JPH03193622A - Zsm―5微粒子体の製造法 - Google Patents

Zsm―5微粒子体の製造法

Info

Publication number
JPH03193622A
JPH03193622A JP32837189A JP32837189A JPH03193622A JP H03193622 A JPH03193622 A JP H03193622A JP 32837189 A JP32837189 A JP 32837189A JP 32837189 A JP32837189 A JP 32837189A JP H03193622 A JPH03193622 A JP H03193622A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slurry
zsm
hours
source
fine particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP32837189A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2844098B2 (ja
Inventor
Hiroshi Ishida
浩 石田
Koji Nakagawa
幸治 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP1328371A priority Critical patent/JP2844098B2/ja
Publication of JPH03193622A publication Critical patent/JPH03193622A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2844098B2 publication Critical patent/JP2844098B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B39/00Compounds having molecular sieve and base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites; Their preparation; After-treatment, e.g. ion-exchange or dealumination
    • C01B39/02Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof; Direct preparation thereof; Preparation thereof starting from a reaction mixture containing a crystalline zeolite of another type, or from preformed reactants; After-treatment thereof
    • C01B39/36Pentasil type, e.g. types ZSM-5, ZSM-8 or ZSM-11
    • C01B39/38Type ZSM-5

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、吸着剤、触媒として有用な23M5型ゼオラ
イトの改良された製造法に関するものである。
(従来の技術) ZSM−5は、モーピルオイル社によって開発された合
成ゼオライトであり(特公昭46−10064号公報)
、当初は、シリカ、アルミナ、アルカリ金属、テトラプ
ロピルアンモニウム塩、及び水からなる原料混合物から
結晶化させることによって合成されていた。その後、高
価なテトラプロピルアンモニウム塩の代わりに、安価な
アルコール(特開昭52−43800号公報)、低級ア
ルキル尿素(特開昭61−68319号公報)、アミノ
アルコール(特開昭57−7818号公報)等を用いる
方法が提案されている。
さらに、高価な有機鉱化剤の使用量を減らすために種結
晶を使用する方法(特開昭56−37215号公報)や
、有機鉱化剤の代わりに種結晶を使用する方法(特開昭
57−7819号公報)、種結晶を用いる連続的な製法
(特開昭60−71519号公報、特開昭6(1−77
123号公報)等が提案されている。
しかしながら、これらの方法は高価な有機鉱化剤の使用
量を減らすことが目的であり、微粒子状のZSM−5を
得ることは困難であった。
一方、微粒子のZSM−5を製造する方法としては、結
晶化の際に強撹拌をする方法(特開昭56−54222
号公報)、結晶化前に90〜110°Cの温度に数日間
保って熟成する方法(特開昭50−5335号公報)が
提案されているが、工程が煩雑であり再現性が得られ難
いという問題があった。さらに、特開昭61−5881
2号公報には、有機カチオンを含まない原料混合物を結
晶化させることによって得られたある特定のX線回折パ
ターンを有する結晶性アルミノシリケート粉末を種結晶
として用いる微粒子のZSM−5の製造法が提案されて
いるが、種結晶として粉末を分離する等の工程の煩雑さ
があった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明の目的は、先に述べた種々の問題点を解決して、
微粒子状のZSM−5を製造する方法を提供することに
ある。
(課題を解決するための手段) 本発明者らは、シリカ源、アルミナ源、アルカリ金属源
、水を含む原料混合物を水熱合成条件下に結晶化させる
際に、種スラリーとして、スラリー中の固形物の乾燥後
のX線回折パターンがZSM−5であり、窒素吸着BE
T表面積が100〜250rrf/gである結晶化途中
である水熱合成スラリーを、全体の10〜40重量%結
晶化前に加えることによって微粒子体のZSM−5が得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の目的とするのは、ZSM−5の微粒子体の製造
である。
ここで言う微粒子体とは、走査型電子顕微鏡で見た一次
粒子の粒径が1μm以下、好ましくは0゜5μm以下、
さらに好ましくは、0.1μm以下のものを言う。これ
ら−次粒子の形状は種々のものがあるが、ここで言う粒
径とは、その最も巾の狭いところの径を示している。こ
れらの−次粒子は、単独で存在しても、二次凝集してい
ても構わない。ただし、ここで言う微粒子体とは、上記
の粒径を持つ粒子が少なくとも全体の50重量%以上あ
るものを言う。さらに、粒子によっては、大きな粒子の
表面に凹凸があるのか、−次粒子が凝集しているのかが
、走査型電子顕微鏡写真からは判断できない場合もある
。この場合、微粒子体とは、H型にした場合の全酸点に
対する外表面酸点の割合が0.03以上、好ましくは0
.05以上、さらに好ましくは、0.1以上のものを指
す。
この全酸点に対する外表面酸点の割合を測定する方法は
、以下の方法による。
〔酸点測定法〕
まず、酸点を測定する前に、本発明で得られたZSM−
5をH型にする必要がある。ゼオライトを■]型にする
方法は、合成系に有機物を用いるかあるいは用いないか
、又有機物を用いる場合も有機物の種類によって種々の
方法があるが、ここでは、以下の方法によってH型とす
る。
本発明の方法で得られたスラリーを濾過した後に5倍量
の水で水洗する。合成系で有機物を用いる場合は、得ら
