JPH0314235B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0314235B2
JPH0314235B2 JP59010462A JP1046284A JPH0314235B2 JP H0314235 B2 JPH0314235 B2 JP H0314235B2 JP 59010462 A JP59010462 A JP 59010462A JP 1046284 A JP1046284 A JP 1046284A JP H0314235 B2 JPH0314235 B2 JP H0314235B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
potential
circuit
circuit block
semiconductor substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59010462A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60154553A (ja
Inventor
Takeshi Ando
Yasunobu Okano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP59010462A priority Critical patent/JPS60154553A/ja
Priority to US06/694,174 priority patent/US4670672A/en
Publication of JPS60154553A publication Critical patent/JPS60154553A/ja
Publication of JPH0314235B2 publication Critical patent/JPH0314235B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K5/00Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
    • H03K5/01Shaping pulses
    • H03K5/04Shaping pulses by increasing duration; by decreasing duration
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • H01L27/092Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
    • H01L27/0927Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors comprising a P-well only in the substrate
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/003Modifications for increasing the reliability for protection
    • H03K19/00346Modifications for eliminating interference or parasitic voltages or currents
    • H03K19/00361Modifications for eliminating interference or parasitic voltages or currents in field effect transistor circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Computing Systems (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術) 本発明は相補型MOS集積回路、特に論理回路
を動作する相補型MOS集積回路の駆動方法に関
する。
(従来技術) 従来の相補型MOS論理集積回路に於いて、第
1図の様に回路ブロツク1,2を直列に接続する
場合では、各回路ブロツク1,2の電源の高電位
をVDDとし、電源端4,5に供給される。また低
電位をVSSとし、電源端6,7に供給される。さ
らに相補型MOS集積回路において、VDDの電位は
N導電型基板電位(共通電位)であり、VSSの電
位は低濃度のP導電型ウエル領域の電位である。
従つて、各回路ブロツクの構成によつてはそれぞ
れいくつかの低濃度のP導電型ウエル領域が形成
される。
第1図の従来例では、P導電型ウエル領域の配
線インピーダンスが回路ブロツク1ではr1回路ブ
ロツク2ではr2(回路ブロツク内の素子の配線に
よりr1とr2は異なるが)で、例えばr1>r2であつ
たと仮定すると、一般に電源変動に対して回路ブ
ロツク1がより影響される。つまり、回路ブロツ
ク1の出力端から回路ブロツク2の入力端を結ぶ
信号線3に生じる信号が変動する。
従つて、第1図の信号線3に生じる信号を第2
図aの様な波形として全体の回路構成が設計され
ていると、電源電位が変動(例えば、VSS電位が
さらに低電位になつた場合)した場合、配線イン
ピーダンスr1の電位降下分は配線インピーダンス
r2に比べて、大きくなるため、信号線3に生じる
信号のVSSレベルが高くなる。このような信号を
受けた回路ブロツク2では、信号線3の信号の
