JPH03185067A - 原子状酸素抵抗性を改良するためのポリ有機シロキサン含有ポリイミド組成物 - Google Patents
原子状酸素抵抗性を改良するためのポリ有機シロキサン含有ポリイミド組成物Info
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- C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/106—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08G77/04—Polysiloxanes
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G77/04—Polysiloxanes
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-
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-
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- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野]
本発明は原子状酸素抵抗性(AOR)を改良するために
ポリ有機シロキサンを含有する、好ましくはフィルムま
たはシートの形態のポリイミド組成物に関する。
ポリ有機シロキサンを含有する、好ましくはフィルムま
たはシートの形態のポリイミド組成物に関する。
[従来の技術〕
ポリエステル、ポリイミドおよびポリウレタンのような
サテライトシステムに通常使用されている多くの表面保
護材料は、低空地球軌道(LEO)の原子状酸素環境に
よって激しく分解することがスペースシャトル飛行から
のデータによって明らかにされてきた。大気とスペース
シャトル飛行機の表面材料とは該材料の表面および内部
に変化を生じながら反応する。分解によって材料量の減
少、表面形態、強度、熱および光学的特性の変化が現れ
る。例えば、ポリイミドフィルムはシャトル飛行で原子
状酸素にさらされると光沢のある琥珀色から光沢のない
黄色に変わり、そして測定し得る厚さの減少を示す。
サテライトシステムに通常使用されている多くの表面保
護材料は、低空地球軌道(LEO)の原子状酸素環境に
よって激しく分解することがスペースシャトル飛行から
のデータによって明らかにされてきた。大気とスペース
シャトル飛行機の表面材料とは該材料の表面および内部
に変化を生じながら反応する。分解によって材料量の減
少、表面形態、強度、熱および光学的特性の変化が現れ
る。例えば、ポリイミドフィルムはシャトル飛行で原子
状酸素にさらされると光沢のある琥珀色から光沢のない
黄色に変わり、そして測定し得る厚さの減少を示す。
第32回インターナショナルSAMPEシンポジウム(
1987年4月6〜9日)の予稿集の第590頁には、
3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルポン酸
ジ無水物、4.4’−ジアミノジフェニルエーテルおよ
び30〜50%のポリジメチルシロキサンオリゴマーセ
グメントから誘導されたイミド化ポリイミド−ポリジメ
チルシロキサンセグメント化コポリマーが記載されてい
る。このポリシロキサン−ポリイミドコポリマーは反応
性の酸素環境に対して改良された耐候性を示し、そして
航空宇宙用の保護塗料として使用される。
1987年4月6〜9日)の予稿集の第590頁には、
3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルポン酸
ジ無水物、4.4’−ジアミノジフェニルエーテルおよ
び30〜50%のポリジメチルシロキサンオリゴマーセ
グメントから誘導されたイミド化ポリイミド−ポリジメ
チルシロキサンセグメント化コポリマーが記載されてい
る。このポリシロキサン−ポリイミドコポリマーは反応
性の酸素環境に対して改良された耐候性を示し、そして
航空宇宙用の保護塗料として使用される。
これに対して本発明のポリイミド組成物はポリシロキサ
ンコポリマーセグメントを含有していない。
ンコポリマーセグメントを含有していない。
第18回インターナショナルSAMPE技術会議(19
86年10月7〜9日)の予稿集にはLEOの原子状酸
素にさらされたときに低反応性を示す25%ポリシロキ
サン745%ポリイミド組成物が記載されている。しか
しながら、ポリイミド組成物およびポリシロキサンの組
成については記載されていない。
86年10月7〜9日)の予稿集にはLEOの原子状酸
素にさらされたときに低反応性を示す25%ポリシロキ
サン745%ポリイミド組成物が記載されている。しか
しながら、ポリイミド組成物およびポリシロキサンの組
成については記載されていない。
1988午lO月5日に発行されたヨーロッパ特許出願
第0284803号には、ワイヤおよびケーブル被覆に
使用するための、そしてフィルム、繊維並びに成形−お
よび押出物品の製造に使用するためのオキシシフタール
酸無水物、二官能性シロキサンモノマーおよび有機ジア
ミンから誘導された完全にイミド化されたポリイミドシ
ロキサンが記載されている。しかし、それには改良され
た原子状酸素抵抗性を有する組成物は記載されていない
。
第0284803号には、ワイヤおよびケーブル被覆に
使用するための、そしてフィルム、繊維並びに成形−お
よび押出物品の製造に使用するためのオキシシフタール
酸無水物、二官能性シロキサンモノマーおよび有機ジア
ミンから誘導された完全にイミド化されたポリイミドシ
ロキサンが記載されている。しかし、それには改良され
た原子状酸素抵抗性を有する組成物は記載されていない
。
米国特許第6.606.430号明細書には屋外におけ
る太陽電池配列用の原子状酸素抵抗性支持体として使用
するためのシリコーン組成物で被覆されたポリイミド層
を有する可撓性の積層物が記載されている。
る太陽電池配列用の原子状酸素抵抗性支持体として使用
するためのシリコーン組成物で被覆されたポリイミド層
を有する可撓性の積層物が記載されている。
[発明の内容]
本発明は、
(i)(a)少なくとも1種の芳香族ジ無水物および(
b)少なくとも1種のジアミンを実質的に等モル量から
