JPH0314146U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0314146U JPH0314146U JP7480289U JP7480289U JPH0314146U JP H0314146 U JPH0314146 U JP H0314146U JP 7480289 U JP7480289 U JP 7480289U JP 7480289 U JP7480289 U JP 7480289U JP H0314146 U JPH0314146 U JP H0314146U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film thickness
- vapor deposition
- correction means
- back sides
- posture
- Prior art date
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- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図ないし第４図はこの考案の実施例を示し
、第１図は真空蒸着装置の概略縦断面図、第２図
は第１図におけるＢ−Ｂ線断面図、第３図は蒸着
対象とその取付構造を示す断面図、第４図は基板
ホルダを反転した状態の第３図と同等の断面図で
ある。 ２……真空室、３……基板ホルダ、４……蒸発
源、２２……蒸着対象、２５……第１膜厚補正手
段、２６……第２膜厚補正手段。
、第１図は真空蒸着装置の概略縦断面図、第２図
は第１図におけるＢ−Ｂ線断面図、第３図は蒸着
対象とその取付構造を示す断面図、第４図は基板
ホルダを反転した状態の第３図と同等の断面図で
ある。 ２……真空室、３……基板ホルダ、４……蒸発
源、２２……蒸着対象、２５……第１膜厚補正手
段、２６……第２膜厚補正手段。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 真空室の内部に蒸発源と、蒸着対象を保持する
一群の基板ホルダとを有し、基板ホルダを偏平な
円錘面に沿つて回転駆動し、かつ基板ホルダの表
裏を反転して蒸着対象の表裏に蒸着膜を形成する
反転式の真空蒸着装置であつて、 蒸発源と基板ホルダとの間の蒸発物質の飛翔経
路中に、 基板ホルダにおける面方向の膜厚不整を補正す
る第１膜厚補正手段と、 蒸着対象の表裏の表面形状の違いに基づく膜厚
不整を補正する第２膜厚補正手段とをそれぞれ配
置し、 両膜厚補正手段のそれぞれが、蒸着物質の飛翔
経路の一部を遮る使用姿勢と、蒸着物質の飛翔を
妨げない不使用姿勢とに、姿勢切換自在に構成さ
れている真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7480289U JPH069013Y2 (ja) | 1989-06-26 | 1989-06-26 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7480289U JPH069013Y2 (ja) | 1989-06-26 | 1989-06-26 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0314146U true JPH0314146U (ja) | 1991-02-13 |
| JPH069013Y2 JPH069013Y2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=31614816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7480289U Expired - Lifetime JPH069013Y2 (ja) | 1989-06-26 | 1989-06-26 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069013Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006312765A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Fujinon Sano Kk | 真空蒸着装置 |
-
1989
- 1989-06-26 JP JP7480289U patent/JPH069013Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006312765A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Fujinon Sano Kk | 真空蒸着装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH069013Y2 (ja) | 1994-03-09 |