れたケークを120 ”Cで8時間乾燥した後、500
°Cで6時間空気流通下に焼成を行い有機物を除去した
後、1規定の硝酸中に加えて10重量%スラリーとして
、60°Cで4時間イオン交換を行い、そのスラリーを
濾過し、さらに5倍量の水で水洗した後、120°Cで
10時間乾燥して、H型のZSM−5とする。
また、合成系で有機物を用いない場合は、濾過水洗して
得られたケークを直接INの硝酸に加え、以下上記と同
じ方法でH型とする。
このようにして得られたH型のZSM−5の酸点を以下
の方法で測定する。
(参考文献;触媒、vol、25.p461(1983
)) 酸点の測定装置としては、島津製作所製ガスクロマトグ
ラフGC−7Aおよびデータ処理装置CR−IAを用い
た。すなわち、内径4mm、全長80mmのSUS製短
カラムへ試料(0,2〜1g)を充填し、前記ガスクロ
マトグラフ装置の恒温槽内の試料側流路へ取り付ける。
キャリヤガスとしてヘリウムガスを50d/分の流速で
流し、同時に恒温槽内の温度を325 ”Cに設定する
次に、アミン(ピリジン、4−メチルキノリン)の一定
1t(0,2〜2mjりをマイクロシリンジを用いて、
試料側流路の注入口へ一定期間(2〜5分)をおいて断
続的に注入し続ける。
一方、充填カラムを通ったキャリヤガスは、FID型検
出器を用いて分析し、周期的にピークが現れる経時的な
アミン濃度変化のクロマトグラムを得る。注入回数の増
加と共に試料に対するアミン吸着量が飽和に近づき、そ
れに伴って注入で非吸着アミン量が増加する。従って、
前記クロマトグラムにおいて、アミンの第2回の注入に
対応するピーク面積Siは次第に注入したアミンの量に
対応した面積Soに近づく。
試料単位重量当たりのアミン吸着I A O<μl1l
oI/g)は、次式によって求めることができる。
(W(g)は、試料重量、d+  (μmo+)は、ア
ミンの1回の注入量を表す、) 本発明においては、Si/S、≧0.98となるような
第0回の注入までくり返し注入を行い、次式によりアミ
ン吸着量A(μmol/g)を算出した。
W  i=I      S。
本発明における全酸点とは、アミンとしてピリジンを用
いて測定した場合のピリジン吸着量で表し、外表面酸点
とは、アミンとして4−メチルキノリンを用いて測定し
た場合の4−メチルキノリン吸着量で表される。
本発明中の種スラリーとは、ZSM−5の結晶化を促進
し、且つ微粒子体を生成させる目的で原料に加えられる
スラリーである。
ここで言うスラリーとは、濾過分離して得られる含水ケ
ークを、120 ’Cで8時間乾燥した後の乾燥物の重
量から求められるスラリー濃度が1〜50重量%のもの
を言う。
本発明で用いられる種スラリーとは結晶化途中の水熱合
成スラリーである。さらに詳しく説明すると、スラリー
中の固形物の乾燥後のX線回折パターンがZSM−5で
あり、窒素吸着BET表面積が100〜250nf/g
である水熱合成スラリーである。
ここで言うスラリー中の固形物とは、水熱合成スラリー
を20〜50°Cの範囲で濾過分離して得られる含水ケ
ークを指す。そして、この含水ケークを120°Cで8
時間乾燥した後のX線回折パターンは、実質的にZSM
−5だけの回折ピークを含み、他のモルデナイトや石英
等のピークを含まない。
さらに、この固形物を乾燥したものの窒素吸着BET表
面積は100〜250rrr/gであり、好ましくは1
10〜220rrr/g、さらに好ましくは120〜2
00イ/gの範囲である。
ここで言うBET表面積とは、ブルナウアーエメット、
テラーの方法(JAC3Jdl、309(193B))
によって導かれた多分子層吸着等温式から求められる表
面積である。この方法は、多孔性物質の表面積の測定法
として最も一般的な方法である。
この窒素吸着BET表面積が上記の範囲にあるとなぜ微
粒子体が生成するのかは分からないが、BET表面積が
100rW/g以下で、X線回折的にも殆ど非晶質であ
る場合は、結晶化速度が極めて遅く、生成する粒子も不
均一となり好ましくない。また、BET表面積が250
rrr/g以上の場合は、生成する粒子が数μmから数
十μmと大きくなり、先に述べた全酸点に対する表面酸
点の割合も0.03未満となり好ましくない。特に、従
来、種結晶として用いられて来た殆ど結晶化した製品は
生成する粒子が大きくなるので本発明においては用いる
ことはできない。
さらに、本発明の種スラリー中の固形物は、単なる非晶
質と高結晶性結晶の混合物とは、形態的にも効果の点で
も異なる。
第1図は、本発明に用いられる種スラリー中の固形物の
乾燥後の走査型電子顕微鏡写真の一例であるが、図から
明らかなように、全体が均質−様な低結晶性物質であり
、表面が滑らかで、丸みのある物質である。
一方、第2図は、結晶化前の非晶質に高結晶性の結晶を
混合した物の乾燥後の走査型電子顕微鏡写真の一例であ
るが、この図から不均一な単なる非晶質と結晶の混合物
であり、結晶の表面を粒状のゲルが覆っていることが分
かる。そして、このような非晶質と結晶の混合物を種ス
ラリーとして用いると、ゼオライトの生成速度が極めて
遅(て生成する粒子が不均一となり、効果の点でも太き
(異なる。
すなわち、本発明の種スラリーは、結晶化途中段階の全
体が均質・−様な水熱合成スラリーであることが必須で
ある。
さらに、本発明の種スラリーは、スラリー中の固形物だ
けでなく、溶液中の溶解成分も重要な役割を果たしてい
ることが本発明者らの検討により明らかになった。ここ
で言う溶液中の溶解成分とは、先に述べた20〜50℃
でスラリーを濾過分離した際の濾液中の成分を指すが、
驚くべきことに、固形物を除いた濾液だけでも微粒子化
に効果を有することが判明した。
おそらく、溶液中にZSM−5の前駆体的な核が含まれ
ているためと考えられるが、さらに驚くべきことには、
?容液中のSiO□の濃度が0.5〜5重景重量ある時
に、特に本発明の効果が顕著に現れ、さらに濃度が1〜
3重量%の範囲にある時が好ましいことが判明した。
以上のごと(、本発明の種スラリーは、従来の種結晶と
は明らかに効果の点で異なると考えられ本発明に用いら
れる種スラリーは、結晶化前に、原料混合物全体の10
〜40重景%反重量に加えられる。ただし、ここで言う
原料混合物とは種スラリーも含むすべての原料混合物を
指す。
この種のスラリーの添加量は、10重量%以下では微粒
化の効果が小さく、また、40重量%以上では、生産性
が低くなり好ましくない。この添加量の好ましい範囲は
、15〜37重景%、重量に好ましくは20〜35重量
%である。
このような結晶化途中の水熱合成スラリーを得る方法と
しては、種々の方法が考えられる。例えば、従来から知
られていたZSM−5の合成方法を用いて結晶化を途中
で止める方法や、本発明の方法で微粒子のZSM−5を
合成する途中で結晶化を止める方法等が挙げられる。こ
の場合に、種スラリーの組成は上記物性を満足していれ
ば特に制限はないが、再現性よく連続的にZSM−5の
微粒子体を造るという点では、種スラリーの組成とそれ
を加えた原料混合物の組成が殆ど同じであることが好ま
しい。その点で、本発明の方法で微粒子のZSM−5を
合成する途中で結晶化を止める方法が好ましい。
本発明中の原料混合物は有機物を含んでいても含んでい
なくても構わない。有機物を含む場合には、有機物とし
ては、従来ZSM−5の合成に用いられているものであ
れば特に制限はないが、例えば、テトラプロピルアンモ
ニウム塩等の四級アンモニウム塩:へキサメチレンジア
