JPH03118361A - ピロリジン誘導体 - Google Patents
ピロリジン誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、医薬として優れた作用を有するピロリジン誘
導体及びその薬理学的に許容できる塩に関する。
導体及びその薬理学的に許容できる塩に関する。
高血圧症は日本人全体の約20%、即ち約2.000万
Å以上が羅患しており、各種脳疾患、心疾患などの重要
なリスクファクターとなっている。
Å以上が羅患しており、各種脳疾患、心疾患などの重要
なリスクファクターとなっている。
高血圧症の薬物治療としては現在降圧利尿剤、β遮断薬
、Ca拮抗剤、ACE阻害剤などが実際に臨床上使用さ
れている。
、Ca拮抗剤、ACE阻害剤などが実際に臨床上使用さ
れている。
しかしながら、高血圧の成因・病態は極めて多種多様で
あり、少なくとも一剤であらゆるタイプの高血圧を有意
にコントロールすることは困難である。更に、安全性の
面から言えば、例えばβ遮断薬には心抑制、気管支彎縮
があり、利尿薬には高尿酸血症、糖代謝異常、脂質代謝
異常などの副作用がある。
あり、少なくとも一剤であらゆるタイプの高血圧を有意
にコントロールすることは困難である。更に、安全性の
面から言えば、例えばβ遮断薬には心抑制、気管支彎縮
があり、利尿薬には高尿酸血症、糖代謝異常、脂質代謝
異常などの副作用がある。
このような状況から、種々のメカニズムによる異なった
タイプのよりよい降圧剤が依然として求められている。
タイプのよりよい降圧剤が依然として求められている。
そこで本発明者等は、特に腎血流増加作用を有する降圧
剤を開発するため、特にドパミン作用物質について長年
にわたって鋭意研究を行ってきたが、後記する如く、ピ
ロリジン誘導体が優れた作用を有することを見出した。
剤を開発するため、特にドパミン作用物質について長年
にわたって鋭意研究を行ってきたが、後記する如く、ピ
ロリジン誘導体が優れた作用を有することを見出した。
降圧作用を有するピロリジン誘導体は殆ど知られていな
い。
い。
米国特許第2.852.526号は、ピロリジン誘導体
が開示されているが、本発明化合物とは構造を異にして
いる上、気管支拡張作用、抗ヒスタミン作用、抗コリン
作用を有しているという記載があるのみで、本発明化合
物の薬効とは著しく異なる。
が開示されているが、本発明化合物とは構造を異にして
いる上、気管支拡張作用、抗ヒスタミン作用、抗コリン
作用を有しているという記載があるのみで、本発明化合
物の薬効とは著しく異なる。
また、腎血流増加作用を有する化合物としてフェノール
ドパム(Fenoldopam) (SKF−8252
6)が提案されているが、この化合物はベンズアゼピン
系化合物であり、本発明化合物とはその構造を異にする
。
ドパム(Fenoldopam) (SKF−8252
6)が提案されているが、この化合物はベンズアゼピン
系化合物であり、本発明化合物とはその構造を異にする
。
本発明化合物は次の一般式(I)で表されるピロリジン
誘導体及びその薬理学的に許容できる塩である。
誘導体及びその薬理学的に許容できる塩である。
■
〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
基を意味する。Yは式−(CH2)、−(式中nは1又
は2の整数を意味する)で示される基、印)。
基を意味する。Yは式−(CH2)、−(式中nは1又
は2の整数を意味する)で示される基、印)。
II
式−5−(式中pはO又は1〜2の整数を意味する)で
示される基、式−〇−で示される基又は式− NH−で示される基を意味する。Rは置換若しくは無置
換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル基又は
ヘテロアリール基を意味する。〕Rの定義中、置換若し
くは無置換のフェニル基とは、具体的には次の式(If
)に示される基をいう。
示される基、式−〇−で示される基又は式− NH−で示される基を意味する。Rは置換若しくは無置
換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル基又は
ヘテロアリール基を意味する。〕Rの定義中、置換若し
くは無置換のフェニル基とは、具体的には次の式(If
)に示される基をいう。
〔式中、R1,R2,R3は同−又は相異なる水素原子
、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、
水酸基、トリフルオロメチル基、又は式原子又は低級ア
ルキル基を意味する)で示される基を意味する〕 本発明化合物(1)の定義中のx1上記(II)で表さ
れる基の定義中のR1,R2,R3,R4,R5にみら
れる低級アルキル基とは、炭素数1〜6の直鎮若しくは
分枝状のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロ
ピル、n−プチノペイソプロピノペイソブチル、1−メ
チルプロピル、tertブチノペn−ペンチル、1−エ
チルプロピル、イソアミル、n−ヘキシルなどを意味す
るが、最も好ましい例としては、メチル基、エチル基な
どをあげることができる。
、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、
水酸基、トリフルオロメチル基、又は式原子又は低級ア
ルキル基を意味する)で示される基を意味する〕 本発明化合物(1)の定義中のx1上記(II)で表さ
れる基の定義中のR1,R2,R3,R4,R5にみら
れる低級アルキル基とは、炭素数1〜6の直鎮若しくは
分枝状のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロ
ピル、n−プチノペイソプロピノペイソブチル、1−メ
チルプロピル、tertブチノペn−ペンチル、1−エ
チルプロピル、イソアミル、n−ヘキシルなどを意味す
るが、最も好ましい例としては、メチル基、エチル基な
どをあげることができる。
また式(I)の定義中のX、式(II)の定義中のR’
、 R2,R3にみられるハロゲン原子とは、塩素、ヨ
ウ素、臭素、フッ素を意味する。
、 R2,R3にみられるハロゲン原子とは、塩素、ヨ
ウ素、臭素、フッ素を意味する。
更にR’、 R2,R3の定義中にみられる低級アルコ
キシ基とは、上記低級アルキル基から誘導された低級ア
ルコキシ基を意味するが、好ましい低級アルコキシ基と
しては、例えばメトキシ基、エトキシ基をあげることが
できる。
キシ基とは、上記低級アルキル基から誘導された低級ア
ルコキシ基を意味するが、好ましい低級アルコキシ基と
しては、例えばメトキシ基、エトキシ基をあげることが
できる。
Rの定義中の置換されたナフチル基とは、好ましくはメ
チル基、エチル基などで代表される低級アルキル基、メ
トキシ、エトキシ基などで代表される低級アルコキシ基
、ハロゲン原子、水酸基、トリフルオロメチル基などで
置換されたナフチル基をいう。
チル基、エチル基などで代表される低級アルキル基、メ
トキシ、エトキシ基などで代表される低級アルコキシ基
、ハロゲン原子、水酸基、トリフルオロメチル基などで
置換されたナフチル基をいう。
Rの定義にみられるヘテロアリール基とは、=10
置換若しくは無置換の複素環基を意味する。複素環は1
つ又はそれ以上の窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含ん
でもよい。具体例をあげれば、1−イミダゾリル基、2
−イミダゾリル基などのイミダゾリル基、3−ピリジル
基、4−ピリジル基などのピリジル基、1−ピロリル基
、3ピロリル基などのピロリル基、ピラゾリル基、イン
ドリル基、イミダゾリル基、イソキノリル基、キノリル
基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、イミダゾピリ
ジル基などの窒素原子を含んだヘテロアリール基、オキ
サシリル基、インオキサシリル基など窒素原子のほかに
酸素原子を含んだヘテロアリール基、チオフェン、ベン
ゾチオフェンから誘導される基である硫黄原子を含んだ
ヘテロアリール基などをあげることができるが、最も好
ましいヘテロアリール基としては、ピリジル基、イミダ
ゾリル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基など
をあげることができる。
つ又はそれ以上の窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含ん
でもよい。具体例をあげれば、1−イミダゾリル基、2
−イミダゾリル基などのイミダゾリル基、3−ピリジル
基、4−ピリジル基などのピリジル基、1−ピロリル基
、3ピロリル基などのピロリル基、ピラゾリル基、イン
ドリル基、イミダゾリル基、イソキノリル基、キノリル
基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、イミダゾピリ
ジル基などの窒素原子を含んだヘテロアリール基、オキ
サシリル基、インオキサシリル基など窒素原子のほかに
酸素原子を含んだヘテロアリール基、チオフェン、ベン
ゾチオフェンから誘導される基である硫黄原子を含んだ
ヘテロアリール基などをあげることができるが、最も好
ましいヘテロアリール基としては、ピリジル基、イミダ
ゾリル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基など
をあげることができる。
これらのへテロアリール基は、例えばメチル基、エチル
基などの低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基など
の低級アルコキシ基、ハロゲン原子などで置換されてい
てもよい。
基などの低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基など
の低級アルコキシ基、ハロゲン原子などで置換されてい
てもよい。
本発明化合物(I)において好ましい化合物群としては
、Rが式(n)で表される基である場合である。即ち、
下記の一般式(III)で表すことができる。
、Rが式(n)で表される基である場合である。即ち、
下記の一般式(III)で表すことができる。
1(’
(式中、X、 Y、 R’、 R2,R3Li前記の意
味を有する。)上記−船人(I[I)において、Xとし
ては水素原子である場合が最も好ましく 、R’、 R
2,R’は水酸基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で
ある場合が好ましい。
味を有する。)上記−船人(I[I)において、Xとし
ては水素原子である場合が最も好ましく 、R’、 R
2,R’は水酸基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で
ある場合が好ましい。
更に好ましくはハロゲン原子、水酸基の2置換体をあげ
ることができ、その場合m位に水酸2 基、0位に塩素原子などのハロゲン原子が置換されてい
る場合が最も好ましい。
ることができ、その場合m位に水酸2 基、0位に塩素原子などのハロゲン原子が置換されてい
る場合が最も好ましい。
更に好ましい化合物群としては、Rがへテロアリール基
である場合である。
である場合である。
本発明において、薬理学的に許容できる塩とは、例えば
塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩、燐酸塩などの無機酸塩
、蟻酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩
、フマル酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼ
ンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩などの有機酸塩
をあげることができる。
塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩、燐酸塩などの無機酸塩
、蟻酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩
、フマル酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼ
ンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩などの有機酸塩
をあげることができる。
化合物によっては水和物を形成する場合もあるが、それ
らが本発明の範囲に属することはいうまでもない。
らが本発明の範囲に属することはいうまでもない。
また、本発明化合物は、化学構造式から明らかな如く、
各種異性体が存在しうる。即ち、シス、トランスの位置
異性体のほかに、d、1光学活性体が存在する。これら
の異性体が本発明の範囲に属することはいうまでもない
。
各種異性体が存在しうる。即ち、シス、トランスの位置
異性体のほかに、d、1光学活性体が存在する。これら
の異性体が本発明の範囲に属することはいうまでもない
。
本発明においては、立体異性体の中ではトランス体が好
ましい。
ましい。
次に本発明化合物の代表的な製造方法について述べる。
〈製造方法1〉
本発明化合物は、前述の如くトランス体とシス体が存在
するが、トランス体の製造方法を述べれば以下の通りで
ある。
するが、トランス体の製造方法を述べれば以下の通りで
ある。
R−Y−CII2COOR6(IV )+
賀
4−
5
(一連の式において、X、Y、Rは前記と同様の意味を
有し、R6は低級アルキル基を意味し、R7は水酸基の
保護基を意味する。) (工程1) 一般式(IV)で表される化合物と、一般式(V)で表
されるβ−ニトロアリールエテン誘導体とを反応せしめ
て、一般式(VI)で表6 される化合物を製造する工程である。
有し、R6は低級アルキル基を意味し、R7は水酸基の
保護基を意味する。) (工程1) 一般式(IV)で表される化合物と、一般式(V)で表
されるβ−ニトロアリールエテン誘導体とを反応せしめ
て、一般式(VI)で表6 される化合物を製造する工程である。
本反応は常法によるが、例えばジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジグライムなどのエーテル系溶媒、ベ
ンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶媒、N、 N’−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイドなどの
溶媒を用い、塩基の存在下で反応を行う。
ラヒドロフラン、ジグライムなどのエーテル系溶媒、ベ
ンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶媒、N、 N’−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイドなどの
溶媒を用い、塩基の存在下で反応を行う。
具体的に好ましい一例をあげれば、テトラヒドロフラン
中、低温下にn−ブチルリチウムとジイソプロピルアミ
ンによってリチウムジイソプロピルアミドを生成させ、
これに−般式(TV)で表される化合物のテトラヒドロ
フラン溶液を加え、次いで一般式(V)で表される化合
物のテトラヒドロフラン溶液を作用させて反応を行う。
中、低温下にn−ブチルリチウムとジイソプロピルアミ
ンによってリチウムジイソプロピルアミドを生成させ、
これに−般式(TV)で表される化合物のテトラヒドロ
フラン溶液を加え、次いで一般式(V)で表される化合
物のテトラヒドロフラン溶液を作用させて反応を行う。
一般式(V)において、R7は水酸基の保護基を意味す
る。水酸基を保護しうる基であればいかなる基でもよい
が、代表的なものとしては、メチル、エチル、プロピル
、ブチルなどの低級アルキル基、ベンジル、フェネチル
7 などのアラル牛ル基、アセチル、プロピオニル、プチロ
イノペピバロイルなどのアシル基、テトラヒドロピラニ
ル基、更に2つのR7が一緒になってメチレン基などの
アルキレン基を形成してもよい。
る。水酸基を保護しうる基であればいかなる基でもよい
が、代表的なものとしては、メチル、エチル、プロピル
、ブチルなどの低級アルキル基、ベンジル、フェネチル
7 などのアラル牛ル基、アセチル、プロピオニル、プチロ
イノペピバロイルなどのアシル基、テトラヒドロピラニ
ル基、更に2つのR7が一緒になってメチレン基などの
アルキレン基を形成してもよい。
これらのうち最も好ましいものは、メチル基、エチル基
などの低級アルキル基、或いは2つのR7が一緒になっ
てメチレン基を形成する(結果としてメチレンジオキシ
基となる)場合である。
などの低級アルキル基、或いは2つのR7が一緒になっ
てメチレン基を形成する(結果としてメチレンジオキシ
基となる)場合である。
(工程2)
一般式(VI)で示されるニトロ化合物を、金属・金属
塩を用いた還元或いは接触還元により一般式(■)で示
されるアミノ化合物を製造する工程である。用いる金属
・金属塩としては亜鉛、鉄、塩化第一スズ等が、接触還
元に用いる触媒としてはパラジウム・炭素、酸化白金、
ラネーニッケル等が用いられる。
塩を用いた還元或いは接触還元により一般式(■)で示
されるアミノ化合物を製造する工程である。用いる金属
・金属塩としては亜鉛、鉄、塩化第一スズ等が、接触還
元に用いる触媒としてはパラジウム・炭素、酸化白金、
ラネーニッケル等が用いられる。
(工程3)
一般式(■)で示される化合物を無溶媒或8
いは通゛1:5の有機溶媒中、加熱、加温することによ
り閉環し、一般式(■)で示される5員環ラクタムを製
造する工程である。本反応は通常、メタノール、エタノ
ール、ブタノール等のアルコール系溶媒、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、ジブロモエタン、ジクロロエタン等
のハロゲン化アルキル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジグ
ライム等のエーテル系溶媒、N、N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキサイド等の溶媒中で行われる。
り閉環し、一般式(■)で示される5員環ラクタムを製
造する工程である。本反応は通常、メタノール、エタノ
ール、ブタノール等のアルコール系溶媒、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、ジブロモエタン、ジクロロエタン等
のハロゲン化アルキル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジグ
ライム等のエーテル系溶媒、N、N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキサイド等の溶媒中で行われる。
なお、高温下、或いはオートクレーブ中高温下に工程2
のニトロ基の還元反応を行えば、(■)を単離すること
なく閉環体(■)を製造することができる。
のニトロ基の還元反応を行えば、(■)を単離すること
なく閉環体(■)を製造することができる。
(工程4)
一般式(■)で示されるシス、トランスの5員環ラクタ
ムの混合物を、塩基の存在下或いは非存在下に有機溶媒
中に加温することにより含まれるシス体を異性化し、一
般式(IX)で示されるトランス体のみを得る工程であ
る。
ムの混合物を、塩基の存在下或いは非存在下に有機溶媒
中に加温することにより含まれるシス体を異性化し、一
般式(IX)で示されるトランス体のみを得る工程であ
る。
具体的に好ましい例をあげると、カリウム−t−ブトキ
シドの存在下エタノール或いはエフノール−キシレンの
混合溶媒中、或いはボタシウムトリメチルシラルイトの
存在下キシレン中で加熱して反応を行う。
シドの存在下エタノール或いはエフノール−キシレンの
混合溶媒中、或いはボタシウムトリメチルシラルイトの
存在下キシレン中で加熱して反応を行う。
(工程5)
一般式(IX)で示されるトランス5員環ラクタムを、
ジボラン、金属水素錯化合物により還元し、一般式(X
)で示されるピロリジン誘導体を製造する工程である。
ジボラン、金属水素錯化合物により還元し、一般式(X
)で示されるピロリジン誘導体を製造する工程である。
金属水素錯化合物としては、水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
ナトリウムが好ましく、エーテル、テトラヒドロフラン
、ジグライム等のエーテル系溶媒、或いはベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒中で行われ
る。
ム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
ナトリウムが好ましく、エーテル、テトラヒドロフラン
、ジグライム等のエーテル系溶媒、或いはベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒中で行われ
る。
(工程6)
一般式(X)で示される化合物を、三臭化ホウ素、三塩
化ホウ素、臭化水素酸、ヨウ化0 水素酸又は他のニーデル開裂剤で処理して保護基を除去
し、一般式(XI)で示される化合物を製造する工程で
ある。
化ホウ素、臭化水素酸、ヨウ化0 水素酸又は他のニーデル開裂剤で処理して保護基を除去
し、一般式(XI)で示される化合物を製造する工程で
ある。
く製造方法2〉
本発明化合物のシス体を製造するには、例えば製造方法
1の工程1で得られる一般式(VI)で表される付加体
、或いは製造方法1の工程2で得られるアミンエステル
体(■)を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで処
理し、所望の異性体を単離し、製造方法1の方法に準じ
てシス体を得ることができる(但し工程4は除く)〈製
造方法3〉 一般式(1)の化合物は、シス、トランスの位置異性体
のほかに、d、β光学活性体を含む。
1の工程1で得られる一般式(VI)で表される付加体
、或いは製造方法1の工程2で得られるアミンエステル
体(■)を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで処
理し、所望の異性体を単離し、製造方法1の方法に準じ
てシス体を得ることができる(但し工程4は除く)〈製
造方法3〉 一般式(1)の化合物は、シス、トランスの位置異性体
のほかに、d、β光学活性体を含む。
光学異性体分割は通常の方法によるが、例えばキラルカ
ラムなどの光学異性体分離用カラムに付す方法、(十)
−酒石酸、(+)−ショウノウ酸、(+)−ジベンゾイ
ル酒石酸、(+)−10−ショウノウスルホン酸、(十
)−マンデル酸などの光学活性酸との塩を適当な溶媒か
ら分別結晶する方91 法などがあげられる。
ラムなどの光学異性体分離用カラムに付す方法、(十)
−酒石酸、(+)−ショウノウ酸、(+)−ジベンゾイ
ル酒石酸、(+)−10−ショウノウスルホン酸、(十
)−マンデル酸などの光学活性酸との塩を適当な溶媒か
ら分別結晶する方91 法などがあげられる。
また、一般式(X)で表される化合物の段階又はその誘
導体で、上記と同様な方法で光学分割し、工程6に付し
て一般式(1)で表される化合物の光学活性体を得るこ
とができる。
導体で、上記と同様な方法で光学分割し、工程6に付し
て一般式(1)で表される化合物の光学活性体を得るこ
とができる。
〈製造方法4〉
一般式(I)において、Yが式−CH2−で示される基
(nが1である場合)である場合は、例えば次のような
方法によっても製造することができる。
(nが1である場合)である場合は、例えば次のような
方法によっても製造することができる。
2
3
24
(一連の式において、X、 R7,Rは前記と同様な意
味を有し、Gはアミドの窒素原子の保護基である。) (工程7) 一般式(XII)で示される化合物のアミドの窒素原子
を保護する工程である。アミドの窒素原子の保護基とし
ては、例えば置換基を有してもよいベンジル基、アシル
基、アルコキシアルキル基などをあげることができる。
味を有し、Gはアミドの窒素原子の保護基である。) (工程7) 一般式(XII)で示される化合物のアミドの窒素原子
を保護する工程である。アミドの窒素原子の保護基とし
ては、例えば置換基を有してもよいベンジル基、アシル
基、アルコキシアルキル基などをあげることができる。
これらのうち好ましい基としては、ベンジル基、3.4
−ジメトキシベンジル基、3−メトキシメチル基をあげ
ることができる。
−ジメトキシベンジル基、3−メトキシメチル基をあげ
ることができる。
本工程は通常の方法によるが、好ましくは、例えば上記
の置換基を有してもよいベンジル基、アシル基などのハ
ロゲン化物を、化合物(X[I)と反応せしめることに
より、化合物(■)を得ることができる。本反応は塩基
の存在下に行うことが望ましい。塩基としては、例えば
水酸化テトラブチルアンモニウムなどの水酸化アルキル
アンモニウム、3級アミン、9 弓 水素化ナトリウムなどの水素化金属などが用いられる。
の置換基を有してもよいベンジル基、アシル基などのハ
ロゲン化物を、化合物(X[I)と反応せしめることに
より、化合物(■)を得ることができる。本反応は塩基
の存在下に行うことが望ましい。塩基としては、例えば
水酸化テトラブチルアンモニウムなどの水酸化アルキル
アンモニウム、3級アミン、9 弓 水素化ナトリウムなどの水素化金属などが用いられる。
この際溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エー
テル、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが好ましく用
いられる。
テル、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが好ましく用
いられる。
(工程8)
一般式(■)で示される化合物のカルボニル基のα位に
置換基を導入する工程である。
置換基を導入する工程である。
具体的に好ましい例をあげると、テトラヒドロフラン中
リチウムジイソプロピルアミドや水素化ナトリウムの存
在下、−船人(刈)で示される化合物に、−船人R−C
)12−Z (式中Zはハロゲン、トルエンスルホニル
オキシ基又はメタンスルホニルオキシ基などの脱離基を
意味する)で表される化合物を加えて反応を行う。
リチウムジイソプロピルアミドや水素化ナトリウムの存
在下、−船人(刈)で示される化合物に、−船人R−C
)12−Z (式中Zはハロゲン、トルエンスルホニル
オキシ基又はメタンスルホニルオキシ基などの脱離基を
意味する)で表される化合物を加えて反応を行う。
(工程9)
製造方法1で詳述した工程4の方法に準じて反応を行う
。
。
即ち、−船人(店)で示されるシス、トランスの5員環
ラクタムの混合物を、塩基の存6 在下或いは非存在下に有機溶媒中に加温することにより
含まれるシス体を異性化し、一般式(XV)で示される
トランス体のみを得る工程である。具体的に好ましい例
をあげると、カリウ1.−t−ブトキシドの存在下エタ
ノール或いはエタノール−キシレンの混合溶媒中、或い
はカリウムトリメチルシラルイトの存在下キシレン中で
加熱して反応を行う。
ラクタムの混合物を、塩基の存6 在下或いは非存在下に有機溶媒中に加温することにより
含まれるシス体を異性化し、一般式(XV)で示される
トランス体のみを得る工程である。具体的に好ましい例
をあげると、カリウ1.−t−ブトキシドの存在下エタ
ノール或いはエタノール−キシレンの混合溶媒中、或い
はカリウムトリメチルシラルイトの存在下キシレン中で
加熱して反応を行う。
(工程10)
製造方法1で詳述した工程5の方法に準じて反応を行う
。
。
即ち、一般式(XV)で示されるトランス5員環ラクク
ムを、ジボラン、金属水素錯化合物により還元し、一般
式(XVI)で示されるピロリジン誘導体を製造する工
程である。金属水素錯化合物としては、水素化アルミニ
ウムリチウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウムナトリウムが好ましく、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジクライム等のエーテル系溶媒、或いはベ
ンゼン、トルエ7 ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒中で行われる。
ムを、ジボラン、金属水素錯化合物により還元し、一般
式(XVI)で示されるピロリジン誘導体を製造する工
程である。金属水素錯化合物としては、水素化アルミニ
ウムリチウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウムナトリウムが好ましく、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジクライム等のエーテル系溶媒、或いはベ
ンゼン、トルエ7 ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒中で行われる。
(工程11)
工程7で導入した保護基を除去する工程である。工程7
で用いた反応試剤により、内容は異なるが、例えば工程
7でハロゲン化ベンジルを用いた場合は、パラジウム・
炭素、ラネーニッケル等の金属触媒下水素添加を行う。
で用いた反応試剤により、内容は異なるが、例えば工程
7でハロゲン化ベンジルを用いた場合は、パラジウム・
炭素、ラネーニッケル等の金属触媒下水素添加を行う。
また、この工程は場合によっては、次の工程12と共に
同時に行うことができる。
同時に行うことができる。
(工程12)
製造方法1で詳述した工程6の方法に準じて反応を行う
。
。
即ち、一般式(XVII)で示される化合物を、三臭化
ホウ素、三塩化ホウ素、臭化水素酸、ヨウ化水素酸又は
他のエーテル開裂剤で処理して保護基を除去し、一般式
(罵)で示される化合物を製造する工程である。
ホウ素、三塩化ホウ素、臭化水素酸、ヨウ化水素酸又は
他のエーテル開裂剤で処理して保護基を除去し、一般式
(罵)で示される化合物を製造する工程である。
く薬理実験例〉
実験例1
8
ラット脳線状体における01. D2受容体結合試験ラ
ット脳線状体を摘出し、0.05M Tris Buf
ferでホモジナイズした後、20000Xgで遠心分
離してシナブトシーム画分を分取した。この沈渣を0.
25M Tris Bufferで数回洗浄し、0.0
5M TrisBuffer(120mM NaC]、
5mM KCI、 2mM CaCl2.1mMMg
CI2を含む)に溶解し、分注して一80℃で凍結保存
した。Dlでは’H−3ch23390 (最終濃度0
.3nM) 、D2では’)I−3piperone(
最終濃度0.2nM)を検体と共に加えて37℃、15
分インキニベーションし、ワットマンGF/Bフィルタ
ーで濾過し、液体シンチレーションカウンターで測定し
た。
ット脳線状体を摘出し、0.05M Tris Buf
ferでホモジナイズした後、20000Xgで遠心分
離してシナブトシーム画分を分取した。この沈渣を0.
25M Tris Bufferで数回洗浄し、0.0
5M TrisBuffer(120mM NaC]、
5mM KCI、 2mM CaCl2.1mMMg
CI2を含む)に溶解し、分注して一80℃で凍結保存
した。Dlでは’H−3ch23390 (最終濃度0
.3nM) 、D2では’)I−3piperone(
最終濃度0.2nM)を検体と共に加えて37℃、15
分インキニベーションし、ワットマンGF/Bフィルタ
ーで濾過し、液体シンチレーションカウンターで測定し
た。
非特異結合の測定には5KP−82526と5pipe
roneそれぞれを使用した。
roneそれぞれを使用した。
ICs。は特異的な量、即ち放射性同位元素により標識
された5ch23390.5piperoneとそれぞ
れ50%置き換えられる試験物質の濃度として決定した
。
された5ch23390.5piperoneとそれぞ
れ50%置き換えられる試験物質の濃度として決定した
。
結果を表1に示す。
表1において、試験化合物A−Eは下記に示q
す化合物である。
化合物A;トランス−3−(3−クロロ−6ヒトロキシ
フエニル)メチル−4 (3,4−ジヒドロキシフェニル)ピロリジン 化合物B;3−(2,6−ジヒドロキシフェニル)メチ
ル−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ピロリジン 化合物C;3−(3−クロロ−2,6−ジヒドロキシフ
ェニル)メチル−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル
)ピロリジン 化合物D;3−(3,5−ジフルオロ−2−ヒドロキシ
フェニル)メチル−4−(3,4 ジヒドロキシフエニル)ピロリジン 化合物E;3−(3−フルオロ−2−ヒドロキシフェニ
ル)メチル−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ピ
ロリジン 0 表 1 体重10kg前後の雑種をチオペンタ−ルナ) +Jウ
ム20mg/kg、 i、 V、により麻酔導入後、気
管内チューブを挿入し、酸素−笑気−エンフルランで人
工呼吸及び麻酔の維持を行った(Acoma人工呼吸器
ARP−850B、 Acoma anesthesi
a apparatusεM−A)。
フエニル)メチル−4 (3,4−ジヒドロキシフェニル)ピロリジン 化合物B;3−(2,6−ジヒドロキシフェニル)メチ
ル−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ピロリジン 化合物C;3−(3−クロロ−2,6−ジヒドロキシフ
ェニル)メチル−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル
)ピロリジン 化合物D;3−(3,5−ジフルオロ−2−ヒドロキシ
フェニル)メチル−4−(3,4 ジヒドロキシフエニル)ピロリジン 化合物E;3−(3−フルオロ−2−ヒドロキシフェニ
ル)メチル−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ピ
ロリジン 0 表 1 体重10kg前後の雑種をチオペンタ−ルナ) +Jウ
ム20mg/kg、 i、 V、により麻酔導入後、気
管内チューブを挿入し、酸素−笑気−エンフルランで人
工呼吸及び麻酔の維持を行った(Acoma人工呼吸器
ARP−850B、 Acoma anesthesi
a apparatusεM−A)。
大動脈圧及び左心室内圧は大腿動脈から挿入したカテ先
型圧トランスデユーサ−(MPC−500゜1 Mlller) により測定した。腎血流は側腹切開に
より腎動脈を露出し、電磁血流計(MFV−2100,
日本光電)のプローブを装着し測定した。以上の測定値
はいずれもポリグラフシステム(RM−6000゜日本
光電)を用いて記録した。
型圧トランスデユーサ−(MPC−500゜1 Mlller) により測定した。腎血流は側腹切開に
より腎動脈を露出し、電磁血流計(MFV−2100,
日本光電)のプローブを装着し測定した。以上の測定値
はいずれもポリグラフシステム(RM−6000゜日本
光電)を用いて記録した。
検体は0.9%食塩水に溶解し、肘動脈に挿入したカテ
ーテルから投与した。また十二指腸内投与の実験におい
ては、腹部正中切開により十二指腸を露出し、微小な切
開を加え、挿入したカテーテルから検体を投与した。
ーテルから投与した。また十二指腸内投与の実験におい
ては、腹部正中切開により十二指腸を露出し、微小な切
開を加え、挿入したカテーテルから検体を投与した。
検体化合物A−Eは実験例1に示した化合物と同一であ
る。
る。
以下に、上記の方法で行って、本発明化合物からなる試
験化合物の投与前対照に対する腎血流の増加又は平均血
圧の減少を変化率にて示す。
験化合物の投与前対照に対する腎血流の増加又は平均血
圧の減少を変化率にて示す。
化合物Aは3μg/kgの静脈内投与で15%の平均血
圧の減少と20%の腎血流の増加を、化合物Bは3μg
/kgの投与で29%の平均血圧の減少と25%の腎血
流の増加を、化合物Cは1μg/kgの投与で22%の
平均血圧の減少と33%の腎血流の2 増加を、化合物りは1μg/kgの投与で17%の平均
血圧の減少と15%の腎血流の増加を、化合物Eは3μ
g/kgの静脈内投与で21%の平均血圧の減少で26
%の腎血流の増加を示した。また化合物りは1. On
g/kgの十二指腸内投与で11%の平均血圧の減少と
16%の腎血流の増加を示した。
圧の減少と20%の腎血流の増加を、化合物Bは3μg
/kgの投与で29%の平均血圧の減少と25%の腎血
流の増加を、化合物Cは1μg/kgの投与で22%の
平均血圧の減少と33%の腎血流の2 増加を、化合物りは1μg/kgの投与で17%の平均
血圧の減少と15%の腎血流の増加を、化合物Eは3μ
