JPH03124028A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 （産業上の利用分野） 本発明は、洗浄装置に関する。

（従来の技術） 半導体製造工程は、各種の工程を経て製造されるが、こ
の工程の橋渡しをする必須工程が洗浄工程である。特に
、最近の半導体集積回路の高集積化、高密度化に伴って
超洗浄環境が必要となり、洗浄技術の良否がデバイス性
能や歩留まりに極めて影響されている。

従来の洗浄方法には、化学的方法や物理的方法のうち例
えば複数枚の半導体ウェハをキャリアに収納し、このキ
ャリアを薬液槽中に浸漬して洗浄することが行なわれて
いるが、更に、発展してウェハを一枚ごとに洗浄する枚
葉式の洗浄方法も行なわれている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記の従来例による枚葉式の洗浄方法に
も次のような課題がある。

即ち、洗浄度を挙げるために、洗浄の際に薬液を１回毎
に入れ替えているため、必要斌以」二の薬液を消費して
いるので、省資源化の点に反するばかりでなく非経済的
でもある。また、１枚毎のウェハの表裏面を洗浄槽内で
同時に且つ効率的に洗浄することは困難なことであった
。

本発明は、上記の実情に鑑み、槽内の洗浄液を必要最少
限度の洗浄液量で洗浄するようにしたことを目的として
いる。

発明の構成 （課題を解決するための手段） 上記の目的を達成するため２本発明は、被処理板を垂直
に支持して、処理槽内に搬入し洗浄処理する洗浄装置に
おいて、上記処理槽内に適宜のスペーサを配設してこの
槽内に必要最少限度の容積スペースを形成させるように
した洗浄装置である。

（作　用） 本発明は、上述のように構成したから、前工程を終了し
た被処理板を搬送用アーム機構により洗浄工程に搬送す
る場合、オリフラ合わせをした被処理板をアーム機構の
ピンセットにより垂直状態に真空吸着して保持し、一方
、処理槽内には薬液等の洗浄液を１回毎に入れ替える。

次いで、洗浄液を供給した処理槽内に、適宜のスペーサ
を配設して収納空間を設けているので、被処置板を垂直
状態で浸漬できるように収納空間に挿入し、洗浄液は洗
浄するための最少限度の洗浄液が満たされているので、
被処理板は十分に槽内で、洗浄液により洗浄される。こ
の場合、スペーサの一面にＵ字形状の収納溝が形成され
ているので、垂直状態に保持されているピンセットを確
実に挿入することができ、被処理板の挿入には全く支障
がない。

洗浄を終了すると、ピンセットにより取り出されて次工
程に搬送されるとともに、使用済みの洗浄液を処理槽か
ら排出する。

（実施例） 以下に１本発明を半導体ウェハの洗浄装置に適用した一
例を図面に従って説明する。

本例における洗浄装置は、前工程例えばエツチング工程
を終了した１枚毎の半導体ウェハ１をアーム機構のピン
セット（図示せず）により垂直状態に吸着保持して、洗
浄工程に搬送し、１枚毎に垂直状態で、洗浄するもので
ある。

第１図において、内部に９０℃程度に保温された液体を
収納した保温槽２内に複数個本例においては４個の断面
方形状の縦長の処理槽３を下方部分を槽内に臨ましめて
いる。

この処理槽３は、石英ガラスで形成されており、底部は
円弧状を呈し、内部の両側面に石英ガラスで形成された
スペーサ４．５を処理槽３と一体に又は別体に形成され
ており、底面に半導体ウェハ１の垂直状態を保持する保
持部６を設け、更に、半導体ウェハ１を収納する収納空
間７の一面、ウェハ１の裏面と対面する側にＵ字形状の
挿入溝８を形成している。

また、処理槽３の上方開口部３ａに開閉用のゲート９が
設けられ、このゲート９は、開閉軸１゜を中心に回動す
る回動片１１にゲート捧１２を設け、このゲート捧１２
を挿入口１３に被蓋して開閉し、洗浄液のミストが飛散
しないようにしている。１４は、処理槽３にフッ酸、硫
酸等の薬液を供給する供給管、１５は排液管である。

次に上記した実施例の作用を説明する。

前工程例えばエツチング工程を終了した半導体ウェハ１
を１枚毎に搬送用アーム機構により洗浄工程に搬送する
場合、予めオリフラ合わせをしたウェハ１をアーム機構
のピンセットにより垂直状態に真空吸着して保持し、一
方処理槽３内には洗浄毎にフッ酸や硫酸等の薬液を１回
毎に入れ替える。

洗浄液（薬液）を供給した処理槽３内に、長手方向の両
面にスペーサ４．５を配設して半導体ウェハ１が垂直状
態に収納できる最少限のスペースを有する収納空間７を
設けているので、ウェハ１を垂直状態で浸漬できるよう
に収納空間７に挿入し、洗浄液は洗浄するための最少限
度の洗浄液が供給管１４より供給されて満たされている
ので、ウェハ１は十分に槽３内で、洗浄液により洗浄さ
れる。

この場合、スペーサの一面、即ちスペーサ５にＵ字形状
の収納溝８が形成されているので、垂直状態に保持され
ているピンセットが挿入することができ、半導体ウェハ
１の収納空間７への挿入には全く支障がない。

次いで、洗浄を終了すると、ピンセットにより取り出さ
れて次工程に搬送されるとともに、使用済みの洗浄液を
処理槽３から排出される。

発明の効果 以上のことから明らかなように、本発明によると、次の
ような有用な効果がある。

槽内の洗浄液は、洗浄度を挙げるために１回毎に洗浄液
を入れ替えるようにしても、洗浄に必要な最少限度の洗
浄液で十分であるため、洗浄液に要するコストの軽減を
図ることができ、更に、枚葉式の被処理板を垂直に保持
することにより被処理板の表裏面を効率的に洗浄するこ
とができる等の効果がある。

【図面の簡単な説明】

図面は１本発明における洗浄装置の一実施例を示したも
ので、第１図は洗浄装置の断面図、第２図は第１図の縦
断面図、第３図は第１図の処理槽を示した拡大断面図で
ある。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）被処理板を垂直に支持して、処理槽内に搬入し洗
   浄処理する洗浄装置において、上記処理槽内に適宜のス
   ペーサを配設してこの槽内に必要最少限度の容積スペー
   スを形成したことを特徴とする洗浄装置。