ミン等のジアミン:エタノール、エチレングリコール等
のアルコール類;低級アルキル尿素、低級アルキルチオ
尿素等が挙げられる。これらの中で好ましいのは、低級
アルキル尿素及び低級アルキルチオ尿素であり、さらに
好ましいのは、低級アルキル尿素である。
一般に種スラリーを用いずに、ZSM−5を合成する場
合に、有機物を用いない場合に比べて、上記のような有
機物を用いる方が、粒子径を小さくし易いことが知られ
ている。その点で、本発明の種スラリーの微粒子化の効
果は、有機物を用いない系でより顕著に現れる。通常、
有機物を用いない系で、種スラリーを用いないでZSM
−5を合成した場合、1μm以下の微粒子体を得ること
はきわめて困難であるが、本発明の方法を用いると1μ
m以下、さらに0.1μm以下の微粒子体を得ることが
可能となる。
本発明における原料混合物のSiO□/AI□03モル
比は、ZSM−5が生成する範囲であれば特に制限はな
いが、通常20〜500、好ましくは20〜100、さ
らに好ましくは25〜40の範囲である。
本発明に用いられるシリカ源は、通常ゼオライトの製造
に用いられるものであれば特に制限はないが、例えば、
ケイ酸ナトリウム水溶液、シリカゾル、シリカゲル、有
機ケイ酸エステル等があげられる。中でも好ましいのは
、ケイ酸ナトリウム水?容ン夜である。
本発明に用いられるアルミナ源は、通常ゼオライトの製
造に用いられるものであれば特に制限はないが、例えば
、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム等の塩、アルミ
ン酸ナトリウム、アルミナ粉末等が挙げられる。中でも
好ましいのは、硫酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウ
ムであり、さらに好ましいのは硫酸アルミニウムである
本発明に用いられるアルカリ金属源は、通常ゼオライト
の製造に用いられるものであれば特に制限はないが、例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ
金属水酸化物、塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム、硝酸
ナトリウム等のアルカリ金属塩等が挙げられる。中でも
好ましいのは水酸化ナトリウムである。
本発明中の水の量は、ZSM−5が生成する範囲であれ
ば特に制限はないが、あまり少ないと原料混合物がゲル
化した際に粘度が高くなり過ぎて好ましくなく、また、
あまり多いと生産性が低下するので好ましくない。通常
、水の量は、結晶化終了後のスラリー濃度で2〜15重
景%重量ましくは3〜10重量%、さらに好ましくは3
〜8重量%になるような量である。
本発明の原料混合物は、ZSM−5が生成するようにP
Htll整がなされる。このPHは、通常、10〜12
の範囲であり、好ましくは10.5〜12の範囲である
。PH副調整行う場合に、必要に応して硫酸、硝酸、塩
酸等の酸が加えられる。
これらの酸の量は、上記PHの範囲に入るように原料混
合物中のアルカリの量との兼ね合いで決められる。
本発明中の最も好ましい原料混合物の組合せは、シリカ
源として、ケイ酸ナトリウム水溶液、アルミナ源として
硫酸アルミニウム、アルカリ金属源として水酸化ナトリ
ウム、P I−1調整剤として硫酸を用いる場合である
。この場合の原料混合物中の各成分のモル比は、以下の
範囲が好ましい。
1SiO・/Al・0・″″叱=20〜50さらに好ま
しい範囲は、以下の範囲である。
Is ! 02/A ]203モル比=25〜40本発
明における水熱合成温度は、一般に23M5を合成する
温度であれば特に制限はないが、通常、100〜200
°C1好ましくは120〜180°臥さらに好ましくは
130〜170°Cの範囲である。
本発明を実施するに当たり、原料混合物は良く混合され
ねばならない。そのために、結晶化前に攪拌によって混
合することが好ましい。その際の攪拌の仕方には特に制
限はないが、好ましいのは単位体積当たりの攪拌動力が
0.1〜l0KW/ポの範囲であり、さらに好ましいの
は0.4〜3KW/ボの範囲である。
さらに、本発明における結晶化の際は、攪拌を行っても
、静置で行っても構わない。撹拌を行う場合の攪拌動力
は特に制限はないが、好ましいのは、単位体積当たりの
Pi!拌動力が0.1〜10KW/mの範囲であり、さ
らに好ましいのは、0゜4〜3KW/ボの範囲である。
本発明で得られるX5M−5の微粒子体は、各種吸着剤
や触媒として有用である。
特に微粒子であることの特徴は触媒として用いた場合の
触媒寿命の延長に効果を示す。そのような例としては、
炭化水素のアルキル化、不均化、環化、クラッキング、
異性化、又はハロゲン化、アミノ化、ニトロ化、水和、
脱水反応等が挙げられる。これらの反応においては、気
相、液相どちらにおいても触媒寿命の延長効果が期待で
きる。
また、微粒子である事の特徴は拡散が問題となる比較的
低温の液相反応において、特に活性の向上に効果がある
。その例としては、オレフィンの液相水和反応、酸とア
ルコールからのエステル化反応、エステルの加水分解反
応、ホルマリンを用いる縮合反応、ホルマリンからのト
リオキサン合成反応、フェノールとアセトンからのビス
フェノールAを合成する脱水縮合反応、アセタール化反
応等が挙げられる。これらの中でも、オレフィンの液相
水和反応において、本発明の微粒子化の効果は顕著に現
れる。さらに、オレフィンの中でも拡散が最も問題とな
るシクロヘキセン等の環状オレフィンの水和反応におい
て、本発明の微粒子化の効果は最も顕著に現れる。
(実施例) 次に、実施例を挙げて本発明を説明する。ただし、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1) (1)種スラリー合成 ケイ酸ナトリウム水溶液(SjOz:26重量%、Na
、Oニア、0重量%)8.0kgにNaOH0,05k
gと8.04kgを加えた溶液に、Alt(so−)3
・16H,OO’、61kgと1.3−ジメチル尿素0
.1kgをHtO15kgに溶かした溶液を撹拌しなが
ら加え、5M景%の硫酸10kgを加えて均質なゲルを
得た。このゲルを502のオートクレーブに仕込み、攪
拌動力0.5〜IKW/ボで撹拌しながら160°Cで
10時間合成反応を行った。
得られたスラリーの一部を30℃で濾過した後のケーク
を、120℃で8時間乾燥したもののX線回折図を第3
図に示す。この回折パターンは、実質的にZSM−5の
ピークのみからなることが判る。さらに、この物の窒素
吸着BET表面積は、150r4/gであった。また、
濾液中のSiO□の濃度をICP(プラズマ発光分析)
で測定したところ、1.5重量%であった。
(2)本合成 (])で得られた種スラリー12.6kgに、上記と同
じケイ酸ナトリウム5.3 とNaOH0,03kgと
H,02,67kgを加える。さらに、AIZ (SQ
、)!−16H,00,41kgと1.3−ジメチル尿
素0.06kgを8.010kgに溶かした溶液を、攪
拌しながら加え、5重量%の硫酸6.67kgを加え均
質なゲルを得た。このゲルを50ffiのオートクレー
ブに仕込み、攪拌動力0.5〜IKW/rrrで撹拌し
なから150 ”Cで30時間結晶化を行った。
得られたスラリーを濾過した後5倍量の水で洗浄した後
、120℃で8時間乾燥したもののX線回折図を第4図
に示す。この図からこの生成物がZSM−5であること