g/kgの静脈内投与で21%の平均血圧の減少で26
%の腎血流の増加を示した。また化合物りは1. On
g/kgの十二指腸内投与で11%の平均血圧の減少と
16%の腎血流の増加を示した。
上記の薬理実験例の結果より、明確な降圧作用、腎血流
増加作用を示すことが明らかである。
増加作用を示すことが明らかである。
本発明化合物は、ドーパミン1受容体への高い親和性を
有し、ドーパミン受容体を刺戟する作用を有しているの
で、抗高血圧剤として望ましい血管拡張作用に基づく降
圧作用、腎血流増加作用、利尿作用を有し、更に安全性
も高いので、降圧剤又は心不全治療剤として好ましい化
合物である。
有し、ドーパミン受容体を刺戟する作用を有しているの
で、抗高血圧剤として望ましい血管拡張作用に基づく降
圧作用、腎血流増加作用、利尿作用を有し、更に安全性
も高いので、降圧剤又は心不全治療剤として好ましい化
合物である。
従って、本発明化合物は、本態性高血圧症、腎性高血圧
症など各種高血圧症の治療・予防剤、更に心不全治療・
予防剤として有用である。
症など各種高血圧症の治療・予防剤、更に心不全治療・
予防剤として有用である。
本発明化合物をこれら医薬として使用する場合は、経口
投与若しくは非経口投与により投与33 される。投与量は、症状の程度;患者の年令、性別、体
重、感受性差;投与方法;投与の時期、間隔、医薬製剤
の性質、副剤、種類;有効成分の種類などによって異な
り、特に限定されない。
投与若しくは非経口投与により投与33 される。投与量は、症状の程度;患者の年令、性別、体
重、感受性差;投与方法;投与の時期、間隔、医薬製剤
の性質、副剤、種類;有効成分の種類などによって異な
り、特に限定されない。
経口投与の場合は、通常成人1日あたり約1〜1,00
0mg 、好ましくは約50〜600mgであり、更に
好ましくは約150〜400mgであり、更により好ま
しくは約300〜400mgであり、これを通常1日1
〜4回にわけて投与する。注射の場合は、通常線0.3
μg/kg〜100μg/kgであり、好ましくは約1
μg/kg〜10μg/kgである。
0mg 、好ましくは約50〜600mgであり、更に
好ましくは約150〜400mgであり、更により好ま
しくは約300〜400mgであり、これを通常1日1
〜4回にわけて投与する。注射の場合は、通常線0.3
μg/kg〜100μg/kgであり、好ましくは約1
μg/kg〜10μg/kgである。
即ち、経口用固形製剤を調製する場合は、生薬に賦形剤
、更に必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、
矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被覆錠剤
、顆粒剤、散剤、カプセル剤などとする。
、更に必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、
矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被覆錠剤
、顆粒剤、散剤、カプセル剤などとする。
賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスターチ、白糖、
ブドウ糖、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素
などが、結合剤としては、例えばポリビニルアルコール
、ポリビニルニー4− チル、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビア
ゴム、トラガント、ゼラチン、シェラツク、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース、クエン酸カルシウム、デキストリン、ペクチン等
が、滑沢剤としては、例えばステアリン酸マグネシウム
、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ、硬化植物
油等が、着色剤としては医薬品に添加することが許可さ
れているものが、矯味矯臭剤としては、ココア末、ハツ
カ脳、芳香酸、ノ\ツカ油、龍脳、桂皮末等が用いられ
る。これらの錠剤、顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その
他必要により適宜コーティングすることは勿論差し支え
ない。
ブドウ糖、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素
などが、結合剤としては、例えばポリビニルアルコール
、ポリビニルニー4− チル、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビア
ゴム、トラガント、ゼラチン、シェラツク、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース、クエン酸カルシウム、デキストリン、ペクチン等
が、滑沢剤としては、例えばステアリン酸マグネシウム
、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ、硬化植物
油等が、着色剤としては医薬品に添加することが許可さ
れているものが、矯味矯臭剤としては、ココア末、ハツ
カ脳、芳香酸、ノ\ツカ油、龍脳、桂皮末等が用いられ
る。これらの錠剤、顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その
他必要により適宜コーティングすることは勿論差し支え
ない。
注射剤を調製する場合には、生薬に必要によりpH調整
剤、緩衝剤、懸濁化剤、溶解補助剤、安定化剤、等張化
剤、保存剤などを添加し、常法により静脈、皮下、筋肉
内注射剤とする。その際必要により、常法により凍結乾
燥物とすることも可能である。
剤、緩衝剤、懸濁化剤、溶解補助剤、安定化剤、等張化
剤、保存剤などを添加し、常法により静脈、皮下、筋肉
内注射剤とする。その際必要により、常法により凍結乾
燥物とすることも可能である。
5
懸濁剤としての例をあげれば、例えばメチルセルロース
、ポリソルベート80、ヒドロキシエチルセルロース、
アラビアゴム、トラガント末、カルボキシメチルセルロ
ースナトリウム、ポリオキシエヂレンソルビクンモノラ
ウレートなどをあげることができる。
、ポリソルベート80、ヒドロキシエチルセルロース、
アラビアゴム、トラガント末、カルボキシメチルセルロ
ースナトリウム、ポリオキシエヂレンソルビクンモノラ
ウレートなどをあげることができる。
溶解補助剤としては、例えばポリオキシエチレン硬化ヒ
マシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸アミド、ポリ
オキシエチレンソルビクンモノラウレート、マグロゴー
ル、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどをあげることが
でキル。
マシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸アミド、ポリ
オキシエチレンソルビクンモノラウレート、マグロゴー
ル、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどをあげることが
でキル。
また安定化剤としては、例えば亜硫酸ナトリウム、メタ
亜硫酸ナトリウム、エーテル等が、保存剤としては、例
えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸エ
チノペソルビン酸、フェノール、クレゾール、クロロク
レゾールなどをあげることができる。
亜硫酸ナトリウム、エーテル等が、保存剤としては、例
えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸エ
チノペソルビン酸、フェノール、クレゾール、クロロク
レゾールなどをあげることができる。
次に本発明の実施例を以下に掲げるが、本発明がそれら
のみに限定されることがないことは6 言うまでもない。
のみに限定されることがないことは6 言うまでもない。
ジイソプロピルアミン9.04m(64,5mmol)
及び1.6Mn−ブチルリチウム38.6艷(64,5
mmol)より調製したリチウムジイソプロピルアミド
にTHF300rn!中−78℃でフェニルプロピオン
酸エチル10 g (56,1mmo+)を滴下した。
及び1.6Mn−ブチルリチウム38.6艷(64,5
mmol)より調製したリチウムジイソプロピルアミド
にTHF300rn!中−78℃でフェニルプロピオン
酸エチル10 g (56,1mmo+)を滴下した。
同温度で15分間攪拌し、2− (3,4−ジメトキシ
フェニル)ニトロエテン11.74 g (56,1m
mol)のTHF溶液200mj!を滴下した後、30
分間攪拌を続ける。反応液に水20dを加え、反応を停
′17 止した後、THFを減圧下留去した。残渣に3N塩酸1
00−を加え、塩化メチレン300mI!で2回抽出し
た後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:
n−へキサン=1:2)に付すと、16.55 gの目
的物が得られた(収率80%)。この時最初に溶出する
のはスレオ体であり、次に溶出するのはエリスロ体であ
った(スレオ:エリスロ=8:6)。また、エリスロ体
は結晶として得られたが、スレオ体は油状であった。
フェニル)ニトロエテン11.74 g (56,1m
mol)のTHF溶液200mj!を滴下した後、30
分間攪拌を続ける。反応液に水20dを加え、反応を停
′17 止した後、THFを減圧下留去した。残渣に3N塩酸1
00−を加え、塩化メチレン300mI!で2回抽出し
た後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:
n−へキサン=1:2)に付すと、16.55 gの目
的物が得られた(収率80%)。この時最初に溶出する
のはスレオ体であり、次に溶出するのはエリスロ体であ
った(スレオ:エリスロ=8:6)。また、エリスロ体
は結晶として得られたが、スレオ体は油状であった。
スレオ体
・NMR(90MH2,CDCl2) δ;1.02
(3H,t、J=7Hz)、 2.48〜3.08(3
H,m)3.48〜3.70(Ift、m)、 3.7
6(3H,s)、 3.78(3H,s)、 3.95
(2H,q、J=7Hz)、 4.52〜4.72(2
H,m)、 6.60〜6.76(3H,m)、 6.
84〜7.20(5H,m) 8 エリスロ体 ・NMR(90MH2,CDCl5) δ;0.96
(3H,d J=7Hz>、 2.76〜3.20(
3H,m)3.50〜3.80(IH,m)、 3.
82(611,s)、 3.83(21iq、J=7
Hz)、 4.67−4.82(211,m)、
6.57〜6.72(3N、m)、 6.92〜7.
24(511,m)・融点(t);94〜96 スレオー2−ベンジル−3−(3,4−ジメトキシフェ
ニル)−4−二トロ酪酸エチル8.1g (20,9m
mol)をエタノール38dに溶解し、濃塩酸12.5
−を加える。水浴上5.47 gの亜鉛末(84mmo
l)を少量ずつ添加し、添加終了後2時間加熱還流する
。反応液を濃縮し、10%水酸化ナトリウム水溶液を加
え塩基性とした後、塩化メチレンで3回抽出する。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
する。減圧下溶媒を留去すると、目的物の粗生成物が得
られた。粗生成物は単離精製す9 ることなく次段階に用いた。
(3H,t、J=7Hz)、 2.48〜3.08(3
H,m)3.48〜3.70(Ift、m)、 3.7
6(3H,s)、 3.78(3H,s)、 3.95
(2H,q、J=7Hz)、 4.52〜4.72(2
H,m)、 6.60〜6.76(3H,m)、 6.
84〜7.20(5H,m) 8 エリスロ体 ・NMR(90MH2,CDCl5) δ;0.96
(3H,d J=7Hz>、 2.76〜3.20(
3H,m)3.50〜3.80(IH,m)、 3.
82(611,s)、 3.83(21iq、J=7
Hz)、 4.67−4.82(211,m)、
6.57〜6.72(3N、m)、 6.92〜7.
