JPH03190287A - 発光ダイオードアレイ - Google Patents
発光ダイオードアレイInfo
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- JPH03190287A JPH03190287A JP1331606A JP33160689A JPH03190287A JP H03190287 A JPH03190287 A JP H03190287A JP 1331606 A JP1331606 A JP 1331606A JP 33160689 A JP33160689 A JP 33160689A JP H03190287 A JPH03190287 A JP H03190287A
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- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 3
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 238000003491 array Methods 0.000 description 3
- 238000004943 liquid phase epitaxy Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
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- Led Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は、複数個の発光領域を直線状に並設した発光ダ
イオードアレイに関し、特に、高速で高解像低騒音の電
子写真プリンタの光書込み用光源として、好適な発光ダ
イオードアレイに関する。
イオードアレイに関し、特に、高速で高解像低騒音の電
子写真プリンタの光書込み用光源として、好適な発光ダ
イオードアレイに関する。
(ロ)従来技術
従来の発光ダイオードアレイは、GaAs基板上にキャ
リアタイプの異なるGaAsPの層を、VPE法及び拡
散法により形成し、電極プロセスを経て作製されている
が、その放射強度は、最近のプリンタの高速化の要求を
満たすには不十分である。
リアタイプの異なるGaAsPの層を、VPE法及び拡
散法により形成し、電極プロセスを経て作製されている
が、その放射強度は、最近のプリンタの高速化の要求を
満たすには不十分である。
そこで、GaAsPにかわって、より高い外部量子効率
か得られ、結晶成長も液相成長法(LPE法)により容
易に行えるGaAlAsが高出力発光ダイオードアレイ
用発光層材料として使われるようになった。
か得られ、結晶成長も液相成長法(LPE法)により容
易に行えるGaAlAsが高出力発光ダイオードアレイ
用発光層材料として使われるようになった。
この種のGaAlAs発光ダイオードアレイとしては、
文献r LLA (Linear LED Arra
y)の開発」日立電線 No、 5 (1985−12
)に掲載されている。
文献r LLA (Linear LED Arra
y)の開発」日立電線 No、 5 (1985−12
)に掲載されている。
この素子の構造は、GaAlAsのシングルへテロ構造
の接合を液相成長法で形成し、発光点間の分離はメサ構
造になっている。
の接合を液相成長法で形成し、発光点間の分離はメサ構
造になっている。
ところで、従来の電極パターンは、解像度の低い240
ドツト/インチや300 ドツト/インチの発光ダイ
オードアレイでは、直線状に並んだ発光領域の片側のみ
に、駆動用ICと接続するためのワイヤボンド用電極部
分を含む、電極パターンが形成されている。このワイヤ
ボンディングを行うためには、直径約110〜130u
m以上の面積が必要であることから、ワイヤボンド領域
は2列、あるいは3列で設けられていることが多い。
ドツト/インチや300 ドツト/インチの発光ダイ
オードアレイでは、直線状に並んだ発光領域の片側のみ
に、駆動用ICと接続するためのワイヤボンド用電極部
分を含む、電極パターンが形成されている。このワイヤ
ボンディングを行うためには、直径約110〜130u
m以上の面積が必要であることから、ワイヤボンド領域
は2列、あるいは3列で設けられていることが多い。
さらに、解像度の高い400 ドツト/インチ、600
ドツト/インチの発光ダイオードアレイでは、第5図
および第6図に示すように、基板lの発光領域10の片
側だけでは足りず、発光領域IOの両側にワイヤボンド
領域27を設けなければならなくなっている。
ドツト/インチの発光ダイオードアレイでは、第5図
および第6図に示すように、基板lの発光領域10の片
側だけでは足りず、発光領域IOの両側にワイヤボンド
領域27を設けなければならなくなっている。
ところで、第6図の発光領域の拡大図に示すように、G
aAlAsのメサ形状発光領域10を有する発光ダイオ
ードアレイにおいては、発光領域の2辺の順メサA、A
を通る電極パターン7.7が形成されることになる。
aAlAsのメサ形状発光領域10を有する発光ダイオ
ードアレイにおいては、発光領域の2辺の順メサA、A
を通る電極パターン7.7が形成されることになる。
尚、この図において、Bは逆メサ部分を示す。
両方の順メサ部分A、Aに電極金属を十分付着させるた
めには、蒸着源は基板1の真下ではなく、順メサAのあ
る方向にずらした位置に置かれ、そこから蒸着が行われ
る方法が取られる。
めには、蒸着源は基板1の真下ではなく、順メサAのあ
る方向にずらした位置に置かれ、そこから蒸着が行われ
る方法が取られる。
従って、両方の順メサA、Aに電極7を形成するために
は、2つの蒸着源が必要である。
は、2つの蒸着源が必要である。
一方、電極パターンの形成においては、オーバーハング
を有するレジストパターンを形成した後、電極金属(p
タイプなら、Cr、 Auの積層、nタイプならCr、
Sn、 Auの積層)の蒸着を行い、不要部分の金属
をレジストと共に除去するといういわゆるリフトオフ法
が用いられる。なぜなら、エツチング法では、電極パタ
ーンの細い部分でエッチャントにより断線や剥離が発生
するためである。 このリフトオフ法では、基板表面か
らオーバーハングの高さ以下に電極の厚みを押えなけれ
ばならない、オーバーハングが高すぎると、蒸着は斜め
から行われるので、レジストの壁面にも電極材料が付着
してしまい、レジストを除去出来なくなるとか、壁面に
付着した部分がパリとして残り、後々電極間ショートの
原因になるなどの問題が発生するからである。このため
、オーバーハングの高さはあまり高く出来ず、従って、
電極の厚みもあまり厚くできない。
を有するレジストパターンを形成した後、電極金属(p
タイプなら、Cr、 Auの積層、nタイプならCr、
Sn、 Auの積層)の蒸着を行い、不要部分の金属
をレジストと共に除去するといういわゆるリフトオフ法
が用いられる。なぜなら、エツチング法では、電極パタ
ーンの細い部分でエッチャントにより断線や剥離が発生
するためである。 このリフトオフ法では、基板表面か
らオーバーハングの高さ以下に電極の厚みを押えなけれ
ばならない、オーバーハングが高すぎると、蒸着は斜め
から行われるので、レジストの壁面にも電極材料が付着
してしまい、レジストを除去出来なくなるとか、壁面に
付着した部分がパリとして残り、後々電極間ショートの
原因になるなどの問題が発生するからである。このため
、オーバーハングの高さはあまり高く出来ず、従って、
電極の厚みもあまり厚くできない。
(ハ)発明が解決しようとする問題点
上述したように、メサ形状の発光領域を有する高解像発
光ダイオードアレイでは2方向から電極の蒸着が行なわ
れるため、基板の平面な部分では、2方向からの蒸着材
料の飛来により電極が形成されるが、順メサの段差部分
では、片一方から飛来した蒸着材料のみが堆積する。従
って、順メサ部分の電極の厚みは、平面な部分の約半分
になってしまう。
光ダイオードアレイでは2方向から電極の蒸着が行なわ
れるため、基板の平面な部分では、2方向からの蒸着材
料の飛来により電極が形成されるが、順メサの段差部分
では、片一方から飛来した蒸着材料のみが堆積する。従
って、順メサ部分の電極の厚みは、平面な部分の約半分
になってしまう。
一方、発光ダイオードアレイの高出力化を行なうために
2層目のGaAlAs層を厚くじ、電流が発光領域全体
に広がるようにするという方法が効果的であるが、その
ために順メサの段差はより大きなものとなってしまう0
段差が大きくなると、断線のない電極蒸着は難しさを増
す。
2層目のGaAlAs層を厚くじ、電流が発光領域全体
に広がるようにするという方法が効果的であるが、その
ために順メサの段差はより大きなものとなってしまう0
段差が大きくなると、断線のない電極蒸着は難しさを増
す。
以上のことから、メサ発光領域を有する高解像、高出力
GaAlAs発光グイオードアレイの電極パターン形成
においては、その段差部分で、電極の厚みが極めて薄く
なっており、そのために断線が発生しやすく、発光ダイ
オードアレイの歩留りに大きな影響をおよぼしている。
GaAlAs発光グイオードアレイの電極パターン形成
においては、その段差部分で、電極の厚みが極めて薄く
なっており、そのために断線が発生しやすく、発光ダイ
オードアレイの歩留りに大きな影響をおよぼしている。
本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
ので、歩留りの良い発光ダイオードアレイを提供するこ
とをその課題とする。
ので、歩留りの良い発光ダイオードアレイを提供するこ
とをその課題とする。
(ニ)課題を解決するための手段
本発明の発光ダイオードアレイは、発光領域の並設方向
と垂直に交差する辺を順メサ、残る辺を逆メサになるよ
うに発光領域が形成され、順メサの内の1辺の側からの
み電極が引き出されてなることを特徴とする。
と垂直に交差する辺を順メサ、残る辺を逆メサになるよ
うに発光領域が形成され、順メサの内の1辺の側からの
み電極が引き出されてなることを特徴とする。
(ホ)作用
本発明の電極は、発光領域の順メサの一辺から引き出さ
れているため、電極形成の蒸着は、一方向だけから行な
えるので、平面な部分と、メサ部分で、同じ厚さの電極
を形成でき、電極の断線を未然に防止し、その発生率を
低減することができる。
れているため、電極形成の蒸着は、一方向だけから行な
えるので、平面な部分と、メサ部分で、同じ厚さの電極
を形成でき、電極の断線を未然に防止し、その発生率を
低減することができる。
(へ)実施例
以下、本発明の一実施例を第1図および第2図に従い説
明する。
明する。
第1図は本発明による発光領域部分の拡大平面図、第2
図は発光ダイオードアレイの要部断面図である。
図は発光ダイオードアレイの要部断面図である。
先ず、第2図に従い発光ダイオードアレイの構造につき
説明する。n型GaAs基板1上にLPE法により、第
1層のn型GaAlAs 3とこの層とはキャノアタイ
ブの異なる第2層のp型GaAlAs4が順次積層形成
され、更に、この上に、オーミックコンタクトをとるた
めのGaAs層5を成長後、GaAs層5が電極と接触
する部分だけ残してエツチングにより除去される。そし
て、光の取り出し部分となる第2層GaAlAs4表面
を露出し、次に、その第2層のGaAs層4部分を中心
として、エツチングにより各発光領域10が形成される
。そして、この発光領域10の並設方向に対して、交差
する方向の2辺が順メサA、Aに、そして、残りの2辺
が逆メサB、Bになるように形成されている。最後に上
部電極7とオーミックをとる部分以外の表面全面に絶縁
膜6を付けた後、電極パターンが形成される。
説明する。n型GaAs基板1上にLPE法により、第
1層のn型GaAlAs 3とこの層とはキャノアタイ
ブの異なる第2層のp型GaAlAs4が順次積層形成
され、更に、この上に、オーミックコンタクトをとるた
めのGaAs層5を成長後、GaAs層5が電極と接触
する部分だけ残してエツチングにより除去される。そし
て、光の取り出し部分となる第2層GaAlAs4表面
を露出し、次に、その第2層のGaAs層4部分を中心
として、エツチングにより各発光領域10が形成される
。そして、この発光領域10の並設方向に対して、交差
する方向の2辺が順メサA、Aに、そして、残りの2辺
が逆メサB、Bになるように形成されている。最後に上
部電極7とオーミックをとる部分以外の表面全面に絶縁
膜6を付けた後、電極パターンが形成される。
また、基板1の裏面にも電極2が形成されている。
さて、第1図の平面図に示すように、本発明においては
、順メサAの1辺の側、本実施例においては、左側面の
側からのみ電極7が引き出されている。すなわち、発光
領域10の左側から中央部に向かって、並設方向に引き
出し用の電極17が伸び中央部で並設方向へ交差するよ
うに形成されている。
、順メサAの1辺の側、本実施例においては、左側面の
側からのみ電極7が引き出されている。すなわち、発光
領域10の左側から中央部に向かって、並設方向に引き
出し用の電極17が伸び中央部で並設方向へ交差するよ
うに形成されている。
従って、電極形成の蒸着は、一方向だけから行なえるの
で、電極7の厚さは、平面な部分もメサ部分も4000
〜5000人程度の同じ厚さ程度極が形成される。また
、発光領域10から引き出されている電極の幅は10μ
m前後である。このため、電極の断線を未然に防止し、
その発生率を低減することがでる。
で、電極7の厚さは、平面な部分もメサ部分も4000
〜5000人程度の同じ厚さ程度極が形成される。また
、発光領域10から引き出されている電極の幅は10μ
m前後である。このため、電極の断線を未然に防止し、
その発生率を低減することがでる。
第3図は本発明の他の実施例を示す平面図であり、この
実施例においては、発光領域10の左側面側の順メサA
部分から斜め方向に引き出し用の電極17を形成したも
のである。
実施例においては、発光領域10の左側面側の順メサA
部分から斜め方向に引き出し用の電極17を形成したも
のである。
第4図は本発明の異なる実施例を示す平面図であり、こ
の実施例においては、発光領域lOに突出した領域が形
成され、この領域の発光領域10の並設方向と直行する
方向が順メサA、並設方向が逆メサBとなる。そして、
この順メサの一側面側から引き出し用電極17が形成さ
れている。
の実施例においては、発光領域lOに突出した領域が形
成され、この領域の発光領域10の並設方向と直行する
方向が順メサA、並設方向が逆メサBとなる。そして、
この順メサの一側面側から引き出し用電極17が形成さ
れている。
(ト)発明の詳細
な説明したように、本発明はメサ形状を有する発光ダイ
オードアレイにおいて、電極の厚さを平面部分もメサ部
分も同じ厚さに形成できるため、電極の断線の発生を防
止し、歩留りを向上することができる。
オードアレイにおいて、電極の厚さを平面部分もメサ部
分も同じ厚さに形成できるため、電極の断線の発生を防
止し、歩留りを向上することができる。
第1図および第2図は本発明の一実施例に関し、第1図
は発光領域部分の拡大平面図、第2図は要部断面図であ
る。 第3図および第4図は夫々本発明の異なる実施例を示す
発光領域の拡大平面図である。 第5図は従来の発光ダイオードアレイの平面図、第6図
は従来の発光領域の拡大平面図である。 1・・・基板、7・・・電極、lO・・・発光領域、1
7・・・引き出し用電極、A・・・順メサ、B・・・逆
メサ。 第 3 図 !、4ノ 図 第 ス 第 図
は発光領域部分の拡大平面図、第2図は要部断面図であ