が分かる。
また、このものの走査型電子顕微鏡写真を第5図に示す
。図から明らかなように生成したZSM−5は板状であ
り、最も巾の狭い部分の厚さが0゜2μm以下の微粒子
体であることが分かる。
さらに、この乾燥物を500℃で6時間空気流通下に焼
成した後、1規定の硝酸中10重量%スラリーで60’
C,4時間イオン交換した後、濾過して5倍量の水で水
洗し、さらに120°Cで10時間乾燥した。この物の
酸点を先に述べたアミン吸着法で測定した結果、全酸点
に対する外表面酸点の割合は0.15であった。
(実施例2) (1)種スラリー合成 ケイ酸ナトリウム水溶液(JIS規格3号水ガラス)7
2gをHz035gと混合した(A液)。
A l t (S 04)3・16H,05,2gと硫
酸1゜2gをH,020gに熔解した(B液)。1,3
ジエチル尿素11.4gをH2O40gに溶解した( 
C?& )。A液をホモジナイザーで攪拌しながらB液
とC液を加えよく混合して均質なゲルを得た。このゲル
を200ccのオートクレーブ中で11000rpで攪
拌しなから160°Cで10時間結晶化させた。
得られたスラリーを30°Cまで冷却して一部を濾過し
て、120°Cで8時間乾燥した。このもののX線回折
パターンを第6図に示す。この回折パターンは、ZSM
−5のみのピークであることが分かる。
さらに、この物の窒素吸着BET表面積は、200ポ/
gであった。
(2)本合成 (1)と同じ組成の原料ゲル500gに(1)の種スラ
リー150gを加え、11のオークレープ中50Orp
mで攪拌しなから145°Cで40時間結晶化させた。
得られたスラリーを濾過した後、5倍量の水で水洗した
後、120″Cで8時間乾燥したもののX線回折パター
ンを第7図に示す。この回折パターンにより、この生成
物は純粋なZSM−5であることが分かる。第8図にこ
の物の走査型電子顕微鏡写真を示す。このものが、0.
1μm程度の微粒子であることが分かる。
また、ケイ光X線分析より求めたS i Oz/ Al
2O、モル比は30であった。
(実施例3) (1)種スラリー合成 ケイ酸ナトリウム水溶液(S i Oz25.2重量%
、Naz07.35重量%)1.29gにNaOH0,
64g(!:H,0133gを加えた溶液に、A I 
z (S 0a)s・15H,09,7gと1,3ジメ
チル尿素0.2gをH,0230gに溶かした溶液を撹
拌しながら加え、さらに4.6重量%の硫酸140gを
加えて均質なゲルを得た。このゲルのPHは10.8で
あった。このゲルを1!オートクレーブに入れ、180
°C140時間攪拌しながら結晶化させた。
得られたスラリーを30°Cまで冷却して、一部を濾過
して120℃で8時間乾燥した。このもののX線回折パ
ターンは、ZSM−5と一致した。
また、窒素吸着BET表面積は、220ボ/gであった
(2)本合成 (1)と同じ組成のゲル400gに(1)で得られた種
スラリー250gを加えよく混合した後、12のオート
クレーブに入れ、160°Cで15時間結晶化させた。
得られたスラリーを濾過した後の5倍量の水で水洗した
後、120°Cで8時間乾燥したもののX線回折パター
ンはZSM−5と一致した。第9図に、このものの走査
型電子顕微鏡写真を示す。この図からは、粒径が1μm
程度の表面に凹凸のある粒子であることが分かる。
そこで、実施例1と同様の操作でこの生成物をH型とし
た後、アミン吸着法で全酸点に対する外表面酸点の割合
を測定したところ、その値は0゜15であった。このこ
とよりこの生成物は微粒子体であることが分かった。
(比較例1) 実施例3の(1)と同じ組成のゲル600gに、実施例
3の(1)で得られた種スラリー50gを加えて、よく
混合した後、1Nのオートクレーブに入れ、160 ’
Cで30時間結晶化させた。
得られたスラリーを濾過した後、5倍量の水で水洗した
後、120°Cで8時間乾燥したもののX線回折パター
ンはZSM−5と一致した。第10図にこのものの走査
型電子顕微鏡写真を示す。この図から明らかなように、
この生成物は1μm以上の大きな粒子であることが分か
る。これは、種スラリーの量が全体の7.7%と少ない
ためと考えられる。
(実施例4) (1)  種スラリー合成 ケイ酸ナトリウム水溶液(SjOz26重量%、Naz
O7,0重量%)10kgとH,012゜4kgを加え
た溶液に、Aj!z (SO4) x  ・16H,O
Q、75kgと1.3−ジメチル尿素 20gをH2O
17,9kgに溶かした溶液を撹拌しながら加え、4.
6重量%の硫酸13.2kgを加えて均質なゲルを得た
。このゲルを501のオートクレーブに仕込み、0.3
〜1.5KW/ボの攪拌動力で攪拌条件下180°Cで
15時間合成反応を行った。
得られたスラリーを、30 ’C,まで冷却して一部を
濾過して120°Cで8時間乾燥した。このもののX線
回折パターンはZSM−5と一致した。
また、このものの窒素吸着BET表面積は165rrf
/gであった。
(2)本合成 (1)で得られた種スラリー11.6kgに、(1)と
同じケイ酸ナトリウム水溶f1.5.6kgとhzo 
 6゜9kgを加え、50I!、オートクレーブで25
Orpm(攪拌動力0.5〜1.OKW/rd)で攪拌
しながら、AAz(SO4)z  ・16H,00゜3
kgと1.3−ジメチル尿素10gをH2O10kgに
溶かした溶液をポンプで供給し、さらに、4.6重量%
の硫酸7. 6kgを加えて均質なゲルとした後、15
5°Cで35時間結晶化させた。
得られたスラリーを濾過した後、5倍量の水で水洗して
120°Cで8時間乾燥した。このもののX線回折パタ
ーンはZSM−5と一致した。また、このものの走査型
電子顕微鏡写真を第11図に示す。図からこの生成物は
、1μm程度の表面に凹凸のある粒子であることが分か
る。
そこで、実施例1と同様の操作によりこの生成物をH型
にした後、アミン吸着法により全酸点に対する外表面酸
点の割合を測定したところ、0゜16であった。
(実施例5) (1)種スラリー合成 実施例4の(+)で得た種スラリー11.6kgに、ケ
イ酸ナトリウム水溶液(SiOz26重量%、Naz0
7重量%)5.7kgとH,022kgを加えて均質ス
ラリーとした後、H,OIokgにAlz(SO4)z
  ・16H,00,42kgを溶かした溶液を攪拌下
にポンプで供給し、さらに、H,06kgに硫酸0.2
6kgを溶かした溶液をポンプで供給した。得られたゲ
ルを、5ONのオートクレーブ中で170℃で8時間結
晶化させた。
得られたスラリーを、30℃まで冷却して一部を濾過し
て120°Cで8時間乾燥した。このもののX線回折図
を第12図に示す。
この回折パターンよりこのものがZSM−5であること
が分かる。また、このものの窒素吸着BET表面積は1
75rrr/gであった。さらに、濾液中のSiO□濃
度は1.3重量%であった。
(2)本合成 (1)で得られた種スラリー11.6kgに、ケイ酸ナ
トリウム水溶′ffL(S i Oz26重量%、Na
z07重量%)5.7kgとHtO22kgを加えて均
質なスラリーとした後、HzO10kgにAlz(So
n)i・16HzO0,42kgを溶かした溶液を攪拌
下にポンプで供給し、さらにH、06kgに硫酸0.2
6kgを溶かした溶液をポンプで供給した。得られたゲ
ルを502のオートクレーブ中で150°Cで24時間
、25Orpmの攪拌下に結晶化させた。得られたスラ
リーのスラリー濃度は6重量%であった。
