JPH03162728A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、レーザーにより情報の記録が可能な情報記録
媒体に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実川化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静東画
像ファイルおよび大容咀コンピュータ用ディスク・メモ
リーとして使用されつるものである。

ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク（コンパクト
・ディスク（ＣＤ））などは再生専用の光ディスクとし
て既に実用化されており、情報の書き込み可能なＤ　Ｒ
　Ａ　Ｗ　（　Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　ＡｆｔｅｒＷ
ｒｉｔ．ｅ　）型光ディスク、あるいは情報の書き換え
が可能な消去可能型光ディスクについても開発が進んで
おり、一部実用化されている。

ＤＲＡＷ型の情報記録媒体（光ディスク〉は、例えばＩ
ＳＯ（国際標準化機構）対応型光ディスクなどとして既
に知られている。ＩＳＯ対応型光ディスクは、速い線速
度で記録が行なわれるが、一方、コンパクト・ディスク
（ＣＤ）に採用されているＣＤフォーマット信号を用い
て遅い線速度で記録を行なうＣ　Ｄ　−　Ｄ　ＲＡＷに
ついても開発が進んでいる。

このような情報記録媒体は、基本構造として、プラスチ
ック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、この上に
設けられたＢｉ，Ｓｎ，Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金
属からなる記録層とを有する。光ディスクへの情報の書
き込みは、たとえばレーザービームを光ディスクに照射
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇する結果、ビット形成等の物
理的変化あるいは相変化等の化学的変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。光ディ
スクからの情報の読み取りもまた、レーザービームを光
ディスクに照射することなどにより行なわれ、記録層の
光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出す
ることにより情報が再生される。そして、上記光ディス
クへの情報の書き込みおよび読み取りのためのレーザー
ビームの照射は、通常ディスク表面の所定の位置に行わ
れる。このためレーザービームを案内して照射予定位置
に正確にたどる（一般にトラッキングと呼ばれる）よう
にするため、例えば逆台形型のプレグループ（トラッキ
ングガイド）がディスク表面に設けられる。

このように、ＤＲＡＷ型の情報記録媒体は、上記プレグ
ループを有する基板上に記録層等が設けられた基本構成
を有する。

このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗花法により簡単に形成することがで
きるとレ）う製造上の大きな利点を有している。しかし
ながら、色素からなる記録層は、一般に反射率が低レ）
、あるいは高いＣ／Ｎが得られ難いとの欠点がある。

色素を含む記録層（以下、色素記録層と言うこともある
）への情報の記録は、レーザ光を照射することにより色
素記録層にビット（孔）を形成することにより行なわれ
る。

また色素記録層上に反射率を向上させるため反射層を設
けた情報記録媒体では、該色素記録層力Ｓレーザー光を
吸収し、それにより色素が融解するのに伴なってプラス
チック製の基板が加熱され、該基板は色素記録層側に肉
盛り変形しビットカ＜奸二成されることが知られている
（日経エレクトロニクス、１９８９年１月２３日発行、
１０７頁参照）。

しかしながら、反射率を高めるために色素記録層上に反
射層を設けた場合、記録感度やＣ／Ｎの低下が起こる。

従って、反射率と記録再生特性をある程度高い水準を維
持しながら所望の反射率、記録感度あるいはＣ／Ｎを得
るには、反射層の材料や層厚、また色素層の材料や層厚
を調整する必要がある。このような調整は煩雑であるば
かりではなく、高水準にて上記特性を得ることは困難で
ある。

［発明の目的］ 本発明は、色素記録層十に反射層を４ｒする光ディスク
であって、高い反射率を有する新規な情報記録媒体を提
供することを目的とする。

また、本発明は、色素記録層上に反射層をイ『する光デ
ィスクであって、低い記録パワーで高Ｃ／Ｎｉ１つ高変
調度の記録が可能な新規な悄報記録媒体をを提供するこ
とを目的とする。

さらに本発明は、色素記録層Ｌに反射層を有する光ディ
スクであって、高い反射率を有し且つ低い記録パワーで
高Ｃ／Ｎ且つ高変調度の記録が可能な新規な情報記録媒
体を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に設けられたレーザーにより情報の書
き込みが可能な色素からなる記録層の上に、反射層が設
けられてなる情報記録媒体において、 該記録層と該基板との間に、該記録層および／または該
基板より低い屈折率を有する反射調整屑、および／また
は 該記録層と該反射層との間に、該記録層および／または
該反射層より低い屈折率を４丁する反射調整層が、 形成されていることを特徴とする情報記録媒体にある。

Ｌ記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。

１）上記反射調整層の屈折率が、該記録層の屈折率の０
．９倍より小さい値であることを特徴とする上記情報記
録媒体。

２）上記反射調整層の屈折率が、該記録層の屈折率の０
．８倍より小さい値であることを特徴とする上記情報記
録媒体。

３）上記反射調整層の屈折率が、１．５５より小さい値
であることを特徴とする上記情報記録媒体。

４）上記反射調整層の材料が、ＬｉＦ，ＣａＦ２、銀ア
セチリド化合物、フッ素樹脂またはアクリル樹脂である
ことを特徴とする上記情報記録媒体。

５）上記色素が、インドリジン系色素、イミダゾキノキ
サリン系色素、チアゾール系色素またはインドレニン系
色素であることを特徴とする上記ナｉ′ｆ報記録媒体。

６）上記両方の反射調整層が、該記録層より低い屈折率
を有し、且つ下記の式： ０．８×λ／４０ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／４０ｎ（但し、
λは再生時のレーザーの波長、ｎは反射率調整層の屈折
率、モしてｄは反射率調整層の層厚を表わす。） で表わされる層厚を有することを特徴とする上記情報記
録媒体。

７）上記記録層と基板との間の反射調整層が、該記録層
および該基板より低い屈折率の値を有することを特徴と
する上記情報記録媒体。

８）記録層と基板との間の反射調整層が、該記録層およ
び該基板より低い屈折率の値を有し、且つ下記の式； ０．８Ｘλ／４ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／　４　ｎ（但し、
λは再生時のレーザーの波長、ｎは反射調整層の屈折率
、モしてｄは反射調整層の層厚を表わす。） で表わされる層厚を有することを特徴とする上記情報記
録媒体。

９）上記記録層と反射層との間の反射調整層が、該記録
層および該反射層より低い屈折率を有することを特徴と
する上記情報記録媒体。

１０）上記記録層と反射層との間の反射調整層が、該記
録層および該反射層より低い屈折率の値を有し、且つ下
記式； ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．　　２ｘλ／　４　ｎ（但
し、λは再生時のレーザーの波長、ｎは反射調整層の屈
折率、モしてｄは反射調整層の層厚を表わす。〉 で表わされる層厚を有することを特徴とする上記情報記
録媒体。

また、本発明は、基板上に設けられたレーザーにより情
報の書き込みが可能な色素からなる記録層の上に、反射
層が設けられてなる情報記録媒体において、 該記録層と該基板との間に、該基板および／または該記
録層より高い屈折率を有する感度調整層、および／また
は 該記録層と該反射層との間に、該記録附および／または
該反射層より高い屈折率の値を有する！ｆ！．Ｉ！ｔ調
整層が、 形成されていることを特徴とする情報記録媒体にある。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。

１）上記記録層と基板との間の感度調整層の屈折率が、
該基板の屈折率の１．１倍より高い値を有することを特
徴とする上記情報記録媒体。

２）上記記録層と基板との間の感度調整層の屈折率が、
該基板の屈折率の１．２倍より高い値を存することを特
徴とする上記情報記録媒体。

３）Ｌ記記録層と基板との間の感度調整層が、該基板ま
たは該記！！層より高い屈折率を有し、且つ下記の式： ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／　４　ｎ（促し、
λは再生時のレーザーの波長、ｎは感度調整層の屈折率
、モしてｄは感度調整層の層厚を表わす。） で表わされる層厚を有することを特徴とする上記情報記
録媒体。

４）上記記録層と基板との間の感度調整層が、該記録層
および該基板より高い屈折率を有することを特徴とする
上記情報記録媒体。

５）上記記録層と基板との間の感度調整層が、該記録層
および該基板より高い屈折率を有し、且つ下記の式； ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／　４　ｎ（但し、
えは再生時のレーザーの波長、ｎは感度調整層の屈折率
、モしてｄは感度調整層の層厚を表わす。〉 で表わされる層厚を有することを特徴とする上記情報記
録媒体。

６）上記記録層と反射層との間の感度調整層の屈折率が
、該反射層の屈折率の１．１倍より高い値を存すること
を特徴とする上記情報記録媒体。

７）゛上記記録層と反射層との間の感度調整層の屈折率
が、該反射層の屈折率の１．２倍より高い値を有するこ
とを特徴とする上記情報記録媒体。

８）ｈ記感度調整層の屈折率が、１．６０より大きい値
であることを特徴とする上記情報記録媒体。

９）上記感度調整層の材料が、ＺｎＳ，ＴｉＯ２または
Ａｆｉ，０．であることを特徴とする上記情報記録媒体
。

１０）上記色素が、インドリジン系色素、イミダゾキノ
キサリン系色素、チアゾール系色素またはインドレニン
系色素であることを特徴とする上記情報記録媒体。

１１）上記記録層と反射層との間の感度調整層が、該反
射層または該記録層より高い屈折率を有し、且つ下記の
式； ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／　４　ｎ（但し、
λは再生時のレーザーの波長、ｎは感度調整層の屈折率
、モしてｄは感度調整層の層厚を表わす。） で表わされる層厚を有することを特徴とする上記情報記
録媒体。

１２〉上記記録層と反射層との間の感度調整層が、該記
録層および該反射層より高い屈折率を有することを特徴
とする上記情報記録媒体。

！３）上記記録層と反射層との間の感度調整層が、該記
録層および該反射層より高い屈折率を有し、且つ下記の
式； ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．２Ｘλ／　４　ｎ（但し、
λは再生時のレーザーの波長、ｎは感度調整層の屈折率
、モしてｄは感度調整層の層厚を表わす。） で表わされる層厚を有することを特徴とする上記情報記
録媒体。

さらに、本発明は、基板上に設けられたレーザーにより
情報の古き込みが可能な色素からなる記録層の上に、反
射層が設けられてなる情報記録媒体において、 該記録層と該基板との間に、該記録層および／または該
基板より高い屈折率を有する感度調整屑と、 該記録別と該反射附との間に、該記録屑および／または
該反射層より低い屈折率を４ｆする反射調整層とが形成
されていることを特徴とする情報記録媒体、および 皐板上に設けられたレーザーにより情報の書き込みが可
能な色素からなる記録層の上に、反射層が設けられてな
る情報記録媒体において、該記録層と該基板との間に、
該記録層および／または該基板より低い屈折率を有する
反射調整層と、 該記録層と該反射層との間に、該記録層および／または
該反射層より高い屈折率を有する感度調整層とが形成さ
れていることを特徴とする情報記録媒体にもある。

Ｌ記本発明の二種の情報記録媒体の好ましい態様は前記
二種の情報記録媒体の好ましい態様を適用することがで
きる。

すなわち、上記記録層と反射層との間の反射調整附、上
記基板と記録層との間の反射調整層、上記記録層と反射
層との間の感度調整層および上記幕板と記録層との間の
感度調整層の好ましい態様を通用することができる。

尚、本発明の各層の屈折率は以下のように測定した。

基板はそのまま波長７８０ｎｍ　（半導体レーザー）の
光を用いて２３℃にて測定した。

反射調整層および感度調整層は、スパッタリングにてガ
ラス板上に５００〜１　５００Ｘの範囲の薄膜を形成し
、これを上記波長７８０ｎｍの光を用いて２３℃にて測
定した。

色素記録層は、スピンコーター法にてガラス板上に５０
０〜ｔ　５００Ｘの薄膜を形成し、これを波長７８０ｎ
ｍの光を用いて２３℃にて測定した。

一般に、基板材料のプラスチックの屈折率は１．４〜１
．７であり、色素層の屈折率は１．０〜３．０、反射層
は金属であるため０．０１〜４，０である。

［発明の効果］ 本発明は、上記のように基板上に色素記録層、その上に
反射層が積層された情報記録媒体の、記録層と基板の間
あるいは記録層と反射層との間に、これらの層と異なっ
た屈折率を有する層を設けることにより、反射率と、記
録感度、Ｃ／Ｎおよび変調度などの記録再生特性を制御
することができ、これらの特性を改跨することができる
。

すなわち、該記録層と該基板との間に、該記録屑および
／または該基板より低い屈折率を有する反射調整層、ま
たは該記録層と該反射層との間に、該記録層および／ま
たは該反射層より低い屈折率を有する反射調整層が形成
された情報記録媒体は、記録感度、Ｃ／Ｎあるいは変調
度などの記録再生を劣化させることなく高い反射率を得
ることができる。

また、該記録層と該基板との間に、該記録層および／ま
たは該基板より高い屈折率を有する反射調整層、または
該記録層と該反射層との間に、該記録層および／または
該反射層より高い屈折率を有する反射調整層が形成され
た情報記録媒体は、反射率を殆ど低下させることなく、
記録感度、Ｃ／Ｎあるいは変調度などの記録再生を顕著
に向上させることができる。

さらに上記反射調整層および上記感度調整層の両方を設
けることにより、反射率と記録感度、Ｃ／Ｎおよび変調
度などの記録再生特性が高いレベルで保持された情報記
録媒体を得ることができる。

［発明の詳細な記述］ 本発明者等は、基板上に製造が簡便で安価な色素記録層
、その上に特に高反射率を得るための反射層が積層され
た情報記録媒体であって、反射率と記録再生特性を高い
水準を維持しながら所望の反射率、記録感度あるいはＣ
／Ｎを得るための方法を神々研究してきた。

前述したように、反射率を高めるために色素記２ｌ層Ｅ
に反射層を設けた場合、記録感度やＣ／Ｎの低下が起こ
り易く、所望の反射率、記録感度あるいはＣ／Ｎを得る
には、反射層の材料や層厚、また色素層の材料や層厚を
調整する必要があった。本発明者等は、記録層と基板の
間あるいは記録層と反射層との間に，これらの層と異な
った屈折率を有する層を設けることにより、反射率、記
録感度、Ｃ／Ｎあるいは変調度などを制御でき、これら
の特性を改善できるとの知見を得た。

光磁気ディスクなどにおいては、裁板と記録層との間に
ＳｉＮ　（屈折率：ｎ＝２．０）のような基板または記
録層より屈折率の高い層を設けて記録感度の向上を図っ
ている。しかしながら、記録層材料に色素を用いた光デ
ィスクでは、このような層を設けても記録感度の向上は
見られないのが一般的である。本発明者等は、色素記録
層Ｌに反射層を有する光ディスクに上記屈折率の高い層
を設けた場合には、感度、Ｃ／Ｎ等の記録再生特性が向
Ｌすることを見出した。さらに、屈折率の低い屑を設け
た場合には反射率が向上するとの驚くべき効果が得られ
ることが明らかとなった。

従って、本発明により、色素記録層上に反射層を有する
光ディスクであって、高い反射率を有する新規な情報記
録媒体、低い記録パワーで高Ｃ／Ｎおよび高変調度の記
録が可能な新規な情報記録媒体、そして高い反射率を有
し１［つ記録パワーを上げることなく高Ｃ／Ｎおよび高
変調度の記録が可能な新規な情報記録媒体を提供するこ
とが可能となった。

本発明の情報記録媒体の構成の例を、添付の第１図〜第
６図を参照しながら説明する。

７ｇｌ図および第２図は基板、記録層および反射層から
なる情報記録媒体に、反射率調整層を介在させた情報記
録媒体の構成例を示す。

第１図は、基板１１上に、色素からなる記録層１２およ
び反射層１３がこの順で設けられ、そして基板１１と記
録層１２との間に反射率調整層１４が設けられた基本構
成を有する光ディスクの断面図である。

第２図は、基板２１上に、色素からなる記録層２２およ
び反射層２３がこの順で設けられ、そして記録層２２と
反射層２３との間に反射率調整層２４が設けられた基本
構成を有する光ディスクの断面図である。

上記反射率調整層は、該調整層と接する上または下のい
ずれかの層より屈折率が低ければ、光ディスクの反射率
を向上させることができる。

般に、第１図の基板１１と記録層】２との間に反射調整
層１４を設けた場合、反射率と記録再生特性が共に向上
し、第２図の記録層２２と反射層２３との間に反射調整
層２４を設けた場合は反射率を顕著に向上させる傾向が
ある。

該反射調整層が第１図および第２図の両方の構成におい
て、共に少なくとも記録層より低い屈折率を有すること
が望ましい。好ましくは、反射調整層の屈折率が、記録
層の屈折率の０．９倍より小さい植であることであり、
さらに好ましくは反射調整層の屈折率が、記録層の屈折
率の０．８倍より小さい値である。

また、第１図の構成では記録層および基板の両方より低
い屈折率の値を有する層であることが特に好ましい。第
２図の構成では記録層および反射層の両方より低い屈折
率の値を有する層であることが好ましい。

反射調整層が、第１図の構成で、記録層または基板より
低い屈折率を有する場合、下記の式＝０．８×λ／４０
ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／４０ｎ（但し、λは再生時のレー
ザーの波長、ｎは反射率調整層の屈折率、モしてｄは反
射率調整層の層厚を表わす。） で表わされる層厚を有することが好ましい。さらに、記
録層および基板の両方より低い屈折率を有する場合、下
記の式： ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／　４　ｎ（但し、
えは再生時のレーザーの波長、ｎは反射率調整層の屈折
率、モしてｄは反射率調整層の層ＰＸを表わす。） で表わされる層厚を有することが好ましい。

また、反射調整層が、第２図の構成で、記録層または反
射層より低い屈折率を有する場合、下記の式： ０．８×λ／４０ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／４０ｎ（但し、
λは再生時のレーザーの波長、ｎは反射率調整屑の屈折
率、モしてｄは反射率調整層の層ｎを表わす。） で表わされる層〃をイｒすることが好ましい。さらに、
記録層および反射層の両方より低い屈折率を有する場合
、下記の式； ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／　４　ｎ（但し、
λは再生時のレーザーの波長、ｎは反射率調整層の屈折
率、モしてｄは反射率調整層の層Ｊ’７を表わす。） で表わされる層厚を存することが好ましい。

特に上記反射率調整層の屈折率が、１．５５より小さい
値にした場合には、反射率向上の効果が著しい。

反射率調整層の材料は、薄層にした場合に、該調整層か
接する層（Ｖ！：板、記録層あるいは反射Ａ’ｔ　）の
少なくとも一方より屈折率が低くなる材料であれば、有
機化合物でも無機化合物であっても特に限定されるもの
ではない。好ましくは、Ｌ　ｉ　Ｆ　（ｎ−１．３９）
、Ｃ　ａ　Ｆ　２　（ｎ−１．２５）、Ｎ　ａ　Ｆ　（
ｎｉ．３４），　Ｍ　ｇ　Ｆ　２　（ｎ−１．３８）．
Ｎ　ａ３Ａ　Ｉ　Ｆｅ　（ｎ−１．：＋５）、銀アセチ
リド化合物（ｎ＝１．５０）、フッ素樹脂（ｎ〜１．３
６）またはアクリル樹脂を挙げることができる。特に好
ましくは、ＬｉＦ，ＣａＦ２，銀アセチリド化合物、フ
ッ素樹脂またはアクリル樹脂である。反射率調整層の形
成は、ＬｉＦ，ＣａＦ２など無機化合物、あるいは耐熱
温度の高いフッ素樹脂などは真空蒸着、スパッタリング
、イオンブレーティングなどの蒸着により、また溶剤等
に可溶な銀アセチリド化合物またはアクリル樹脂などは
スピンコート法などによる塗布法により行なうことがで
きる。銀アセチリド化合物は、特願昭６３−１３４８９
号および特願昭６３−５５８０４号に記載されている化
合物を用いることができる。

−Ｅ記反射率調整層は記録層の上または下側の何れか一
方に設けられた例を示したが、両方に設けられても良い
。

第３図および第４図は、基板、記録層および反射層から
なる情報記録媒体に、感度調整層を介在させた情報記録
媒体の構成例を示す。

第３図は、基板３！上に、色素からなる記録層３２およ
び反射層３３がこの順で設けられ、そして火板３１と記
録層３２との間に感度調整層３５が設けられた基本構成
を有する光ディスクの断面図である。

第４図は、基板４１上に、色素からなる記録層４２およ
び反射層４３がこの順で設けられ、そして記録層４２と
反射層４３との間に感度調整層４５が設けられた基本構
成を有する光ディスクの断而図である。

般に、第３図の基板３ｌと記録層３２との間に感度調整
層３５を設けた場合、記録再生特性が顕著に向上し、第
４図の記録層４２と反射層４３との間に感度調整層４５
を設けた場合は記録再生特性も向上するが反射率もある
程度確保できる傾向がある。

上記感度調整層は、該調整層と接する上または下のいず
れかの層より屈折率が高ければ、光ディスクの感度、Ｃ
／Ｎ等の記録再生特性を向−Ｌさせることができる。第
３図の構成では少なくとも基板より高い屈折率の値を有
する層であることが望ましい。好ましくは該基板の屈折
率の１．１倍より高い値を有する層であり、さらに好ま
しくは該基板の屈折率の１．２倍より高い値を有する層
でる。また特に、記録層および基板の両方より高い屈折
率の値を有する層であることが好ましい。

方、第４図の構成では少なくとも反射層より高い屈折率
の値を有する層であることが望ましい。好ましくは、該
反射層の屈折率の１．１倍より高い値を存する層であり
、さらに好ましくは該反射層の屈折率の１．２倍より高
い値を有する層である。また記録層および反射層の両方
より高い屈折率の値を有する層であることが特に好まし
い。

さらに、感度調整層が、第３図の構成で、記録屑または
基板より高い屈折率を有する場合、Ｆ記の式； ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．２ｘλ／　４　ｎ（但し、
λは再生時のレーザーの波長、ｎは感度調整層の屈折率
、モしてｄは感度調整層の屑Ｐｌを表わす。） で表わされる屑？１を有することが好ましい。さらに、
記録屑および基板の両方より高い屈折率を有する場合、
下記の式： ０，８Ｘλ／４ｎ＜ｄ＜１．２Ｘλ／　４　ｎ（但し、
λは再ｔｉＥ時のレーザーの波長、ｎは感度調？屑の屈
折率、モしてｄは感度調整層の層厚を表わす。） で表わされる層厚を有することが好ましい。

また、感度調整層が、第４図の構成で、記録層または反
射層より高い屈折率を有する場合、下記の式； ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．２Ｘλ／　４　ｎ（但し、
λは再生時のレーザーの波長、ｎは感度調整屑の屈折率
、モしてｄは感度調整層の層厚を表わす。） で表わされる屑厚を有することが好ましい。さらに、記
録層および反射層の両方より高い屈折率を有する場合、
下記の式： ０．８×λ／４ｎ＜ｄ＜１．２Ｘλ／　４　ｎ（イロし
、λは再生時のレーザーの波長、ｎは感度調整層の屈折
率、モしてｄは感度調整層の層厚を表わす。） で表わされる層厚を有することが好ましい。

特に−Ｅ記感度調整層の屈折率が、１．６０より大きい
値にした場合には、感度、Ｃ／Ｎ等の記録再生特性向上
の効果が著しい。

感度調整層の材料は、薄層にした場合に、該調整層が接
する層（基板、記録層あるいは反射層）の少なくとも一
方より屈折率が高くなる材料であれば、有機化合物でも
無機化合物であっても特に限定されるものではない。好
ましくは、ＺｎＳ　（ｎ＝２．３７），　Ｔ　ｉ　０２
　（ｎ−２．６２）、ＡＩｌ２０．，（ｎ−１．７７）
、Ｓ　ｎ　Ｏ　２（ｎ”ｌ．９０）．　　Ｓ　ｉ　Ｏ　
（ｎｉ．７〜２．０）．　　Ｉ　ｎ２０３（ｎ−２．０
０）、Ｎ　ｄ　２　０　３　（ｎ−２．００）、Ｓ　ｂ
　ｚ　０　３　（ｎ＝２．０４）、Ｚ　ｒ　Ｏ　２（ｎ
−２．１０）　，　Ｃ　ｄ　Ｓ（ｎ＝２．００）および
ボリスチレン（ｎ−１．５９　〜１．６０）などを挙げ
ることができる。特に好ましくは、ＺｎＳ，Ｔｉｅ２ま
たはＡＩｌ２０３である。感度調整層の形成は、上記無
機化合物などは真空蒸若、スパッタリング、イオンブレ
ーテイングなどの蒸着により、あるいは溶剤等に可溶な
ポリスチレンなどはスピンコート法などによる塗布法に
より行なうことができる。

上記感度調整層は記録層の上または下側の何れか一方に
設けられた例を示したが、両方に設けられても良い。

第５図は、基板、記録層および反射層からなる情報記録
媒体に、反射率調整層と感度調整層の両方を介在させた
情報記録媒体の構成例を示す。

第５図は、基板５１−Ｅに、色素からなる記録層５２お
よび反射層５３がこの順で設けられ、そして基板５１と
記録層５２との間に感度調整層５５が設けられ珪つ記録
層５２と反射層５３との間に反射調整層５４が設けられ
た基本構成を有する光ディスクの断面図である。

感度調整層５５は上記第２図で示した感度調整層と同じ
ものであり、反射調整層は上記第３図で示したものであ
る。このような構成を採ることにより反射率と上記記録
再生特性とが高い水準で保持された光ディスクを得るこ
とができる。また、基板５１と記録層５２との間に感度
調整層５５の代わりに反射調整層５４を設け、記録層５
２と反射層５３との間に反射調整層５４の代わりに感度
調整層５５を設けても本発明の効果は得られる。

その構成を第６図に示す。

第６図は、基板６１上に、色素からなる記録層６２およ
び反射層６３がこの順で設けられ、そして基板６１と記
録層６２との間に反射調整層６４が設けられ且つ記録層
６２と反射層６３との間に感度調整層６５が設けられた
基本構成を有する光ディスクの断面図である。

上述のように、上記反射調整層は、該調整層と接する上
または下のいずれかの層より屈折率が低ければ、光ディ
スクの反射率を向上させることができる。また、上記感
度調整層は、該調整層と接するＪ二または下のいずれか
の層より屈折率が高ければ、光ディスクの感度、Ｃ／Ｎ
および変調度を向ヒさせることができる。これらの理由
は、上記感度又は反射調整層がその｝＝ＴＪＭと屈折率
が異なるため、レーザーの入射光を閉じこめられ、エネ
ルギーな仔効に利用できるからではないかと推定される
。

なお、反射調整層および感度調？屑について、それぞれ
の好ましい材料を前に示したが、本発明の屈折率の規定
の範囲にある限り、反射調整層の材料を感度：Ａ整層に
使用してもよいし、またその反対に感度調整層の材料を
反射調整層に使用しても差支えない。

本発明の光情報記録方法に用いられる情報記録媒体の製
造は、たとえば以下に述べるような材料を川いて行なう
ことができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から４ｆ　，Ｑに
選択することができる。基板材料の例としては、ガラス
（　ｎ　＝　１．５３　〜１．５６）　、ポリメチルメ
タクリレート（　ｎ　＝　１．４９）等のアクリル樹脂
（　ｎ　＝　１．４７〜１．５０）　；ボリ塩化ビニル
（　ｎ　＝　１．５４〜１．５５）　，塩化ビニル共重
合体等の塩化ビニル系栃脂：エポキシ樹脂（　ｎ　＝　
１．５５）　；ボリカーボネート樹脂（　ｎ　＝　１．
５８）　，アモルファスポリオレフィン（　ｎ　＝　１
．５１〜１．５５）およびポリエステル（　ｎ　＝　１
．５２〜１．５７）を挙げることができる。好ましくは
、基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い性、経時
安定性および製造コストなどの点から、ボリカーボネー
ト、ポリオレフィンおよびセルキャストポリメチルメタ
クリレートを挙げることができる。　記録層が設けられ
る側の基板表面には、本発明の上記反射調整層または上
記感度調整層が設けられる。基板表面に上記調整層を設
けない場合、色素記録層上に設けられる。

調整層は、たとえば前記記物質を適当な溶剤に溶解また
は分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法により基板表面に塗血することにより形成す
ることができる。反射調整層の層厚は一般に５０〜３０
００Ｘの範囲にあり、好ましくは１００〜２０００Ｘの
範囲である。感度調整層の層厚は一般に５０〜３０００
えの範囲にあり、好ましくは１００〜２０００大の範囲
である。

また、基板上には、トラッキング用溝またはアドレス信
号等の情報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグループ
層および／またはプレビット層が設けられてもよい。プ
レグループ層等の材料としては、アクリル酸のモノエス
テル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステル
のうちの少なくとも一種の千ノマー（またはオリゴマー
）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。

ブレグループ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンバー）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
プ層の設けられた基板が得られる。プレグループ層の層
厚は一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。基板材料がプラス
チックの場合は、射出成形あるいは押出成形などにより
直接基板にプレグループおよび／またはプレビットが設
けられてもよい。

基板（またはプレグループ層等）上には、色素からなる
記録層が設けられる。本発明に使用される色素は、例え
ば、イミダゾキノキサリン系色素（　ｎ　＝　１．５４
　〜１．５５）　、インドレジン系色素（ｎ＝２．６０
）などのシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ビリ
リウム系・チオビリリウム系色素、アズレニウム系色素
、スクワリリウム系色素、Ｎｉ，Ｃｒなとの金属錯塩系
色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インド
フェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフエニ
ルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、メロシアン
系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモ
ニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げることができ
る。

以１ζ，ｉ二自 これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。

その好ましい例としては、 ｉ）シアニン系色素： ［１］　（Ｃ１１３）２Ｎ−（Ｃｌｌ−ＣＨ）ｓ−Ｃｔ
ｌ−”Ｎ（Ｃｌｌ３）２（；ｊ！Ｌ（ただし、ｎは２ま
たは３である） Ｎ（ＣＩ１３）２ 十Ｎ（ＣＩＩ＋）２ Ｒ Ｒ （ただし、 Ｒは水素原子またはＮ（（：Ｉ＋３）２であ る） ［４］　　（Ｄ”　　−　Ｌ　＝’Ｐ　　　（　Ｘ”−
）＋７ｍ（ただし、Φおよび平はそれぞれ芳香族環が縮
合していてもよいインドレニン環残基、チアゾール環残
基、オキサゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダ
ゾール環残基、ビリジン環残基、チアゾロピリミジン環
残基またはイミダゾキノキサリン環残基であり、Ｌはモ
ノカルポシアニン、ジカルボシアニン、トリ力ルポシア
ニンまたはテトラカルボシアニンを形成するための連結
基であり、ｘ″″−は鵬価の陰イオンであり、ｍはｌま
たは２であり、ざらにｘ１−はΦ、Ｌまたは▼上に置換
して分子内塩を形成しても良く、またΦとし、またはＬ
と▼とはさらに連結して環を形成しても良い） 上記一般式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｋ）等が挙げられる。

［Ｃ］ Ｃ１０，゜ ［ｆｌ 〔９］ Ｃ１０４゜ Ｃ１０４ ［フ］ ［ｋ］ Ｃ１０４゛ Ｃ１０４゜ ｉｉ） スクワリ リウム系色素： ｉｉｉ）アズレニウム系色素： （ただし　ｌ｛ＩとＲ２，Ｒ２とＲコ　Ｒ３とＲ４，Ｒ
４とＲ５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち
少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複素環
または脂肪族環による環を形威し、該環を形威しないと
きのＲｌ，Ｒ２Ｒ３，　Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６およびＲ７は
それぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有槻歿基
であり、あるいはＲ１とＲ２，Ｒ３とＲ４，Ｒ４とＲ５
，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち少なくと
も一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族環を形成
してもよく、Ａは二重結合によって結合した二価の宥機
歿基であり，２−はアニオン残基である．なお，アズレ
ン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で
置き換えられてアザアズレン環となっていてもよい．） ｉ▼）インドフェノール系色素： −Ｃ−ゴ （ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子，アルキル基
、７シルアミ７基，アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、Ｒｌ，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ水素原子、Ｃ１
〜Ｃ２ｏの置換または未置換のアルキル基、アリール基
、複素環またはシクロヘキシル基であり、Ａは一ＮＨＣ
Ｏ−または−ＣＯＮＨ−である） ■）金属錯塩系色素： （ただし、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり，Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし，Ｒ１８よびＲ２はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり　Ｒ３はアルキル
基、ハロゲン原子またはＲ４ ｌ −Ｎ−Ｒ５基（ここで、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ置換
または末ｉｔ換のアルキル基またはアリール基である）
であり、Ｍは遷移金属原子であり，ｎはＯ〜３の整数で
ある） （ただし．　　［Ｃａｔｌは錯墳を中性ならしめるため
に必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ．Ｃｕ，Ｃｏ，Ｐｄ
またはＰｔであり、ｎは１または２であ（ただし．　　
（Ｃａｔ）は錯堪を中性ならしめるために必要な陽イオ
ンであり、ＭはＮｉ．Ｃｕ，Ｃｏ，ＰｄまたはＰｔであ
り、ｎは１または２である） （ただし， 又は水素原子、 塩素原子， 臭素原 子またはメチル基であり、 ｎは１〜４の整数であ リ， Ａほ第四級アンモニウム基である） （ただし、 ｘ１ およびｘ２ はそれぞれニト びｎ２はそれぞれ１〜３の整数であり、Ｒ１およびＲ２
はそれぞれアミノ基、七ノアルキルアミノ基、ジアルキ
ルアミ７基，アセチルアミ７基、ペンゾイルアミ７基（
置換ヘンゾイルアミ７基を含む）であり、Ｘ’　（！：
Ｘ２．　　ｎ　ｌトｎ　２　ｔ３ＪｃｔｆＲ　ｌとＲ２
はそれぞれ互いに同じであっても異なっていてもよく：
ＭはＣｒまたはＣｏ原子であり、Ｙは水素、ナトリウム
，カリウム、アンモニウム，脂肪族アンモニウムｃｕｅ
脂肪族アンモニウムを含む）または脂環族アンモニウム
である）▼ｉ）ナフトキノン系，アントラキノン系色素
：（ただし，Ｒは水素原子，アルキル基，ル基，アミノ
基または！ｉ換アミノ基である）アリ （ただし、 Ｒは水素原子、 アルキル基， アリ ル基、 アミノ基または置換アミノ基である） （ただし、 Ｒは水素原子、 アルキル基， アリ ル基、 アミノ基または置換アミノ基である） （ただし、 又はハロゲン原子であり、 ｎはＯ （ただし， Ｘはハロゲン原子である） ▼ｉｉ）インドリジン系色素： （式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立に、置換基を宥
していてもよいアルキル基，置換基を有していてもよい
アリール基、芳香環に置換基を宥していてもよいアラル
キル羞、アルコキシ基、芳香環に置換基を有していても
よいアリールオキシ基，アルキルカルポニルアミ７基、
芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルポニル
アミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルポニル
基又はハロゲン原子を表わし、Ｒｌｌ及びＲ４１は、そ
れぞれ独立に，水素原子，置換基を宥していてもよいア
ルキル基、置換基を宥していてもよいアリール基、芳香
環に置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキ
シ基、芳香環に置換基を有していてもよいアリールオキ
シ基，アルキルカルポニルアミノ基，芳香環にＭ挨基を
有していてもよいアリールカルボニルアミ７基、シアノ
基、アシル基、アルコキシカルポニル基又はハロゲン原
子を表わし　Ｒ２，｝ｉ３，ｌ｛５．　Ｒ６及びＲ７は
、それぞれ独立に，水素原子、Ｎ換基を有していてもよ
いアルキル基，置換基を膚していてもよいアリール基，
芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル基、アル
コキシ基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ２及びＲ３がア
ルキル基であるときＲ２とＲ３とは一緒になって環を形
成してもよく、Ｒ５及びＲ６がアルキル基であるときＲ
５とＲ６とは一緒になって環を形威してもよく、Ｘーは
アニオンを表わす．） 上記一般式【２２１で表わされる具体的な色素例は以下
の（１）〜（２７）を挙げることができる．以下余白 （１０１ （１１） （１２） （１３） （１４） （１５） ｎ−Ｃ４Ｈ， ｎ−０４Ｈ， （１７） （１日） （１つ） し２′１５ し２”５ （２０》 （２１） （２２） （２３） （２４） （２５｝ （２６） （２刀 」二，；己イント゜リジン系色素は、例えば、Ｗ　．　
ｌ．　．Ｍｏｓｂｙ　　．１￥″′″ＩＩｅＬｃｒｏｃ
ｙｃｌｉｃ　　Ｓｙｓｔｅｍｓ　　ｗｉｔｈロＲＩＤＧ
ＥｌｔＥＡＤ　　ＮＩＴＲＯＧＥＮ　　ＡＴＯＭ　　Ｐ
ａｒｔｏｎｅＩｎＬｅｒｓｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌｉｓ
ｈｅｒｓ　＋９６１，米国特許第２．４０９．６１２号
、同第２．５１１，２２２号、同第２，５７１，７７５
号、同第２，６２２，０８２号、同第２，７０６，１９
３号、特開昭６２−２２７６９３号公報、同６４−４９
６８５号公報等に開示された方法を参考にして合成する
ことができる。以下に、前記例示したインドリジン系色
素の合成法を色素（７）および（３）を例にとり説明す
る。

合成例ｌ：色素（７）の合成 ３，５−ジメチル−２〜フェニルピロコリン６ｇをエタ
ノール５０ｍｌに溶解した後、ｌ，３．３−トリメトキ
シブロベン４ｍｊ２と濃塩酸４ｍｌｌとを加え、１５分
間にわたり加熱還流した。反応液を水冷し生じた結晶を
濾取し、メタノールで洗浄して色素（７）の粗結晶を得
た。

合成例２：色素（３）の合成 Ｅ記で得られた色素（７）の粗結晶５ｇにメタノール２
５０ｍＩＬを加えて溶解し少量の不溶物を濾別した後、
過塩素酸テトラブチルアンモニウム５ｇを５０ｍＩｌの
メタノールに溶解して添加した。生じた結晶を濾取し、
メタノールで洗浄して４．２ｇの色素（３）を得た。

融点：３００℃以上 これらに中で好ましく適用することができる具体的な色
素としては、イミダゾキノキサリン系色素を含むシアニ
ン系色素、インドリジン系色素、アズレニウム系色素、
スクワリリウム系色素、フタロシアニン系色素、メロシ
アニン系色素、オキソノール系色素およびインドアニリ
ン系色素である。なお、これらの色素は単独でもあるい
は二種以−［の混合物として用いてもよい。また、シア
ニン系色素を用いる場合に、上記企属錯塩系色素または
アミニウム系・ジインモニウム系色素をクエンチャーと
して一緒に用いてもよい。

色素層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでごの準布違を其
ｈ裏而『塗布して塗■Ｇを嵌成したのち乾燥することに
より行なうことができる。

上、；己色素塗Ｉｆｉ液調製用の溶剤としては、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステ
ル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２
−ジクロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化
水素、テトラヒトロフラン５エチルエーテル、ジオキサ
ンなどのエーテル、エタノール、ｎ−プロパノール、イ
ソブロパノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジ
メチルホルムアミドなどのアミド、２、２、３、３−テ
トラフロ口プロバノール専フッソ系溶剤などを挙げるこ
とができる。なお、これらの非炭化水素糸イｒ機溶剤は
、５０容星％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂
環族炭化水素溶剤、芳弄族炭化水素溶剤などの炭化水素
系溶媒を含んでいてもよい。

中布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑刑なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質：およびポリエチレン、ボリブロピレン、ボリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エボキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物１１を挙げることができる。

塗布方法としては、スプレー法、スビンコート法、ディ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、トクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

色素層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（屯も【比
）の範四にあり、好ましくは１．０〜９５％（屯量比）
の範囲にある。

］二記色素屑は単層でも重胎でもよいが、その層Ｎは一
般に１００〜５５００Ｘの範囲にあり、好ましくは２０
０〜３０００Ｘの範囲にある。

上記色素記録層の上には、本発明の反射調整層または感
度調整層が設けられる。基板上に既に設けられている場
合は、色素記録層上には一般に設けられない。基板上に
感度調整層が形成されている場合は、所望により反射調
整層が設けられる。

上記調整層は、前記韮坂上に設けた時と同様な方法にて
色素記録層上に形成される。

上記反射調整層または感度調整層の上には反射附か設け
られる。

反射層の材料である光反射性物質゜はレーザー光に対す
る反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ（ｎ
−０．４）　　Ｓｅ％Ｙ．Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ．Ｖ．Ｎｂ
，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ、Ｗ，Ｍｎ（ｎ＝２．８）　　　Ｒ
ｅ，Ｆｅ％　Ｃｏ、Ｎ　ｉ　（ｎ＝２．２）Ｒｕ，Ｒｈ
，Ｐｄ，Ｉ　ｒ，Ｐｔ（ｎ＝２．２）　　　Ｃｕ（ｎ−
０．１）　　　Ａ　ｇ　（ｎ−０．２）　　，　　Ａ　
ｕ　（ｎ−０．２）　　　Ｚ　ｎ（ｎ−２．６）　　　
Ｃｄ，Ａ２（ｎ−２．０）　　　Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｉ，　
　Ｇｅ，Ｔｅ％　Ｐｂ，　　Ｐｏ，　　Ｓｎ，　　Ｂｉ
、Ｓ　ｂ　（ｎ・３．２）などの金属および半金属を挙
げることができる。これらのうちで好ましいものはＡｎ
、Ａｕ，ＣｒおよびＮｉである。これらの物質は単独で
用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合
金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンプレーティングすることにより基板
の上に形成することができる。反射層の層厚は一般には
１００〜３０００Ｘの範囲にある。

上記反射層上には保護層を設けてもよい。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、Ｓ　ｉ　Ｏ，　　Ｓ　ｉ　Ｏ２、Ｓ　ｉ　３　Ｎ４
、ＭｇＦ２、Ｓｎ０２等を挙げることができる。また、
有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ
硬化性樹脂等を挙げることができ、好ましくはＵｖ硬化
性樹脂である。

Ｌ記保護居は、たとえばプラスチックの押出加工で得ら
れたフィルムを接着層を介して飽和炭化水素系溶剤に可
溶な樹脂からなる保護層上にラミネートすることにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、￥１６等の方法により設けられてもよい。また、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを通当
な溶剤に溶解して塗ノＩｉ液を調製したのち、この塗布
液を塗ノｔｉシ、乾燥することによっても形成すること
ができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしく
は通当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布
液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって
も形成することができる。Ｕｖ硬化性樹脂としては、ウ
レタン（メタ）アクリレート、エボキシ（メタ〉アクリ
レート、ポリエステル（メタ）アクリレート等の（メタ
〉アクリレートのオリゴマー類、（メタ〉アクリル酸エ
ステル専の千ノマー類等さらに光重台開始剤等の通常の
Ｕｖ硬化性樹脂を使用することができる。これらの塗ｌ
ａ液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤
等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。

Ｅ記別の保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの
範囲にある。

また、保護層の代わりに樹脂フィルムを用いて、光ディ
スクを覆うことによって保護してもよい。

本発明において、情報記録媒体は−Ｅ述した構成からな
る単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有す
る二枚の基板を反射層が内側となるように向い合わせ、
接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの
記録媒体を製造することもできる。

１二記情報記録媒体への記録は、例えば下記のように行
なわれる。

まず、情報記録媒体を定線速度または定角速度で同転さ
せながら、半導体レーザー光などの記録用の光を、基板
側から該ブレグループのグループにレーザー光を照射し
てＣＤフォーマットのＥＦＭ信号などのイ３号を、該グ
ループの色素層、反射居等に上３己形状変化を形成する
ことにより記録する。一般に、３己録光としては７５０
〜８５０ｎｍの範開の発振波長を打する半導体レーザー
ビームが用いられる。一般に１〜１５ｍＷのレーザーノ
ペワーで記録される。

記録に際しては、上記トラッキング用プレグループを用
いてプッシュプル法などによるトラッキング制御が行な
われる。情報の記録は、プレグループのグループまたは
グループ間のランドに行なわれる。

ｈ’ｔ報の再生は、例えば記録媒体を上記と同一の定線
速度または定角速度で回転させながら半導体レーザー光
を基板側から照射してその反射光を検出することにより
、３ビーム法などによるトラッキング制御を行ないなが
ら情報を再生すること力くできる。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各例は本発明を制限するものではない。

［実施例ｌ］ ＣＨ３ＣＣＩ−１３ Ｃ１１２ Ｃ１１３ −Ｌ記銀アセチリド化合物１ｇをシクロヘキサン１００
ｍｌに溶解して反射調整層形成川塗布液を調製した。

プレグループが設けられた円盤状のポリカーボネート基
板（外径：１２０ｍｍ、内径＝１５ｍｍ，厚さ：　１．
２ｍｍ，　トラックピッチ：１．６μｍ，グループの深
さ：　ａｏｏＸ、グループ位置：半径４５ｍｍ〜１　１
　６ｍｍの範囲）上に、反射調整層形成用塗布液をスビ
ンコート法により回転数１０００ｒｐｍの速度で３０秒
間で塗布した後、乾燥して洒Ｊゾが１ ０ ＯＸの反射調整層を 形成した。

ＣＸＯ４ ２．５ｇを、２，２，３．３−テトラフロロブロパノー
ル１００ｇに溶解してｆ布液を調製した。

ト記反射！！Ｉ整屑のＬに、上記塗ｔｒｉ液をスピンコ
ート法により同転数１０００ｒｐｍの速度で３０秒間で
塗Ｉｎ　シた後、乾燥してＦＶＩＦＪが１５００又の位
素記録層を形成した。

４二記色素記録層上にＡｕをスッパタリングしてＰｔｖ
ＩＰスｔ　３ｏｏ工の反射層を形成した。

反射層−Ｌにざらに層厚２μｍの紫外線硬化型樹脂から
なる保護層を紫外線硬化型樹脂（商品名：３０７０、ス
リーボンド■製）をスビンコート法により塗布して紫外
線を照射することによって形成した。

このようにして、基板上に、反射調整層、色素記録層、
反射層および保護層からなる情報記録媒体（第１図参照
）を製造した。

［実施例２］ 実施例１において、上記反射調整層を基板上の設けず、
色素記録層上に設けた以外は実施例１と１・ｉ１様にし
て情報記録媒体（第２図参照）を製造した。

［実施例３］ 実施例ｌにおいて、上記反射３Ｉ整屑の代わりに、Ｚｎ
Ｓを基板，［にスパッタリングすることによりＦｌ７０
０大の感度調整層を設けた以外は実施例１と同様にして
情報記録媒体（第３因参照）を製造した。

［実施例４］ 実施例２において、上記反射調整層の代わりに、ＺｎＳ
を色素記録屑上にスパッタリングすることによりＦＭＰ
１７００大の感度調整層を設けた以外は実施例２と同様
にして情報記録媒体（第４図参照）を製造した。

［失施例５］ 実施例２において、基板上に色素記録層を設ける前に、
先に基板上にＺｎＳをスパッタリングして屑Ｊ！Ｊ　７
　０　０大の感度調整層を設けた以外は実施例２と同様
にして情報記録媒体（第５図参照）を製造した。

［夫施例６コ 実施例１において、色素記録層上に反射層を設ける前に
、先に色素記録層上にＺｎＳをスパッタリングして層Ｊ
’Ｊ７　０　０　＠の感度調整層を設けた以外は実施例
１と同様にして情報記録媒体（第６図参照）を製造した
。

［参考例ｌ］ 実施例１において、基板上に反射調整層を設けなかった
以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を製造した。

［参考例２］ 参考例１において、反射層および保護層を設けなかった
（すなわち基板上に色素記録層を設けただけの構成）以
外は参考例１と同様にして情報記録媒体を製造した。

上記で用いたポリカーボネート基板、銀アセチリド化合
物の反射調整層、ＺｎＳの感度調整層、色素記録層およ
びＡｕの反射層について下記のように屈折率を測定した
。

ポリカーボネート基板はそのまま、銀アセチリド化合物
の反射調整層、ＺｎＳの感度調整層、色素記録層および
Ａｕの反射層は、それぞれ各材料を」二記のように塗布
またはスパッタリングにてガラス板に薄層（５００〜１
　５００Ｘ）を形成し、その反射率と透過率を測定して
、屈折率を求めた。

上記の結果、ポリカーボネート基板の屈折率が１．５８
、銀アセチリド化合物の反射調整層が１．５０、ＺｎＳ
の感度ｊｌ整層が２．３７、色素記録層が２．６０およ
びＡｕの反射層が０．８０てあった。

［　Ｍ　％［　．ｉ己録媒体の評価］ １）反射率（％）、感度（　ｍ　Ｗ　）、およびＣ／Ｎ
（ｄＢ） 上記で得られた情報記録媒体について、光ディスク；ｆ
価機（パルステック玉業■製）を用いて、，紀録吋のレ
ーザーバワー（記録パワー）を変化させて、線速度１．
３ｍ／秒、変調周波数７２０ｋＨｚおよびデューティ３
３％にてＪ己録を行ない、そして反射率、感度およびＣ
／Ｎの測定をスベクトラムアナライザー（ＴＲ４１３５
：アドバンテスト社製）を用いて、ＲＢＷ＝３０ｋＨｚ
、ＶＢＷ＝１００Ｈｚ．再生パワー０．５ｍＷにて行な
った。パワー範間は最大のＣ／Ｎより３ｄＢ以下の値ま
でを維持できる記録時のレーザーパワーの範囲を求めた
。

２〉変調度 上記記録されたイ３号部分と信号の無い部分（ミラ一部
）のそれぞれの信号強度を測定しその変調度（Ｃ）を次
式により求めた。

ＳＨ　　−ＳＬ （Ｓ｝１：信号の最大強度、ＳＬ：信号の最小強度、Ｓ
Ｍ　：ミラーの信号強度） −Ｅ記測定結果を第１表に示す。

第１表 反射率　　感度　　Ｃ／Ｎ　　　ｆ調度（４ｋ）　　　
　（ｍｌｌ）　　　（ｄＢ）　　　　（木）実施例１ 実施例２ 実施例３ 実施例４ 実施例５ 実施例６ ７　５ ７　７ ３　５ ５　０ ４　０ ４　８ ５　２ ５　３ ５　７ ５　４ ５　７ ５１ ２１ ２　２ ５　３ ４　０ ５１ ４　０ 参老例１ 参考例２ ３　０ ５　３ ４　８ ２　２ ４　０ 上記′ｆＳｌ表より明らかなように、実施例１および２
の基板、記録層、反射層および保護層からなる裁本構成
を有する光ディスクに反射調整層をかいざいさせた情報
記録媒体は、反射調整層を持たない参考例１に比較して
感度、Ｃ／Ｎそして変調度の低Ｆがなく、反射率が高い
ものとなっている。

また、実施例３および４の感度調整層を有する光ディス
クでは、参考例１に比べて反射率は低下しているものの
、他の感度、Ｃ／Ｎそして変調度については顕著に向上
している。また、基板と色素記録層からなる参考例２に
比較すると、反射率においても高く且つ記録再生特性も
格段に優れている。さらに、実施例３および４より、感
度調整附を記録層上あるいは下に設けることにより、異
なった特性を得られ７ＩＩｒ）が分かる。すなわち、実
施例３は特に高感度を狙ったものであり、実施例４は高
反射率にすることも考慮している。

実施例５および６は、感度調整層と反射調整層とを有す
る光ディスクでは、高いレベルで全ての特性が確保され
ていることが分かる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図、第４図、第５図および第６図
は、それぞれ本発明の情報記録媒体の一例の断面図であ
る。 １　１　、　２　１、 １　２、　２２、 １　３、　２３、 １　４、　２４、 ３　５、　４　５、 ３　１、　４　１、 ３　２、　４　２、 ３　３、　４３、 ５４、　６４ ５　５、　６５ ５１、６１：基板 ５２、６２：記録層 ５３、６３：反射層 二反射調整層 ：感度調整層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １。基板上に設けられたレーザーにより情報の書き込み
   が可能な色素からなる記録層の上に、反射層が設けられ
   てなる情報記録媒体において、該記録層と該基板との間
   に、該記録層および／または該基板より低い屈折率を有
   する反射調整層、および／または 該記録層と該反射層との間に、該記録層および／または
   該反射層より低い屈折率を有する反射調整層が、 形成されていることを特徴とする情報記録媒体。 ２。基板上に設けられたレーザーにより情報の書き込み
   が可能な色素からなる記録層の上に、反射層が設けられ
   てなる情報記録媒体において、該記録層と該基板との間
   に、該基板および／または該記録層より高い屈折率を有
   する感度調整層、および／または 該記録層と該反射層との間に、該記録層および／または
   該反射層より高い屈折率の値を有する感度調整層が、 形成されていることを特徴とする情報記録媒体。 ３。基板上に設けられたレーザーにより情報の書き込み
   が可能な色素からなる記録層の上に、反射層が設けられ
   てなる情報記録媒体において、該記録層と該基板との間
   に、該記録層および／または該基板より高い屈折率を有
   する感度調整層と、 該記録層と該反射層との間に、該記録層および／または
   該反射層より低い屈折率を有する反射調整層とが、 形成されていることを特徴とする情報記録媒体。 ４。基板上に設けられたレーザーにより情報の書き込み
   が可能な色素からなる記録層の上に、反射層が設けられ
   てなる情報記録媒体において、該記録層と該基板との間
   に、該記録層および／または該基板より低い屈折率を有
   する反射調整層と、 該記録層と該反射層との間に、該記録層および／または
   該反射層より高い屈折率を有する感度調整層とが、 形成されていることを特徴とする情報記録媒体。