24(511,m)・融点(t);94〜96 スレオー2−ベンジル−3−(3,4−ジメトキシフェ
ニル)−4−二トロ酪酸エチル8.1g (20,9m
mol)をエタノール38dに溶解し、濃塩酸12.5
−を加える。水浴上5.47 gの亜鉛末(84mmo
l)を少量ずつ添加し、添加終了後2時間加熱還流する
。反応液を濃縮し、10%水酸化ナトリウム水溶液を加
え塩基性とした後、塩化メチレンで3回抽出する。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
する。減圧下溶媒を留去すると、目的物の粗生成物が得
られた。粗生成物は単離精製す9 ることなく次段階に用いた。
スレオ−4−アミノ−2−ベンジル−3(3,4−ジメ
トキシフェニル)酪酸エチルの粗生成物をそのままキシ
レン200−に溶解し、6時間加熱還流する。減圧下キ
シレンを留去すると、目的物の粗生成物が得られた。こ
れをエタノールより再結晶すると、目的物が2.55g
(収率39%)得られた。
トキシフェニル)酪酸エチルの粗生成物をそのままキシ
レン200−に溶解し、6時間加熱還流する。減圧下キ
シレンを留去すると、目的物の粗生成物が得られた。こ
れをエタノールより再結晶すると、目的物が2.55g
(収率39%)得られた。
・融点(t) ;116〜118
・NMR(90’MHz、 CDCl、) δ;2、
88 (1)1. ddd、 J=5Hz、 6tlz
、 9Hz> 、 2.99 (ltl。
88 (1)1. ddd、 J=5Hz、 6tlz
、 9Hz> 、 2.99 (ltl。
dd、 J=5Hz、 14Hz)、 3.07(lf
t、 dd、 J=6flz、 1411z)、 3.
20(IH,dt、J=8Hz、9Hz>、 3.23
(LH。
t、 dd、 J=6flz、 1411z)、 3.
20(IH,dt、J=8Hz、9Hz>、 3.23
(LH。
t、J=8flz)、 3.51(1N、t、J=8H
z>、 3.81(3fl。
z>、 3.81(3fl。
s>、 3.86(3H,s)、 6.24(IH,b
s)、 6.55(IH。
s)、 6.55(IH。
d、J=2flz)、 6.69(IH,dd、J=2
Hz、8Hz)、 6.79(IH,d、J=8Hz)
、 7.13〜7.24(5)l、m)(4)トランス
−3−ベンジル−4−(3,4−ジメ0 トキシフェニル)ピロリジン トランス−3−ベンジル−4−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)−2−ピロリドン0.81g(2,60mmo
l)のTHF溶液10艷に1Mボラン・THF錯体10
m12を加え6時間加熱還流する。冷却後、室温で6N
塩酸10rdを注意深く滴下し、60℃で30分間攪拌
する。減圧下THFを留去した後、10%水酸化ナトリ
ウム水溶液で塩基性にし、塩化メチレンで2回抽出する
。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧下
溶媒を留去すると、粗生成物が得られた。
Hz、8Hz)、 6.79(IH,d、J=8Hz)
、 7.13〜7.24(5)l、m)(4)トランス
−3−ベンジル−4−(3,4−ジメ0 トキシフェニル)ピロリジン トランス−3−ベンジル−4−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)−2−ピロリドン0.81g(2,60mmo
l)のTHF溶液10艷に1Mボラン・THF錯体10
m12を加え6時間加熱還流する。冷却後、室温で6N
塩酸10rdを注意深く滴下し、60℃で30分間攪拌
する。減圧下THFを留去した後、10%水酸化ナトリ
ウム水溶液で塩基性にし、塩化メチレンで2回抽出する
。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧下
溶媒を留去すると、粗生成物が得られた。
これを−旦シリカゲルに吸着させ不純物を溶出(塩化メ
チレン:メタノール−95:5)した後、再びメタノー
ルで溶出すると、目的物がOJ7g(収率48%)得ら
れた。
チレン:メタノール−95:5)した後、再びメタノー
ルで溶出すると、目的物がOJ7g(収率48%)得ら
れた。
酸塩
トランス−3−ベンジル−4−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)ピロリジン0.37 g (1,24mmol
)を塩化メチレンに溶解し、1M三臭化ホウ素の塩化メ
チレン溶液を10rd加える。室温で3時間攪拌した後
、反応液を減圧下濃縮する。さらに塩化メチレンを加え
メタノールを1滴ずつ滴下しく3mI!、)、再び減圧
下濃縮する。この操作を数回繰り返し、析出する結晶を
濾取すると、目的物の臭化水素酸塩が70mg (収率
16%)得られた。
ェニル)ピロリジン0.37 g (1,24mmol
)を塩化メチレンに溶解し、1M三臭化ホウ素の塩化メ
チレン溶液を10rd加える。室温で3時間攪拌した後
、反応液を減圧下濃縮する。さらに塩化メチレンを加え
メタノールを1滴ずつ滴下しく3mI!、)、再び減圧
下濃縮する。この操作を数回繰り返し、析出する結晶を
濾取すると、目的物の臭化水素酸塩が70mg (収率
16%)得られた。
・融点(’C) ;182〜184(分解)・元素分
析値; Cl7819NO2・HBrとしてHN 理論値(%)58.30 5.76 4.00実測値(
%’> 58.56 5.86 3.79・NMR(
D20)δ: 2.76〜2.83(2H,m>、 2.85〜2.9
3(IH,m)。
析値; Cl7819NO2・HBrとしてHN 理論値(%)58.30 5.76 4.00実測値(
%’> 58.56 5.86 3.79・NMR(
D20)δ: 2.76〜2.83(2H,m>、 2.85〜2.9
3(IH,m)。
3.17〜3.28(IH,m)、 3.37(lft
、t、J=12Hz)。
、t、J=12Hz)。
3.66(LH,dd、J=7Hz、12)1z)、
3.82(IH,dd。
3.82(IH,dd。
J=8)1z、 12Hz)、 6.90(ltl、
dd、 J=2Hz、 8Hz)。
dd、 J=2Hz、 8Hz)。
6、93 (LH,d、 J・2Hz) 、 6.99
(IH,d、 J=8Hz) 。
(IH,d、 J=8Hz) 。
7.27(2B、d、J=8Hz)、 7.32〜7.
42(3H,m)2 実 施 例 フェニル) ピロリジン・臭化水素酸塩 ■ エリスロー2−ベンジル−3−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)−4−二トロ醋酸エチル6、01 g (15
,51mmol)、亜鉛末4.06 g (62,1m
mol)、エタノール28−1濃塩酸9.3mlを用い
てスレオ体と同様に処理し、目的化合物を得た。
42(3H,m)2 実 施 例 フェニル) ピロリジン・臭化水素酸塩 ■ エリスロー2−ベンジル−3−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)−4−二トロ醋酸エチル6、01 g (15
,51mmol)、亜鉛末4.06 g (62,1m
mol)、エタノール28−1濃塩酸9.3mlを用い
てスレオ体と同様に処理し、目的化合物を得た。
・融点(t);74〜80
エリスロー4−アミノ−2−ベンジル−3(3,4−ジ
メトキシフェニル)醋酸エチルの3− 粗生成物を用いてスレオ体と同様にして合成したが、反
応時間は12時間とした。収率3.18g(66%、2
段階) ・融点(t:) ;137〜139 ONMR(CDCl2)δ; 2、30(IH,dd、 J=11Hz、 14Hz)
、 3.1HIH,dddJ=4Hz、 8Hz、 1
1Hz>、 3.17 (IH,dd、 J=4)1z
、 14Hz>、 3.42(IH,d、J=1(Ez
)、 3.5HLH,dd。
メトキシフェニル)醋酸エチルの3− 粗生成物を用いてスレオ体と同様にして合成したが、反
応時間は12時間とした。収率3.18g(66%、2
段階) ・融点(t:) ;137〜139 ONMR(CDCl2)δ; 2、30(IH,dd、 J=11Hz、 14Hz)
、 3.1HIH,dddJ=4Hz、 8Hz、 1
1Hz>、 3.17 (IH,dd、 J=4)1z
、 14Hz>、 3.42(IH,d、J=1(Ez
)、 3.5HLH,dd。
J=7Hz、8flz)、 3.73(3H,s)、
3.76(LH,dd。
3.76(LH,dd。
J=7Hz、10Hz)、 3.88(311,s)、
6.45(ltl、d。
6.45(ltl、d。
J=2Hz)、 6.70(Ift、dd、J=2Hz
、8t(z)、 6.79(IH,d、J=8tlz)
、 6.901)1.d、J=9flz)、 7.12
〜7.22 (3H,m) シス−3−ベンジル−4−(3,4−ジメトキシフェニ
ル)−2−ピロリドン0.84 g (2,70mmo
l)を用いてトランス体の合成と同様にして目的物0.
45g(収率56%)を得た。
、8t(z)、 6.79(IH,d、J=8tlz)
、 6.901)1.d、J=9flz)、 7.12
〜7.22 (3H,m) シス−3−ベンジル−4−(3,4−ジメトキシフェニ
ル)−2−ピロリドン0.84 g (2,70mmo
l)を用いてトランス体の合成と同様にして目的物0.
45g(収率56%)を得た。
(4) シス−3−ベンジル−4−<3.4−ジヒド
ロ4 キシフェニル)ピロリジン・臭化水素酸塩シス−3−ベ
ンジル−4−(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリジ
ン0.45 g (1,51mmol)を用いてトラン
ス体の合成と同様の操作を行い、目的物の臭化水素酸塩
0.10g(収率22%)を得た。
ロ4 キシフェニル)ピロリジン・臭化水素酸塩シス−3−ベ
ンジル−4−(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリジ
ン0.45 g (1,51mmol)を用いてトラン
ス体の合成と同様の操作を行い、目的物の臭化水素酸塩
0.10g(収率22%)を得た。
C,−HとC,−Hとの間でNOE (7,45%)が
観測された。
観測された。
・融点(tl:) ;209〜210(分解)・元素
分析値; C+tL9NO2HllBr 1820とし
てHN 理論値(%) 55.45 5.02 3.80実測
値(%) 55.65 5.65 3.76・NMR
(020)δ; 2.32(18,dd、J=11Hz、14Hz)、
2.77(LH,dd。
分析値; C+tL9NO2HllBr 1820とし
てHN 理論値(%) 55.45 5.02 3.80実測
値(%) 55.65 5.65 3.76・NMR
(020)δ; 2.32(18,dd、J=11Hz、14Hz)、
2.77(LH,dd。
J=6Hz、14Hz)、 3.00〜3.07(lt
l、m)、 3.31(IH,dd、 J=7)1z、
12tlz)、 3.49(LH,dd、 J=7H
z12Hz)、 3.70〜3.82(2H,m)、
3.88(LH,dd。
l、m)、 3.31(IH,dd、 J=7)1z、
12tlz)、 3.49(LH,dd、 J=7H
z12Hz)、 3.70〜3.82(2H,m)、
3.88(LH,dd。
J=7Hz、11)1z)、 6.8H1)1.dd、
J=2Hz、8Hz)。
J=2Hz、8Hz)。
6.85(ltl、d、J=211z)、 7.03(
LH,d、J=8Hz)。
LH,d、J=8Hz)。
A へ
7、19 (2H,d、 J=7flz)m−クロロ−
〇−メトキシトルエン20.36g (0,13mol
)、N−プロモシクシンイミド23.2g(0,13m
ol) 、ベンゾイルパーオキシド0.6g (2,4
7mmo+)、テトラクロロメタン200−の混合物を
パイレックスフィルターを用い高圧水銀灯(400W)
で5時間光照射(≧300nm)する。
〇−メトキシトルエン20.36g (0,13mol
)、N−プロモシクシンイミド23.2g(0,13m
ol) 、ベンゾイルパーオキシド0.6g (2,4
7mmo+)、テトラクロロメタン200−の混合物を
パイレックスフィルターを用い高圧水銀灯(400W)
で5時間光照射(≧300nm)する。
不溶物を濾去し、濾液を減圧下濃縮後、残漬を塩化メチ
レンに溶解させ水洗する。塩化メチレン層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、6 溶媒を減圧下留去して、油状の目的物を29.2g得た
。
レンに溶解させ水洗する。塩化メチレン層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、6 溶媒を減圧下留去して、油状の目的物を29.2g得た
。
水素化ナトリウム4.75 g (0,118mol)
のTHE懸濁液100−を氷−ドライアイス−メタノー
ルで冷却、攪拌しながらマロン酸ジエチル20、64
g (0,]、28mo+)のTHF溶液50蛇を少量
ずつ滴下した。次いで(1)で得られたハロゲン化物2
9.2 g (0,124mol)のTHF溶液50m
1!を加え、室温で3時間攪拌した。溶媒を減圧下留去
し、残渣を塩化メチレンで希釈して、水、塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾灯した。溶媒を減圧下留去
し、残渣を減圧蒸留に付し、沸点144〜155℃の目
的物を18.8 g得た。
のTHE懸濁液100−を氷−ドライアイス−メタノー
ルで冷却、攪拌しながらマロン酸ジエチル20、64
g (0,]、28mo+)のTHF溶液50蛇を少量
ずつ滴下した。次いで(1)で得られたハロゲン化物2
9.2 g (0,124mol)のTHF溶液50m
1!を加え、室温で3時間攪拌した。溶媒を減圧下留去
し、残渣を塩化メチレンで希釈して、水、塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾灯した。溶媒を減圧下留去
し、残渣を減圧蒸留に付し、沸点144〜155℃の目
的物を18.8 g得た。
(3)3−(3−クロロ−2−メトキシフェニル)プロ
ピオン酸 (2)で得られたマロン酸誘導体18.8 g (59
,7mmol) 、81J塩酸142mgの混合物を一
夜加熱還流7 流する。反応液を冷却し、析出する結晶を濾取し、水洗
、乾燥後、目的物を11.14g得た。
ピオン酸 (2)で得られたマロン酸誘導体18.8 g (59
,7mmol) 、81J塩酸142mgの混合物を一
夜加熱還流7 流する。反応液を冷却し、析出する結晶を濾取し、水洗
、乾燥後、目的物を11.14g得た。
(4) 3−クロロ−2−メトキシフェニルプロピオ
ン酸エチル (3)で得られたプロピオン酸誘導体11.14g(5
1,9mmo l)、濃硫酸0.96蛇、エタノール4
0艷の混合物を2,5時間加熱還流する。溶媒を減圧下
留去し、残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン:酢酸エチル5:1.■/v)に付し、油
状物として目的物を7、37 g得た。
ン酸エチル (3)で得られたプロピオン酸誘導体11.14g(5
1,9mmo l)、濃硫酸0.96蛇、エタノール4
0艷の混合物を2,5時間加熱還流する。溶媒を減圧下
留去し、残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン:酢酸エチル5:1.■/v)に付し、油
状物として目的物を7、37 g得た。
ジイソプロピルアミン2.5−(17,8mmol)の
THF溶液20rdをドライアイス−アセトンで冷却下
攪拌しながら1.6Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液11.1mf!(17,8mmol)を少量ずつ滴下
する。15分後(4)で得られたエステル4、13g(
17mmol)のTHF溶液30−を−50℃以48− 下で少量ずつ滴下する。同温度で10分間攪拌後、ニト
ロオレフィン3.55 g (17mmol)のTHE
溶液1(1(ldを少量ずつ滴下する。30分子IIJ
攪拌後、反応液に水を加え、2N塩酸で酸性として塩化
メチレンで抽出する。塩化メチレン層を塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し
、残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘ
キサン:酢酸エチル−3: 1. v/v)に付し、油
状物として目的物を3.8g得た。
THF溶液20rdをドライアイス−アセトンで冷却下
攪拌しながら1.6Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液11.1mf!(17,8mmol)を少量ずつ滴下
する。15分後(4)で得られたエステル4、13g(
17mmol)のTHF溶液30−を−50℃以48− 下で少量ずつ滴下する。同温度で10分間攪拌後、ニト
ロオレフィン3.55 g (17mmol)のTHE
溶液1(1(ldを少量ずつ滴下する。30分子IIJ
攪拌後、反応液に水を加え、2N塩酸で酸性として塩化
メチレンで抽出する。塩化メチレン層を塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し
、残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘ
キサン:酢酸エチル−3: 1. v/v)に付し、油
状物として目的物を3.8g得た。
(5)で得られたニトロエステル3.73g (8,2
5mmol) 、濃塩酸5.2−、エタノール35艷の
混合物を氷水冷却下に攪拌しながら亜鉛2.73 g(
41,7mmol)を少量ずつ加え、次いで3時間加熱
還流する。過剰の亜鉛を濾去し、濾液を減圧下に濃縮す
る。残渣に塩化メチレンを加え、10%水酸化す) I
Jウムで塩基性とする。析出Q する不溶物をセライトを通して濾去する。塩化メチレン
層を分取し、水、塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を減圧下留去し、油状物として目的物
を3g得た。
5mmol) 、濃塩酸5.2−、エタノール35艷の
混合物を氷水冷却下に攪拌しながら亜鉛2.73 g(
41,7mmol)を少量ずつ加え、次いで3時間加熱
還流する。過剰の亜鉛を濾去し、濾液を減圧下に濃縮す
る。残渣に塩化メチレンを加え、10%水酸化す) I
Jウムで塩基性とする。析出Q する不溶物をセライトを通して濾去する。塩化メチレン
層を分取し、水、塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を減圧下留去し、油状物として目的物
を3g得た。
ピロリドン
ω〕で得られたアミノエステル3 g (7,1mmo
l )のキシレン溶液30m1を4時間加熱還流する。
l )のキシレン溶液30m1を4時間加熱還流する。
溶媒を減圧下留去し、残渣を中圧シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(クロロホルム:メタノール−99:
1. v/v)に付し、油状物として目的物を1.87
g得た。
マトグラフィー(クロロホルム:メタノール−99:
1. v/v)に付し、油状物として目的物を1.87
g得た。
(7)で得られたラクタム1.85g (4,92mm
ol)、t −BuOK 2.76 g (24,6
mmo+)、エタノール3〇−、キシレン30−の混合
物を一夜加熱還流する。溶媒を減圧下留去し、残渣に塩
化メチレ0 ンを加え、2N塩酸で酸性とする。塩化メチレン層を分
取し、水、塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を減圧下留去し、残渣を中圧シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール−9
9:1、ν/V)に付し、油状物として目的物を1.0
6g得た。
ol)、t −BuOK 2.76 g (24,6
mmo+)、エタノール3〇−、キシレン30−の混合
物を一夜加熱還流する。溶媒を減圧下留去し、残渣に塩
化メチレ0 ンを加え、2N塩酸で酸性とする。塩化メチレン層を分
取し、水、塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を減圧下留去し、残渣を中圧シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール−9
9:1、ν/V)に付し、油状物として目的物を1.0
6g得た。
ジン
IMBH,−THF錯体のTHF溶液10誦(10mm
ol)を窒素気流中氷水冷却下に攪拌しながら(8)で
得られたトランス・ピロリドン1.06g(2,82m
m0+)のTHF溶液30誦を加え、次いて一夜加熱還
流する。反応液を氷水冷却子攪拌しながら6N塩酸を注
意深く発泡が収まるまで加え、次いで2時間加熱還流す
る。溶媒を減圧下留去し、残渣に塩化メチレンを加え、
10%水酸化ナトリウムで塩基性とする。塩化メチレン
層を分取し、塩水で洗浄後、無水硫酸51〜 マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣を
中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。初め
クロロホルム:メタノール−97: 3. v/vで溶
出し、次いでメタノールで溶出する。メタノール溶出分
画より油状物として目的物を510mg得た。
ol)を窒素気流中氷水冷却下に攪拌しながら(8)で
得られたトランス・ピロリドン1.06g(2,82m
m0+)のTHF溶液30誦を加え、次いて一夜加熱還
流する。反応液を氷水冷却子攪拌しながら6N塩酸を注
意深く発泡が収まるまで加え、次いで2時間加熱還流す
る。溶媒を減圧下留去し、残渣に塩化メチレンを加え、
10%水酸化ナトリウムで塩基性とする。塩化メチレン
層を分取し、塩水で洗浄後、無水硫酸51〜 マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣を
中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。初め
クロロホルム:メタノール−97: 3. v/vで溶
出し、次いでメタノールで溶出する。メタノール溶出分
画より油状物として目的物を510mg得た。
塩
(9)で得られたピロリジン510mg(1,41mm
ol)の塩化メチレン溶液30m1を窒素気流中水水冷
却下攪拌しながら1M三臭化ホウ素の塩化メチレン溶液
6.5 mf!(6,5mmol)を少量ずつ加える。
ol)の塩化メチレン溶液30m1を窒素気流中水水冷
却下攪拌しながら1M三臭化ホウ素の塩化メチレン溶液
6.5 mf!(6,5mmol)を少量ずつ加える。
次いで室温で4.5時間攪拌する。溶媒を減圧下留去し
、残渣を氷水冷却子攪拌しながらメタノールを少量ずつ
加える。メタノールを減圧下留去し、残渣にエタノール
ーヘキザンを加え、室温に放置する。析出した結晶をア
セトニトリル−ベンゼンから再結晶して、標題2 の目的物質を250mg得た。
、残渣を氷水冷却子攪拌しながらメタノールを少量ずつ
加える。メタノールを減圧下留去し、残渣にエタノール
ーヘキザンを加え、室温に放置する。析出した結晶をア
セトニトリル−ベンゼンから再結晶して、標題2 の目的物質を250mg得た。
・融点(t) ;207〜209
・元素分析値;自J+5NO3C1・110「H
50,754,79
51,024,70
理論値(%)
実測値(%)
・NMR(020)δ;
2、77〜2.83 (IH,m) 。
3、13〜3.3H3H,m)。
6.72〜6.76(2H,m)。
7、09 (IH,d、 J=8Hz) 。
8i1z)
として
3.49
3.32
2.94〜3.03 (21(、m) 。
3.74〜3.82(2H,m)。
6、83〜6.87 (2H,m) 。
7、23 (III、 dd、 J=2tlz。
キシフェニル)
ピD IJジン・臭化水素酸塩
2.4−ジフルオロフェノール51.72 g (0,
40mol)を46m1のエタノールに溶かし、50%
ジメチルアミン水溶液91d及び37%ホルマリン4〇
−を加え、3時間加熱還流する。冷却後、酢酸エチルで
抽出し、抽出液は水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥する。
40mol)を46m1のエタノールに溶かし、50%
ジメチルアミン水溶液91d及び37%ホルマリン4〇
−を加え、3時間加熱還流する。冷却後、酢酸エチルで
抽出し、抽出液は水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥する。
減圧下溶媒を留去すると、標題の目的物が76g(定量
的)得られた。
的)得られた。
・融点(t);63〜64 (EtOH)・NMR(9
0Mtlz、 CDCl 3) δ;2.27(6H
,s)、 3.55(2H,s)、 6.23〜6.7
8(2H,m)、 10.79(lft、s)シト 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシ−N、Nジメチル
ベンジルアミン74 g (0,40mol)を300
mEのクロロホル12に溶解し、ヨー化メチル200−
を加える。3時間加熱還流すると、黄色沈殿が析出し、
これを濾取すると、目的物114g (収率87%)が
得られた。
0Mtlz、 CDCl 3) δ;2.27(6H
,s)、 3.55(2H,s)、 6.23〜6.7
8(2H,m)、 10.79(lft、s)シト 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシ−N、Nジメチル
ベンジルアミン74 g (0,40mol)を300
mEのクロロホル12に溶解し、ヨー化メチル200−
を加える。3時間加熱還流すると、黄色沈殿が析出し、
これを濾取すると、目的物114g (収率87%)が
得られた。
・融点(t) :170〜173
(3) 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシベンズ
アルデヒド 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシ−N、 N、 N
トリメチルアンモニウム ヨーシト114g(0,35
mol)を714−の50%酢酸に溶解し、ヘキサメチ
レンテトラミン214g (1,53mol)を1部ず
つ加える。添加後、反応液を3時間加熱還流し、3N塩
酸を加え5分間加温する。エーテルで抽出し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去すると、粗
生成物が得られる。一部分は十分乾燥したが、大部分は
そのまま次段階の反応に用いた。
アルデヒド 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシ−N、 N、 N
トリメチルアンモニウム ヨーシト114g(0,35
mol)を714−の50%酢酸に溶解し、ヘキサメチ
レンテトラミン214g (1,53mol)を1部ず
つ加える。添加後、反応液を3時間加熱還流し、3N塩
酸を加え5分間加温する。エーテルで抽出し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去すると、粗
生成物が得られる。一部分は十分乾燥したが、大部分は
そのまま次段階の反応に用いた。
・融点(t);89〜90
・NMR(90MHz、 CDCl5) δ;7.0
7(LH,s)、 7.15(IH,s)、 9.87
(LH,d、Jl、811z)、 10.70(Ill
、 bs)5 3.5−ジフルオロ−2−メトキシベンズアルデヒド 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシベンズアルデヒド
の粗生成物(0,35mol相当)を800m1のアセ
トニトリルに溶かし、炭酸カリウム110g (0,3
mol)及びヨウ化メチル61m!!(0,96mol
)を加え、5時間加熱還流する。冷却後、不溶物を濾別
し、母液を濃縮する。濃縮物に1.31のエーテルを加
え、これを水500mf!で2回洗浄する。さらに飽和
食塩水で洗浄し、エーテル層を無水硫酸マグネシウム上
で乾燥する。
7(LH,s)、 7.15(IH,s)、 9.87
(LH,d、Jl、811z)、 10.70(Ill
、 bs)5 3.5−ジフルオロ−2−メトキシベンズアルデヒド 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシベンズアルデヒド
の粗生成物(0,35mol相当)を800m1のアセ
トニトリルに溶かし、炭酸カリウム110g (0,3
mol)及びヨウ化メチル61m!!(0,96mol
)を加え、5時間加熱還流する。冷却後、不溶物を濾別
し、母液を濃縮する。濃縮物に1.31のエーテルを加
え、これを水500mf!で2回洗浄する。さらに飽和
食塩水で洗浄し、エーテル層を無水硫酸マグネシウム上
で乾燥する。
減圧下溶媒を留去すると、目的物39.6g(収率66
%)が得られた(2段階)。
%)が得られた(2段階)。
・融点(t);37〜39
・NMR(90MHz、 CDCl5) δ;4、1
)2(3)1. d、 J=2)1z>、 6.78〜
7.29(3)1. m>。
)2(3)1. d、 J=2)1z>、 6.78〜
7.29(3)1. m>。
10、23 (IN、 4Hz>
(5) 3.5−’;フルオロー2−メトキシベンジ
ル(4) アルコ −ル 3.5−ジフルオロ−2−メトキシベンズア6一 ルデヒド39.6g (0,23mo+)を80mf!
のエタノールに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム4.3
5g(0,115mol>のエタノール溶液35m1を
5分間かけて0℃で滴下する。室温で1時間攪拌した後
、水115mfを加えて反応を停止し、エーテル115
−で4回抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥する。
ル(4) アルコ −ル 3.5−ジフルオロ−2−メトキシベンズア6一 ルデヒド39.6g (0,23mo+)を80mf!
のエタノールに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム4.3
5g(0,115mol>のエタノール溶液35m1を
5分間かけて0℃で滴下する。室温で1時間攪拌した後
、水115mfを加えて反応を停止し、エーテル115
−で4回抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥する。
減圧下エーテルを留去し、粗生成物を蒸留すると、目的
物21.2g (収率53%)が得られた(沸点108
〜110℃/2mm1g)。
物21.2g (収率53%)が得られた(沸点108
〜110℃/2mm1g)。
・NMR(90MH2,CDCl5) δ;2.60
(Iff、br)、 3.88(3t(、d、J=2t
(z)、 3.63(2H,s)、 6.57〜6.9
2(211,m)(6)塩化3.5−ジフルオロ−2−
メトキシベンジル 3、S−ジフルオロ−5−メトキシベンジルアルコール
10g (57,4mmol)を100艷の塩化メチレ
ンに溶解し、塩化チオニル25mI!、(287mmo
l)とジメチルホルムアミド7滴を添加し、1時間加熱
還流する。反応液を冷却後減圧下濃縮(7 し、ベンゼンで2回共沸する。残渣をエーテルに溶解し
、2回水洗した後、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、油状物を蒸溜す
ると、目的物9.72g (収率88%)が得られたく
97〜b/24−25mmHg)。
(Iff、br)、 3.88(3t(、d、J=2t
(z)、 3.63(2H,s)、 6.57〜6.9
2(211,m)(6)塩化3.5−ジフルオロ−2−
メトキシベンジル 3、S−ジフルオロ−5−メトキシベンジルアルコール
10g (57,4mmol)を100艷の塩化メチレ
ンに溶解し、塩化チオニル25mI!、(287mmo
l)とジメチルホルムアミド7滴を添加し、1時間加熱
還流する。反応液を冷却後減圧下濃縮(7 し、ベンゼンで2回共沸する。残渣をエーテルに溶解し
、2回水洗した後、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、油状物を蒸溜す
ると、目的物9.72g (収率88%)が得られたく
97〜b/24−25mmHg)。
・旧NMR(90MIIz、 CDCl5) δ;3
.95(3H,d、J=2Hz>、 4.58(2H,
s>、 6.60〜6、90 (2)1. m) ・m/z ; 192 (7) 2−(3,4−ジメトキシベンジリデン)マ
ロン酸ジエチル ベラトルアルデヒド200g (1,2mol)、マロ
ン酸ジエチル220m1!(1,4mol)をベンゼン
400m1中ピロリジン12−、ベラトル酸6.6gの
存在下6時間加熱還流する。反応液を冷却後、酢酸エチ
ル700蛇を加え水洗する。有機層をさらに希塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した後、無
水硫酸マグネシウム上で乾燥する。減圧下溶媒を留去し
、残渣を8 蒸留すると、目的物360.0g (収率97%)が得
られた(沸点193℃〜200℃10.5〜2.On+
ml1g)。
.95(3H,d、J=2Hz>、 4.58(2H,
s>、 6.60〜6、90 (2)1. m) ・m/z ; 192 (7) 2−(3,4−ジメトキシベンジリデン)マ
ロン酸ジエチル ベラトルアルデヒド200g (1,2mol)、マロ
ン酸ジエチル220m1!(1,4mol)をベンゼン
400m1中ピロリジン12−、ベラトル酸6.6gの
存在下6時間加熱還流する。反応液を冷却後、酢酸エチ
ル700蛇を加え水洗する。有機層をさらに希塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した後、無
水硫酸マグネシウム上で乾燥する。減圧下溶媒を留去し
、残渣を8 蒸留すると、目的物360.0g (収率97%)が得
られた(沸点193℃〜200℃10.5〜2.On+
ml1g)。
ジエステル180.0g(0,58mol)の1−り/
−ル溶液1.44 Aに青酸カリウム40.4g(0
,61mol)の水72mff溶液を加え、70℃で1
0時間攪拌する。
−ル溶液1.44 Aに青酸カリウム40.4g(0
,61mol)の水72mff溶液を加え、70℃で1
0時間攪拌する。
冷却後、反応液を濃縮し、水0.51及び酢酸エチル1
.5 fを加え、有機層を分離する。有機層を水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥する。
.5 fを加え、有機層を分離する。有機層を水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥する。
溶媒を減圧下留去すると、目的物201 g (0,7
6mol) (収率66%)が得られた。
6mol) (収率66%)が得られた。
(9) 4−(3,4−ジメトキシフェニル)−2−
ピロリドン シアノエステル100.5 gをエタノールll中うネ
ーコバルト約50mffの存在下50kg/cm2の水
素雰囲気下1ΩO℃で一昼夜水素添加する。
ピロリドン シアノエステル100.5 gをエタノールll中うネ
ーコバルト約50mffの存在下50kg/cm2の水
素雰囲気下1ΩO℃で一昼夜水素添加する。
触媒を除去した後、減圧下溶媒を留去し、残渣をエタノ
ールから再結晶すると、目的物9− 53.5g(収率64%)が得られた。
ールから再結晶すると、目的物9− 53.5g(収率64%)が得られた。
トン
ピペリドン30 g (0,13614>にベンゼン4
00m(!中トリトンB(40%メタノール溶液’io
me) を作用させる。減圧下ベンゼンを留去し、残渣
にベンゼン400誦を再び加える。この操作を3回繰り
返し、塩化 3.4−ジメトキシベンジル25.31
gを室温で加える。60℃で6時間攪拌し、反応液に水
を加える。有機層を分離し、水で2回、飽和食塩水で1
回洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧下溶媒を留去する。残渣をエタノールから再結晶す
ると、目的物41.54g (収率82%)が得られた
。
00m(!中トリトンB(40%メタノール溶液’io
me) を作用させる。減圧下ベンゼンを留去し、残渣
にベンゼン400誦を再び加える。この操作を3回繰り
返し、塩化 3.4−ジメトキシベンジル25.31
gを室温で加える。60℃で6時間攪拌し、反応液に水
を加える。有機層を分離し、水で2回、飽和食塩水で1
回洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧下溶媒を留去する。残渣をエタノールから再結晶す
ると、目的物41.54g (収率82%)が得られた
。
・融点(t) ;117〜118
・NMR(90MHz、 CDC1,) δ;2.4
0〜2.80(21,m)、 2.80〜3.60(3
H,m)。
0〜2.80(21,m)、 2.80〜3.60(3
H,m)。
3.74〜3.82(12)1.m)、 4.40(2
14,s) 6.5460 〜6.76 (6)1. m> ピロリドン 窒素雰囲気下ジイソプロピルアミン2、lrd(15m
mol)を30−のTHFに溶かし、−78℃で1.6
M n−ブチルリチウム9.4mf(15mmol)を
滴下し、10分間同温度で放置する。この溶液にN −
(3,4−ジメトキシベンジル)−4−(3゜4−ジメ
トキシフェニル)−2−ピロリドン3、71g (10
mmo1)のT)IP溶液100−を−78℃で滴下す
る。30分間攪拌した後、水10−を加え反応を停止す
る。反応液を濃縮し、残渣に塩化メチレンを加え、水、
食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥
する。
14,s) 6.5460 〜6.76 (6)1. m> ピロリドン 窒素雰囲気下ジイソプロピルアミン2、lrd(15m
mol)を30−のTHFに溶かし、−78℃で1.6
M n−ブチルリチウム9.4mf(15mmol)を
滴下し、10分間同温度で放置する。この溶液にN −
(3,4−ジメトキシベンジル)−4−(3゜4−ジメ
トキシフェニル)−2−ピロリドン3、71g (10
mmo1)のT)IP溶液100−を−78℃で滴下す
る。30分間攪拌した後、水10−を加え反応を停止す
る。反応液を濃縮し、残渣に塩化メチレンを加え、水、
食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥
する。
減圧下溶媒を留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン
−3:1)に付すと、目的物4.65g(収率88%)
が得られた。
マトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン
−3:1)に付すと、目的物4.65g(収率88%)
が得られた。
1−
・融点(℃ン ;94〜96
ジン
窒素雰囲気下0℃で3−(3,5−ジフルオロ2−メト
キシベンジル)−N−(3,4−ジメトキシベンジル)
−4−(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリドン17
.78g (33,7mmol)のTHF溶液200−
をボラン・THF錯体IMTHF溶液150m1に滴下
する。2時間加熱還流し、冷却後、6N塩酸50−を加
え、60℃に加温する。
キシベンジル)−N−(3,4−ジメトキシベンジル)
−4−(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリドン17
.78g (33,7mmol)のTHF溶液200−
をボラン・THF錯体IMTHF溶液150m1に滴下
する。2時間加熱還流し、冷却後、6N塩酸50−を加
え、60℃に加温する。
2時間攪拌後、減圧下THFを濃縮し、塩化メチレンで
2回抽出する。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した後、減圧下溶媒を留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n
ヘキサン−4:1)に付すと、目的物12.46g(収
率72%)が得られた。
2回抽出する。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した後、減圧下溶媒を留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n
ヘキサン−4:1)に付すと、目的物12.46g(収
率72%)が得られた。
α■ 3− (3,5−ジフルオロ−2−メトキシベン
2 ジル)−1f−(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリ
ジン 3− (3,5−ジフルオロ−2−メトキシベンジル)
−N−(3,4−ジメトキシベンジル)4−(3,4−
ジメトキシフェニル)ピロリジン2.5g(5、Qmm
ol) をエタノールに溶かし、0.4gの10%パラ
ジウム・炭素上、水素雰囲下10時間加熱還流する。粗
生成物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(はじめ
メタノール:塩化メチレン−5:95、次いでメタノー
ルで溶出)に付すと、目的物1.07g(収率63%)
が得られた。
2 ジル)−1f−(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリ
ジン 3− (3,5−ジフルオロ−2−メトキシベンジル)
−N−(3,4−ジメトキシベンジル)4−(3,4−
ジメトキシフェニル)ピロリジン2.5g(5、Qmm
ol) をエタノールに溶かし、0.4gの10%パラ
ジウム・炭素上、水素雰囲下10時間加熱還流する。粗
生成物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(はじめ
メタノール:塩化メチレン−5:95、次いでメタノー
ルで溶出)に付すと、目的物1.07g(収率63%)
が得られた。
水素酸塩
3− (3,5−ジフルオロ−2−メト二1′シ)4−
(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリジン1、06
gに濃臭化水素酸を加え、油浴100℃で12時間攪拌
する。減圧下溶媒を留去し、ベン3 ゼンを加えて2回共沸する。残渣にアセトニトリルを加
え結晶化し濾取すると、目的物0.76g (収率63
%)が得られた。
(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリジン1、06
gに濃臭化水素酸を加え、油浴100℃で12時間攪拌
する。減圧下溶媒を留去し、ベン3 ゼンを加えて2回共沸する。残渣にアセトニトリルを加
え結晶化し濾取すると、目的物0.76g (収率63
%)が得られた。
・融点(t) ;217〜219
・NMR(020)δ;
2、79 (IH,ddd、 J=5Hz、 1叶z、
10Hz)、 2.95〜3.02(2H,m)、 3
.16〜3.23(LH,m)、 3.29(2H,d
d、J=12Hz、23Hz)、 3.77〜3.83
(2H。
10Hz)、 2.95〜3.02(2H,m)、 3
.16〜3.23(LH,m)、 3.29(2H,d
d、J=12Hz、23Hz)、 3.77〜3.83
(2H。
m)、 6.71〜6.89(58,m)・元素分析値
: C+ 7817P2N03’ HBrとしてHN 理論値(%’) 50.76 4,51 3.48実
測値(%) 50.57 4.45 3.36− m
/z (El) :321 4 4−ジメトキシフェニルンビロリジン 実施例4の側で得られるトランス−3−(3゜5−ジフ
ルオロ−2−メトキシベンジル)4−(3,4−ジメト
キシフェニル)ピロリジン2、17 g (6,17m
mol)をクロロホルム30−に溶解し、トリエチルア
ミン0.75g (7,4mmol)を加える。氷冷下
塩化アセチル0.5−(7、Qmmol)のクロロホル
ム溶液10−を滴下し、室温で3時間撹拌する。水1m
f!を加え、反応を停止した後、水、2N塩酸、飽和炭
酸水素ナトリウムで洗浄し、無水硫酸す)IJウム上で
乾燥する。
: C+ 7817P2N03’ HBrとしてHN 理論値(%’) 50.76 4,51 3.48実
測値(%) 50.57 4.45 3.36− m
/z (El) :321 4 4−ジメトキシフェニルンビロリジン 実施例4の側で得られるトランス−3−(3゜5−ジフ
ルオロ−2−メトキシベンジル)4−(3,4−ジメト
キシフェニル)ピロリジン2、17 g (6,17m
mol)をクロロホルム30−に溶解し、トリエチルア
ミン0.75g (7,4mmol)を加える。氷冷下
塩化アセチル0.5−(7、Qmmol)のクロロホル
ム溶液10−を滴下し、室温で3時間撹拌する。水1m
f!を加え、反応を停止した後、水、2N塩酸、飽和炭
酸水素ナトリウムで洗浄し、無水硫酸す)IJウム上で
乾燥する。
減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(塩化メチレン:メタノール−97:3)に
付すと、目的物2.5g(定量的)が得られた。
グラフィー(塩化メチレン:メタノール−97:3)に
付すと、目的物2.5g(定量的)が得られた。
(2)上記アセチルピロリジン誘導体2.5gを光学異
性体分離用カラム(Chiralcel flD、
ダイセル化学工業製)に付し、n−へキ勺ンーイソブ口
ピルアルコールージエチルアミン(5:2:0.005
)の混合溶媒を溶出液として分離5 精製し、 (十)体1.06g(図ε8+20.2゜(
C=1.05.MeOH) )及び(−)体1.09g
([α〕P20.1°(C4,05,MeOH) )
を得た。
性体分離用カラム(Chiralcel flD、
ダイセル化学工業製)に付し、n−へキ勺ンーイソブ口
ピルアルコールージエチルアミン(5:2:0.005
)の混合溶媒を溶出液として分離5 精製し、 (十)体1.06g(図ε8+20.2゜(
C=1.05.MeOH) )及び(−)体1.09g
([α〕P20.1°(C4,05,MeOH) )
を得た。
(3)上記(−)体1.09 gを47%臭化水素酸中
20時間加熱還流する。減圧下臭化水素酸を留去し、ベ
ンゼンを加え、さらに2回共沸させる。
20時間加熱還流する。減圧下臭化水素酸を留去し、ベ
ンゼンを加え、さらに2回共沸させる。
残渣をエタノールに溶解し、活性炭で処理し、濾別後、
減圧下溶媒を留去すると、1.05 gの(=)−トラ
ンス−3−(35−ジフルオロ2−ヒドロキシベンジル
)−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ピロリジン
・臭化水素酸塩が得られた。
減圧下溶媒を留去すると、1.05 gの(=)−トラ
ンス−3−(35−ジフルオロ2−ヒドロキシベンジル
)−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ピロリジン
・臭化水素酸塩が得られた。
・[(rlE6−18.5°(C=1.05. MeO
H)実施例5の(2)で得られた(+)体を上記の(3
)と同様に処理し、 (+) −)ランス−3−(3,
5ジフルオロ−2−ヒドロキシベンジル14(3,4−
ジヒドロキシフェニル)ピロリジン・臭化水素酸塩を得
た。
H)実施例5の(2)で得られた(+)体を上記の(3
)と同様に処理し、 (+) −)ランス−3−(3,
5ジフルオロ−2−ヒドロキシベンジル14(3,4−
ジヒドロキシフェニル)ピロリジン・臭化水素酸塩を得
た。
・(α〕P + 16.6°(C=1.01. Mer
it)6 実 施 例 6〜30 上記の方法に準じて、 下記の表2に示ずピロ リジン誘導体を得た。
it)6 実 施 例 6〜30 上記の方法に準じて、 下記の表2に示ずピロ リジン誘導体を得た。
7
特開平3
118361 (27)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩。 2 置換若しくは無置換のフェニル基が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2、R^3は同一又は相異なる水
素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
原子、水酸基、トリフルオロメチル基、又は式▲数式、
化学式、表等があります▼(式中R^4、R^5は同一
又は相異なる水素原子又は低級アルキル基を意味する)
で示される基を意味する〕 で示される基である請求項1記載のピロリジン誘導体及
びその薬理学的に許容できる塩。3 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩を有効成
分とするドーパミン1アゴニスト作用が有効な疾患の治
療・予防剤。 4 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩を有効成
分とするドーパミン1アゴニスト。 5 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩を有効成
分とする高血圧症治療・予防剤。 6 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩を有効成
分とする心不全治療・予防剤。
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