る。 第3図および第4図は夫々本発明の異なる実施例を示す
発光領域の拡大平面図である。 第5図は従来の発光ダイオードアレイの平面図、第6図
は従来の発光領域の拡大平面図である。 1・・・基板、7・・・電極、lO・・・発光領域、1
7・・・引き出し用電極、A・・・順メサ、B・・・逆
メサ。 第 3 図 !、4ノ 図 第 ス 第 図
Claims (1)
- (1)メサ形状の発光領域を複数個直線状に並設してな
る発光ダイオードアレイにおいて、 前記発光領域の並設方向と垂直に交差する辺を順メサ、
残る並設方向の辺を逆メサになるように発光領域が形成
され、前記順メサの内1辺の側からのみ電極が引き出さ
れてなる発光ダイオードアレイ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33160689A JP2895888B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 発光ダイオードアレイ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33160689A JP2895888B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 発光ダイオードアレイ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03190287A true JPH03190287A (ja) | 1991-08-20 |
JP2895888B2 JP2895888B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=18245537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33160689A Expired - Fee Related JP2895888B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 発光ダイオードアレイ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2895888B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5821569A (en) * | 1995-09-04 | 1998-10-13 | Nec Corporation | Surface-emission type light-emitting diode and fabrication process therefor |
US5861636A (en) * | 1995-04-11 | 1999-01-19 | Nec Corporation | Surface emitting visible light emiting diode having ring-shaped electrode |
US7195998B2 (en) | 2002-01-16 | 2007-03-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Compound semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP2015095617A (ja) * | 2013-11-14 | 2015-05-18 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子の製造方法 |
-
1989
- 1989-12-20 JP JP33160689A patent/JP2895888B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5861636A (en) * | 1995-04-11 | 1999-01-19 | Nec Corporation | Surface emitting visible light emiting diode having ring-shaped electrode |
US5821569A (en) * | 1995-09-04 | 1998-10-13 | Nec Corporation | Surface-emission type light-emitting diode and fabrication process therefor |
US7195998B2 (en) | 2002-01-16 | 2007-03-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Compound semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP2015095617A (ja) * | 2013-11-14 | 2015-05-18 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2895888B2 (ja) | 1999-05-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |