JPH03175712A - 圧電共振子 - Google Patents

圧電共振子

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JPH03175712A
JPH03175712A JP31557589A JP31557589A JPH03175712A JP H03175712 A JPH03175712 A JP H03175712A JP 31557589 A JP31557589 A JP 31557589A JP 31557589 A JP31557589 A JP 31557589A JP H03175712 A JPH03175712 A JP H03175712A
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vibration space
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vibrating
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Yasuhiro Tanaka
田中 康廣
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、フィルタ回路、発振回路等に使用される圧電
共振子に関する。
従来の技術と課題 従来の圧電共振子として、例えば第9図及び第10図に
示すチップ型圧電共振子50が知られている。圧電共振
子50は振動電極56a、 56bを設けた圧電体基板
51を上下から封止基板52.53で挾んで接着剤57
で貼り合わせて積層したものである。積層体の両端部に
は外部電極54.55が形成されている。
通常、封止基板52.53には圧電体基板51を機械的
に補強するため高強度の絶縁基板が用いられる。
さらに、振動空間を形成するため、第10図に示すよう
に、接着剤57の厚みが利用される。また、第11図に
示すように封止基板58.59に振動空間形成用凹部5
8a r 59aを設げて振動空間を形成する場合もあ
る。ところが、これらの振動空間は電気特性の関係から
その寸法精度が厳しく要求されるため、封止作業は高度
かつ複雑な作業管理の下で行なわれ、生産性が損なわれ
易かった。
そこで、本発明の課題は、封止作業を簡単に実施するこ
とができる圧電共振子を提供することにある。
課題を解決するための手段 以上の課題を解決するため、本発明に係る圧電共振子は
、振動空間形成薄膜と圧電体基板とが振動空間を設けた
状態で一体構造物を成し、該構造物に機械的強度が高い
補強板を接合していることを特徴とする。
生−浬 以上の構成において、従来の封止基板が有していた振動
空間形成機能と機械強度補強機能とをそれぞれ振動空間
形成薄膜と補強板とに担わせることによって、振動空間
は予め振動空間形成薄膜と圧電体基板とで簡単に精度良
く形成される一方、補強板の接着作業は既に振動空間が
形成されているため、振動空間の寸法精度と関係なく独
立して簡易な方法で実施される。
表置む 以下、本発明に係る圧電共振子の実施例を説明する。
[第1実施例、第1図及び第2図] 第1図は圧電体基板1と振動空間形成薄膜3゜4とが振
動空間を′形成した後の状態を示す垂直断面図である。
圧電体基板1の上下面には、振動電極2a、 2bが設
けられている。この振動電極2a、2bの対向部分に振
動エネルギーが閉じ込められ、機械的励振が生ずる。圧
電体基板2には水晶基板やpb(ZrTiO,) 、 
BaTiOsのセラミックス基板等が使用される。
振動空間形成薄膜3,4はシート状の樹脂、インク等の
塗料、あるいは金属箔、セラミックス箔等の単層、また
はこれらを組み合わせた複合層から成る。振動空間形成
薄膜3,4の中央部は振動空間3a、4gを形成するた
めそれぞれ上側及び下側にふくらんでいて、その周囲部
は圧電体基板1の表面に充分な強度で密着されている。
振動空間3a、 4aは公知の方法で形成される。例え
ば、ロスト・ワックス法等を適用すれば寸法精度の優れ
た振動空間が簡単に形成される。このロスト・ワックス
法は、振動電極2a、2bが対向する部分、即ち機械的
励振が生ずる部分に、常温では固体又は半固体で加熱に
より容易に融解するワックスの被膜を形成した後、その
上に絶縁性樹脂層を浸漬法又はモールド法等により形成
し、該絶縁性樹脂層の形成時又は形成後に加熱して前記
被膜を融解させて該絶縁性樹脂層に吸収させることによ
り機械的励振が生ずる部分に振動空間を設ける方法であ
る。また、エンボス加工されたシートを貼り付けて振動
空間を形成する方法や振動部を残して薄膜状の樹脂を印
刷塗布した後、この上にカバー膜を貼り付けあるいは融
着して振動空間を形成する方法であってもよい。
次に、第2図に示すように、振動空間3a、 4aが設
けられた圧電体基板1の下側に接着剤5を介して補強板
6を貼り付けて積層体を形成する。補強板6は、その仕
様に合わせて樹脂、セラミックス、金属等の材料が選択
され、使用される。補強板6の板厚はこの圧電共振子本
体の機械的強度を左右する重要な因子の一つであり、製
造工程中の取り扱い、並びにプリント配線板等への実装
後の機械的ストレスに耐え得る強度となるよう充分検討
して選定される。
振動空間形成薄膜4は、接着剤5によって堅固に補強板
6と接合し、外界からの種々のストレスに対し、不均一
な力が加わらないように貼り合わせられる。接着剤5に
は振動空間3a、 4aの寸法精度に影響を及ぼさない
材質、接着方法が選定される。この後、外部電極7.8
が積層体の両端部に形成され圧電共振子10が完成する
こうして得られた圧電共振子10は振動空間3a。
4− 4aを圧電体基板1と振動空間形成薄膜3,4とで予め
形成するため、補強板6の接着作業は、振動空間3a、
4aの形成とは独立して実施され、振動空間3a、 4
aの寸法精度と関係なく簡易な方法が採用できる。一方
、圧電共振子10本体の機械的強度は補強板6によって
支持されるため強いものとなる。
[第2実施例〜第6実施例、第3図〜第7図コ第3図は
、本発明に係る第2実施例を示す垂直断面図である。振
動空間形成薄膜11.12が圧電体基板1の機械的励振
が生ずる部分にのみ形成されているものである。
第4図は、本発明に係る第3実施例を示す。圧電体基板
1と振動空間形成薄膜3,4との一体構造物の上下に接
着剤5を介して補強板6,6を貼り付けたもので、特に
大きな機械的強度が要求される場合に対応できるもので
ある。
第5図は、本発明に係る第4実施例を示す。第1実施例
の振動空間形成薄膜3の替わりにセラミックス基板や樹
脂基板等の絶縁基板を使用した封止基板15を貼り合わ
せたものである。
第6図は、本発明に係る第5実施例を示す。振動空間形
成薄膜4に小片の補強板16a、16bを接着剤5を介
して局所的に貼り付けたものである。
第7図は、本発明に係る第6実施例を示す。2枚の補強
板6,6を積み重ねて2層構造にして振動空間形成薄膜
4に接着剤5を介して貼り合わせたものである。
[他の実施例] なお、本発明に係る圧電共振子は前記実施例に限定する
ものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更すること
ができる。
実施例は圧電共振子が1個のみの場合を示したが、圧電
共振子を複数個備えたマザー基板の状態で製造すればよ
り効果的である。また、多層に積層された圧電共振子に
も同様に適用できる。
また、前記実施例は補強板が圧電体基板と同等のサイズ
かそれよりも小さいものを示したが、第8図に示すよう
に圧電体基板より大きいサイズの補強板20であっても
よい。
発明の効果 本発明は、従来の封止基板が有していた振動空間形成機
能と機械的強度補強機能とを、それぞれ振動空間形成薄
膜と補強板とに分離して担わせることによって、予め振
動空間形成薄膜と圧電体基板とで振動空間を簡単に寸法
精度良く形成した後、補強板を接着するので、補強板の
接着作業が振動空間形成とは独立して実施され、振動空
間の寸法精度と関係なく簡易な方法が採用できる。また
、接着剤、補強板の材質も選択範囲が広がりコストダウ
ンが図れる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の第1実施例である圧電共振
子を示し、第1図は圧電体基板と振動空間形成薄膜とが
振動空間を形成した後の状態を示す垂直断面図、第2図
は完成後の圧電共振子の垂直断面図である。第3図、第
4図、第5図、第6図、第7図はそれぞれ本発明の第2
実施例、第3実施例、第4実施例、第5実施例、第6実
施例である完成後の圧電共振子の垂直断面図である。第
8図は第1実施例の変形例を示す垂直断面図である。第
9図ないし第11図は従来の圧電共振子を示すもので、
第9図は外観を示す斜視図、第10図は第9図のx−x
’の垂直断面図、第11図は他の例を示す垂直断面図で
ある。 1・・・圧電体基板、2a、2b・・・振動電極、3,
4・・・振動空間形成薄膜、3a+ 4a・・・振動空
間、5・・・接着剤、6・・・補強板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.振動空間形成薄膜と圧電体基板とが振動空間を設け
    た状態で一体構造物を成し、該構造物に機械的強度が高
    い補強板を接合していることを特徴とする圧電共振子。
JP1315575A 1989-12-04 1989-12-04 圧電共振子 Expired - Fee Related JP2694747B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016163090A (ja) * 2015-02-27 2016-09-05 京セラクリスタルデバイス株式会社 圧電デバイス及び圧電デバイスの製造方法

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JP2694747B2 (ja) 1997-12-24

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