VSSレベルが回路ブロツク2内のNチヤネルトラ
ンジスタ側の閾値電圧よりも高くなることがあ
り、この結果回路ブロツク2内で、電源が変動し
たとき、信号が反転するといつた誤動作を生じ
る。
(発明の目的) そこで、本発明の目的は、低不純物濃度のウエ
ル領域がどの様に配置されても、電源変動に対し
て誤動作を生じない相補型MOS集積回路の駆動
方法を提供するものである。
(発明の構成) 本発明によれば、一導電型の半導体基板の第1
の電源VDDと第2の電源VSS間に並列に複数の相
補型MOS回路ブロツクを有し、前記複数の相補
型MOS回路相互間で信号の送受が行なわれる相
補型MOS集積回路において、他の導電型のウエ
ル領域の内部抵抗が高い前記回路ブロツクから他
の導電型のウエル領域の内部抵抗が低い前記回路
ブロツクへ半導体基板に印加される電源電位を基
準電位とし、デユーテイーの長い信号を送るよう
にした相補型MOS集積回路の駆動方法を得る。
(発明の実施例) 次に、図面を参照して本発明をより詳細に説明
する。
例えば、第3図の様にNチヤンネルMOSFET
10とPチヤンネルMOSFET8とのインバータ
AとNチヤンネルMOSFET11とPチヤンネル
MOSFET9とのインバータBが直列に接続され
ており、これらの入出力端が信号線12で接続さ
れており、VSS側の電位がNチヤンネル
MOSFET10と11とを形成した低濃度のP導
電型ウエル領域P−well1,P−well2に与えら
れているとする。このような回路の相補型MOS
集積回路の断面図を第4図に示す。
インバータAののVSS側の配線インピーダンス
rAとインバータBのVSS側の配線インピーダンス
rBは必ずしも等しくない。このため、相補型
MOS集積回路の電源電位が変動した場合、イン
バータAとインバータBのVSS側の電位が変動す
る。一方、高電位つまりVDDは基板16の電位で
あるため、電源の変動にはほとんど影響されな
い。このため、インバータAとBの電位変動はウ
エル領域の配線インピーダンスにより異なる。し
かし、インバータAの配線インピーダンスrAをイ
ンバータBの配線インピーダンスrBより大きいと
し、インバータAの出力信号が高電位レベル、す
なわち半導体基板16の電位を基準とする信号と
なつているとすると、電源の変動に対して、イン
バータAからインバータBへの信号の送受は何ら
影響されない。また、インバータAからインバー
タBに信号を送る場合、第2図bの様に基板側電
位のデユーテイを長くするように波形整形してお
くことにより、電源変動に対する影響を小さくす
ることが出来る。
(発明の効果) 本発明の様な相補型MOS論理集積回路の駆動
方法によれば、レイアウト設計が簡単に出来、異
なつたウエルを有する回路ブロツク間に於ける電
源変動に対する誤動作を防止することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、一般の相補型MOS論理集積回路内
の回路ブロツク間の構成を示すブロツクダイヤグ
ラム、第2図aは該回路ブロツク間で送られる信
号の波形図、同図bは本発明に使われる信号の波
形図である。第3図は、本発明の一実施例に適用
される相補型MOS論理集積回路の一例を示す回
路図、第4図は第3図の回路を実現した半導体装
置の断面図である。 1……回路ブロツク、2……回路ブロツク
、3,12,13……信号線、4,5……高電
位電源端、6,7……低電位電源端、r1,r2
rA,rB……低濃度のP導電型ウエル領域の内部抵
抗、8,9……PチヤネルMOSトランジスタ、
10,11……NチヤネルMOSトランジスタ、
14……Al配線、15……絶縁層、16……N
型基板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 第1の電源電位が印加された一導電型半導体
    基板にそれぞれが前記半導体基板内に直接形成さ
    れた第1のMOSトランジスタと前記半導体基板
    内に形成され、第2の電源電位が印加された逆導
    電型のウエル領域内に形成された第2のMOSト
    ランジスタとを有し、前記第1および第2のトラ
    ンジスタが前記第1および第2の電源電位間に直
    列に接続されてなる複数の相補型MOS回路ブロ
    ツクを形成した相補型MOS集積回路の駆動方法
    において、前記複数の相補型MOS回路ブロツク
    のうちそのウエル領域の内部インピーダンスの高
    い回路ブロツクからそのウエル領域の内部インピ
    ーダンスの低い回路ブロツクに前記半導体基板に
    与える前記第1の電源電位を基準電位とし、かつ
    前記第1の電源電位側のデユーテイーを長くした
    信号を送ることを特徴とする相補型MOS集積回
    路の駆動方法。
JP59010462A 1984-01-23 1984-01-23 相補型mos集積回路の駆動方法 Granted JPS60154553A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59010462A JPS60154553A (ja) 1984-01-23 1984-01-23 相補型mos集積回路の駆動方法
US06/694,174 US4670672A (en) 1984-01-23 1985-01-23 C-MOS logic circuit supplied with narrow width pulses converted from input pulses

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59010462A JPS60154553A (ja) 1984-01-23 1984-01-23 相補型mos集積回路の駆動方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60154553A JPS60154553A (ja) 1985-08-14
JPH0314235B2 true JPH0314235B2 (ja) 1991-02-26

Family

ID=11750797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59010462A Granted JPS60154553A (ja) 1984-01-23 1984-01-23 相補型mos集積回路の駆動方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4670672A (ja)
JP (1) JPS60154553A (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE68910445T2 (de) * 1988-09-01 1994-02-24 Fujitsu Ltd Integrierter Halbleiterschaltkreis.
JPH02309661A (ja) * 1989-05-24 1990-12-25 Toshiba Corp 半導体集積回路
US5519344A (en) * 1994-06-30 1996-05-21 Proebsting; Robert J. Fast propagation technique in CMOS integrated circuits
JP3406949B2 (ja) * 1995-01-31 2003-05-19 キヤノン株式会社 半導体集積回路装置
US5926050A (en) * 1996-07-29 1999-07-20 Townsend And Townsend And Crew Llp Separate set/reset paths for time critical signals
US6338103B1 (en) 1999-03-24 2002-01-08 International Business Machines Corporation System for high-speed data transfer using a sequence of overlapped global pointer signals for generating corresponding sequence of non-overlapped local pointer signals
US6140855A (en) * 1999-03-30 2000-10-31 International Business Machines Corporation Dynamic-latch-receiver with self-reset pointer

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49128684A (ja) * 1973-03-14 1974-12-10

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3862440A (en) * 1972-09-14 1975-01-21 Tokyo Shibaura Electric Co Pulse transforming circuit arrangements using a clock pulse responsive delayed inverter means
JPS5738996B2 (ja) * 1973-03-20 1982-08-18
US3818367A (en) * 1973-06-29 1974-06-18 Gte Automatic Electric Lab Inc Adjustable slow and delayed pulse oscillator
US4047057A (en) * 1976-08-23 1977-09-06 Rca Corporation Monostable switching circuit
US4370569A (en) * 1980-10-30 1983-01-25 Hewlett-Packard Company Integratable single pulse circuit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49128684A (ja) * 1973-03-14 1974-12-10

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60154553A (ja) 1985-08-14
US4670672A (en) 1987-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4791321A (en) CMOS output circuit device
US6462611B2 (en) Transmission gate
JPH055407B2 (ja)
US5302871A (en) Delay circuit
US4677317A (en) High voltage signal output circuit provided with low voltage drive signal processing stages
US5095230A (en) Data output circuit of semiconductor device
US4352092A (en) Digital to analog converter
US5598106A (en) Semiconductor integrated circuit for preventing deterioration of the characteristics of an N-channel type transistor
JPH0314235B2 (ja)
US5406118A (en) Semiconductor integrated circuit having a long bus line
JP3030991B2 (ja) 半導体集積回路
JPH0389624A (ja) 半導体集積回路
US5083179A (en) CMOS semiconductor integrated circuit device
JP3120492B2 (ja) 半導体集積回路
US6542005B2 (en) Semiconductor integrated circuit and method of designing the same
EP0114382B1 (en) Mos semiconductor device having a fet and a metal wiring layer
KR0142001B1 (ko) 반도체 집적회로 장치
JP2842597B2 (ja) 半導体集積回路装置
US4891534A (en) Circuit for comparing magnitudes of binary signals
JPS60256224A (ja) 相補形論理回路
JP2004327540A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2845665B2 (ja) 出力バッファ回路
JPH0218960A (ja) 相補型クロックドナンド回路
JPS61269331A (ja) 半導体装置の製造方法
JPS60165111A (ja) 半導体集積回路