得られたスラリーを濾過後、5倍量の水で水洗して、1
20℃で8時間乾燥した。このもののX線回折パターン
を第13図に示す。この回折図より生成物は、ZSM−
5と同定された。このものの走査型電子顕微鏡写真を第
14図に示す。この図から0.1μm程度の微粒子の凝
集体であることが分かる。
このもののケイ光X線分析で測定したS i O2/A
l□O3モル比は26であり、また、窒素吸着BET表
面積は、320ボ/gであった。
さらに、濾過水洗ケークをINの硫酸に加え、10重量
%スラリーで60°C14時間イオン交換した後、濾過
し、5倍量の水で水洗し、120°Cで10時間乾燥し
てH型とした。このもののアミン吸着によって求めた全
酸点に対する外表面酸点の割合は0.21であった。
(比較例2) 実施例5の(2)で得られた本合成スラリー11゜6k
gを種スラリーとして用いて、他は実施例5の(2)と
同じ原料、同じ条件で結晶化させた。
得られたスラリーを濾過後、5倍量の水で水洗して、1
20°Cで8時間乾燥した。このもののX線回折パター
ンは、ZSM−5と一致した。このものの走査型電子顕
微鏡写真を第15図に示す。
図から明らかなように、この粒子は、粒径が約lOμm
の表面に凹凸のある大きな粒子である。
そこで、実施例5と同様な操作でH型にして、アミン吸
着法で全酸点に対する外表面酸点の割合を求めたところ
、0.028であった。このことから、この粒子は、単
なる凝集体ではないことが分かる。
また、窒素吸着BET表面積が250rI?/g以上の
種スラリーを用いると、このように粒子が大きくなるこ
とが分かる。
(比較例3) (1)種スラリー合成 実施例5の(1)と同じ仕込み原料ゲルを調整して、5
ONのオートクレーブ中で150°Cで4時間水熱合成
反応を行った。
得られたスラリーを、30°Cまで冷却して一部濾過し
て120°Cで8時間乾燥した。このもののX線回折図
を第16図に示す。図から明らかなように、このものは
殆ど非晶質であった。
さらに、このものの窒素吸着BET表面積を測定したと
ころ、90nf/gであった。
(2)本合成 (1)で得られた種スラリーを用いて、他は実施例5の
(2)と同じ原料、同じ条件で結晶化させた。
24時間後のスラリーを一部抜き出し、30°Cまで冷
却し、濾過して5倍量の水で水洗した後、120°Cで
8時間乾燥した。このもののX線回折図を第17図に示
す。この図から明らかなように、この時点ではまだ結晶
化が完了していないことが分かる。
その後、経時的にスラリーを抜き出して結晶化終了時間
を求めたところ、60時間を要した。このことから、窒
素吸着BET表面積が100rd/g以下の種スラリー
を用いると結晶化速度が著しく遅くなることが分かる。
(比較例4) (1)  種スラリーの調製 比較例3の(1)で得られた非晶質の種スラリー7゜5
4kgと実施例5の(2)で得られた本合成スラリー1
1.06kgを混合して均質なスラリーを得た。
このスラリーを濾過して120°Cで8時間乾燥した後
、窒素吸着BET表面積を測定したところ、170rr
f/gであった。この値は、実施例5の(1)の種スラ
リーと殆ど同じであった。
(2)本合成 (1)で得られた種スラリーを用いて、他は実施例5の
(2)と同じ原料、同じ条件で結晶化させた。
24時間後のスラリーを一部抜き出し、30°Cまで冷
却し、濾過水洗後120°Cで8時間乾燥した。このも
ののX線回折図を第18図に示す、この図から結晶化が
まだ完了していないことが分かる。その後、経時的にス
ラリーを抜き出して結晶化終了時間を求めたところ、4
8時間であった。
さらに、48時間のスラリーを濾過水洗した後、120
°Cで8時間乾燥したものの走査型電子顕微鏡写真を第
19図に示す、この粒子は表面に凹凸のある数μmの粒
子であることが分かる。
さらに、実施例5と同様の操作でH型にした後、アミン
吸着法で測定した全酸点に対する外表面酸点の割合は、
0.027であった。このことから、本発明の種スラリ
ーと、単に非晶質と高結晶性の物の混合物が効果の点で
異なることが分かる。
(実施例6) (1)種スラリー合成 ケイ酸ナトリウム水溶液(SiOz26重量%、Naz
O7,0重量%)5.35kgにH2O2,5kgを加
えて均一な溶液を得た。この溶液を攪拌しながら、)1
.0 15kgにA1.(SOl)、・16H!0 0
,4kgと硫酸0.26kgを溶かした溶液を室温で約
30分かけてポンプで供給し、均質なゲルを得た。この
ゲルを170°C130時間、250rpmの攪拌条件
下に結晶化させた。
得られたスラリーを30°Cまで冷却して、一部を濾過
して120°Cで8時間乾燥した。このもののX線回折
図を第20図に示す。この回折パターンは、ZSM−5
のものである。
また、このものの窒素吸着BET表面積は、120ポ/
gであった。
(2)本合成 (1)で用いたのと同じケイ酸ナトリウム水溶液5゜6
5kgにNaOH30gとHzO2,2kgを加え均質
なスラリーとした。このスラリーを5ONのオートクレ
ーブに仕込み、アンカー型攪拌翼で200rpmで攪拌
しながら、HzO10kgにAIZ(SO4)3−16
H!0 0.42kgを溶かした溶液を約30分かけて
ポンプで供給し、さらに、820 5kgに硫酸0.3
kgを溶かした溶液を約20分かけてポンプで供給した
。この間の攪拌動力は、0.3〜0.8KW/イの範囲
で変化した。その後、温度を150°Cまで挙げて26
時間結晶化を行った。
得られたスラリーを濾過後、5倍量の水で水洗した後、
120°Cで8時間乾燥した物のX線回折パターンを第
21図に示す。この回折パターンより、この生成物は純
粋なZSM−5であることが分かる。第22図にこのも
のの走査型電子顕微鏡写真を示す、この粒子は、厚さが
0. 3μm程度の表面が凹凸の粒子であることが分か
る。
このものをさらに、実施例5と同様の操作でH型とした
後、アミン吸着法で全酸点に対する外表面酸点の割合を
測定したところ、0.21であった。
(比較例5) 実施例6の(1)と同じ原料ゲルを用いて、170’C
,120時間、250rpmの攪拌条件下に結晶化させ
た。
得られたスラリーを濾過後、5倍量の水で水洗した後、
120℃で8時間乾燥した物のX線回折パターンは、約
60%がZSM−5で、約20%がモルデナイトで、約
20%がα−石英の混合物であった。このことは、種ス
ラリーなしで有機物を含まない系においては、最初ZS
M−5が生成するが、結晶化が進むにつれてモルデナイ
トやα−石英が副生じてくることを示している。
さらに、このものの窒素吸着BET表面積は240rr
r/gであった。また、この物の走査型電子顕微鏡写真
を第23図に示す。この写真より生成物は数十μmの非
常に大きな結晶であることが分かる。
(比較例6) 比較例5で得られたスラリーを濾過、乾燥した物を実施
例6の(2)の種スラリーの代わりに種結晶として用い
て合成を行った。
ケイ酸ナトリウム水溶液5.65kgにNaOH30g
とH,02,2kgを加えた均一溶液に、上記種結晶5
00gを加え均質なスラリーとした。
このスラリーを50ffiのオートクレーブに仕込み、
200rpmで攪拌しながら、HIO10kgにA 1
 z (S 0n)s・16H!0 0.42kgを溶
かした溶液を約30分かけてポンプで供給し、さらに、
H,05kgに硫酸0.3kgを溶かした溶液を約20
分かけてポンプで供給した。その後、温度を150°C
まで上げて、26時間結晶化を行った。
得られたスラリーを濾過した後、5倍量の水で水洗した
後、120℃で8時間乾燥した物のX線回折パターンを
第24図に示す。この回折パターンより、この生成物は
ZSM−5とモルデナイトとα−石英の混合物であるこ
とが分かる。
(実施例7) (1)種スラリー合成 実施例6で用いたのと同じケイ酸ナトリウム水溶液5.
65kgとNaOH28gとN a A I Ot45
gをH,02,21kgに加えて均一な溶液を得た。こ
の溶液に、実施例6の(1)で得た種スラIJ−’10
.5kgを加え均質なスラリーとした。このスラリーを
50ffiのオートクレーブに仕込み、150rpmで
攪拌しながら、H,010kgにA11 (SO4)i
・16)fzo  0.424kgとNaAl0t  
o、05kgを溶かした溶液を約30分かけてポンプで
供給した。
さらに、H,05,84kgに硫酸0.2kgを溶かし
た溶液を約15分かけてポンプで供給して均質なゲルを
得た。その後、温度を190°Cまで上げて6時間結晶
化させた。
得られたスラリーを約30°Cまで冷却して、部を濾過
、120°Cで8時間乾燥した物のX線回折分析の結果
は、ZSM−5であった。
このものの窒素吸着BET表面積は185n(/gであ
った。
また、濾液中の溶存SiO*i1度は、2.5重量%で
あった。
(2)本合成 (1)で得られた種スラリーを用いて、(1)と同じ仕
込み原料組成で均質なゲルを得た。その後、165°C
に温度を上げて30時間結晶化させた。
得られたスラリーを濾過した後、5倍量の水で水洗して
、120°Cで8時間乾燥したもののX線回折分析より
、この生成物は純粋なZSM−5であることが分かった
。このものの走査型電子顕微鏡写真を第25図に示す。
この写真よりこの生成物が0.05μm程度の極めて微
粒子体であることが分かる。
さらに、このものを実施例5と同様の操作でH型として
、アミン吸着法で全酸点に対する外表面酸点の割合を測
定したところ0.3であった。
(参考例) 実施例6で用いたのと同じケイ酸ナトリウム水溶液5.
65kgとNNaOH2BとN a A I Oz45
gをH,02,21kgに加えて均一な溶液を得た。こ
の溶液に、実施例6の(1)で得た種スラリーを濾過し
た濾液8kgを加え均一な溶液を得た。
この溶液を5011のオートクレーブに仕込み、150
rpmで攪拌しながら、HzO10kgにAl2(SO
4)!・16H,OO,424kgを溶かした溶液を約
30分かけてポンプで供給した。
さらに、H,05,84kgに硫酸0.2kgを溶かし
た溶液を約15分かけてポンプで供給して均質なゲルと
して、その後温度を156°Cに上げて30時間結晶化
させた。
得られたスラリーを濾過した後、5倍量の水で水洗して
120°Cで8時間乾燥したもののX線回折分析より、
この生成物は、微量のモルデナイトを含むZSM−5で
あることが分かった。このものの走査型電子顕微鏡写真
を第26図に示す。この写真より生成物は、表面に凹凸
のある1μm程度の粒子であることが分かる。
さらに、このものを実施例5と同様の操作でH型とした
後、アミン吸着法で測定した全酸点に対する外表面酸点
の割合は0.04であった。このことから、種スラリー
は濾液だけでも微粒化の効果があることが分かる。
(実施例8) 実施例7の(2)で得たZSM−5をH型とした物を触
媒として用いて、シクロヘキサセンの水和反応を以下の
条件で行った。
反応袋W:内容積11のステンレス製オートクレーブ 反応層中のホールドアツプ量 オイル:240cc スラリー:240cc スラリー濃度;触媒30重量% シクロヘキセン供給量: 166cc/h r反応温度
:120°C 反応層上部にオイルだけの相を形成する程度の撹拌条件
下で、オーバーフローノズルよりオイルを連続的に抜き
出し、反応消費分の水は、ポンプで24時間ごとにパル
ス的に送入した。
反応開始後500時間までの流出オイル中のシクロヘキ
サノール濃度を表1に示す。
表1 (比較例7) 比較例2で得たZSM−5をH型としたものを触媒とし
て用いて、シクロヘキサセンの水和反応を実施例8と同
じ条件で行った。
反応開始後500時間までの流出オイル中のシクロヘキ
サノール濃度を表2に示す。
表2 (発明の効果) 本発明の方法によれば、各種吸着剤や触媒として有用な
ゼオライl−ZSM−5の微粒子体を再現性良く簡便な
操作で得ることができる。これは、工業的に実施する上
で極めて有利となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明方法に用いられる種スラリーの乾燥後
の粒子の走査型電子顕微鏡写真を示す。 第2図は、結晶化前の非晶質粒子と高結晶粒子との混合
乾燥粒子の走査型電子顕微鏡写真を示す。 第3図は、実施例1の種スラリー中の乾燥粒子のX線回
折パターンを示す。 第4図は、実施例1で得られたZSM−5微粒子のX線
回折パターンを示す。 第5図は、実施例1で得られたZSM−5微粒子の走査
型電子顕微鏡写真を示す。 第6図は、実施例2の種スラリー中の乾燥粒子のX線回
折パターンを示す。 第7図は、実施例2で得られたZSM−5微粒子のX線
回折パターンを示す。 第8図は、実施例2で得られたZSM−5微粒子の走査
型電子顕微鏡写真を示す。 第9図は、実施例3で得られたZSM−5微粒子の走査
型電子顕微鏡写真を示す。 第10図は、比較例1で得られたZSM−5粒子の走査
型電子顕微鏡写真を示す。 第11図は、実施例4で得られたZSM−5微粒子の走
査型電子顕微鏡写真を示す。 第12図は、実施例5の種スラリー中のZSM−5乾燥
粒子のX線回折パターンを示す。 第13図は、実施例5で得られたZSM−5微粒子のX
線回折パターンを示す。 第14図は、実施例5で得られたZSM−5微粒子の走
査型電子顕微鏡写真を示す。 第15図は、比較例2で得られたZSM−5粒子の走査
型電子顕微鏡写真を示す。 第16図は、比較例3の種スラリー中の乾燥粒子のXM
回折パターンを示す。 第17図は、比較例3で得られた粒子のX線回折パター
ンを示す。 第18図は、比較例4で得られた粒子のX線回折パター
ンを示す。 第19図は、比較例4で得られた粒子の走査型電子顕微
鏡写真を示す。 第20図は、実施例60種スラリー中の乾燥粒子のX線
回折パターンを示す。 第21図は、実施例6で得られたZSM−5微粒子のX
線回折パターンを示す。 第22図は、実施例6で得られたZSM−5微粒子の走
査型電子顕微鏡写真を示す。 第23図は、比較例5で得られた粒子の走査型電子顕微
鏡写真を示す。 第24図は、比較例6で得られた粒子のX線回折パター
ンを示す。 第25図は、実施例7で得られたZSM−5微粒子の走
査型電子顕微鏡写真を示す。 第26図は、参考例で得られたZSM−5粒子の走査型
電子顕微鏡写真を示す。 (ほか1名) 第 1 図 第 図 第3図 0 5 0 26 [’ ) 5 第4図 2a [’ ] 第 5 図 第6図 第7図 20〔°〕 第 図 第 9 図 第 0 図 第 1 図 第12図 26 (’ ) 第13図 第 4 図 第 5 図 第1θ図 28 [’ ) 第17図 第18図 第19 図 +−ン 第20図 2θ
〔0〕 第21図 第 2 図 第23 図 第24図 2θ〔°〕 第 25 図 第 6 図 手続補正書 (方式) %式% 事件の表示 特願平 1−328371、 発明の名称 ZSM−5微粒子体の製造法 補正をする者 事件との関係 特許出願人 (003)旭化成工業株式会社

