JPH03178333A - 開裂可能な界面活性剤類、それらの製造方法およびそれらの使用 - Google Patents
開裂可能な界面活性剤類、それらの製造方法およびそれらの使用Info
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- JPH03178333A JPH03178333A JP2232610A JP23261090A JPH03178333A JP H03178333 A JPH03178333 A JP H03178333A JP 2232610 A JP2232610 A JP 2232610A JP 23261090 A JP23261090 A JP 23261090A JP H03178333 A JPH03178333 A JP H03178333A
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- Y10S516/01—Wetting, emulsifying, dispersing, or stabilizing agents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な開裂可能な界面活性化合物類(界面活
性剤類)、それらの製造方法および乳化剤または他の多
相製剤の製造のためのそれらの使用、に関する。
性剤類)、それらの製造方法および乳化剤または他の多
相製剤の製造のためのそれらの使用、に関する。
界面活性剤類は、分子が親木および疎水部分から成る化
合物類である。それらの親木疎水両性の性質のため、こ
れらの化合物類は表面で活性であり、水相と疎水相の間
の接触面において高濃度になる。疎水相はガス、液、ま
たは固体状であり得る。高濃度になると、界面活性剤は
接触面において単分子の薄膜を形成し、このことは、望
ましい効果および望ましくない効果の両方をもたらし得
るこの系の性質が、決定的な影響を受けることを意味し
ている。
合物類である。それらの親木疎水両性の性質のため、こ
れらの化合物類は表面で活性であり、水相と疎水相の間
の接触面において高濃度になる。疎水相はガス、液、ま
たは固体状であり得る。高濃度になると、界面活性剤は
接触面において単分子の薄膜を形成し、このことは、望
ましい効果および望ましくない効果の両方をもたらし得
るこの系の性質が、決定的な影響を受けることを意味し
ている。
疎水基によって界面活性剤類を分類する場合、区別は、
炭化水素基を有するもの、部分的に弗素置換されている
かまたは水素が全て弗素置換された疎水基を有するもの
、そしてシロキサンまたはポリエステルを基本とするも
の、との間でなされる。
炭化水素基を有するもの、部分的に弗素置換されている
かまたは水素が全て弗素置換された疎水基を有するもの
、そしてシロキサンまたはポリエステルを基本とするも
の、との間でなされる。
親木基によってそれらを分類する場合、区別は、親水部
が燐もしくは硫黄の酸類またはカルボン酸類のアニオン
類によって形成されているアニオン系界面活性剤類、四
級化された窒素官能基を有するカチオン系界面活性剤類
、親木基がポリエチレングリコールエーテル類またはポ
リアルコール類によって形成されているノニオン系界面
活性剤類、の間でなされる。
が燐もしくは硫黄の酸類またはカルボン酸類のアニオン
類によって形成されているアニオン系界面活性剤類、四
級化された窒素官能基を有するカチオン系界面活性剤類
、親木基がポリエチレングリコールエーテル類またはポ
リアルコール類によって形成されているノニオン系界面
活性剤類、の間でなされる。
これらの全ての公知の界面活性剤類は、それらの表面活
性を示す性質が、生物学的劣化、不特定の化学的破壊、
或いは、アニオン系界面活性剤の場合、例えばCa +
4もしくはA+”+1.との錯体の形成、によっての
み消失するという共通の性質を有している。しかしなが
ら近午、界面活性剤に関して非常に興味の持たれる可能
性のある使用が見出された、しかし、これを行うには、
界面活性剤がその目的を果たした後直ちに反応媒体中で
、例えばpHの変化に依って、もはや表面活性を示さな
い断片に開裂し、このようにしてその界面活性効果を消
失することが要求される((a)J。
性を示す性質が、生物学的劣化、不特定の化学的破壊、
或いは、アニオン系界面活性剤の場合、例えばCa +
4もしくはA+”+1.との錯体の形成、によっての
み消失するという共通の性質を有している。しかしなが
ら近午、界面活性剤に関して非常に興味の持たれる可能
性のある使用が見出された、しかし、これを行うには、
界面活性剤がその目的を果たした後直ちに反応媒体中で
、例えばpHの変化に依って、もはや表面活性を示さな
い断片に開裂し、このようにしてその界面活性効果を消
失することが要求される((a)J。
Org、Chem、 l 982午、47巻、311
−315頁; (b)1982午、47巻、2221−
2223頁:および(c) 1984年、49巻、45
45−4547頁参照)。開裂可能なカチオン系界面活
性剤類は、(a)、(b)および(c)に記載されてお
り、特に、中性および塩基性媒体中での使用に関して(
a)および(b)において、ケタール基を有するカチオ
ン系界面活性剤が提案されている。しかしながら、これ
らは、例えば5%濃度の塩酸の助けでの、厳しい条件下
(pH値<1)でのみ開裂し得るという欠点を有してい
る。
−315頁; (b)1982午、47巻、2221−
2223頁:および(c) 1984年、49巻、45
45−4547頁参照)。開裂可能なカチオン系界面活
性剤類は、(a)、(b)および(c)に記載されてお
り、特に、中性および塩基性媒体中での使用に関して(
a)および(b)において、ケタール基を有するカチオ
ン系界面活性剤が提案されている。しかしながら、これ
らは、例えば5%濃度の塩酸の助けでの、厳しい条件下
(pH値<1)でのみ開裂し得るという欠点を有してい
る。
モノアルコキシシラン単位を有し、そして同様に厳しい
条件(pH<1または〉12)でのみ開裂可能であるカ
チオン系界面活性剤類が、(c)に記載されている。
条件(pH<1または〉12)でのみ開裂可能であるカ
チオン系界面活性剤類が、(c)に記載されている。
今日までに知られている開裂可能な界面活性剤類は、一
方では厳しい条件下、即ちpH値が〈lおよび>12、
でのみ開裂可能という欠点、および更に、カチオン系で
あるという欠点を有していた。しかしながら、実際上、
ノニオン系界面活性剤類が必要とされている、何故なら
ば、それらはより普遍的に応用されそして電解物に対し
て低い感度を有しているからであり、特に、穏やかな条
件下、例えばpH値〉■および<11.でも開裂するノ
ニオン系界面活性剤が必要とされている。
方では厳しい条件下、即ちpH値が〈lおよび>12、
でのみ開裂可能という欠点、および更に、カチオン系で
あるという欠点を有していた。しかしながら、実際上、
ノニオン系界面活性剤類が必要とされている、何故なら
ば、それらはより普遍的に応用されそして電解物に対し
て低い感度を有しているからであり、特に、穏やかな条
件下、例えばpH値〉■および<11.でも開裂するノ
ニオン系界面活性剤が必要とされている。
驚くべきことに、ある種の構造を有するシラン誘導体類
がこれらの望ましい性質を有していることを見出した。
がこれらの望ましい性質を有していることを見出した。
従って本発明は、式
[式中、
R,は、HまたはC,−C4−アルキルを表わし、
nは、2〜300の整数を表わし、
R2JりよびR1は、互いに独立してC+−C+aアル
キルまたはフェニルを表わし、 Xは、−0−、−3−、−NR,〜(R6:水素または
C4 C。
キルまたはフェニルを表わし、 Xは、−0−、−3−、−NR,〜(R6:水素または
C4 C。
アルキル)
または
(r−1〜100の整数)
を表わし、そして
mは、0または1を表わし、そして
R1は、H,CIC36−アルキル、C2C36−アル
ケニル、C3−C□6−シクロアルキ(ケニ)ル、c、
C38−アラルキル、C& C3M−アリール、
式(I[)(式中、 基R5およびR7の一方がメチルを表わし、他方がHを
表わし、R8がC+Ct−アルキルを表わしそして Xが10〜300の整数を表わす) の基、または式(III) (式中、 R1′、R2、R3、X′、m′およびn′が式(I)
においてR1、R2、R3、X、 mおよびnに関して
与えられた意味を有し、そして Aが、二価の疎水基、例えば少なくとも12個いC原子
を有するアルキ(ケニ)レン、オキサアルキレン、シク
ロアノレキ(ケニ)レン、アルカリレン、またはアリル
アルキレンの基を表わす) の基を表わすが、 但し、基R2、R1およびR6中に含まれるC原子の合
計が少なくとも14であることを条件とする] シラン誘導体類に関する。
ケニル、C3−C□6−シクロアルキ(ケニ)ル、c、
C38−アラルキル、C& C3M−アリール、
式(I[)(式中、 基R5およびR7の一方がメチルを表わし、他方がHを
表わし、R8がC+Ct−アルキルを表わしそして Xが10〜300の整数を表わす) の基、または式(III) (式中、 R1′、R2、R3、X′、m′およびn′が式(I)
においてR1、R2、R3、X、 mおよびnに関して
与えられた意味を有し、そして Aが、二価の疎水基、例えば少なくとも12個いC原子
を有するアルキ(ケニ)レン、オキサアルキレン、シク
ロアノレキ(ケニ)レン、アルカリレン、またはアリル
アルキレンの基を表わす) の基を表わすが、 但し、基R2、R1およびR6中に含まれるC原子の合
計が少なくとも14であることを条件とする] シラン誘導体類に関する。
R6に関して記述した基の代表的なものとして挙げられ
る例は:CIC16−アルキル基、例えばメチル、エチ
ル、n−および1−プロピル、n−および第ニブチル−
2−エチルヘキシル、nデンルーn−ドデシル−、ヘキ
サデシル−、オクタデシル−およびベヘニル(CZ□)
基;C2C36−アルケニル基、例えばプロペニル、ブ
テニル、ヘキセニル、オクテニル、ヘキサデセニルおよ
びオクタデセニル基;C3−C,6−7クロアルキ(ケ
ニ)ル基、例えばシクロペンチル、シクロヘキンルおよ
びシクロペンタジエニル基、およびアルキル基により置
換されたシクロヘキシル基、例えばメチル7クロヘキシ
ル、ジメチルシクロヘキンルおよび第三ブチルシクロヘ
キシル基;C7−C3,−アラルキル基、例えばベンジ
ルおよびβ〜フェニルエチル基およびアルキル基により
置換されたベンジル基、例えばメチル−ベンジル、ノニ
ル−ベンジルおよびドデシル−ベンジル基、並びにC,
−C□6−アリール基、例えばフェニル、4−オクチル
−フェニル、4−ノニル−フェニルおよび4−ドデンル
ーフェニル基でアル。
る例は:CIC16−アルキル基、例えばメチル、エチ
ル、n−および1−プロピル、n−および第ニブチル−
2−エチルヘキシル、nデンルーn−ドデシル−、ヘキ
サデシル−、オクタデシル−およびベヘニル(CZ□)
基;C2C36−アルケニル基、例えばプロペニル、ブ
テニル、ヘキセニル、オクテニル、ヘキサデセニルおよ
びオクタデセニル基;C3−C,6−7クロアルキ(ケ
ニ)ル基、例えばシクロペンチル、シクロヘキンルおよ
びシクロペンタジエニル基、およびアルキル基により置
換されたシクロヘキシル基、例えばメチル7クロヘキシ
ル、ジメチルシクロヘキンルおよび第三ブチルシクロヘ
キシル基;C7−C3,−アラルキル基、例えばベンジ
ルおよびβ〜フェニルエチル基およびアルキル基により
置換されたベンジル基、例えばメチル−ベンジル、ノニ
ル−ベンジルおよびドデシル−ベンジル基、並びにC,
−C□6−アリール基、例えばフェニル、4−オクチル
−フェニル、4−ノニル−フェニルおよび4−ドデンル
ーフェニル基でアル。
少なくとも12個のCw、子を有するAに関して記述し
た二価の疎水基の代表的なものとして挙げられる例は:
C1Cl2−C3アルキレン基、例えばドデシレン、ヘ
キサデシルンおよびオタタデ7レン基;Co C38
−アルケニレン基、例えばヘキサデセニルンおよびオク
タデセニル基、疎水オキサアルキレン基、例えば式 %式% および式 例えば のアルキレン−ポリ−(l−メチル−3−オキシ)プロ
ピレン基;C,、−C,6−シクロアルキ(ケニ)レン
基、例えばシクロヘキシレン、メチルシクロヘキシレン
、シクロヘキセニレンおよびジシクロペンタジェンジメ
チレン基である。
た二価の疎水基の代表的なものとして挙げられる例は:
C1Cl2−C3アルキレン基、例えばドデシレン、ヘ
キサデシルンおよびオタタデ7レン基;Co C38
−アルケニレン基、例えばヘキサデセニルンおよびオク
タデセニル基、疎水オキサアルキレン基、例えば式 %式% および式 例えば のアルキレン−ポリ−(l−メチル−3−オキシ)プロ
ピレン基;C,、−C,6−シクロアルキ(ケニ)レン
基、例えばシクロヘキシレン、メチルシクロヘキシレン
、シクロヘキセニレンおよびジシクロペンタジェンジメ
チレン基である。
R2およびR1に関して記述したClCl6−アルキル
基の代表的なものとして挙げられる例は:メチル、エチ
ル、n−および第ニブチル−l−ペンチル、n−ヘキシ
ル、n−デシル、ウンデシル−ドデシル−トリデシル−
およびヘキサデンル基である。
基の代表的なものとして挙げられる例は:メチル、エチ
ル、n−および第ニブチル−l−ペンチル、n−ヘキシ
ル、n−デシル、ウンデシル−ドデシル−トリデシル−
およびヘキサデンル基である。
式(1)のシラン誘導体類は、これらの誘導体類におい
て、R5が、ClC*−アルキルを表わnが、5〜50
の整数を表わし、 R2およびR3が、互いに独立してCICIj−アルキ
ルまたはフェニルを表わし、 Xが、−0−、−5、NRs (Rs’水素またはC
、−C、−アルキル)または (r:5〜50の整数) を表わし、 mが、Oまたは1を表わし、そして R4が、CI C20−アルキル、C2C,0−アル
ケニル、C7G2G−アラルキルまたはCs C2゜
−アリール、或いは式 (式中%R11およびR2の基の一方がメチルを表わし
、他方がHを表わし、R6がCI−C4−アルキル、そ
して Xが10〜50の整数を表わす) の基を表わす場合、 好適である。
て、R5が、ClC*−アルキルを表わnが、5〜50
の整数を表わし、 R2およびR3が、互いに独立してCICIj−アルキ
ルまたはフェニルを表わし、 Xが、−0−、−5、NRs (Rs’水素またはC
、−C、−アルキル)または (r:5〜50の整数) を表わし、 mが、Oまたは1を表わし、そして R4が、CI C20−アルキル、C2C,0−アル
ケニル、C7G2G−アラルキルまたはCs C2゜
−アリール、或いは式 (式中%R11およびR2の基の一方がメチルを表わし
、他方がHを表わし、R6がCI−C4−アルキル、そ
して Xが10〜50の整数を表わす) の基を表わす場合、 好適である。
式(1)のシラン誘導体類は、これらの誘導体類におい
て、 R1が、メチルまたはエチルを表わし、nが、5〜50
の整数を表わし、 R28よびR1が、互いlこ独立してc+cta−アル
キルまたはフェニルを表わし、 Xが、r−nの場合、−0−−5−−NH−または mが、lを表わし、そして R4が、c 、−c 2o−アルキル、C3C211−
アラルキルまたはC6C2a−アリール、或いはR,=
R1を表わす場合、 特に好適である。
て、 R1が、メチルまたはエチルを表わし、nが、5〜50
の整数を表わし、 R28よびR1が、互いlこ独立してc+cta−アル
キルまたはフェニルを表わし、 Xが、r−nの場合、−0−−5−−NH−または mが、lを表わし、そして R4が、c 、−c 2o−アルキル、C3C211−
アラルキルまたはC6C2a−アリール、或いはR,=
R1を表わす場合、 特に好適である。
以下の表1に示される化合物類は、本発明に従う式(I
)の開裂可能なシラン誘導体類の代表的な例として挙げ
られる:化合物類1−13の製造を実施例1−13に記
述する。
)の開裂可能なシラン誘導体類の代表的な例として挙げ
られる:化合物類1−13の製造を実施例1−13に記
述する。
本発明に従う界面活性剤類は、p Hの範囲が5〜10
において優れた乳化作用を示すことによって特徴づけら
れ;これらによって調製されたエマルジョンはこのpH
の範囲において数週間安定である。反対にこのpHの範
囲外では、本発明に従う界面活性剤類は、表面で不活性
な断片に急速に開裂する。従ってこれらの界面活性剤類
によって調製されたエマルジョンは、5〜10のp H
の範囲外でそれらの水性および疎水性の相に分解する。
において優れた乳化作用を示すことによって特徴づけら
れ;これらによって調製されたエマルジョンはこのpH
の範囲において数週間安定である。反対にこのpHの範
囲外では、本発明に従う界面活性剤類は、表面で不活性
な断片に急速に開裂する。従ってこれらの界面活性剤類
によって調製されたエマルジョンは、5〜10のp H
の範囲外でそれらの水性および疎水性の相に分解する。
本発明に従う界面活性剤類は従って特に、織物および繊
維の処理用、金属加工用、並びに油回収用の乳化剤とし
て適切である。
維の処理用、金属加工用、並びに油回収用の乳化剤とし
て適切である。
本発明は、従って、本発明に従う式(1)のシラン誘導
体類の製造方法に関する。式(I)のシラン誘導体類は
、m=1の場合、式 %式% [式中、 R2おJ:びR3は、 式(+) において)えら れた意味を有し、そして Yは、加水分解可能な原子または加水分解可能な基を表
わす] のシラン類と、式 [式中、 R1およびnは、式(I)において与えられた意味を有
する] か、または式 %式%() [式中、 R4およびXは、式(I)において与えられた意味を有
する1 の、反応性を示す水素を有する化合物類とを、最初に反
応させて、式 [式中、 R1、R3、R1、RいnおよびXは、式(1)におい
て与えられた意味を有し、モしてYは式(V)において
与えられた意味を有する】 のシラン化名物類を製造した後、これらの式(■a)ま
たは(■b)のシラン化合物類と、式(■)およびCn
)の化合物類とを、二番目の反応で再び反応させ、特に
、シラン化合物類(■a)と式(■)の化合物類とを反
応させ、そして、シラン化合物類(■b)と式(W)の
化合物類とを反応させる、方法により得られる。
体類の製造方法に関する。式(I)のシラン誘導体類は
、m=1の場合、式 %式% [式中、 R2おJ:びR3は、 式(+) において)えら れた意味を有し、そして Yは、加水分解可能な原子または加水分解可能な基を表
わす] のシラン類と、式 [式中、 R1およびnは、式(I)において与えられた意味を有
する] か、または式 %式%() [式中、 R4およびXは、式(I)において与えられた意味を有
する1 の、反応性を示す水素を有する化合物類とを、最初に反
応させて、式 [式中、 R1、R3、R1、RいnおよびXは、式(1)におい
て与えられた意味を有し、モしてYは式(V)において
与えられた意味を有する】 のシラン化名物類を製造した後、これらの式(■a)ま
たは(■b)のシラン化合物類と、式(■)およびCn
)の化合物類とを、二番目の反応で再び反応させ、特に
、シラン化合物類(■a)と式(■)の化合物類とを反
応させ、そして、シラン化合物類(■b)と式(W)の
化合物類とを反応させる、方法により得られる。
式(1)のシラン化合物類は、これらの化合物において
、mが1であり、Xが−[OCH,CH,]r−O−(
r=nの場合)でありモしてR4がR1である場合、即
ち基X−R,がRr O−[CH2CH2−0] nで
ある場合、特に簡便な方法で得られる。これらの化合物
類は、化合物(V)と2m01の式(Vl)の化合物と
の一般反応で得られる。式(V)の一つの化合物の代わ
りに式(V)の種々の化合物類の混合物を用いることも
可能である。
、mが1であり、Xが−[OCH,CH,]r−O−(
r=nの場合)でありモしてR4がR1である場合、即
ち基X−R,がRr O−[CH2CH2−0] nで
ある場合、特に簡便な方法で得られる。これらの化合物
類は、化合物(V)と2m01の式(Vl)の化合物と
の一般反応で得られる。式(V)の一つの化合物の代わ
りに式(V)の種々の化合物類の混合物を用いることも
可能である。
本発明に従う式(1)のシラン誘導体類は、これらにお
いてmが0の場合、式(ff)R4−5i−Y
(U)R1 [式中、 R2、R1およびR4が、式(I)において与えられた
意味を有し、そして Yが、式Vにおいて与えられた意味を有するのシラン類
と、式(Vl)の反応性を示す水素を有する化合物類と
を、反応させることによって得られる。
いてmが0の場合、式(ff)R4−5i−Y
(U)R1 [式中、 R2、R1およびR4が、式(I)において与えられた
意味を有し、そして Yが、式Vにおいて与えられた意味を有するのシラン類
と、式(Vl)の反応性を示す水素を有する化合物類と
を、反応させることによって得られる。
加水分解的に開裂し得る基としてYの例として、アルコ
キン基、例えばメトキンまたはエトキン基、或いはカル
ボン酸エステル基および擬ハロゲン化物、例えばシアン
化物基またはチオシアン酸塩基、並びに加水分解によっ
て開裂し得る原子として、ハロゲン原子、好適にはCI
および臭素原子が挙げられる 式(V)、(■a)、(■b)および(ff)のシラン
類の反応は、不活性ガス雰囲気中、反応条件下で不活性
な有機溶媒中、そして塩基の存在下0〜100℃の温度
で行なわれる。
キン基、例えばメトキンまたはエトキン基、或いはカル
ボン酸エステル基および擬ハロゲン化物、例えばシアン
化物基またはチオシアン酸塩基、並びに加水分解によっ
て開裂し得る原子として、ハロゲン原子、好適にはCI
および臭素原子が挙げられる 式(V)、(■a)、(■b)および(ff)のシラン
類の反応は、不活性ガス雰囲気中、反応条件下で不活性
な有機溶媒中、そして塩基の存在下0〜100℃の温度
で行なわれる。
式(V)のシラン類を反応性を示す水素を有する化合物
類と3〜6:lのモル比で反応させ、そして式(■a)
、(■b)および(ff)のシラン類をl:lのモル比
で反応させる。
類と3〜6:lのモル比で反応させ、そして式(■a)
、(■b)および(ff)のシラン類をl:lのモル比
で反応させる。
三級アミン類、例えばトリエチルアミンおよびピリジン
が特に適切な塩基であることがわがった。
が特に適切な塩基であることがわがった。
反応条件下で不活性な有機溶媒類の例として、脂肪族、
脂環式および芳香族炭化水素類が挙げられ、シクロヘキ
サン、ベンゼンおよびトルエンが特に適切であることが
わかった。好適には、溶媒類を反応体対溶媒の重量比が
l:l−1:20であるような量で用いる。
脂環式および芳香族炭化水素類が挙げられ、シクロヘキ
サン、ベンゼンおよびトルエンが特に適切であることが
わかった。好適には、溶媒類を反応体対溶媒の重量比が
l:l−1:20であるような量で用いる。
塩基類が好適には、開裂させるべき加水分解可能な基ま
たは原子の量を基準にして過剰に用いられる。三級アミ
ン類を用いる場合、特に、容易に分離させ得るアンモニ
ウム塩か生威し、そして過剰のアミンを反応後蒸留によ
って除去することができる。三級アミン/開裂すべき加
水分解可能な基(原子)のモル比か1.05〜1.1:
lである時、特に適切であることがわかった。
たは原子の量を基準にして過剰に用いられる。三級アミ
ン類を用いる場合、特に、容易に分離させ得るアンモニ
ウム塩か生威し、そして過剰のアミンを反応後蒸留によ
って除去することができる。三級アミン/開裂すべき加
水分解可能な基(原子)のモル比か1.05〜1.1:
lである時、特に適切であることがわかった。
反応中の変換は、生成するアンモニウム塩を定量的に測
定することによる簡便な方法で観察し得る。反応が終了
すると、アンモニウム塩を濾過で分離し、そして溶媒を
除去することによって本発明に従う界面活性剤を単離す
ることができる。
定することによる簡便な方法で観察し得る。反応が終了
すると、アンモニウム塩を濾過で分離し、そして溶媒を
除去することによって本発明に従う界面活性剤を単離す
ることができる。
本発明に従う式(I)のシラン誘導体類の製造のために
必要な出発化合物類(V)、(Vl)、(■)8よび(
IX)は、商業的に入手可能であるかまたは本質的に公
知の反応で製造することができる(例えばHouben
−Weyl著Methoden der orgnis
chen Chemie [有機化学の方法1、第4版
、1315巻、106頁、E20巻、1367頁参照)
。
必要な出発化合物類(V)、(Vl)、(■)8よび(
IX)は、商業的に入手可能であるかまたは本質的に公
知の反応で製造することができる(例えばHouben
−Weyl著Methoden der orgnis
chen Chemie [有機化学の方法1、第4版
、1315巻、106頁、E20巻、1367頁参照)
。
本発明は更に、界面活性剤としての本発明に従う式(1
)の7ラン誘導体類の使用に関する。
)の7ラン誘導体類の使用に関する。
実施例
実施例1−9:
A)式(■a)のシラン化合物類の製造(一般的方法)
: 乾燥窒素を充満させた反応槽中の5m01のジクロロジ
メチル7ランに、 a)無水;−ルエン中に反応性を示す水素を有する化a
物(式(■)の化合物)1molを溶解させた50重量
%濃度の溶液と b)無水1ヘルエン中にトリエチルアミン1゜05mo
lを溶解させた50重量%濃度の溶液とを、 撹拌しなから30℃で同時に加える。この反応混合物を
70°Cに加熱し、この温度で2時間撹拌する。その後
、アンモニウム塩の沈澱物を吸引濾別し、この濾液から
真空蒸留することによって溶媒と過剰のジクロロジメチ
ルシランを除去する。
: 乾燥窒素を充満させた反応槽中の5m01のジクロロジ
メチル7ランに、 a)無水;−ルエン中に反応性を示す水素を有する化a
物(式(■)の化合物)1molを溶解させた50重量
%濃度の溶液と b)無水1ヘルエン中にトリエチルアミン1゜05mo
lを溶解させた50重量%濃度の溶液とを、 撹拌しなから30℃で同時に加える。この反応混合物を
70°Cに加熱し、この温度で2時間撹拌する。その後
、アンモニウム塩の沈澱物を吸引濾別し、この濾液から
真空蒸留することによって溶媒と過剰のジクロロジメチ
ルシランを除去する。
B)本発明に従う式(I)の7ラン誘導体類の製造:
工程(A)で得られた7ラン化合物1molに、乾燥ト
ルエン中に式(■)の化合物をは溶解させた50重量%
濃度の溶液と乾燥トルエン中にトリエチルアミン1.0
5molを溶解させた50重量%濃度の溶液とを加える
。この反応混合物を50°Cで4時間撹拌する。その後
、アンモニウム塩を吸引濾別し、この濾液を真空蒸留し
て溶媒を除去する。5molのジクロロジメチルシラン
の反応のための工程(A)で用いた式(Vl)の、反応
性を示す水素を有する化合物類、工程(A)で得られた
シラン化合物類、および、クロロンラン化合物類(■a
)の反応のため工程(B)で用いられた式(■)の、反
応性を示す水素を有する化合物類を以下の表2に示す。
ルエン中に式(■)の化合物をは溶解させた50重量%
濃度の溶液と乾燥トルエン中にトリエチルアミン1.0
5molを溶解させた50重量%濃度の溶液とを加える
。この反応混合物を50°Cで4時間撹拌する。その後
、アンモニウム塩を吸引濾別し、この濾液を真空蒸留し
て溶媒を除去する。5molのジクロロジメチルシラン
の反応のための工程(A)で用いた式(Vl)の、反応
性を示す水素を有する化合物類、工程(A)で得られた
シラン化合物類、および、クロロンラン化合物類(■a
)の反応のため工程(B)で用いられた式(■)の、反
応性を示す水素を有する化合物類を以下の表2に示す。
実施例1O−13
A)本発明に従う式(I)(式中nが0である)のシラ
ン誘導体類の製造(一般的方法):乾燥窒素を充満させ
た反応槽中の、乾燥トルエン中に式1)のシラン化合物
1molを溶解させた50重量%濃度の溶液に、乾燥ト
ルエン中に式(Vl)の反応性を示す水素を有する化合
物を溶解させた50重量%濃度の溶液ト、200mI2
の乾燥トルエン中にピリジン1゜05molを溶解させ
た溶液とを、撹拌しながら室温で同時に加える。この反
応化合物を70°Cに加熱し、この温度で1時間撹拌す
る。
ン誘導体類の製造(一般的方法):乾燥窒素を充満させ
た反応槽中の、乾燥トルエン中に式1)のシラン化合物
1molを溶解させた50重量%濃度の溶液に、乾燥ト
ルエン中に式(Vl)の反応性を示す水素を有する化合
物を溶解させた50重量%濃度の溶液ト、200mI2
の乾燥トルエン中にピリジン1゜05molを溶解させ
た溶液とを、撹拌しながら室温で同時に加える。この反
応化合物を70°Cに加熱し、この温度で1時間撹拌す
る。
その後アンモニウム塩の沈澱物を吸引濾別し、この濾液
から溶媒を真空中で除去する。
から溶媒を真空中で除去する。
使用した式(ff)のシラン化合物類および式(Vl)
の活性水素を有する化合物類を以下の表3に示す。
の活性水素を有する化合物類を以下の表3に示す。
表 3
A)
本発明に従う式(■)(式中、rがnである場合、R、
= R4= CH、、mが11そして、Xが−[0−C
H2−CH2−] r−0−)のシラン誘4体類の製造
(一般的方法): 乾燥窒素を充満させた反応槽中の、乾燥トルエン中にジ
クロロメチルウンデンル7ラン0゜55molとジクロ
ロメチルトリデシルンランQ、35molとの混合物を
溶解させた20重量%濃度の溶液に、乾燥トルエン中に
式(VT)の反応性を示す水素を有する化合物2.Qm
olを溶解した20重量%濃度の溶液と、200mQの
乾燥トルエン中にピリジン2.05molを溶解させた
溶液とを、撹拌しながら室温で同時に加える。この反応
混合物を70°Cに加熱し、この温度で1時間撹拌する
。その後、アンモニウム塩の沈澱物を吸引濾別し、この
濾液から夜ぽいを真空中で除去する。
= R4= CH、、mが11そして、Xが−[0−C
H2−CH2−] r−0−)のシラン誘4体類の製造
(一般的方法): 乾燥窒素を充満させた反応槽中の、乾燥トルエン中にジ
クロロメチルウンデンル7ラン0゜55molとジクロ
ロメチルトリデシルンランQ、35molとの混合物を
溶解させた20重量%濃度の溶液に、乾燥トルエン中に
式(VT)の反応性を示す水素を有する化合物2.Qm
olを溶解した20重量%濃度の溶液と、200mQの
乾燥トルエン中にピリジン2.05molを溶解させた
溶液とを、撹拌しながら室温で同時に加える。この反応
混合物を70°Cに加熱し、この温度で1時間撹拌する
。その後、アンモニウム塩の沈澱物を吸引濾別し、この
濾液から夜ぽいを真空中で除去する。
使用した式(V)のシクロロンラン化合物類および式(
Vl)の活性水素を有する化合物類を以下の表4に示す
。
Vl)の活性水素を有する化合物類を以下の表4に示す
。
表4
実施例
式(V)のシクロロンラン化合物
式(VT)の化合物
実施例19
A)
本発明に従う
/ラン誘導体類の助けで調製(7
たエマルジョンの水相でのpHの関数として、これらの
誘導体類の乳化剤としての性質および安定性の測定。
誘導体類の乳化剤としての性質および安定性の測定。
エマルジョンを下記の成分から調製した・水相:
a)50mmolのKH2PO4/f2を含有する緩衝
水溶液: この緩衝水溶液にHCIおよびNaOHを点添加するこ
とによって所望のpHにする。
水溶液: この緩衝水溶液にHCIおよびNaOHを点添加するこ
とによって所望のpHにする。
b)界面活性剤溶液:
これは、蒸留水に溶解させた試験界面活性剤を6重量%
含有する。
含有する。
疎水相:
C)インドデカン
エマルジョンの調製:
成分(a)、(b)および(c)を2:2: lの容積
比で混合し、この混合物を回転子−固定子を用いて1分
間10 000回転/文で均一化させる。生成する50
重債%濃度の水中油のエマルジョンは、有機相の容積を
基準にして3Ti量%の界面活性剤(ンラン誘導体)を
含有する 結果として得られるエマルジョンの安定性1日および3
週間の放置後評価し、下記の等級を用いlこ : 安定性=I、エマルジョンか、数日かかつて濃縮した白
色の上層(クリーム層)と乳濁から透明の水相に分離す
る。このクリーム層が、その白色を観察期間を通して保
持し、変化しない。分離したインドデカン層の形成か生
しない。
比で混合し、この混合物を回転子−固定子を用いて1分
間10 000回転/文で均一化させる。生成する50
重債%濃度の水中油のエマルジョンは、有機相の容積を
基準にして3Ti量%の界面活性剤(ンラン誘導体)を
含有する 結果として得られるエマルジョンの安定性1日および3
週間の放置後評価し、下記の等級を用いlこ : 安定性=I、エマルジョンか、数日かかつて濃縮した白
色の上層(クリーム層)と乳濁から透明の水相に分離す
る。このクリーム層が、その白色を観察期間を通して保
持し、変化しない。分離したインドデカン層の形成か生
しない。
安定性−■:数時間でクリーム層を生成し;1日でクリ
ーム層がガラス状の粘性物を有する(小滴の肥大化/合
体化の兆候)。
ーム層がガラス状の粘性物を有する(小滴の肥大化/合
体化の兆候)。
更に、クリーム層上のインドデカン層の形成か1日です
でに観察され;このイソドデカン層の容積か観察期間を
通して大きくなる。
でに観察され;このイソドデカン層の容積か観察期間を
通して大きくなる。
安定性−m=エマルジョンか、数分間で水相とインドデ
カン層に分離する。クリーム層を形成しないか、或いは
クリーム層かある部分にのみ形成される。
カン層に分離する。クリーム層を形成しないか、或いは
クリーム層かある部分にのみ形成される。
種々のpH値において、本発明に従う個々の界面活性剤
類に関して得られた安定性の値を、下記の表5に示す。
類に関して得られた安定性の値を、下記の表5に示す。
比較として、従来技術に属するところの構造的に関係の
ある二つの界面活性剤に関する安定性の値も示した。
ある二つの界面活性剤に関する安定性の値も示した。
本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりである。
1、式
1式中、
R1は、HまたはC,−C,−アルキルを表わし、
nは、2〜300の整数を表わし、
R2およびR1は、互いに独立してC+−C+Sアルキ
ルまたはフェニルを表わし、 Xは、 O−、S 、 NRs (Rs:水素ま
たはC,−C4−アルキル)または(r = 1−10
0の整数) を表わし、そして mは、0またはlを表わし、 そして R4は、H%Cl−C5a−フルキル、c2C31−ア
ルケニル、C,C3!−シクロアルキ(ケニ)ル、c、
03m−アラルキル、C*Cx*−アリール、式(
11) (式中、 基R6およびR2の一方がメチルを表わし、他方がHを
表わし、R6がC,−C,−アルキルを表わしそして Xが10〜300の整数を表わす) の基、または式CI[I) 9−’ (式中、 Rl’% R2’x R3’、X′、m′およびn′が
式(I)においてR1、RzSRl、X、 mおよびn
に関して与えられた意味を有し、そして Aが、二価の疎水基を表わす) の基を表わすが、 但し、基R2、R1およびR1中に含まれるC原子の合
計が少なくとも14であることを条件とする] シラン誘導体類。
ルまたはフェニルを表わし、 Xは、 O−、S 、 NRs (Rs:水素ま
たはC,−C4−アルキル)または(r = 1−10
0の整数) を表わし、そして mは、0またはlを表わし、 そして R4は、H%Cl−C5a−フルキル、c2C31−ア
ルケニル、C,C3!−シクロアルキ(ケニ)ル、c、
03m−アラルキル、C*Cx*−アリール、式(
11) (式中、 基R6およびR2の一方がメチルを表わし、他方がHを
表わし、R6がC,−C,−アルキルを表わしそして Xが10〜300の整数を表わす) の基、または式CI[I) 9−’ (式中、 Rl’% R2’x R3’、X′、m′およびn′が
式(I)においてR1、RzSRl、X、 mおよびn
に関して与えられた意味を有し、そして Aが、二価の疎水基を表わす) の基を表わすが、 但し、基R2、R1およびR1中に含まれるC原子の合
計が少なくとも14であることを条件とする] シラン誘導体類。
2、式(I)において、
R1が、C,−C,−アルキルを表わし、nが、5〜5
0の整数を表わし、 R2およびR1が、互いに独立してc、 Cl6−ア
ルキルまたはフェニルを表わし、 Xが、−〇−、−3−、−NRs−(Rs:水素または
C、−C、−アルキル)または (r:5〜50の整数) を表わし、そして mが、0または1を表わし、 そして R4が、C,−C2゜−アルキル、C2−C2゜−アル
ケニル、C7C20−アラルキルまたはCS−C2゜ア
リール、或いは式 (式中、R6およびR7の基の一方がメチルを表わし、
他方がHを表わし、R6がC2C3−アルキル、そして Xか10〜50の整数を表わす) の基を表わす、 ことを特徴とする第1項記載のシラン誘導体類。
0の整数を表わし、 R2およびR1が、互いに独立してc、 Cl6−ア
ルキルまたはフェニルを表わし、 Xが、−〇−、−3−、−NRs−(Rs:水素または
C、−C、−アルキル)または (r:5〜50の整数) を表わし、そして mが、0または1を表わし、 そして R4が、C,−C2゜−アルキル、C2−C2゜−アル
ケニル、C7C20−アラルキルまたはCS−C2゜ア
リール、或いは式 (式中、R6およびR7の基の一方がメチルを表わし、
他方がHを表わし、R6がC2C3−アルキル、そして Xか10〜50の整数を表わす) の基を表わす、 ことを特徴とする第1項記載のシラン誘導体類。
3、式(I)において、
R1が、メチルまたはエチルを表わし、nが、5〜50
の整数を表わし、 R2およびR1が、互いに独立してCI Cl8−ア
ルキルまたはフェニルを表わし、 Xが、r−nの場合、−〇−、−3−、−NHまたは mが、■を表わし、そして R6が、cac2o−アルキル、Cm Cxo−アラ
ルキルまたはca C20−アリール、或いはR,−
R1を表わす、 ことを特徴とする第1項記載のシラン誘導体類。
の整数を表わし、 R2およびR1が、互いに独立してCI Cl8−ア
ルキルまたはフェニルを表わし、 Xが、r−nの場合、−〇−、−3−、−NHまたは mが、■を表わし、そして R6が、cac2o−アルキル、Cm Cxo−アラ
ルキルまたはca C20−アリール、或いはR,−
R1を表わす、 ことを特徴とする第1項記載のシラン誘導体類。
4、m=1である式(I)のシラン誘導体類を製造する
ため、式 [式中、 R2およびR3は、上記第1項中の式(1)において与
えられた意味を有し、そしてYは、加水分解可能な原子
または加水分解可能な基を表わす] のシラン類と、式 [式中、 R,およびnは、式(I)において与えられた意味を有
する1 か、または式 %式%() [式中、 R1およびXは、式(I)において与えられた意味を有
する] の、反応性を示す水素を有する化合物類とを、最初に反
応させて、式 %式% [式中、 R1、R2、R1、RいnおよびXは、式(I)におい
て与えられた意味を有し、モしてYは式(V)において
与えられた意味を有する] のシラン化合物類を製造した後、これらの式(■a)ま
たは(■b)のシラン化合物類と、式(■)および(V
[)の化合物類とを、第2の反応段階で反応させる、即
ち、シラン化合物類(■a)と式(■)の化合物類とを
反応させ、そして、シラン化合物類(■b)と式(Vl
)の化合物類とを反応させる、ことを特徴とする第1.
2または3項記載のシラン誘導体類の製造方法。
ため、式 [式中、 R2およびR3は、上記第1項中の式(1)において与
えられた意味を有し、そしてYは、加水分解可能な原子
または加水分解可能な基を表わす] のシラン類と、式 [式中、 R,およびnは、式(I)において与えられた意味を有
する1 か、または式 %式%() [式中、 R1およびXは、式(I)において与えられた意味を有
する] の、反応性を示す水素を有する化合物類とを、最初に反
応させて、式 %式% [式中、 R1、R2、R1、RいnおよびXは、式(I)におい
て与えられた意味を有し、モしてYは式(V)において
与えられた意味を有する] のシラン化合物類を製造した後、これらの式(■a)ま
たは(■b)のシラン化合物類と、式(■)および(V
[)の化合物類とを、第2の反応段階で反応させる、即
ち、シラン化合物類(■a)と式(■)の化合物類とを
反応させ、そして、シラン化合物類(■b)と式(Vl
)の化合物類とを反応させる、ことを特徴とする第1.
2または3項記載のシラン誘導体類の製造方法。
5、mが0である場合の式(I)のシラン誘導体類を製
造するため、式 %式%() [式中、 R3、R1およびR4は、式(I)における第1項中で
与えられた意味を有し、Yは、式(V)において第4項
中で与えられた意味を有する] のシラン類と、式 1式中、 R1およびnは、式(I)において与えられた意味を有
する] の、反応性を示す水素を有する化合物類とを、反応させ
ることを特徴とする第1.2または3項記載のシラン誘
導体類の製造方法。
造するため、式 %式%() [式中、 R3、R1およびR4は、式(I)における第1項中で
与えられた意味を有し、Yは、式(V)において第4項
中で与えられた意味を有する] のシラン類と、式 1式中、 R1およびnは、式(I)において与えられた意味を有
する] の、反応性を示す水素を有する化合物類とを、反応させ
ることを特徴とする第1.2または3項記載のシラン誘
導体類の製造方法。
6、式(V)、(Vlll a )、(vmb)および
(ff)のシラン類の反応を、不活性ガス雰囲気中、反
応条件下で不活性な有機溶媒中、そして塩基の存在下0
〜100°Cの温度で行なうことを特徴とする第4また
は5項記載の方法。
(ff)のシラン類の反応を、不活性ガス雰囲気中、反
応条件下で不活性な有機溶媒中、そして塩基の存在下0
〜100°Cの温度で行なうことを特徴とする第4また
は5項記載の方法。
7、界面活性剤としての第1.2または3項記載のシラ
ン誘導体類の使用。
ン誘導体類の使用。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R_1は、HまたはC_1−C_4−アルキル
を表わし、nは、2〜300の整数を表わし、R_2お
よびR_3は、互いに独立してC_1−C_1_6アル
キルまたはフェニルを表わし、Xは、−O−、−S−、
−NR_5−(R_5:水素またはC_1−C_4−ア
ルキル)または▲数式、化学式、表等があります▼ (r=1〜100の整数) を表わし、そしてmは、0または1を表わし、そしてR
_4は、H、C_1−C_1_6−アルキル、C_2C
_3_6−アルケニル、C_5−C_3_6−シクロア
ルキ(ケニ)ル、C_7−C_3_6−アラルキル、C
_6−C_3_6−アリール、式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、基R_6およびR_7の一方がメチルを表わし
、他方がHを表わし、R_8がC_1−C_4−アルキ
ルを表わしそしてxが10〜300の整数を表わす) の基、または式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_1′、R_2′、R_3′、X′、m′お
よびn′が式( I )においてR_1、R_2、R_3
、X、mおよびnに関して与えられた意味を有し、そし
てAが、二価の疎水基を表わす)の基を表わすが、 但し、基R_2、R_3およびR_4中に含まれるC原
子の合計が少なくとも14であることを条件とする] シラン誘導体類。 2、m=1である式( I )のシラン誘導体類を製造す
るため、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) [式中、R_2およびR_3は、特許請求の範囲第1項
中の式( I )において与えられた意味を有し、そして
Yは、加水分解可能な原子または加水分解可能な基を表
わす]のシラン類と、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) [式中、 R_1およびnは、式( I )において与えられた意味
を有する]か、または式 R_4−X−H(VII) [式中、R_4およびXは、式( I )において与えら
れた意味を有する]の、反応性を示す水素を有する化合
物類とを、最初に反応させて、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VIIIa) または ▲数式、化学式、表等があります▼(VIIIb) [式中、R_1、R_2、R_3、R_4、nおよびX
は、式( I )において与えられた意味を有し、そして
Yは式(V)において与えられた意味を有する] のシラン化合物類を製造した後、これらの式(VIIIa)
または(VIIIb)のシラン化合物類と、式(VII)およ
び(VI)の化合物類とを、第2の反応段階で反応させる
、即ち、シラン化合物類(VIIIa)と式(VII)の化合
物類とを反応させ、そして、シラン化合物類(VIIIb)
と式(VI)の化合物類とを反応させる、ことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のシラン誘導体類の製造方
法。 3、mが0である場合の式( I )のシラン誘導体類を
製造するため、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) [式中、R_2、R_3およびR_4は、式( I )に
おける特許請求の範囲第1項中で与えられた意味を有し
、Yは、式(V)において特許請求の範囲第2項中で与
えられた意味を有する]のシラン類と、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) [式中、R_1およびnは、式(I)において与えられ
た意味を有する]の、反応性を示す水素を有する化合物
類とを、反応させることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のシラン誘導体類の製造方法。 4、特許請求の範囲第1項記載のシラン誘導体類の界面
活性剤としての使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3929866.3 | 1989-09-08 | ||
DE3929866A DE3929866A1 (de) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | Spaltbare tenside, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03178333A true JPH03178333A (ja) | 1991-08-02 |
Family
ID=6388903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2232610A Pending JPH03178333A (ja) | 1989-09-08 | 1990-09-04 | 開裂可能な界面活性剤類、それらの製造方法およびそれらの使用 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5171476A (ja) |
EP (1) | EP0416402A3 (ja) |
JP (1) | JPH03178333A (ja) |
DE (1) | DE3929866A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
US5226923A (en) * | 1990-06-18 | 1993-07-13 | Siltech Corporation | Silicone fatty esters as conditioning agents |
DE4122263C1 (ja) * | 1991-07-05 | 1993-02-25 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De | |
DE4306041A1 (de) * | 1993-02-26 | 1994-09-01 | Wacker Chemie Gmbh | Glycosidreste aufweisende Organosiliciumverbindungen und Verfahren zu deren Herstellung |
US5374761A (en) * | 1994-04-29 | 1994-12-20 | Corning Corporation | Process for preparation of organooxysilanes |
DE19611452A1 (de) * | 1995-03-27 | 1996-10-02 | Shinetsu Chemical Co | Wasserlösliches Mittel zur Verhinderung der Wasserabsorption und Verfahren zur Verhinderung der Wasserabsorption |
US6403548B1 (en) | 1998-10-27 | 2002-06-11 | Unilever Home & Personal Care Usa, Division Of Conopco, Inc. | Wrinkle reduction laundry product compositions |
US6426328B2 (en) | 1998-10-27 | 2002-07-30 | Unilever Home & Personal Care, Usa Division Of Conopco Inc. | Wrinkle reduction laundry product compositions |
US6376456B1 (en) | 1998-10-27 | 2002-04-23 | Unilever Home & Personal Care Usa, Division Of Conopco, Inc. | Wrinkle reduction laundry product compositions |
GB2372058B (en) * | 2001-02-13 | 2004-01-28 | Schlumberger Holdings | Viscoelastic compositions |
US8785355B2 (en) | 2001-02-13 | 2014-07-22 | Schlumberger Technology Corporation | Viscoelastic compositions |
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KR101904824B1 (ko) * | 2011-09-06 | 2018-11-29 | 리쿠아비스타 비.브이. | 계면활성제 및 그것을 이용하여 전기 습윤 표시 장치를 제조하는 방법 |
Family Cites Families (9)
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---|---|---|---|---|
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GB802688A (en) * | 1954-06-10 | 1958-10-08 | Union Carbide Corp | Improvements in or relating to organo-silicon compounds |
US3308149A (en) * | 1963-06-13 | 1967-03-07 | Gen Aniline & Film Corp | Organic polyalkyleneoxy silicates |
US3359212A (en) * | 1964-06-19 | 1967-12-19 | Union Carbide Corp | Aqueous mixture and silicone oil in water emulsion containing siloxane wetting agents |
DE2304503A1 (de) * | 1973-01-31 | 1974-08-01 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur herstellung von silanestern tertiaerer alkohole |
US4160776A (en) * | 1978-06-29 | 1979-07-10 | Olin Corporation | Alkoxy-bis (trialkoxysiloxy)-silane surfactants |
US4226794A (en) * | 1979-05-21 | 1980-10-07 | Olin Corporation | Low-foaming alkoxy-bis(trialkoxysiloxy)-silane surfactants |
US4306035A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-15 | Union Carbide Corporation | Use of alkoxysilicon compositions as foam stabilizers in high resilience polyurethane foams |
DE3436177A1 (de) * | 1984-10-03 | 1986-04-03 | Goldschmidt Ag Th | Verwendung von polyoxyalkylen-polysiloxan-copolymerisaten mit an siliciumatomen gebundenen langkettigen alkylresten als emulgatoren zur herstellung von w/o-emulsionen |
-
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- 1989-09-08 DE DE3929866A patent/DE3929866A1/de not_active Withdrawn
-
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- 1990-09-04 JP JP2232610A patent/JPH03178333A/ja active Pending
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US5171476A (en) | 1992-12-15 |
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