向上を図れるようにした電気
的接続部材の製造方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る電気的接続部材の製造方法は、電気的絶縁
材からなる保持体と、該保持体中に互いに絶縁状態に備
えられた複数の導電部材とを有し、前記各導電部材の一
端は前記保持体の一方の面に露出し、前記各導電部材の
他端は前記保持体の他方の面に露出している電気的接続
部材を製造する方法において、前記保持体となる感光性
樹脂を基体上に設ける工程と、前記感光性樹脂を露光し
、現像して複数の穴を形成する工程と、前記穴内におけ
る残渣と基体との接触面積を縮小するよう基体をエツチ
ングする工程と、前記残渣をエツチング除去し、前記基
体を露出させる工程と、露出された前記基体の一部をエ
ツチング除去する工程と、形成された穴に前記導電部材
となる導電材料を充填する工程と、残存する前記基体を
除去する工程とを含むことを特徴とする。
材からなる保持体と、該保持体中に互いに絶縁状態に備
えられた複数の導電部材とを有し、前記各導電部材の一
端は前記保持体の一方の面に露出し、前記各導電部材の
他端は前記保持体の他方の面に露出している電気的接続
部材を製造する方法において、前記保持体となる感光性
樹脂を基体上に設ける工程と、前記感光性樹脂を露光し
、現像して複数の穴を形成する工程と、前記穴内におけ
る残渣と基体との接触面積を縮小するよう基体をエツチ
ングする工程と、前記残渣をエツチング除去し、前記基
体を露出させる工程と、露出された前記基体の一部をエ
ツチング除去する工程と、形成された穴に前記導電部材
となる導電材料を充填する工程と、残存する前記基体を
除去する工程とを含むことを特徴とする。
本発明の電気的接続部材の製造方法にあっては、穴内に
おける残渣と基体との接触面積が低減され、残渣の分離
除去が容易となる。
おける残渣と基体との接触面積が低減され、残渣の分離
除去が容易となる。
[実施例]
以下、本発明をその実施例を示す図面に基づいて具体的
に説明する。
に説明する。
第1図は本発明の一実施例の製造工程を示す模式的断面
図である。まず、基体たる銅板lを用意しく第1図(a
))、銅板1上に接着補助剤を、例えばスピンナにより
塗布した後、ネガ型の感光性樹脂たるポリイミド樹脂2
を同じくスピンナにより塗布し、ブリベイクを行う (
第1図(b))。ポリイミド樹脂2の膜厚は必要に応し
て設定される。
図である。まず、基体たる銅板lを用意しく第1図(a
))、銅板1上に接着補助剤を、例えばスピンナにより
塗布した後、ネガ型の感光性樹脂たるポリイミド樹脂2
を同じくスピンナにより塗布し、ブリベイクを行う (
第1図(b))。ポリイミド樹脂2の膜厚は必要に応し
て設定される。
次いでポリイミド樹脂2上にバターニングしたフォトマ
スク(図示せず)を介して光をポリイミド樹脂2に照射
して露光し、現像を行う。これによって露光された部分
にはポリイミド樹脂2が残存し、露光されない部分は現
像処理によりポリイミド樹脂2が除去されて底部に銅板
1の表面が露出する直径5〜20μm程度の穴3が形成
される(第1図(C))。この穴3の底部には正常な場
合には穴3の形状と路間し形状で銅板1の表面が露出す
るが、既述した如く穴3内に残渣56が存在するため少
なくとも銅板1の表面に液体が入る程度に間隙を有す残
渣で被覆されている。
スク(図示せず)を介して光をポリイミド樹脂2に照射
して露光し、現像を行う。これによって露光された部分
にはポリイミド樹脂2が残存し、露光されない部分は現
像処理によりポリイミド樹脂2が除去されて底部に銅板
1の表面が露出する直径5〜20μm程度の穴3が形成
される(第1図(C))。この穴3の底部には正常な場
合には穴3の形状と路間し形状で銅板1の表面が露出す
るが、既述した如く穴3内に残渣56が存在するため少
なくとも銅板1の表面に液体が入る程度に間隙を有す残
渣で被覆されている。
温度を上げてポリイミド樹脂2の硬化を行った後、銅板
1をポリイミド樹脂2に対するよりも銅に対するエツチ
ングレートの高いエツチング液中に浸漬させて残渣56
と銅板1との接触面積が減少する程度に残渣によって被
覆されている銅板1の表面に対し軽度のエツチングを施
す(第1図(d))。
1をポリイミド樹脂2に対するよりも銅に対するエツチ
ングレートの高いエツチング液中に浸漬させて残渣56
と銅板1との接触面積が減少する程度に残渣によって被
覆されている銅板1の表面に対し軽度のエツチングを施
す(第1図(d))。
これによって残渣と銅板1の表面との接触面積が減少せ
しめられることとなる。なおこのエツチング過程では銅
板1又はエツチング液自体に超音波(20KHz −1
0MHz)を伝播させてもよい。
しめられることとなる。なおこのエツチング過程では銅
板1又はエツチング液自体に超音波(20KHz −1
0MHz)を伝播させてもよい。
次に樹脂状残渣のみに対するエツチング機能を有するか
、又は基板に対するエツチングレートに比較してポリイ
ミド樹脂に対するエツチングレートが極めて大きいエツ
チング液中に銅板1を浸漬し、樹脂状残渣をエツチング
除去する(第工図(e))。
、又は基板に対するエツチングレートに比較してポリイ
ミド樹脂に対するエツチングレートが極めて大きいエツ
チング液中に銅板1を浸漬し、樹脂状残渣をエツチング
除去する(第工図(e))。
なおこのエツチング過程では銅板1又はエツチング液に
超音波を伝播させて機械的な振動を付与することとして
もよい。
超音波を伝播させて機械的な振動を付与することとして
もよい。
このときの液体の温度、濃度1組成等の条件は必要に応
して設定すればよい。
して設定すればよい。
その後、銅板lを銅のみをエツチングし、又はポリイミ
ド樹脂2に対するよりも銅に対するエツチングレートの
高いエツチング液中に浸漬させて、穴3内に露出させた
銅板lの一部をエツチング除去し、銅板1に凹部4を形
成する(第1図(f))。
ド樹脂2に対するよりも銅に対するエツチングレートの
高いエツチング液中に浸漬させて、穴3内に露出させた
銅板lの一部をエツチング除去し、銅板1に凹部4を形
成する(第1図(f))。
銅板lを共通電極とする金メツキにより、穴3゜凹部4
に金5を充填すると共に、充填高さが20μm程度にな
るまでポリイミド樹脂2の表面に金5を盛り上げるよう
金メツキを続ける(第1図(g))。
に金5を充填すると共に、充填高さが20μm程度にな
るまでポリイミド樹脂2の表面に金5を盛り上げるよう
金メツキを続ける(第1図(g))。
なおメツキ法に代えてCVD法等を用いてもよい。
最後に、銅はエツチングするが金及びポリイミド樹脂2
はエツチングしないエツチング液を用いたエツチングに
より銅板lを除去して、第1図(h)に示す如く導電部
材が金5、保持体がポリイミド樹脂2で構成される電気
的接続部材31を製造する。
はエツチングしないエツチング液を用いたエツチングに
より銅板lを除去して、第1図(h)に示す如く導電部
材が金5、保持体がポリイミド樹脂2で構成される電気
的接続部材31を製造する。
上記した実施例では基体として銅板1を用いたが、これ
に限らず、Au、 Ag+ Be、 Ca、 Mg+
Mo、 Ni。
に限らず、Au、 Ag+ Be、 Ca、 Mg+
Mo、 Ni。
W、 Fe、 Ti、 In、 Ta、 Zn、 AI
、 Sn、 Pb−5n等の金属、又は合金のFliを
用いてもよい。但し、最終工程において基体のみを選択
的にエツチング除去するので、導電部材34の材料と基
体に用いる材料とは異ならせておく必要がある。
、 Sn、 Pb−5n等の金属、又は合金のFliを
用いてもよい。但し、最終工程において基体のみを選択
的にエツチング除去するので、導電部材34の材料と基
体に用いる材料とは異ならせておく必要がある。
また本実施例では感光性樹脂としてポリイミド樹脂2を
用いたが、感光性樹脂であれば特にこれにのみ限定する
ものではない。また感光性樹脂中に、粉体、Ta維、板
状体、棒状体5球状体等の所望の形状をなした、無機材
料、金属材料9合金材料の一種または複数種を分散して
含有せしめてもよい。含有される金属材料1合金材料と
して具体的には、Au、^g+ Cu、 AI+ Be
、Ca、 MglMo、 Fe。
用いたが、感光性樹脂であれば特にこれにのみ限定する
ものではない。また感光性樹脂中に、粉体、Ta維、板
状体、棒状体5球状体等の所望の形状をなした、無機材
料、金属材料9合金材料の一種または複数種を分散して
含有せしめてもよい。含有される金属材料1合金材料と
して具体的には、Au、^g+ Cu、 AI+ Be
、Ca、 MglMo、 Fe。
Nt、 Co、 Mn、 w、 (r、 Nb+ Zr
、 Ti+ Ta、Zn、 Sn+Pb−5n等があげ
られ、含有される無機材料として、5iOz+ B2O
3+ AlzO:++Na2O,KZO,Cab、 Z
nO,BaOPbO,5bzOs、 A3zOz+La
zO:++ Zr0z+ P2O5+ Ti0z。
、 Ti+ Ta、Zn、 Sn+Pb−5n等があげ
られ、含有される無機材料として、5iOz+ B2O
3+ AlzO:++Na2O,KZO,Cab、 Z
nO,BaOPbO,5bzOs、 A3zOz+La
zO:++ Zr0z+ P2O5+ Ti0z。
MgO,SiC,Bed、 BP、 BN+ AIN、
Lc、 TaC,TiBz。
Lc、 TaC,TiBz。
CrBz、 TiN、 Si3N、、Ta205等のセ
ラミック、ダイヤモンド、ガラス、カーボン、ボロン等
があげられる。
ラミック、ダイヤモンド、ガラス、カーボン、ボロン等
があげられる。
更に導電部材34の材料として金を使用したが、これに
代えてCu、^g+ Be、 Ca、 Mg、 Mo、
Ni+ WFe、 Ti、 In、 Ta+ Zn、
Al、 Sn、 Pb−5n等の金属単体またはこれ
らの合金を用いてもよい。なお導電部材34の断面形状
は、円形、四角形その他の形状とすることができるが、
応力の過度の集中を避けるためには角がない形状が望ま
しい。
代えてCu、^g+ Be、 Ca、 Mg、 Mo、
Ni+ WFe、 Ti、 In、 Ta+ Zn、
Al、 Sn、 Pb−5n等の金属単体またはこれ
らの合金を用いてもよい。なお導電部材34の断面形状
は、円形、四角形その他の形状とすることができるが、
応力の過度の集中を避けるためには角がない形状が望ま
しい。
また、導電部材34は保持体35中に垂直に配する必要
はなく、保持体35の一方の面側から保持体35の他方
の面倒に斜行していてもよい。
はなく、保持体35の一方の面側から保持体35の他方
の面倒に斜行していてもよい。
以上の如く、本発明の製造方法では穴内における残渣を
効果的に除去し得、穴内における基体表面の露出形状を
均一化出来て基体に形成する凹部形状、ひいては導電部
材形状の均一化が図れ、特性の安定化、製造歩留りの向
上に優れた効果を奏するものである。
効果的に除去し得、穴内における基体表面の露出形状を
均一化出来て基体に形成する凹部形状、ひいては導電部
材形状の均一化が図れ、特性の安定化、製造歩留りの向
上に優れた効果を奏するものである。
第1図は本発明に係る製造方法の主要工程を示す模式的
断面図、第2図は従来の製造方法の主要工程を示す模式
的断面図、第3図は電気的接続部材の使用例を示す模式
図、第4図は従来の製造方法の不都合を示す模式的断面
図である。
断面図、第2図は従来の製造方法の主要工程を示す模式
的断面図、第3図は電気的接続部材の使用例を示す模式
図、第4図は従来の製造方法の不都合を示す模式的断面
図である。
Claims (1)
- 1.電気的絶縁材からなる保持体と、該保持体中に互い
に絶縁状態に備えられた複数の導電部材とを有し、前記
各導電部材の一端は前記保持体の一方の面に露出し、前
記各導電部材の他端は前記保持体の他方の面に露出して
いる電気的接続部材を製造する方法において、前記保持
体となる感光性樹脂を基体上に設 ける工程と、 前記感光性樹脂を露光し、現像して複数の 穴を形成する工程と、 前記穴内における残渣と基体との接触面積 を縮小するよう基体をエッチングする工程と、前記残渣
をエッチング除去し、前記基体を 露出させる工程と、 露出された前記基体の一部をエッチング除 去する工程と、 形成された穴に前記導電部材となる導電材 料を充填する工程と、 残存する前記基体を除去する工程と を含むことを特徴とする電気的接続部材の 製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6781990A JPH03269975A (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | 電気的接続部材の製造方法 |