形成されたポリイミド;および (Li)式 %式%] [式中、R1は1−10個の炭素を有する低級アルキル
、置換低級アルキル、アリール、置換アリール、ビニル
、アルリルまたは水素:R2はl −10個の炭素を有
する低級アルキルまたはアリール;mまたはnの一方が
0のときmまたはnのもう一方は2〜1000、或はm
またはnのもう一方が0でないときmまたはnのもう一
方は両方とも2〜1000を表す]で示されるポリ有機
シロキサン: を含有する改良された酸素抵抗性を有するポリイミド組
成物を提供するものである。典型的には、ケイ素原子は
結合した1つまたはそれより多くの、通常フェニル、メ
チルまたはエチル基である、側鎖基を有する。
b)少なくとも1種のジアミンを実質的に等モル量から
形成されたポリイミド;および (Li)式 %式%] [式中、R1は1−10個の炭素を有する低級アルキル
、置換低級アルキル、アリール、置換アリール、ビニル
、アルリルまたは水素:R2はl −10個の炭素を有
する低級アルキルまたはアリール;mまたはnの一方が
0のときmまたはnのもう一方は2〜1000、或はm
またはnのもう一方が0でないときmまたはnのもう一
方は両方とも2〜1000を表す]で示されるポリ有機
シロキサン: を含有する改良された酸素抵抗性を有するポリイミド組
成物を提供するものである。典型的には、ケイ素原子は
結合した1つまたはそれより多くの、通常フェニル、メ
チルまたはエチル基である、側鎖基を有する。
極めて優れた原子状酸素抵抗性を有する、好ましくはフ
ィルムまたはシートの形態のポリイミド組成物が30〜
60重量%、好ましくは40〜50重量%の特定のポリ
有機シロキサン成分を該組成物中に加えることにより得
られることが見出された。本発明は、ポリ有機シロキサ
ンを含有しないポリイミド組成物に比べてほぼ2オーダ
ーも高い原子状酸素抵抗性を有するポリイミド組成物を
提供する。
ィルムまたはシートの形態のポリイミド組成物が30〜
60重量%、好ましくは40〜50重量%の特定のポリ
有機シロキサン成分を該組成物中に加えることにより得
られることが見出された。本発明は、ポリ有機シロキサ
ンを含有しないポリイミド組成物に比べてほぼ2オーダ
ーも高い原子状酸素抵抗性を有するポリイミド組成物を
提供する。
本発明の組成物は特に宇宙ステーションで使用する光電
池配列の可撓性覆いを製造するのに適する。該光電池配
列は15年間に亘って原子状酸素を含む環境下で役立た
なければならない。
池配列の可撓性覆いを製造するのに適する。該光電池配
列は15年間に亘って原子状酸素を含む環境下で役立た
なければならない。
イー・アイ・デュポン社によってKapton@として
販売されているポリイミドのようなポリイミドフィルム
はこのような用途に選ばれる材料であるが、原子状酸素
から保護されない場合には時間が経過するとそれは消失
してしまう。したがって、良好な物理的、電気的、熱的
抵抗性および原子状酸素抵抗性を有するポリイミドフィ
ルムは太陽電池の覆用可撓性回路基体として極めて有用
である。
販売されているポリイミドのようなポリイミドフィルム
はこのような用途に選ばれる材料であるが、原子状酸素
から保護されない場合には時間が経過するとそれは消失
してしまう。したがって、良好な物理的、電気的、熱的
抵抗性および原子状酸素抵抗性を有するポリイミドフィ
ルムは太陽電池の覆用可撓性回路基体として極めて有用
である。
本発明で使用されるポリイミドは、米国特許第3.17
9,630号および米国特許第3,179.634号明
細書に記載されているようにして通常製造することがで
きる。実質的に等モル量の少なくとも1種の芳香族ジ無
水物および少なくとも1種のジアミンを溶媒中に溶解し
、モして生成した溶液を調節された温度条件下でジ無水
物とジアミンの重合が完了するまで撹拌することによっ
てポリアミン酸を製造する。
9,630号および米国特許第3,179.634号明
細書に記載されているようにして通常製造することがで
きる。実質的に等モル量の少なくとも1種の芳香族ジ無
水物および少なくとも1種のジアミンを溶媒中に溶解し
、モして生成した溶液を調節された温度条件下でジ無水
物とジアミンの重合が完了するまで撹拌することによっ
てポリアミン酸を製造する。
ポリイミドで使用するのに適するジ無水物としては、ピ
ロメリト酸ジ無水物、 2,3,6.7−ナフタレンテ
トラカルボン酸ジ無水物、3.3’、4.4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸ジ無水物、1.2゜5.6−ナフ
タレンテトラカルボン酸ジ無水物、2.2’3.3’−
ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、3.3’、4.
4’−ヘンシフエノンテトラカルボン酸ジ無水物、2.
2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパンジ
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホ
ンジ無水物、3,4,9゜lO−ペリレンテトラカルボ
ン酸ジ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
プロパンジ無水物、1.1−ビス(2,3−ジカルボキ
シフェニル)工タンジ無水物、1.1−ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)エタンジ無水物、ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)メタンジ無水物、ヒス(3,
4−ジカルボキシフェニル)メタンジ無水物、オキシシ
フタール酸ジ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)スルホンジ無水物等を挙げることができる。
ロメリト酸ジ無水物、 2,3,6.7−ナフタレンテ
トラカルボン酸ジ無水物、3.3’、4.4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸ジ無水物、1.2゜5.6−ナフ
タレンテトラカルボン酸ジ無水物、2.2’3.3’−
ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、3.3’、4.
4’−ヘンシフエノンテトラカルボン酸ジ無水物、2.
2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパンジ
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホ
ンジ無水物、3,4,9゜lO−ペリレンテトラカルボ
ン酸ジ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
プロパンジ無水物、1.1−ビス(2,3−ジカルボキ
シフェニル)工タンジ無水物、1.1−ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)エタンジ無水物、ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)メタンジ無水物、ヒス(3,
4−ジカルボキシフェニル)メタンジ無水物、オキシシ
フタール酸ジ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)スルホンジ無水物等を挙げることができる。
ポリイミドで使用するのに適するジアミンとしては、4
.4’−ジアミノジフェニルプロパン、4.4′−ジア
ミノジフェニルメタン、ベンジジン、3.3′−ジクロ
ロベンジジン、4.4′−ジアミノジフェニルサルファ
イド、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、4.4
’−ジアミノジフェニルスルホン、4+4”アミノジフ
ェニルエーテル、1.5−ジアミノナフタレン、4.4
’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4.4’−ジ
アミノジフェニルシラン、4.4’−ジアミノジフェニ
ルエチルホスフィンオキサイド、4.4′−ジアミノジ
フェニル−N−メチルアミン、4.4’−’;アミノジ
フェニルーN−フェニルアミン、1.4−’;アミノベ
ンゼン(p −7エニレンジアミン) 、1.3−ジア
ミノベンゼン、1.2−ジアミノベンゼン等を挙げるこ
とができる。
.4’−ジアミノジフェニルプロパン、4.4′−ジア
ミノジフェニルメタン、ベンジジン、3.3′−ジクロ
ロベンジジン、4.4′−ジアミノジフェニルサルファ
イド、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、4.4
’−ジアミノジフェニルスルホン、4+4”アミノジフ
ェニルエーテル、1.5−ジアミノナフタレン、4.4
’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4.4’−ジ
アミノジフェニルシラン、4.4’−ジアミノジフェニ
ルエチルホスフィンオキサイド、4.4′−ジアミノジ
フェニル−N−メチルアミン、4.4’−’;アミノジ
フェニルーN−フェニルアミン、1.4−’;アミノベ
ンゼン(p −7エニレンジアミン) 、1.3−ジア
ミノベンゼン、1.2−ジアミノベンゼン等を挙げるこ
とができる。
本発明で使用するのに適するポリイミドは、4.4−ジ
アミノジフェニルエーテルおよびピロメリト酸ジ無水物
から誘導される。
アミノジフェニルエーテルおよびピロメリト酸ジ無水物
から誘導される。
上記したジアミンおよびジ無水物のいずれかから誘導さ
れたコポリイミドもまた使用できる。
れたコポリイミドもまた使用できる。
特に好ましいコポリイミドは、15〜85モル%のビフ
ェニルテトラカルボン酸ジ無水物、15〜85モル%の
ピロメリト酸ジ無水物、30〜100モル%17) p
−7二二レンジアミンおよびO〜70モル%の4,4
′−ジアミノジフェニルエーテルから誘導されるもので
ある。そのようなコポリイミドは米国特許第4.778
.827号明細書に記載されてIハ ス 溶媒は重合性成分の一方または両方を溶解すべきであり
、そしてポリアミン酸の重合生成物を溶解するのが好ま
しい。溶媒は勿論重合性成分のすべておよびポリアミン
酸重合生成物と実質的に反応しないものでなけらばなら
ない。
ェニルテトラカルボン酸ジ無水物、15〜85モル%の
ピロメリト酸ジ無水物、30〜100モル%17) p
−7二二レンジアミンおよびO〜70モル%の4,4
′−ジアミノジフェニルエーテルから誘導されるもので
ある。そのようなコポリイミドは米国特許第4.778
.827号明細書に記載されてIハ ス 溶媒は重合性成分の一方または両方を溶解すべきであり
、そしてポリアミン酸の重合生成物を溶解するのが好ま
しい。溶媒は勿論重合性成分のすべておよびポリアミン
酸重合生成物と実質的に反応しないものでなけらばなら
ない。
好ましい溶媒としては、通常液体のN、N−ジアルキル
カルボキシルアミドを挙げることができる。そのような
溶媒の好ましいものとしては、該カルボキシルアミドの
低分子量のもの、特にN、N−ジメチルホルムアミドお
よびN、N−ジエチルアセトアミドを挙げることができ
る。この種の溶媒の他の有用な溶媒にはN、N−ジエグ
・ルホルムアミドおよびN、N−ジメチルアセトアミド
がある。使用し得る他の溶媒としては、ジメチルスルホ
キシド、N−メチル−2−ピロリドン、テトラメチル尿
素、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、
テトラメチレンスルホン等がある。溶媒は単独で使用し
ても、組み合わせて使用しても、またはベンゼン、ベン
ゾニトリル、ジオキサン等の貧溶媒と組み合わせて使用
してもよい。使用する溶媒の量はポリアミン酸の75〜
90重量%が、その濃度により最高の分子量のものを生
皮するという理由で好ましい。
カルボキシルアミドを挙げることができる。そのような
溶媒の好ましいものとしては、該カルボキシルアミドの
低分子量のもの、特にN、N−ジメチルホルムアミドお
よびN、N−ジエチルアセトアミドを挙げることができ
る。この種の溶媒の他の有用な溶媒にはN、N−ジエグ
・ルホルムアミドおよびN、N−ジメチルアセトアミド
がある。使用し得る他の溶媒としては、ジメチルスルホ
キシド、N−メチル−2−ピロリドン、テトラメチル尿
素、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、
テトラメチレンスルホン等がある。溶媒は単独で使用し
ても、組み合わせて使用しても、またはベンゼン、ベン
ゾニトリル、ジオキサン等の貧溶媒と組み合わせて使用
してもよい。使用する溶媒の量はポリアミン酸の75〜
90重量%が、その濃度により最高の分子量のものを生
皮するという理由で好ましい。
ポリアミン酸溶液は通常ジアミンを乾燥溶媒中に溶解し
、撹拌下で温度を調節しながら不活性雰囲気中でジ無水
物を徐々に添加することにより製造される。ジアミンは
、通常、溶媒中に5〜15重量%溶液として存在し、そ
してジアミンとジ無水物は通常等モル量で使用される。
、撹拌下で温度を調節しながら不活性雰囲気中でジ無水
物を徐々に添加することにより製造される。ジアミンは
、通常、溶媒中に5〜15重量%溶液として存在し、そ
してジアミンとジ無水物は通常等モル量で使用される。
ポリアミン酸のポリイミドへの転化は、熱転化法または
化学転化法のいずれかにより行う。
化学転化法のいずれかにより行う。
熱転化法によるとポリアミン酸溶液を金属ドラムまたは
ベルトのような熱転化表面にキャストし、約50°Cよ
りも高い温度に加熱してポリアミン酸を部分的にポリイ
ミドに転化させる。ポリアミン酸の転化の程度は使用温
度およびその温度にさらされる時間に依存するが、通常
はアミン酸基の約25〜95%がイミド基に転化する。
ベルトのような熱転化表面にキャストし、約50°Cよ
りも高い温度に加熱してポリアミン酸を部分的にポリイ
ミドに転化させる。ポリアミン酸の転化の程度は使用温
度およびその温度にさらされる時間に依存するが、通常
はアミン酸基の約25〜95%がイミド基に転化する。
部分的に転化したポリアミン酸を次に220℃またはそ
れ以上に加熱してポリイミドに完全に転化させる。
れ以上に加熱してポリイミドに完全に転化させる。
化学転化法では、ポリアミン酸溶液をまず約10℃〜−
10℃に冷却し、そしてポリアミン酸転化剤を加える。
10℃に冷却し、そしてポリアミン酸転化剤を加える。
ポリアミン酸転化剤は第3級アミン触媒および無水物脱
水物質である。好ましい無水物脱水物質は無水酢酸であ
り、ポリアミン酸中のアミン酸基の量よりも僅かに過剰
量で使用され、典型的にはポリアミン酸1当量当たり約
2〜2.5モルである。相当量の第3級アミン触媒が使
用される。無水酢酸の他に使用可能な低級脂肪酸無水物
としては、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、
それらの脂肪酸無水物同士の混合物、それらの脂肪酸無
水物と芳香族モノカルボン酸(安息香酸、ナフトエ酸等
)の無水物との混合物、並びにそれらの脂肪酸無水物と
無水炭酸、無水ギ酸および無水脂肪族ケテン(ケテンお
よびジメチルケテン)との混合物がある。ケテンは酸の
激しい脱水によりカルボン酸の無水物とみなされる。
水物質である。好ましい無水物脱水物質は無水酢酸であ
り、ポリアミン酸中のアミン酸基の量よりも僅かに過剰
量で使用され、典型的にはポリアミン酸1当量当たり約
2〜2.5モルである。相当量の第3級アミン触媒が使
用される。無水酢酸の他に使用可能な低級脂肪酸無水物
としては、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、
それらの脂肪酸無水物同士の混合物、それらの脂肪酸無
水物と芳香族モノカルボン酸(安息香酸、ナフトエ酸等
)の無水物との混合物、並びにそれらの脂肪酸無水物と
無水炭酸、無水ギ酸および無水脂肪族ケテン(ケテンお
よびジメチルケテン)との混合物がある。ケテンは酸の
激しい脱水によりカルボン酸の無水物とみなされる。
好ましい第3級アミン触媒はピリジンおよびβ−ピコリ
ンであり、それらは無水物脱水物質1モル当たり約1モ
ルの量で使用される。ピリジンおよびβ−ピコリンとほ
ぼ同じ活性を有する第3級アミンもまた使用できる。そ
のような第3級アミンとしては、3.4−ルチジン、3
.5−ルチジン、4−メチルピリジン、4−インプロピ
ルピリジン、N−ジメチルベンジルアミン、インキノリ
ン、4−ベンジルピリジンおよびN−ジメチルドデシル
アミンがある。トリメチルアミンおよびトリエチルアミ
ンは上記したアミンよりも活性が高く少量で使用できる
。
ンであり、それらは無水物脱水物質1モル当たり約1モ
ルの量で使用される。ピリジンおよびβ−ピコリンとほ
ぼ同じ活性を有する第3級アミンもまた使用できる。そ
のような第3級アミンとしては、3.4−ルチジン、3
.5−ルチジン、4−メチルピリジン、4−インプロピ
ルピリジン、N−ジメチルベンジルアミン、インキノリ
ン、4−ベンジルピリジンおよびN−ジメチルドデシル
アミンがある。トリメチルアミンおよびトリエチルアミ
ンは上記したアミンよりも活性が高く少量で使用できる
。
ポリアミン酸転化剤は室温またはそれより高い温度で反
応してポリアミン酸をポリイミドに転化させる。化学転
化反応はto−120℃の温度で生じ、高温では非常に
急速にそして低温ではゆっくりと反応する。ある温度よ
りも低いとポリアミン酸化学転化は実際には停止する。
応してポリアミン酸をポリイミドに転化させる。化学転
化反応はto−120℃の温度で生じ、高温では非常に
急速にそして低温ではゆっくりと反応する。ある温度よ
りも低いとポリアミン酸化学転化は実際には停止する。
その温度は通常約10°Cである。したがって、ポリア
ミン酸溶液をポリアミン酸転化剤の転化前にはこの温度
よりも低い温度に冷却し、転化剤を含有する溶液の温度
を押出またはキャストの間この温度よりも低く維持する
ことが重要である。
ミン酸溶液をポリアミン酸転化剤の転化前にはこの温度
よりも低い温度に冷却し、転化剤を含有する溶液の温度
を押出またはキャストの間この温度よりも低く維持する
ことが重要である。
上記で冷却されたポリアミン酸溶液を加熱された転化表
面に押出またはキャストし、そこで溶媒のいくらかは溶
液から蒸発し、ポリアミン酸は部分的にポリイミドに化
学的に転化し、そして溶液はポリアミン酸(polya
mic acid)−ポリイミドゲルの形態になる。ア
ミン酸基のイミド基への転化は接触時間および温度に依
存するが、通常は、約25〜95%である。フィルム、
繊維または成形構造体として、ゲルはその高い溶媒含有
量にも拘わらず自己支持性である。
面に押出またはキャストし、そこで溶媒のいくらかは溶
液から蒸発し、ポリアミン酸は部分的にポリイミドに化
学的に転化し、そして溶液はポリアミン酸(polya
mic acid)−ポリイミドゲルの形態になる。ア
ミン酸基のイミド基への転化は接触時間および温度に依
存するが、通常は、約25〜95%である。フィルム、
繊維または成形構造体として、ゲルはその高い溶媒含有
量にも拘わらず自己支持性である。
ゲルを次に乾燥して水、残留溶媒および残留する転化剤
を除去し、ポリアミン酸を完全にポリイミドに転化させ
る。乾燥は、比較的温和な条件でその時点ではポリアミ
ン酸のポリイミドへの完全な転化を行わずに実施でき、
または高温を使用して乾燥および転化を同時に行うこと
もできる。ゲルは乾燥および転化工程の間に除去しなけ
ればならない多量の液体を含有するので、望ましくない