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シリカ源、アルミナ源、アルカリ金属源、水を含
    む原料混合物を水熱合成条件下に結晶化させる際に、種
    スラリーとして、スラリー中の固形物の乾燥後のX線回
    折パターンがZSM−5であり、窒素吸着BET表面積
    が100〜250m^2/gである結晶化途中の水熱合
    成スラリーを、全体の10〜40重量%結晶化前に加え
    ることを特徴とする、ZSM−5微粒子体の製造法。
  2. (2)原料混合物が有機物を含むことを特徴とする、請
    求項(1)記載の方法。
  3. (3)有機物が低級アルキル尿素であることを特徴とす
    る、請求項(2)記載の方法。
  4. (4)原料混合物が有機物を含まないことを特徴とする
    、請求項(1)記載の方法。
  5. (5)原料混合物のSiO_2/Al_2O_3モル比
    が、25〜40の範囲であることを特徴とする、請求項
    (1)〜(4)のいずれかに記載の方法。
JP1328371A 1989-12-20 1989-12-20 Zsm―5微粒子体の製造法 Expired - Fee Related JP2844098B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1328371A JP2844098B2 (ja) 1989-12-20 1989-12-20 Zsm―5微粒子体の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1328371A JP2844098B2 (ja) 1989-12-20 1989-12-20 Zsm―5微粒子体の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03193622A true JPH03193622A (ja) 1991-08-23
JP2844098B2 JP2844098B2 (ja) 1999-01-06

Family

ID=18209505

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1328371A Expired - Fee Related JP2844098B2 (ja) 1989-12-20 1989-12-20 Zsm―5微粒子体の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2844098B2 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5783321A (en) * 1992-06-05 1998-07-21 Exxon Chemical Patents Inc. ZSM-5 zeolite
US6207605B1 (en) 1997-07-31 2001-03-27 Sanyo Petrochemical Co., Ltd. High silica content zeolite-based catalyst
JP2004267945A (ja) * 2003-03-10 2004-09-30 Gifu Univ n−パラフィンの異性化用触媒組成物及びn−パラフィンの異性化方法
JP2006512268A (ja) * 2002-12-30 2006-04-13 エス ケー コーポレイション 有機テンプレートなしで可変温度を用いてzsm−5を製造する方法
DE112007003647T5 (de) 2007-09-05 2010-10-14 Asahi Kasei Chemicals Corporation Verfahren zur Trennung und Herstellung von Cyclohexen
JP2011073913A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Asahi Kasei Chemicals Corp Zsm−5型ゼオライトの製造方法
US8010853B2 (en) 2005-09-30 2011-08-30 Fujitsu Semiconductor Ltd. Semiconductor storage device and memory test circuit
JP2011246339A (ja) * 2010-04-28 2011-12-08 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 新規ペンタシル型ゼオライトおよびその合成方法
WO2013008637A1 (ja) 2011-07-12 2013-01-17 旭化成ケミカルズ株式会社 シクロヘキサノール、シクロヘキサノールの製造方法及びアジピン酸の製造方法
JP2015507591A (ja) * 2011-12-01 2015-03-12 エクソンモービル リサーチ アンド エンジニアリング カンパニーExxon Research And Engineering Company 高活性大結晶zsm−5の合成
CN113830786A (zh) * 2020-06-08 2021-12-24 中国石油化工股份有限公司 一种高分散的zsm-5分子筛及其制备方法
CN114146724A (zh) * 2021-12-01 2022-03-08 南宁师范大学 改性zsm-5分子筛的制备方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5783321A (en) * 1992-06-05 1998-07-21 Exxon Chemical Patents Inc. ZSM-5 zeolite
US6207605B1 (en) 1997-07-31 2001-03-27 Sanyo Petrochemical Co., Ltd. High silica content zeolite-based catalyst
JP2006512268A (ja) * 2002-12-30 2006-04-13 エス ケー コーポレイション 有機テンプレートなしで可変温度を用いてzsm−5を製造する方法
JP2004267945A (ja) * 2003-03-10 2004-09-30 Gifu Univ n−パラフィンの異性化用触媒組成物及びn−パラフィンの異性化方法
US8010853B2 (en) 2005-09-30 2011-08-30 Fujitsu Semiconductor Ltd. Semiconductor storage device and memory test circuit
DE112007003647T5 (de) 2007-09-05 2010-10-14 Asahi Kasei Chemicals Corporation Verfahren zur Trennung und Herstellung von Cyclohexen
US8237005B2 (en) 2007-09-05 2012-08-07 Asahi Kasei Chemicals Corporation Method for separating and producing cyclohexene
JP2011073913A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Asahi Kasei Chemicals Corp Zsm−5型ゼオライトの製造方法
JP2011246339A (ja) * 2010-04-28 2011-12-08 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 新規ペンタシル型ゼオライトおよびその合成方法
WO2013008637A1 (ja) 2011-07-12 2013-01-17 旭化成ケミカルズ株式会社 シクロヘキサノール、シクロヘキサノールの製造方法及びアジピン酸の製造方法
JP2015507591A (ja) * 2011-12-01 2015-03-12 エクソンモービル リサーチ アンド エンジニアリング カンパニーExxon Research And Engineering Company 高活性大結晶zsm−5の合成
CN113830786A (zh) * 2020-06-08 2021-12-24 中国石油化工股份有限公司 一种高分散的zsm-5分子筛及其制备方法
CN113830786B (zh) * 2020-06-08 2023-06-06 中国石油化工股份有限公司 一种高分散的zsm-5分子筛及其制备方法
CN114146724A (zh) * 2021-12-01 2022-03-08 南宁师范大学 改性zsm-5分子筛的制备方法
CN114146724B (zh) * 2021-12-01 2024-01-30 南宁师范大学 改性zsm-5分子筛的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2844098B2 (ja) 1999-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10315924B2 (en) CHA type zeolitic materials and methods for their preparation using combinations of cycloalkyl-and tetraalkylammonium compounds
KR101614544B1 (ko) 나노 크기의 결정성 zsm-5 핵을 사용한 zsm-5의 제조 방법
RU2640072C9 (ru) Ферриерит с малым размером кристаллов и способ его получения
WO1997019021A1 (es) Zeolita itq-1
JPH03193622A (ja) Zsm―5微粒子体の製造法
CN101559955B (zh) 一种制备zsm-5分子筛的方法
CN105883849B (zh) 形貌可控的zsm‑5分子筛的合成方法
EP3450397B1 (en) Mse-type zeolite production method
JP3374244B2 (ja) Mtw型ゼオライトおよびその製造方法
JPH05310415A (ja) ゼオライト微粒子体の製造方法
AU696871B2 (en) Large crystal ZSM-5, its synthesis and use
CN102198950B (zh) 一种高硅铝比NaY分子筛的制备方法
CN102442685B (zh) 原位y沸石的改性方法
US5338525A (en) MFI-type zeolite and its preparation process
JPH0967115A (ja) メソポーラスメタロシリケートおよびその製造方法
JPH0154285B2 (ja)
RU2640236C1 (ru) Способ получения цеолита mfi
CN112551543B (zh) 在氢氧化物和溴化物形式的含氮有机结构化剂的混合物存在下制备izm-2沸石的方法
JP2010155759A (ja) メソポーラスアルミノシリケートの合成方法
Yamamoto et al. Synthesis, characterization, and catalysis of UTM-1: an MTF-type zeolite composed of the same building unit as MFI-type zeolites
EP0108611A2 (en) Improved synthesis of ultra-pure high crystallinity silicas
JP3144432B2 (ja) ゼオライトの合成方法
JP2952494B2 (ja) 新規な結晶メタロシリケートおよび/またはシリケートならびにこの種のメタロシリケートおよび/またはシリケートの製造方法
JPH0234512A (ja) 新規mtt構造型のゼオライトおよびその合成方法
JPS61249945A (ja) エ−テルの製造法

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081030

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081030

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091030

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091030

Year of fee payment: 11

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091030

Year of fee payment: 11

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees