JPH0316626B2 - - Google Patents
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- JPH0316626B2 JPH0316626B2 JP59165858A JP16585884A JPH0316626B2 JP H0316626 B2 JPH0316626 B2 JP H0316626B2 JP 59165858 A JP59165858 A JP 59165858A JP 16585884 A JP16585884 A JP 16585884A JP H0316626 B2 JPH0316626 B2 JP H0316626B2
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 46
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 39
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 33
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 101100117775 Arabidopsis thaliana DUT gene Proteins 0.000 description 5
- 101150091805 DUT1 gene Proteins 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- 101100444142 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) dut-1 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/317—Testing of digital circuits
- G01R31/3181—Functional testing
- G01R31/319—Tester hardware, i.e. output processing circuits
- G01R31/31917—Stimuli generation or application of test patterns to the device under test [DUT]
- G01R31/31924—Voltage or current aspects, e.g. driver, receiver
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
- G01R31/2601—Apparatus or methods therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Measurement Of Current Or Voltage (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、半導体装置との電気的接続の確認
を短時間で実施できる半導体試験装置に関するも
のである。
を短時間で実施できる半導体試験装置に関するも
のである。
従来、この種の半導体試験装置(以後テスタと
いう)としては第1図に示すものがあつた。図に
おいて、1は被測定半導体装置(以後DUTとい
う)、2は定電圧源7または定電流源装置8(以
後PMUという)を内蔵しているテスタであり、
1a,1b,1c…,1lはDTU1の入出力端
子群を示す。なお、PMU7,8は半導体装置の
DC測定のために通常テスタ2に装備されている
機能である。DUT1の構造は第2図に示すよう
に、入出力端子1aが導体(通常、金またはアル
ミ細線)1a′によつて半導体チツプ装置3上に微
細加工されたボンデイングパツド4に接合されて
いる。なお5は半導体チツプ3と端子1を組み立
てたパツケージである。
いう)としては第1図に示すものがあつた。図に
おいて、1は被測定半導体装置(以後DUTとい
う)、2は定電圧源7または定電流源装置8(以
後PMUという)を内蔵しているテスタであり、
1a,1b,1c…,1lはDTU1の入出力端
子群を示す。なお、PMU7,8は半導体装置の
DC測定のために通常テスタ2に装備されている
機能である。DUT1の構造は第2図に示すよう
に、入出力端子1aが導体(通常、金またはアル
ミ細線)1a′によつて半導体チツプ装置3上に微
細加工されたボンデイングパツド4に接合されて
いる。なお5は半導体チツプ3と端子1を組み立
てたパツケージである。
ここでDUT1とテスタ2との電気的接続の確
認はテスタ2に内蔵されている定電圧源7または
定電流源8によりDUT1の端子群1a〜1lへ
電圧または電流を印加して、その時の電流源、電
圧値を測定することにより実施している。
認はテスタ2に内蔵されている定電圧源7または
定電流源8によりDUT1の端子群1a〜1lへ
電圧または電流を印加して、その時の電流源、電
圧値を測定することにより実施している。
第3図はDUT1内部のボンデイングパツド4
から見た電気回路構成を示しており、図中の破線
より右側がDUT1の半導体チツプ装置内の回路
を示している。通常、半導体装置の入力及び出力
端子には保護回路が採用されている場合が多く、
これは同図のようにダイオード5と抵抗6とを用
いた構成が一般的である。DUT1とテスタ2と
の電気的接続はこのダイオードの順方向電流を測
定することで、テスタ2とDUT1との断線、さ
らにDUT1の端子群1a〜1lからの微細加工
された導体(通常はアルミ線)の断線を有無が明
確となる。
から見た電気回路構成を示しており、図中の破線
より右側がDUT1の半導体チツプ装置内の回路
を示している。通常、半導体装置の入力及び出力
端子には保護回路が採用されている場合が多く、
これは同図のようにダイオード5と抵抗6とを用
いた構成が一般的である。DUT1とテスタ2と
の電気的接続はこのダイオードの順方向電流を測
定することで、テスタ2とDUT1との断線、さ
らにDUT1の端子群1a〜1lからの微細加工
された導体(通常はアルミ線)の断線を有無が明
確となる。
断線検出法としては、例えば第4図に示すよう
に、端子4に定電流源8を接続してIo(μA)を印
加するとダイオード5の順方向電流と抵抗6によ
つて発生する電圧VoはVo=Io(μA)×Ro(Ω)と
なる。ここで、もし半導体装置のグランドGDか
らテスタ2の接地GTまでの間で断線があれば、
前述したVo値が非常に大きく変化するので、期
待されるVo値近辺(Vomin〜Vomax)以外の値
が検出されれば、DUT1とテスタ2との電気的
接続が不充分であるか、または不具合を有してい
ると判定できる。あるいは第5図に示すように定
電圧源7を接続して電流値で判定することによつ
ても同様の効果が得られる。
に、端子4に定電流源8を接続してIo(μA)を印
加するとダイオード5の順方向電流と抵抗6によ
つて発生する電圧VoはVo=Io(μA)×Ro(Ω)と
なる。ここで、もし半導体装置のグランドGDか
らテスタ2の接地GTまでの間で断線があれば、
前述したVo値が非常に大きく変化するので、期
待されるVo値近辺(Vomin〜Vomax)以外の値
が検出されれば、DUT1とテスタ2との電気的
接続が不充分であるか、または不具合を有してい
ると判定できる。あるいは第5図に示すように定
電圧源7を接続して電流値で判定することによつ
ても同様の効果が得られる。
従来の接続の試験方式ではテスタ2に内蔵され
ている定電流源装置8または定電圧源装置7を用
いてこの判定が実施されていた。ところでこれら
の装置は設定電圧値、あるいは電流値に確実に達
するまで数ms程度の時間を費やしており、さら
に、この目的で利用可能な定電圧・電流源装置は
価格も高く、テスタに搭載する台数にも制限があ
り、多くの入出力端子を有するDUTの電気接続
チエツクをするにはDUTの被測定端子数の増加
に伴つて確認時間が増加するという欠点があつ
た。またここで時間短縮をPMU接続で可能とす
るには、被測定端子数と同じ数だけのPMUをテ
スタに内蔵すればよいのであるが、前述したよう
にPMUは価格も高く、本接続試験用の目的でテ
スタ機能の変更を行なうのは得策ではない。
ている定電流源装置8または定電圧源装置7を用
いてこの判定が実施されていた。ところでこれら
の装置は設定電圧値、あるいは電流値に確実に達
するまで数ms程度の時間を費やしており、さら
に、この目的で利用可能な定電圧・電流源装置は
価格も高く、テスタに搭載する台数にも制限があ
り、多くの入出力端子を有するDUTの電気接続
チエツクをするにはDUTの被測定端子数の増加
に伴つて確認時間が増加するという欠点があつ
た。またここで時間短縮をPMU接続で可能とす
るには、被測定端子数と同じ数だけのPMUをテ
スタに内蔵すればよいのであるが、前述したよう
にPMUは価格も高く、本接続試験用の目的でテ
スタ機能の変更を行なうのは得策ではない。
本発明は、上記のような従来のものの欠点を除
去するためになされたもので、一般のテスタにお
いて、被試験半導体装置の入出力端子に対応して
複数設けられたダイオードブリツジ回路と比較器
とを用いて、多入出力端子を有するDUTとテス
タとの接続チエツクを行なうことにより、端子数
の規模に関係なく、テスタの有する最高動作周波
数で短時間にこれを確認でき、かつ安価に構成で
きる半導体試験装置を提供することを目的として
いる。
去するためになされたもので、一般のテスタにお
いて、被試験半導体装置の入出力端子に対応して
複数設けられたダイオードブリツジ回路と比較器
とを用いて、多入出力端子を有するDUTとテス
タとの接続チエツクを行なうことにより、端子数
の規模に関係なく、テスタの有する最高動作周波
数で短時間にこれを確認でき、かつ安価に構成で
きる半導体試験装置を提供することを目的として
いる。
以下、この発明の実施例を図について説明す
る。第6図は本発明の一実施例を示し、図におい
て、Aは被試験半導体装置における入出力端子と
の電気的接続の確認試験を行なうためにテスタに
内蔵されている4つのダイオード11a,11
b,11c,11dから構成されるダイオードブ
リツジ回路からなるダイナミツクロード回路(あ
るいはプログラマブルロード回路ともいう)を有
したものであり、これは後述する比較器(コンパ
レータ)14とともに被試験半導体装置の入出力
端子に対応して複数設けられ、テスタの有する最
高動作周波数(通常20MHzから100MHz)で動作
できるようになつている。
る。第6図は本発明の一実施例を示し、図におい
て、Aは被試験半導体装置における入出力端子と
の電気的接続の確認試験を行なうためにテスタに
内蔵されている4つのダイオード11a,11
b,11c,11dから構成されるダイオードブ
リツジ回路からなるダイナミツクロード回路(あ
るいはプログラマブルロード回路ともいう)を有
したものであり、これは後述する比較器(コンパ
レータ)14とともに被試験半導体装置の入出力
端子に対応して複数設けられ、テスタの有する最
高動作周波数(通常20MHzから100MHz)で動作
できるようになつている。
そして、この各ダイオードブリツジ回路は、ブ
リツジ接続された4つのダイオード11a,11
b,11c,11dを有するとともに、対向した
位置にある第1及び第2のブリツジノード10
c,10dと、対応した上記入出力端子が接続さ
れる端子に接続された測定電位ブリツジノード1
0bと、基準電位が印加される基準電位ブリツジ
ノード10aとを有したものである。また、ダイ
オードブリツジ回路の第1のブリツジノード10
cと第1の電位ノード12との間に第1の定電流
源9aが接続されているとともに、ダイオードブ
リツジ回路の第2のブリツジノード10dと第2
の電位ノード13との間に第2の定電流源9bが
接続されている。ダイオードブリツジ回路の基準
電位ブリツジノード10aには、被試験半導体装
置を接続して電気的接続の確認試験を行うときに
正常状態であると測定電位ブリツジノード10b
に現れると予想される電位よりも低い(あるいは
高い)電位となる基準の直流電位を発生する基準
電圧発生装置10が接続されている。そして、こ
の各ダイオードブリツジ回路は第1の電位ノード
12から第2の電位ノード13までの間で必ず第
1のノード12から電流が流れだし、第2のノー
ド13には必ず電流が流れ込んで来るように構成
され、測定電位ブリツジノード10bに他のもの
が接続されていないと基準電位ブリツジノード1
0aと測定電位ブリツジノード10bに現れる電
位を同じ値に保持するように機能するものであ
る。
リツジ接続された4つのダイオード11a,11
b,11c,11dを有するとともに、対向した
位置にある第1及び第2のブリツジノード10
c,10dと、対応した上記入出力端子が接続さ
れる端子に接続された測定電位ブリツジノード1
0bと、基準電位が印加される基準電位ブリツジ
ノード10aとを有したものである。また、ダイ
オードブリツジ回路の第1のブリツジノード10
cと第1の電位ノード12との間に第1の定電流
源9aが接続されているとともに、ダイオードブ
リツジ回路の第2のブリツジノード10dと第2
の電位ノード13との間に第2の定電流源9bが
接続されている。ダイオードブリツジ回路の基準
電位ブリツジノード10aには、被試験半導体装
置を接続して電気的接続の確認試験を行うときに
正常状態であると測定電位ブリツジノード10b
に現れると予想される電位よりも低い(あるいは
高い)電位となる基準の直流電位を発生する基準
電圧発生装置10が接続されている。そして、こ
の各ダイオードブリツジ回路は第1の電位ノード
12から第2の電位ノード13までの間で必ず第
1のノード12から電流が流れだし、第2のノー
ド13には必ず電流が流れ込んで来るように構成
され、測定電位ブリツジノード10bに他のもの
が接続されていないと基準電位ブリツジノード1
0aと測定電位ブリツジノード10bに現れる電
位を同じ値に保持するように機能するものであ
る。
また、各比較器14は対応したダイオードブリ
ツジ回路の測定電位ブリツジノード10bに現れ
た電位を所定電位、つまり上限設定値レジスタ1
5にて設定された正常状態においてダイオードブ
リツジ回路の測定電位ブリツジノード10bに得
られるべき電位より高い設定値及び下限設定値レ
ジスタ16にて設定された正常状態においてダイ
オードブリツジ回路の測定電位ブリツジノード1
0bに得られるべき電位より低い設定値とを比較
するものであり、例えば、ダイオードブリツジ回
路の測定電位ブリツジノード10bに現れた電位
が、上現設定値レジスタ15における設定値と下
限設定値レジスタ16における設定値との範囲内
であるときはパスを意味する出力、例えば“1”
に相当する信号を出力し、範囲内外である時はフ
エイルを意味する出力、例えば“0”に相当する
信号を出力する。なお、上限設定値レジスタ15
における設定値と下限設値レジスタ16における
設定値との範囲内には基準電圧発生装置10にお
ける基準電位を含まないものである。
ツジ回路の測定電位ブリツジノード10bに現れ
た電位を所定電位、つまり上限設定値レジスタ1
5にて設定された正常状態においてダイオードブ
リツジ回路の測定電位ブリツジノード10bに得
られるべき電位より高い設定値及び下限設定値レ
ジスタ16にて設定された正常状態においてダイ
オードブリツジ回路の測定電位ブリツジノード1
0bに得られるべき電位より低い設定値とを比較
するものであり、例えば、ダイオードブリツジ回
路の測定電位ブリツジノード10bに現れた電位
が、上現設定値レジスタ15における設定値と下
限設定値レジスタ16における設定値との範囲内
であるときはパスを意味する出力、例えば“1”
に相当する信号を出力し、範囲内外である時はフ
エイルを意味する出力、例えば“0”に相当する
信号を出力する。なお、上限設定値レジスタ15
における設定値と下限設値レジスタ16における
設定値との範囲内には基準電圧発生装置10にお
ける基準電位を含まないものである。
17は上記比較器14からの比較結果(パスま
たはフエイルを意味する出力)に基づいて出力を
出すフラグ値レジスタで、通常“1”(例えばパ
スを意味する)または“0”(例えばフエイルを
意味する)に相当する信号を出力する。
たはフエイルを意味する出力)に基づいて出力を
出すフラグ値レジスタで、通常“1”(例えばパ
スを意味する)または“0”(例えばフエイルを
意味する)に相当する信号を出力する。
なお、第6図において破線より右側が被試験半
導体装置の半導体チツプ装置内の回路を示してい
る。
導体装置の半導体チツプ装置内の回路を示してい
る。
次に、このように構成された半導体試験装置の
動作について説明する。
動作について説明する。
まず、正常状態であると測定電位ブリツジノー
ド10bに現れると予想される電位よりも低い
(あるいは高い)電位となる基準の直流電位を基
準電位ブリツジノード10aに与えるように基準
電圧発生装置10を設定し、さらに第1及び第2
の定電流源9a,9bに流れる定電流値を設定す
る。
ド10bに現れると予想される電位よりも低い
(あるいは高い)電位となる基準の直流電位を基
準電位ブリツジノード10aに与えるように基準
電圧発生装置10を設定し、さらに第1及び第2
の定電流源9a,9bに流れる定電流値を設定す
る。
このようにした後、被試験半導体装置との電気
的接続の確認試験を行う。
的接続の確認試験を行う。
まず、被試験半導体装置における入出力端子か
ら内部への電気経路に異常がなく、入出力端子と
半導体試験装置との電気的接続が良好である場
合、つまり、正常状態における動作を説明する。
なお、基準電位発生装置10によつて基準電位ブ
リツジノード10aに与えられる基準電位は第6
図図示にしめすように正の電位とし、第1のノー
ド12は基準電位より高く、第2のノード13は
基準電位より低くし、基準電位は正常状態である
と測定電位ブリツジノード10bに得られると予
想される電位よりも高い電位にした場合について
説明する。
ら内部への電気経路に異常がなく、入出力端子と
半導体試験装置との電気的接続が良好である場
合、つまり、正常状態における動作を説明する。
なお、基準電位発生装置10によつて基準電位ブ
リツジノード10aに与えられる基準電位は第6
図図示にしめすように正の電位とし、第1のノー
ド12は基準電位より高く、第2のノード13は
基準電位より低くし、基準電位は正常状態である
と測定電位ブリツジノード10bに得られると予
想される電位よりも高い電位にした場合について
説明する。
ダイオードブリツジ回路の測定電位ブリツジノ
ード10bに現れる電位は、初期において正常状
態であるために接地電位と同様の値である。従つ
て、第1のブリツジノード10cと測定電位ブリ
ツジノード10bとの電位差が第1のブリツジノ
ード10cと基準電位ブリツジノード10aとの
電位差より大きいため、第1のノード12から第
1の定電流限9a、第1のブリツジノード10
c、ダイオード11d、測定電位ブリツジノード
10及び被試験半導体装置の入出力端子を介して
被試験半導体装置のチツプ内部(抵抗6等)へ電
流が流れるとともに、基準電位ブリツジノード1
0aとと第2のブリツジノート11dと電位差が
測定電位ブリツジノード10aと第2のブリツジ
ノード10dとの電位差より大きいため、基準電
位ブリツジノード10aからダイオード11b、
第2のブリツジノード10d及び第2の定電流源
9bを介して第2のノード13へ電流が流れる。
その結果、測定電位ブリツジノード10bに現れ
る電位は上昇し、基準電位より低い電位で安定状
態になる。このときの安定状態になるまでの遷移
期間は第1及び第2の定着流源9a,9bによる
電源値によつて決定されるとともに、測定電位ブ
リツジノード10bに現れる電位は第1及び第2
の定電流源12,13による電流値及び被試験半
導体装置における電流経路の全抵抗値によつて決
定されるものである。ダイオードブリツジ回路が
安定状態になつた時点で比較器14は測定電位ブ
リツジノード10bに現れた電位と上、下限設定
値レジスタ15,16の設定値と比較する。測定
電位ブリツジノード10bに現れた電位は正常状
態であると測定電位ブリツジノード10bに得ら
れると予想される電位とほぼ同じ値を示している
ので、上限設定値レジスタ15における設定値と
下限設定値レジスタ16における設定値との範囲
内の値を示し、比較器14からはパスを意味する
出力が得られ、この出をフラグ値レジスタ17が
受けてパスを意味する出力をテスタ内の信号処理
装置に出力して電気的接続状態が良好であること
を認識させる。
ード10bに現れる電位は、初期において正常状
態であるために接地電位と同様の値である。従つ
て、第1のブリツジノード10cと測定電位ブリ
ツジノード10bとの電位差が第1のブリツジノ
ード10cと基準電位ブリツジノード10aとの
電位差より大きいため、第1のノード12から第
1の定電流限9a、第1のブリツジノード10
c、ダイオード11d、測定電位ブリツジノード
10及び被試験半導体装置の入出力端子を介して
被試験半導体装置のチツプ内部(抵抗6等)へ電
流が流れるとともに、基準電位ブリツジノード1
0aとと第2のブリツジノート11dと電位差が
測定電位ブリツジノード10aと第2のブリツジ
ノード10dとの電位差より大きいため、基準電
位ブリツジノード10aからダイオード11b、
第2のブリツジノード10d及び第2の定電流源
9bを介して第2のノード13へ電流が流れる。
その結果、測定電位ブリツジノード10bに現れ
る電位は上昇し、基準電位より低い電位で安定状
態になる。このときの安定状態になるまでの遷移
期間は第1及び第2の定着流源9a,9bによる
電源値によつて決定されるとともに、測定電位ブ
リツジノード10bに現れる電位は第1及び第2
の定電流源12,13による電流値及び被試験半
導体装置における電流経路の全抵抗値によつて決
定されるものである。ダイオードブリツジ回路が
安定状態になつた時点で比較器14は測定電位ブ
リツジノード10bに現れた電位と上、下限設定
値レジスタ15,16の設定値と比較する。測定
電位ブリツジノード10bに現れた電位は正常状
態であると測定電位ブリツジノード10bに得ら
れると予想される電位とほぼ同じ値を示している
ので、上限設定値レジスタ15における設定値と
下限設定値レジスタ16における設定値との範囲
内の値を示し、比較器14からはパスを意味する
出力が得られ、この出をフラグ値レジスタ17が
受けてパスを意味する出力をテスタ内の信号処理
装置に出力して電気的接続状態が良好であること
を認識させる。
次に、被試験半導体装置とテスタとの電気的接
続が不良、つまり、被試験半導体装置の入出力端
子とテスタとが電気的に非接触状態のときの動作
を説明する。初期において、ダイオードブリツジ
回路の測定電位ブリツジノード10bに現れた電
位が基準電位より低かつたとすると、第1のブリ
ツジノード10cと測定電位ブリツジノード10
bとの電位差が第1のブリツジノード10cと基
準電位ブリツジノード10aとの電位差より大き
いため、第1のノード12から第1の定電流源9
a、第1のブリツジノード10c及びダイオード
11dを介して測定電位ブリツジノード10bへ
電流が流れるとともに、基準電位ブリツジノード
10aと第2のブリツジノード10dとの電位差
が測定電位ブリツジノード10bと第2のブリツ
ジノード10dとの電位差より大きいため、基準
電位ブリツジノード10aからダイオード11
b、第2のブリツジノード10d及び第2の定電
流源9bを介して第2のノード13へ電流が流れ
る。その結果、測定電位ブリツジノード10bに
現れる電位は上昇し、測定電位ブリツジノード1
0bには被試験半導体の入出力端子が接続されて
いないため、基準電位と同じ値で安定状態にな
る。一方、初期において、ダイオードブリツジ回
路の測定電位ブリツジノード10bに現れた電位
が基準電位より高かつたとすると、第1のブリツ
ジノード10cと基準電位ブリツジノード10と
の電位差が第1のブリツジノード10cと測定電
位ブリツジノード10bとの電位差がより大きい
ため、第1のノード12から第1の定電流源9
a、第1のブリツジノード10c、及びダイオー
ド11aを介して基準電位ブリツジノード10a
へ電流が流れるとともに、測定電位ブリツジノー
ド10bと第2のブリツジノード10dとの電位
差が基準電位ブリツジノード10aと第2のブリ
ツジノード10dとの電位差より大きいため、測
定電位ブリツジノード10bからダイオード11
c、第2のブリツジノード10d及び第2の定電
流源9bを介して第2のノード13へ電流が流れ
る。その結果、測定電位ブリツジノード10bに
現れる電位は下降し、測定電位ブリツジノード1
0bには被試験半導体の入出力端子が接続されて
いないため、基準電位と同じ値で安定状態にな
る。このように、測定電位ブリツジノード10b
に現れた電位が基準電位より高いか低いかによら
ず、測定電位ブリツジノード10bに現れる安定
状態において基準電位と同じ値になる。このとき
の安定状態になるまでの遷移期間は第1及び第2
の定電流源12,13による電流値によつて決定
される。ダイオードブリツジ回路が安定状態にな
つた時点で比較器14は測定電位ブリツジノード
10bに現れた電位と上、下限設定値レジスタ1
5,16の設定値と比較する。測定電位ブリツチ
ノード10bに現れた電位は基準電位と同じ値を
示しているので、上限設定値レジスタ15におけ
る設定値と下限設定値レジスタ16における設定
値との範囲外の値を示し、比較器14からはフエ
イルを意味する出力が得られ、この出力をフラグ
値レジスタ17が受けてフエイルを意味する出力
をテスタ内の信号処理装置に出力して電気的接続
状態が不良であることを認識させる。
続が不良、つまり、被試験半導体装置の入出力端
子とテスタとが電気的に非接触状態のときの動作
を説明する。初期において、ダイオードブリツジ
回路の測定電位ブリツジノード10bに現れた電
位が基準電位より低かつたとすると、第1のブリ
ツジノード10cと測定電位ブリツジノード10
bとの電位差が第1のブリツジノード10cと基
準電位ブリツジノード10aとの電位差より大き
いため、第1のノード12から第1の定電流源9
a、第1のブリツジノード10c及びダイオード
11dを介して測定電位ブリツジノード10bへ
電流が流れるとともに、基準電位ブリツジノード
10aと第2のブリツジノード10dとの電位差
が測定電位ブリツジノード10bと第2のブリツ
ジノード10dとの電位差より大きいため、基準
電位ブリツジノード10aからダイオード11
b、第2のブリツジノード10d及び第2の定電
流源9bを介して第2のノード13へ電流が流れ
る。その結果、測定電位ブリツジノード10bに
現れる電位は上昇し、測定電位ブリツジノード1
0bには被試験半導体の入出力端子が接続されて
いないため、基準電位と同じ値で安定状態にな
る。一方、初期において、ダイオードブリツジ回
路の測定電位ブリツジノード10bに現れた電位
が基準電位より高かつたとすると、第1のブリツ
ジノード10cと基準電位ブリツジノード10と
の電位差が第1のブリツジノード10cと測定電
位ブリツジノード10bとの電位差がより大きい
ため、第1のノード12から第1の定電流源9
a、第1のブリツジノード10c、及びダイオー
ド11aを介して基準電位ブリツジノード10a
へ電流が流れるとともに、測定電位ブリツジノー
ド10bと第2のブリツジノード10dとの電位
差が基準電位ブリツジノード10aと第2のブリ
ツジノード10dとの電位差より大きいため、測
定電位ブリツジノード10bからダイオード11
c、第2のブリツジノード10d及び第2の定電
流源9bを介して第2のノード13へ電流が流れ
る。その結果、測定電位ブリツジノード10bに
現れる電位は下降し、測定電位ブリツジノード1
0bには被試験半導体の入出力端子が接続されて
いないため、基準電位と同じ値で安定状態にな
る。このように、測定電位ブリツジノード10b
に現れた電位が基準電位より高いか低いかによら
ず、測定電位ブリツジノード10bに現れる安定
状態において基準電位と同じ値になる。このとき
の安定状態になるまでの遷移期間は第1及び第2
の定電流源12,13による電流値によつて決定
される。ダイオードブリツジ回路が安定状態にな
つた時点で比較器14は測定電位ブリツジノード
10bに現れた電位と上、下限設定値レジスタ1
5,16の設定値と比較する。測定電位ブリツチ
ノード10bに現れた電位は基準電位と同じ値を
示しているので、上限設定値レジスタ15におけ
る設定値と下限設定値レジスタ16における設定
値との範囲外の値を示し、比較器14からはフエ
イルを意味する出力が得られ、この出力をフラグ
値レジスタ17が受けてフエイルを意味する出力
をテスタ内の信号処理装置に出力して電気的接続
状態が不良であることを認識させる。
このように、本実施例では被試験半導体装置の
各入出力端子に対応して設けられ試験装置の有す
る最高周波数で動作できるダイオードブリツジ回
路を有したダイナミツクロード回路及び比較器を
用いて被試験半導体との電気的接続を確認するよ
うにしたので、被試験半導体装置との接続チエツ
クを高速で実行でき、しかも被試験半導体装置の
入出力端子が増加しても試験実行時間が増加せ
ず、かつ安価に構成できる効果がある。
各入出力端子に対応して設けられ試験装置の有す
る最高周波数で動作できるダイオードブリツジ回
路を有したダイナミツクロード回路及び比較器を
用いて被試験半導体との電気的接続を確認するよ
うにしたので、被試験半導体装置との接続チエツ
クを高速で実行でき、しかも被試験半導体装置の
入出力端子が増加しても試験実行時間が増加せ
ず、かつ安価に構成できる効果がある。
なお、上記実施例ではDUTの接続チエツクの
みを行なうようにしたが、DUTの静的電気特性
の測定が可能なように、第6図に示したテスタに
内蔵されたブリツジ回路を構成する部品群10,
11a,11b,11c,11d,9a,9bを
高性能化(高精度、高分解能)した設備を採用す
れば、従来PMU等で測定していたテスト項目も
実行できる。現状では、測定精度の点では、
PMUの方が数倍から数十倍程度よいが、ブリツ
ジ回路の性能を高め、特に測定レンジをPMU程
度にするようにすれば、測定精度に対する誤差は
大きくならず、しかも従来のPMUによる場合と
同等の高精度の測定結果が短時間で得られるもの
である。
みを行なうようにしたが、DUTの静的電気特性
の測定が可能なように、第6図に示したテスタに
内蔵されたブリツジ回路を構成する部品群10,
11a,11b,11c,11d,9a,9bを
高性能化(高精度、高分解能)した設備を採用す
れば、従来PMU等で測定していたテスト項目も
実行できる。現状では、測定精度の点では、
PMUの方が数倍から数十倍程度よいが、ブリツ
ジ回路の性能を高め、特に測定レンジをPMU程
度にするようにすれば、測定精度に対する誤差は
大きくならず、しかも従来のPMUによる場合と
同等の高精度の測定結果が短時間で得られるもの
である。
以上のように、本発明に係る半導体試験装置に
よれば、それぞれがDUTの複数の入出力端子に
対応して設けられ、ブリツジ接続された4つのダ
イオードを有するとともに、対向した位置にある
第1及び第2のブリツジノードと、対応した入出
力端子が接続される端子に接続された測定電位ブ
リツジノードと、基準電位が印加される基準電位
ブリツジノードとを有した複数のダイオードブリ
ツジ回路、及びそれぞれが複数のダイオードブリ
ツジ回路に対応して設けられ、対応したダイオー
ドブリツジ回路の測定電位ブリツジノードに現れ
た電位を所定電位と比較する複数の比較器を用い
て、多入出力端子を有するDUTとテスタとの接
続チエツクを行なうようにしたので、その試験時
間が短時間となり、安価でかつ高速試験が実現で
きるものが得られる効果がある。
よれば、それぞれがDUTの複数の入出力端子に
対応して設けられ、ブリツジ接続された4つのダ
イオードを有するとともに、対向した位置にある
第1及び第2のブリツジノードと、対応した入出
力端子が接続される端子に接続された測定電位ブ
リツジノードと、基準電位が印加される基準電位
ブリツジノードとを有した複数のダイオードブリ
ツジ回路、及びそれぞれが複数のダイオードブリ
ツジ回路に対応して設けられ、対応したダイオー
ドブリツジ回路の測定電位ブリツジノードに現れ
た電位を所定電位と比較する複数の比較器を用い
て、多入出力端子を有するDUTとテスタとの接
続チエツクを行なうようにしたので、その試験時
間が短時間となり、安価でかつ高速試験が実現で
きるものが得られる効果がある。
第1図は従来のテスタとDUTの電気接続試験
の構成を示す図、第2図はパツケージに組み立て
られたDUTを示す図、第3図はDUTの保護回路
の構成を示す図、第4図はDUTとテスタの電気
接続試験の構成を示す図、第5図はDUTとテス
タとの電気接続試験の構成を示す図、第6図は本
発明の一実施例による半導体試験装置の構成を示
す図である。 A……ダイナミツクロード回路、10……基準
電圧発生装置(定電圧源)、11a〜11d……
ブリツジ回路を構成するダイオード、9a,9b
……定電流源、14……コンパレータ、15……
上限設定指定値レジスタ、16……下限設定指定
値レジスタ、17……出力フラグ値レジスタ。
の構成を示す図、第2図はパツケージに組み立て
られたDUTを示す図、第3図はDUTの保護回路
の構成を示す図、第4図はDUTとテスタの電気
接続試験の構成を示す図、第5図はDUTとテス
タとの電気接続試験の構成を示す図、第6図は本
発明の一実施例による半導体試験装置の構成を示
す図である。 A……ダイナミツクロード回路、10……基準
電圧発生装置(定電圧源)、11a〜11d……
ブリツジ回路を構成するダイオード、9a,9b
……定電流源、14……コンパレータ、15……
上限設定指定値レジスタ、16……下限設定指定
値レジスタ、17……出力フラグ値レジスタ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 複数の入出力端子を有する被測定半導体装置
における上記入出力端子との電気的接続の確認試
験を行なう半導体試験装置において、 それぞれが上記被測定半導体装置の複数の入出
力端子に対応して設けられ、ブリツジ接続された
4つのダイオードを有するとともに、対向した位
置にある第1及び第2のブリツジノードと、対応
した上記入出力端子が接続される端子に接続され
た測定電位ブリツジノードと、基準電位が印加さ
れる基準電位ブリツジノードとを有した複数のダ
イオードブリツジ回路と、 第1の電位ノードと上記ダイオードブリツジ回
路の第1のブリツジノードとの間に接続された第
1の定電流源と、 第2の電位ノードと上記ダイオードブリツジ回
路の第2のブリツジノードとの間に接続された第
2の定電流源と、 それぞれが上記複数のダイオードブリツジ回路
に対応して設けられ、対応したダイオードブリツ
ジ回路の測定電位ブリツジノードに現れた電位を
所定電位と比較する複数の比較器とを備えたこと
を特徴とする半導体試験装置。 2 比較器にて比較するための所定電位を、正常
状態においてダイオードブリツジ回路の測定電位
ブリツジノードに得られるべき電位より高い及び
低い上下限設定電位としたことを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の半導体試験装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59165858A JPS6144371A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 半導体試験装置 |
US06/760,776 US4720671A (en) | 1984-08-06 | 1985-07-31 | Semiconductor device testing device |
DE19853528189 DE3528189A1 (de) | 1984-08-06 | 1985-08-06 | Testgeraet fuer halbleitereinrichtungen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59165858A JPS6144371A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 半導体試験装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6144371A JPS6144371A (ja) | 1986-03-04 |
JPH0316626B2 true JPH0316626B2 (ja) | 1991-03-06 |
Family
ID=15820331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59165858A Granted JPS6144371A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 半導体試験装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4720671A (ja) |
JP (1) | JPS6144371A (ja) |
DE (1) | DE3528189A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5068599A (en) * | 1989-10-23 | 1991-11-26 | Texas Instruments Incorporated | Integrated circuit having an enabling circuit for controlling primary and secondary subcircuits |
US5010297A (en) * | 1989-12-01 | 1991-04-23 | Analog Devices, Incorporated | Automatic test equipment with active load having high-speed inhibit mode switching |
JPH03277983A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-09 | Ando Electric Co Ltd | Db型asによるdut負荷切換回路 |
US5049811A (en) * | 1990-07-02 | 1991-09-17 | Motorola, Inc. | Measuring integrity of semiconductor multi-layer metal structures |
US5200696A (en) * | 1990-09-10 | 1993-04-06 | Ltx Corporation | Test system apparatus with Schottky diodes with programmable voltages |
JP2866750B2 (ja) * | 1991-01-28 | 1999-03-08 | 三菱電機株式会社 | 半導体試験装置および半導体装置の試験方法 |
FR2673295B1 (fr) * | 1991-02-21 | 1994-10-28 | Sgs Thomson Microelectronics Sa | Dispositif de detection de l'etat logique d'un composant dont l'impedance varie suivant cet etat. |
US5198760A (en) * | 1991-09-30 | 1993-03-30 | Hughes Aircraft Company | Method by which to detect direction of current flow in outputs of integrated circuits |
US5565767A (en) * | 1992-04-16 | 1996-10-15 | Mega Chips Corporation | Base substrate of multichip module and method for inspecting the same |
US5275058A (en) * | 1992-10-30 | 1994-01-04 | Ford Motor Company | Method and apparatus for detecting wire bond pull test failure modes |
JPH07218596A (ja) * | 1994-02-03 | 1995-08-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体試験装置 |
US5570012A (en) * | 1994-11-08 | 1996-10-29 | Rohm Co. Ltd. | Apparatus for testing a semiconductor device by comparison with an identical reference device |
DE19506325C1 (de) * | 1995-02-23 | 1996-08-14 | Siemens Ag | Prüfschaltung und Prüfverfahren zur Funktionsprüfung von elektronischen Schaltungen |
US5952821A (en) * | 1997-08-29 | 1999-09-14 | Credence Systems Corporation | Load circuit for integrated circuit tester |
US6323694B1 (en) | 1998-04-01 | 2001-11-27 | Ltx Corporation | Differential comparator with a programmable voltage offset for use in an automatic tester |
US6356853B1 (en) | 1999-07-23 | 2002-03-12 | Daniel B. Sullivan | Enhancing voltmeter functionality |
JP5046448B2 (ja) * | 2001-08-10 | 2012-10-10 | 株式会社アドバンテスト | 半導体試験装置及びその試験方法 |
JP4720423B2 (ja) * | 2005-10-18 | 2011-07-13 | マツダ株式会社 | 車両の底部車体構造 |
ATE434189T1 (de) * | 2006-03-09 | 2009-07-15 | Teradyne Inc | V/i-quelle und testsystem damit |
JP4748181B2 (ja) * | 2008-05-07 | 2011-08-17 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 半導体装置の試験装置および試験方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3490041A (en) * | 1964-08-28 | 1970-01-13 | Commerce Usa | Electronic fault finding system using acceptable limits testing |
JPS54136181A (en) * | 1978-04-14 | 1979-10-23 | Agency Of Ind Science & Technol | Test method for semiconductor memory unit of tri-state output |
DE3312687A1 (de) * | 1983-04-08 | 1984-10-18 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Einrichtung zur pruefung von elektrische schaltkreise enthaltenden prueflingen |
JPH0743413B2 (ja) * | 1984-05-09 | 1995-05-15 | 三菱電機株式会社 | 半導体試験装置 |
-
1984
- 1984-08-06 JP JP59165858A patent/JPS6144371A/ja active Granted
-
1985
- 1985-07-31 US US06/760,776 patent/US4720671A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-08-06 DE DE19853528189 patent/DE3528189A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3528189A1 (de) | 1986-02-13 |
US4720671A (en) | 1988-01-19 |
DE3528189C2 (ja) | 1991-11-21 |
JPS6144371A (ja) | 1986-03-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |