JPH0313226B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規な化合物、その製造方法及びその
使用に関し、詳しくは一般式 （式中、R₁は水素原子又は低級アルキル基を、
R₂は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基又は低級アルケニルオキシ基を、R₃は低級
アルキル基を、R₄は低級アルキル基又は低級ア
ルケニル基を示す。）で表わされる化合物及びそ
の金属塩、製造方法及び該化合物類を有効成分と
して含有する選択的除草剤である。 本発明化合物に類似のシクロヘキセノン誘導体
がイネ科雑草に対し優れた除草効力を有すること
は既に知られている。本発明化合物は新規化合物
であり、公知化合物に比し特に茎葉散布試験でそ
の除草効力が一層優れたものである。 本発明化合物の製造にあたつては、一般式 （式中、R₁、R₂及びR₃は前記と同一の意味を示
す。）で表わされる化合物と一般式 R₄ONH₂ （） （式中、R₄は前記と同一の意味を示す。）で表わ
されるオキシアミン類とを不活性溶媒中で反応さ
せる。 反応温度は、室温から使用する溶媒の沸点まで
の温度、好ましくは室温もしくは穏やかな加熱条
件で行われる。反応溶媒としてはアルコール、エ
ーテル、ベンゼン、トルエン、クロロホルム等一
般の不活性溶媒が用いられる。30分〜数時間の反
応後、必要ならば溶媒を置き換えて、アルカリ抽
出し、アルカリ層を塩酸酸性にして、析出した結
晶を分離して本発明化合物を得る。 本発明化合物の金属塩の製造にあたつては、水
又は、アセトン、メタノール、エタノール、ジメ
チルホルムアミド等の有機溶媒中で、前記一般式
（）で表わされる化合物と、カセイソーダ又は
カセイカリなどのカセイアルカリとを混和、必要
ならば加熱して反応させることによりナトリウム
塩又はカリウム塩を得る。次いで、該ナトリウム
塩又はカリウム塩と、目的とする金属の塩類とを
同様にして反応させることにより目的の金属塩を
得ることができる。金属塩は多くの場合、上述の
溶媒中で沈澱又は結晶として析出する。 前記一般式（）で表わされる化合物と金属塩
を形成する金属の塩類としては、Ca、Mg、Ba、
Ni、Mn、Co、Zn、Fe、Ag、Na、Ｋ等の１価、
２価又は３価の金属の塩類、たとえば塩化物、水
酸化物、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩等の水又は前記
有機溶媒に可溶な金属塩類が使用される。 なお、Ca²⁺塩は前記一般式（）で表わされ
る化合物と水酸化カルシウムを反応させることに
よつても得ることができる。 このようにして製造された本発明金属塩のある
ものは高温時に一部化学変化または分解を起こし
て明確な融点を示さないものであるが、原料およ
び生成物の赤外線スペクトルにおいて吸収帯の移
行あるいは吸収強度の変化により金属塩の生成を
知ることができる。すなわち一般式（）で表わ
される原料化合物は波数1655、1605cm^-1にカルボ
ニル基の吸収を示すのに対して金属塩はこれより
長波長側にその吸収を示す。 なお得られた金属塩において結晶水を保持して
いたり、金属原子にOHのようなアニオンが同時
に配位していることもある。 尚本発明化合物は、必要ならば適当な有機溶媒
から再結晶して精製し、IRスペクトル、NMRス
ペクトル、MASSスペクトル等の測定結果から
構造を決定した。 前記一般式（）で表わされる本発明化合物は
下記に示す互変異性構造をとりうるものである。 次に実施例を挙げて本発明の製造方法について
更に詳しく説明する。 実施例 １（化合物番号３） ２−〔１−（エトキシイミノ）プロピル〕−３−
ヒドロキシ−５−〔４−（Ｎ−メチル−Ｎ−プロ
ピルカルバモイル）フエニル〕−２−シクロヘ
キセン−１−オン： ３−ヒドロキシ−５−〔４−（Ｎ−メチル−Ｎ−
プロピルカルバモイル）フエニル〕−２−シクロ
ヘキセン−１−オン（1g）をメタノール（15ml）
に溶解して室温でエトキシアミン（0.4g）を加え
た。一夜放置の後、反応液を氷水に注いで塩酸で
酸性にし、クロロホルムで抽出した。クロロホル
ム溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧で溜去、残渣をメタノールで再結晶する事に
より目的物の白色結晶1gを得た。mp 72−73℃ 実施例 ２（化合物番号５） ２−〔１−（エトキシイミノ）プロピル〕−３−
ヒドロキシ−５−〔４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルカル
バモイル）フエニル〕−２−シクロヘキセン−
１−オン： ３−ヒドロキシ−５−〔４−（Ｎ、Ｎ−ジメチル
カルバモイル）フエニル〕−２−シクロヘキセン
−１−オン（1g）をメタノール（15ml）に溶解
して室温でエトキシアミン（0.4g）を加えた。一
夜放置の後、反応液を氷水に注いで塩酸で酸性に
し、クロロホルムで抽出した。クロロホルム溶液
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧で
溜去、残渣をメタノールで再結晶する事により目
的物の白色結晶1gを得た。mp 70−71℃ 実施例 ３（化合物番号10） ５−〔４−（Ｎ−エトキシカルバモイル）フエニ
ル〕−２〔１−（エトキシイミノ）ブチル−３−
ヒドロキシ−２−シクロヘキセン−１−オン： ４−ブチリル−３−ヒドロキシ−５−オキソ−
３−シクロヘキセン−１−イルカルボン酸クロリ
ド（1.5g）をクロロホルム（20ml）に溶解して、
撹拌しながらエトキシアミン（1.2g）を室温で加
えた。55時間反応させた後、反応液を氷水に注い
で塩酸で酸性とし、クロロホルム層を分取した。
クロロホルム溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧で溜去し、残渣をメタノールで再
結晶して1.2gの目的物の白色結晶を得た。mp
107−109℃ 第１表に本発明化合物の代表例を示す。

【表】 本発明除草剤は、前記一般式（）で示される
化合物の１又は２以上を有効成分として含有し、
通常の農薬と同様の形態を有する。即ち、有効成
分化合物は一般に適当な量を担体と混合して水和
剤、水溶剤、乳剤、フロアブル剤等の形に製剤し
て使用される。固体担体としてはタルク、ホワイ
トカーボン、ベントナイト、クレイ、ケイソウ土
等が挙げられ、液体担体としては、水、アルコー
ル、ベンゼン、キシレン、ケロシン、鉱油、シク
ロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルム
アミド等が用いられる。これらの製剤において、
均一且つ安定な形態をとるために必要ならば界面
活性剤を添加することもできる。 本発明除草剤における有効成分濃度は前述した
製剤の形により種々の濃度に変化するものである
が、例えば、水和剤においては５〜80％、好まし
くは30〜60％：水溶剤においては70〜95％、好ま
しくは80〜90％：乳剤においては５〜70％、好ま
しくは20〜40％：フロアブルにおいては10〜70
％、好ましくは20〜50％の濃度が用いられる。 この様にして得られた水和剤、水溶剤、乳剤は
水で所定の濃度に希釈して懸濁液或るいは乳濁液
として、フロアブル剤はそのまま又は水で所定濃
度に希釈して懸濁液として雑草の発芽前又は発芽
後に処理される。実際に本発明除草剤を適用する
にあたつては10アール当り有効成分5g以上の適
用量が施用される。 また本発明除草剤は公知の殺菌剤、殺虫剤、殺
ダニ剤、除草剤、植物生長調整剤等と混合して使
用することもできる。特に除草剤と混合使用する
ことにより、使用薬量を減少させまた省力化をも
たらすのみならず、両薬剤の相乗作用による一層
高い効果も期待できる。本発明除草剤と混合使用
するにふさわしい薬剤としては、アトラジン剤、
ターブトリン剤等のトリアジン系除草剤、イプロ
ン剤、トリブニル剤等の尿素系除草剤、ベンタゾ
ン剤等の複素環系除草剤２、４−Ｄ、MCPP等
のフエノキシアルカンカルボン酸系除草剤、アイ
オキシニル等のベンゾニトリル系除草剤及びグリ
ーン等のスルフオンアミド系除草剤等が挙げられ
る。 次に本発明除草剤に関する製剤例を若干示すが
有効成分化合物、添加物及び添加割合は本実施例
にのみ限定されることなく広い範囲で変更可能で
ある。 製剤例 １ 水和剤 化合物番号３ 50部 ホワイトカーボン 12部 ケイソウ土 30部 アルキル硫酸ソーダ ８部 以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分
50％の水和剤を得た。 製剤例 ３ 乳剤 化合物番号９ 20部 キシレン 40部 ジメチルホルムアミド 30部 ポリオキシエチレンフエニルエーテル 10部 以上を混合、溶解して有効成分20％の乳剤を得
た。 次に本発明除草剤の効果に関する試験例を示
す。 試験例 １ 100cm³ポツトに土壌を充填し、表層にスズメノ
テツポウ、野性エンバク、イヌビユ及びアカザを
別々に播種し、温室内で生育させた。雑草が３cm
〜８cmの草丈に生育した時点で各供試化合物の乳
剤を水で希釈して調整した所定濃度の薬液（この
場合400、200ppm）を100／10aの割合で各雑
草の茎葉部に噴霧処理し、温室内に静置した。 薬剤処理後28日目に各雑草の生育状況を下記の
基準に従つて視察で行ない、第２表に示す結果を
得た。 調査基準 損傷率 指 数 0： ０％ 2： 20〜29〃 4： 40〜49〃 6： 60〜69〃 8： 80〜89〃 10： 100〃 また１、３、５、７、９の数値は各々０と２、
２と４、４と６、６と８、８と10の中間の値を示
す。

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R₁は水素原子又は低級アルキル基を、
   R₂は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
   シ基又は低級アルケニルオキシ基を、R₃は低級
   アルキル基を、R₄は低級アルキル基又は低級ア
   ルケニル基を示す。）で表わされる化合物及びそ
   の金属塩。 ２ 一般式 （式中、R₁は水素原子又は低級アルキル基を、
   R₂は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
   シ基、又は低級アルケニルオキシ基を、R₃は低
   級アルキル基を示す。）で表わされる化合物と一
   般式 NH₂OR₄ （式中R₄は低級アルキル基又は低級アルケニル
   基を示す。）で表わされる化合物とを反応させる
   ことを特徴とする一般式 （式中、R₁、R₂、R₃及びR₄は前記と同一の意味
   を示す。）で表わされる化合物の製造方法。 ３ 一般式 （式中、R₁は水素原子又は低級アルキル基を、
   R₂は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
   シ基、又は低級アルケニルオキシ基を、R₃は低
   級アルキル基を、R₄は低級アルキル基又は低級
   アルケニル基を示す。）で表わされる化合物及び
   その金属塩を有効成分として含有することを特徴
   とする選択的除草剤。