収縮を防止するために乾燥の間ゲルを拘束しておかなけ
ればならない。連続製造では、拘束のためのテンターク
リップまたはビンを使用、してテンターフレームにフィ
ルムをその端部で保持することができる。乾燥および転
化の間に過度に収縮したポリイミドフィルムは脆くなり
、そしてポリイミドフィルム材料に期待されている優れ
た特性を欠如している。
を除去し、ポリアミン酸を完全にポリイミドに転化させ
る。乾燥は、比較的温和な条件でその時点ではポリアミ
ン酸のポリイミドへの完全な転化を行わずに実施でき、
または高温を使用して乾燥および転化を同時に行うこと
もできる。ゲルは乾燥および転化工程の間に除去しなけ
ればならない多量の液体を含有するので、望ましくない
収縮を防止するために乾燥の間ゲルを拘束しておかなけ
ればならない。連続製造では、拘束のためのテンターク
リップまたはビンを使用、してテンターフレームにフィ
ルムをその端部で保持することができる。乾燥および転
化の間に過度に収縮したポリイミドフィルムは脆くなり
、そしてポリイミドフィルム材料に期待されている優れ
た特性を欠如している。
短い時間高温を使用して、同じ工程でフィルムの乾燥お
よびそのポリイミドへの転化を行うのが好ましい。フィ
ルムを200〜450℃テ15〜400秒間加熱するの
が好ましい。勿論、薄いフィルムに対しては、厚いフィ
ルムに対するよりもより少ない加熱および時間でなけれ
ばならない。この乾燥および転化工程の間、フィルムを
過度に収縮しないように拘束し、実際には乾燥および転
化が終了する前にその最初の寸法の40%程度まで延伸
することができる。延伸はいかなる寸法であってもよい
。フィルムの製造においては、延伸は長さ方向または横
方向のいずれであってもよい。もし必要ならば、拘束を
収縮が限られた程度で起こるようにして行ってもよく、
15%程度の収縮であると適当な生成物を生皮すること
が見出された。
よびそのポリイミドへの転化を行うのが好ましい。フィ
ルムを200〜450℃テ15〜400秒間加熱するの
が好ましい。勿論、薄いフィルムに対しては、厚いフィ
ルムに対するよりもより少ない加熱および時間でなけれ
ばならない。この乾燥および転化工程の間、フィルムを
過度に収縮しないように拘束し、実際には乾燥および転
化が終了する前にその最初の寸法の40%程度まで延伸
することができる。延伸はいかなる寸法であってもよい
。フィルムの製造においては、延伸は長さ方向または横
方向のいずれであってもよい。もし必要ならば、拘束を
収縮が限られた程度で起こるようにして行ってもよく、
15%程度の収縮であると適当な生成物を生皮すること
が見出された。
本発明のポリイミド組成物は、組成物中に原子状酸素抵
抗性を付与するのに充分な量でポリ有機シロキサンを含
有する。ここで使用するポリ有機シロキサンは、シリコ
ーンポリマーに特有であり、それは部分的に有機であり
そして部分的に無機である。それはケイ素原子と酸素原
子が交互になった鎖状構造を有し、そのような構造がポ
リイミドと組み合わされたときに良好な特性を付与する
と考えられる。
抗性を付与するのに充分な量でポリ有機シロキサンを含
有する。ここで使用するポリ有機シロキサンは、シリコ
ーンポリマーに特有であり、それは部分的に有機であり
そして部分的に無機である。それはケイ素原子と酸素原
子が交互になった鎖状構造を有し、そのような構造がポ
リイミドと組み合わされたときに良好な特性を付与する
と考えられる。
ポリ有機シロキサンは、式
%式%
〔式中、R,はl −10個の炭素を有する低級アルキ
ル、置換低級アルキル、アリール、置換アリール、ビニ
ル、アルリルまたは水素:R8は1〜10個の炭素を有
する低級アルキルまたはアリール;mまたはnの一方が
0のときmまたはnのもう一方は2〜1000、或はm
またはnのもう一方が0でないときmまたはnのもう一
方は両方とも2〜1000を表す1を有する。典型的に
はケイ素原子は1つまたはそれより多くの結合された側
鎖基、通常フェニル、エチルまたはメチル基を有する。
ル、置換低級アルキル、アリール、置換アリール、ビニ
ル、アルリルまたは水素:R8は1〜10個の炭素を有
する低級アルキルまたはアリール;mまたはnの一方が
0のときmまたはnのもう一方は2〜1000、或はm
またはnのもう一方が0でないときmまたはnのもう一
方は両方とも2〜1000を表す1を有する。典型的に
はケイ素原子は1つまたはそれより多くの結合された側
鎖基、通常フェニル、エチルまたはメチル基を有する。
ここで使用可能なポリ有機シロキサンは50センチボイ
ズを超える、好ましくは5000センチボイズを超える
粘度を有する。それは10.000〜25.000の範
囲の粘度を有するゴム状の外観を有するものであっても
よい。他の有用なポリ有機シロキサンは低融点固体とし
て入手可能である。
ズを超える、好ましくは5000センチボイズを超える
粘度を有する。それは10.000〜25.000の範
囲の粘度を有するゴム状の外観を有するものであっても
よい。他の有用なポリ有機シロキサンは低融点固体とし
て入手可能である。
ポリ有機シロキサンの分子量は200〜23.000の
範囲のような200以上であるのが好ましく、500〜
16.000の範囲がより好ましい。
範囲のような200以上であるのが好ましく、500〜
16.000の範囲がより好ましい。
特定のポリ有機シロキサンとしては次のものを挙げるこ
とができるが、それに限られない:例えばポリメチル−
−ジメチル−−フェニル−−ジフェニル−−メチルフェ
ニルー−t’ニル−−メチルビニル−−アルリルーーア
ミノプロビルー −メチルアミノプロピル−−アミノフ
ェニル−−フロロアルキルフェニル−−アクリロキシプ
ロピル−−シアノプロピル−−りロロプロピルー、3,
3.3−トリフロロプロピル−−メチル−3,3,3−
トリフロロプロピル−シロキサンである。
とができるが、それに限られない:例えばポリメチル−
−ジメチル−−フェニル−−ジフェニル−−メチルフェ
ニルー−t’ニル−−メチルビニル−−アルリルーーア
ミノプロビルー −メチルアミノプロピル−−アミノフ
ェニル−−フロロアルキルフェニル−−アクリロキシプ
ロピル−−シアノプロピル−−りロロプロピルー、3,
3.3−トリフロロプロピル−−メチル−3,3,3−
トリフロロプロピル−シロキサンである。
好ましいポリ有機シロキサンでは、R1およびR8はフ
ェニルシロキシおよびフロロフェニルシロキシであり、
最終生成物に良好な耐熱性および加工のあいだの良好な
親和性を与える。これらの基は約3〜60モル%の範囲
で存在することができ、約3〜60モル%で存在するの
が好ましい。
ェニルシロキシおよびフロロフェニルシロキシであり、
最終生成物に良好な耐熱性および加工のあいだの良好な
親和性を与える。これらの基は約3〜60モル%の範囲
で存在することができ、約3〜60モル%で存在するの
が好ましい。
特に好ましいポリ有機シロキサンは、式[式中、
Xは各々独立してH,CH,またはC,H。
であり、
モしてnは2〜1000である]
を有している。
ポリイミド組成物中に含まれるポリ有機シロキサンの量
は組成物の原子状酸素抵抗性を改良するのに充分な量で
なければならない。典型的には、全ポリイミド組成物の
30〜60重量%の範囲の量であり、40〜50重量%
が好ましい。30重量%よりも少ないと、原子状酸素抵
抗性の改良は実質的に達成されない。60重量%より多
く使用すると、ポリイミド組成物の機械的および物理的
性質に通常悪影響を及ぼす。
は組成物の原子状酸素抵抗性を改良するのに充分な量で
なければならない。典型的には、全ポリイミド組成物の
30〜60重量%の範囲の量であり、40〜50重量%
が好ましい。30重量%よりも少ないと、原子状酸素抵
抗性の改良は実質的に達成されない。60重量%より多
く使用すると、ポリイミド組成物の機械的および物理的
性質に通常悪影響を及ぼす。
ポリ有機シロキサンは製造工程の間にポリイミドを加え
ることができ、或は熔融または溶液混合によってポリイ
ミドと混合してもよい。ポリ有機シロキサンは、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシドまたはN−メチルピロリドンのような極性溶媒
に溶解することができ、場合によっては貧溶媒に溶解す
ることができる。その溶液をポリアミン酸溶液と混合し
、そしてその後にポリアミン酸をポリイミドに転化する
ことができる。極性溶媒に混和しない他のポリ有機シロ
キサンをベンゼン、トルエンまたはジオキサンのような
非極性溶媒に溶解させ、次に極性溶媒中のポリアミン酸
溶液と混合することもできる。
ることができ、或は熔融または溶液混合によってポリイ
ミドと混合してもよい。ポリ有機シロキサンは、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシドまたはN−メチルピロリドンのような極性溶媒
に溶解することができ、場合によっては貧溶媒に溶解す
ることができる。その溶液をポリアミン酸溶液と混合し
、そしてその後にポリアミン酸をポリイミドに転化する
ことができる。極性溶媒に混和しない他のポリ有機シロ
キサンをベンゼン、トルエンまたはジオキサンのような
非極性溶媒に溶解させ、次に極性溶媒中のポリアミン酸
溶液と混合することもできる。
本発明によると、ポリ有機シロキサンを含有するポリイ
ミド組成物は低地球軌道(LEO)の大気状態にさらし
たときに極めて優れた原子状酸素抵抗性を有する。驚く
べきことには、ポリ有機シロキサンの配合によってポリ
イミドの機械的および物理的性質はほとんど悪影響を受
けない。
ミド組成物は低地球軌道(LEO)の大気状態にさらし
たときに極めて優れた原子状酸素抵抗性を有する。驚く
べきことには、ポリ有機シロキサンの配合によってポリ
イミドの機械的および物理的性質はほとんど悪影響を受
けない。
原子状酸素による材料損失の程度は一定期間の間に単位
面積当たりを攻撃する酸素原子の数の関数である。゛フ
ルエンス(fluence)”と称されるこの数は、大
気密度、軌道速度、ベクトル速度に対する表面配向(s
urface orientation)および曝露時
間に比例する。LEOで得られる分解形態および材料量
損失を再現するために低圧(3X 10− ” tor
r)で酸素プラズマ反応器を使用し Iこ 。
面積当たりを攻撃する酸素原子の数の関数である。゛フ
ルエンス(fluence)”と称されるこの数は、大
気密度、軌道速度、ベクトル速度に対する表面配向(s
urface orientation)および曝露時
間に比例する。LEOで得られる分解形態および材料量
損失を再現するために低圧(3X 10− ” tor
r)で酸素プラズマ反応器を使用し Iこ 。
材料侵食速度(g/cm2−秒)を所定の曝露時間の後
にポリイミド組成物の重量損失を注意深く分析するこに
より測定し、そしてそれはフラックスに依存していた。
にポリイミド組成物の重量損失を注意深く分析するこに
より測定し、そしてそれはフラックスに依存していた。
Kapton”を線量計を使用シテフラックスを測定し
、そこではKapton・を使用したスペースシャトル
飛行における7ラツクス測定を実験における原子状酸素
攻撃にさらされるKapton・における質量損失に関
係付けた。
、そこではKapton・を使用したスペースシャトル
飛行における7ラツクス測定を実験における原子状酸素
攻撃にさらされるKapton・における質量損失に関
係付けた。
侵食速度をフラックスおよびフルエンスから計算した。
フルエンス自体はフラックスおよび材料が攻撃下にある
時間の長さによって決定しtこ 。
時間の長さによって決定しtこ 。
下記の実施例では、引張強度、伸びおよびモジュラスを
ASTM D−882−64Tにより試験した。
ASTM D−882−64Tにより試験した。
MIT保持耐久性はASTM D−2176−63Tに
より、そしてE1mendorf引裂試験はASTM
D−1922−61Tにより測定した。特記しないかぎ
り、%はすべて重量による。
より、そしてE1mendorf引裂試験はASTM
D−1922−61Tにより測定した。特記しないかぎ
り、%はすべて重量による。
実施例 l
この実施例では45重量%のポリフェニルシロキサンを
含有するAORKapton・ポリイミドフィルムの製
造を記載する。
含有するAORKapton・ポリイミドフィルムの製
造を記載する。
ポリフェニルシロキサン(T−950−S :オーエン
ス・イリノイChem、Co、から購入) 8165g
を80℃に加熱したジメチルアセトアミド2858 g
に溶解した。この溶液を市販のホバートミキサー中で等
モル量のピロメリト酸ジ無水物および4.4’−ジアミ
ノジフェニルエーテルを含有する20.3%アセトアミ
ド中の溶液110ポンドに加えた。1時間撹拌を続け、
トリフェニルホスファイトの20%溶液を4ボンド加え
、更に45分間撹拌を続けた。ブルックフィールド粘度
2540ポイズのポリフェニルシロキサン/ポリアミド
酸重合体の濃厚溶液を全体で約15ガロン得た。
ス・イリノイChem、Co、から購入) 8165g
を80℃に加熱したジメチルアセトアミド2858 g
に溶解した。この溶液を市販のホバートミキサー中で等
モル量のピロメリト酸ジ無水物および4.4’−ジアミ
ノジフェニルエーテルを含有する20.3%アセトアミ
ド中の溶液110ポンドに加えた。1時間撹拌を続け、
トリフェニルホスファイトの20%溶液を4ボンド加え
、更に45分間撹拌を続けた。ブルックフィールド粘度
2540ポイズのポリフェニルシロキサン/ポリアミド
酸重合体の濃厚溶液を全体で約15ガロン得た。
その濃厚溶液をスリットダイからステンレススチールベ
ルト上に押出し150℃に加熱してポリアミド酸を部分
的にポリイミドに転化させた。
ルト上に押出し150℃に加熱してポリアミド酸を部分
的にポリイミドに転化させた。
その部分的に転化したフィルムをピンテンターフレーム
に置いて、実質的にジメチルアセトアミドのすべてが除
去されるまでオーブン中で400°Cに加熱した。
に置いて、実質的にジメチルアセトアミドのすべてが除
去されるまでオーブン中で400°Cに加熱した。
表1および2にはポリイミドフィルムの原子状酸素抵抗
性をまとめてあり、そして表3にはポリイミドフィルム
の物性を記載しである。また、それらの表1〜3には、
ポリ有機シロキサンを含有しないポリイミドフィルム(
比較例1)、シリカで被覆された従来のポリイミドフィ
ルム(比較例2)および共重合されたポリシロキサン単
位を有する従来のポリイミドフィルム(比較例3)との
比較もなされている。
性をまとめてあり、そして表3にはポリイミドフィルム
の物性を記載しである。また、それらの表1〜3には、
ポリ有機シロキサンを含有しないポリイミドフィルム(
比較例1)、シリカで被覆された従来のポリイミドフィ
ルム(比較例2)および共重合されたポリシロキサン単
位を有する従来のポリイミドフィルム(比較例3)との
比較もなされている。
表1
ポリイミドフィルムを中性原子状酸素ビームにさらした
結果 例 材 料 実施例1 ポリフェニルシロキサン45%含有−ポリイ
ミドフィルム 7ルエンス (atoms/cmす 1.2XlO” 侵食速度 (g/c−一秒) 2.1XIO−會 比較例1 ポリイミドフィルム(ポリ 有機シロキサン不含有) 1.7X10” 1.9Xloす 比較例2 SiOlで被覆したポリイミド フィルム 1.7XlO” 7.6XIO−’ 表2 ポリイミドフィルムを中性および荷電原子状酸素ビーム
にさらした結果1 例 材 料 実施例1 ポリフェニルシロキサン45%含有−ポリイ
ミドフィルム 7ルエンス (atoms/CIIIす 1.2Xloハ 侵食速度 (g/am”−秒) 5−IXIO−” 実施例2 ポリフェニルシロキサン50% 含有−ポリイミドフィルム 6.26X 10” 3.33XlO−” 実施例3 ポリフェニルシロキサン55% 含有−ポリイミドフィルム 6.26XlO” 9.51 X toす 比較例1 ポリイミドフィルム(ポリ フェニルシロキサン不含有) 3XlO” 2.0XlO−’ 比較例2 SiOlで被覆したポリイミド フィルム 2XlO” 4.7XlO−” 比較例3 ポリイミド−ポリシロキサン コポリマー 1.7XlO−” 3.6XlO−” 表 3 AORフィルムの物性 引張り強度(KPSI) 伸 び(%) モジュラス(KPSI) MIT保持(Kサイクル) エルメンドルフ引裂試験 (g/ミル) 24/22 80/ 104 391/355 77/60 13.9/14.6 13/11 39/27 317/285 50/39 4.815.1 MD:機械方向平均 TD:横方向平均 表1および2の結果から、本発明のポリイミド組成物(
実施例1)はポリ有機シロキサンを含有しないポリイミ
ド(比較例1)に比べて2オーダー低い侵食速度を有す
ることが理解でき、それにより本発明のポリイミド組成
物をLEOにおける宇宙飛行機表面に使用するのに極め
て優れた材料としている。更に、本発明のポリイミド組
成物はポリ有機シロキサンを含有しないポリイミドの強
靭性、柔軟性および機械的強度を保持している。
結果 例 材 料 実施例1 ポリフェニルシロキサン45%含有−ポリイ
ミドフィルム 7ルエンス (atoms/cmす 1.2XlO” 侵食速度 (g/c−一秒) 2.1XIO−會 比較例1 ポリイミドフィルム(ポリ 有機シロキサン不含有) 1.7X10” 1.9Xloす 比較例2 SiOlで被覆したポリイミド フィルム 1.7XlO” 7.6XIO−’ 表2 ポリイミドフィルムを中性および荷電原子状酸素ビーム
にさらした結果1 例 材 料 実施例1 ポリフェニルシロキサン45%含有−ポリイ
ミドフィルム 7ルエンス (atoms/CIIIす 1.2Xloハ 侵食速度 (g/am”−秒) 5−IXIO−” 実施例2 ポリフェニルシロキサン50% 含有−ポリイミドフィルム 6.26X 10” 3.33XlO−” 実施例3 ポリフェニルシロキサン55% 含有−ポリイミドフィルム 6.26XlO” 9.51 X toす 比較例1 ポリイミドフィルム(ポリ フェニルシロキサン不含有) 3XlO” 2.0XlO−’ 比較例2 SiOlで被覆したポリイミド フィルム 2XlO” 4.7XlO−” 比較例3 ポリイミド−ポリシロキサン コポリマー 1.7XlO−” 3.6XlO−” 表 3 AORフィルムの物性 引張り強度(KPSI) 伸 び(%) モジュラス(KPSI) MIT保持(Kサイクル) エルメンドルフ引裂試験 (g/ミル) 24/22 80/ 104 391/355 77/60 13.9/14.6 13/11 39/27 317/285 50/39 4.815.1 MD:機械方向平均 TD:横方向平均 表1および2の結果から、本発明のポリイミド組成物(
実施例1)はポリ有機シロキサンを含有しないポリイミ
ド(比較例1)に比べて2オーダー低い侵食速度を有す
ることが理解でき、それにより本発明のポリイミド組成
物をLEOにおける宇宙飛行機表面に使用するのに極め
て優れた材料としている。更に、本発明のポリイミド組
成物はポリ有機シロキサンを含有しないポリイミドの強
靭性、柔軟性および機械的強度を保持している。
実施例2および3
これら実施例2および3では、ポリフェニルシロキサン
を各々50%および55%含有するAORポリイミドフ
ィルムの製造について説明する。
を各々50%および55%含有するAORポリイミドフ
ィルムの製造について説明する。
実施例2および3は本質的に実施例1におけるのと同様
にして行った。
にして行った。
ポリフェニルシロキサンT−950−F(フレーク)の
35%ジメチルアセトアミド溶液を製造した。
35%ジメチルアセトアミド溶液を製造した。
この溶液42.9g、等モル量のピロメリト酸および4
,4′−ジメチルアミノジフェニルエーテルのジメチル
アセトアミド中の20.3%ポリアミド酸溶液75gか
らキャスト用濃厚溶液を製造した。
,4′−ジメチルアミノジフェニルエーテルのジメチル
アセトアミド中の20.3%ポリアミド酸溶液75gか
らキャスト用濃厚溶液を製造した。
第2のキャスト用濃厚溶液をポリフェニレンシロキサン
溶液52.4gおよびポリアミド酸溶液75gから製造
した。
溶液52.4gおよびポリアミド酸溶液75gから製造
した。
上記2つの濃厚溶液をキャストして各々50および55
重量%のポリフェニルシロキサンを含有するポリイミド
フィルムに実施例1に記載したようにして熱的に転化さ
せた。
重量%のポリフェニルシロキサンを含有するポリイミド
フィルムに実施例1に記載したようにして熱的に転化さ
せた。
実施例2および3の原子状酸素抵抗性は上記衣2に既に
記載した。
記載した。
最後に本発明の態様を記載すると下記のとおりである。
1)(i ) (a)少なくとも1種の芳香族ジ無水物
および(b)少なくとも1種のジアミンを実質的に等モ
ル量から形成されたポリイミド:および (ii)式 %式%] [式中、R1は1〜10個の炭素を有する低級アルキル
、置換低級アルキル、アリール、置換アリール、ビニル
、アルリルまたは水素iRiは1−10個の炭素を有す
る低級アルキルまたはアリール;mまたはnの一方が0
のときmまたはれのもう一方は2〜1ooo。
および(b)少なくとも1種のジアミンを実質的に等モ
ル量から形成されたポリイミド:および (ii)式 %式%] [式中、R1は1〜10個の炭素を有する低級アルキル
、置換低級アルキル、アリール、置換アリール、ビニル
、アルリルまたは水素iRiは1−10個の炭素を有す
る低級アルキルまたはアリール;mまたはnの一方が0
のときmまたはれのもう一方は2〜1ooo。
或はmまたはnのもう一方が0でないときmおよびR2
) は両方とも2〜1000を表す] で示されるポリ有機シロキサン; を含有する改良された酸素抵抗性を有するポリイミ ド
組放物。
) は両方とも2〜1000を表す] で示されるポリ有機シロキサン; を含有する改良された酸素抵抗性を有するポリイミ ド
組放物。
ポリ有機シロキサンが式
[式中、Xは各々独立してHl
モしてnは2〜1000である]
を有している上記1項のポリイミド組成物。
3)ポリ有機シロキサンの含有量が30〜60重量%で
ある上記1”J記載のポリイミド組成物。
ある上記1”J記載のポリイミド組成物。
ポリ有機シロキサンの含有量が40〜50重量CH重量
たはC,H。
たはC,H。
4)
%である上記3項記載のポリイミド組成物。
5)ポリ有機シロキサンがio、ooo〜25.000
ボイズの範囲の粘度を有する上記1項記載のポリイミド
組成物。
ボイズの範囲の粘度を有する上記1項記載のポリイミド
組成物。
6) ポリ有機シロキサンが200〜23.000の範
囲の分子量を有する上記1項記載のポリイミド組成物。
囲の分子量を有する上記1項記載のポリイミド組成物。
7) ポリ有機シロキサンが500〜16,000の範
囲の分子量を有する上記6項記載のポリイミド組成物。
囲の分子量を有する上記6項記載のポリイミド組成物。
8)芳香族ジ無水物がピロメリト酸ジ無水物であり、ジ
アミンが4.4′−ジアミノジフェニルエーテルである
上記1項記載のポリイミド組成物。
アミンが4.4′−ジアミノジフェニルエーテルである
上記1項記載のポリイミド組成物。
9)ポリ有機シロキサンがポリフェニルシロキサンであ
る上記8項記載のポリイミド組成物。
る上記8項記載のポリイミド組成物。
10) ポリフェニルシロキサンが40〜60重量%
からなる上記9項記載のポリイミド組成物。
からなる上記9項記載のポリイミド組成物。
11) 芳香族ジ無水物が3.3’、4.4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸ジ無水物であり、ジアミンが4
.4′−ジアミノジフェニルエーテルである上記1項記
載のポリイミド組成物。
ェニルテトラカルボン酸ジ無水物であり、ジアミンが4
.4′−ジアミノジフェニルエーテルである上記1項記
載のポリイミド組成物。
ポリ有機シロキサンが40〜60重量%からなる上記1
1項記載のポリイミド組成物。
1項記載のポリイミド組成物。
13) 芳香族ジ無水物がオキシシフタール酸ジ無水
物であり、ジアミンが4.4′−ジアミノジフェニルエ
ーテルである上記1項記載のポリイミ ド組成物。
物であり、ジアミンが4.4′−ジアミノジフェニルエ
ーテルである上記1項記載のポリイミ ド組成物。
ポリ有機シロキサンが40〜60重量%からなる上記1
3項記載のポリイミド組成物。
3項記載のポリイミド組成物。
15) 芳香族ジ無水物が15〜85モル%の3.3
’、4゜4′−ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物お
よび85〜15モル%のピロメリト酸ジ無水物からなり
、ジアミンが30〜100モル%のp −7エニレンジ
アミンおよび0〜70モル%の14) 12) 4.4′−ジアミ ノジフェニルエーテルからなる 上記 項記載のポリ イ ド組成物。
’、4゜4′−ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水物お
よび85〜15モル%のピロメリト酸ジ無水物からなり
、ジアミンが30〜100モル%のp −7エニレンジ
アミンおよび0〜70モル%の14) 12) 4.4′−ジアミ ノジフェニルエーテルからなる 上記 項記載のポリ イ ド組成物。
16)
ポリ有機シロキサンが組成物の40〜60重量%である
上記15項記載のポリ イ ド組成物。
上記15項記載のポリ イ ド組成物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (i)(a)少なくとも1種の芳香族ジ無水物および(
b)少なくとも1種のジアミンの実質的に等モル量から
形成されたポリイミド;および(i)式 [R_1R_2SiO]_m[R_1SiO_3_/_
2]_n[式中、R_1は1〜10個の炭素を有する低
級アルキル、置換低級アルキル、アリール、置換アリー
ル、ビニル、アルリルまたは水素;R_2は1〜10個
の炭素を有する低級アルキルまたはアリール;mまたは
nの一方が0のときmまたはnのもう一方は2〜100
0、或はmおよびnが0でないときmおよびnは両方と
も2〜1000を表す] で示されるポリ有機シロキサン; を含有する改良された酸素抵抗性を有するポリイミド組
成物。
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EP0417778B1 (en) | 1994-06-15 |
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