US07/630,881 US5145552A (en) | 1989-12-21 | 1990-12-20 | Process for preparing electrical connecting member |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6781990A JPH03269975A (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | 電気的接続部材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03269975A true JPH03269975A (ja) | 1991-12-02 |
Family
ID=13355935
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6781990A Pending JPH03269975A (ja) | 1989-12-21 | 1990-03-16 | 電気的接続部材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03269975A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06209155A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-07-26 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 電子部品の異方性導電部材による接続方法 |
US6453553B1 (en) * | 1997-07-22 | 2002-09-24 | Commissariat A L'energie Atomique | Method for making an anisotropic conductive coating with conductive inserts |
-
1990
- 1990-03-16 JP JP6781990A patent/JPH03269975A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06209155A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-07-26 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 電子部品の異方性導電部材による接続方法 |
US6453553B1 (en) * | 1997-07-22 | 2002-09-24 | Commissariat A L'energie Atomique | Method for making an anisotropic conductive coating with conductive inserts |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5174766A (en) | Electrical connecting member and electric circuit member | |
US5600884A (en) | Method of manufacturing electrical connecting member | |
JPH03269975A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP2909640B2 (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPH03269971A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP2909639B2 (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPH03201379A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP2895569B2 (ja) | 電気的接続部材および電気回路部材 | |
JP2796872B2 (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPH03269973A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP2516440B2 (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPH04298978A (ja) | 電気的接続部材及びその製造方法 | |
JP3038361B2 (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP2808164B2 (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPH03269972A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP2895570B2 (ja) | 電気的接続部材および電気回路部材 | |
JPH03291879A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPH03283378A (ja) | 電気的接続部材 | |
JP2909641B2 (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPH03194875A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPH04282578A (ja) | 電気的接続部材及びその製造方法 | |
JPH03269974A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP3136194B2 (ja) | リードフレームの製造方法 | |
JPH04269476A (ja) | 電気的接続部材 | |
JPH04196550A (ja) | 半導体装置 |