JPH03118361A - ピロリジン誘導体 - Google Patents

ピロリジン誘導体

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JPH03118361A
JPH03118361A JP1254349A JP25434989A JPH03118361A JP H03118361 A JPH03118361 A JP H03118361A JP 1254349 A JP1254349 A JP 1254349A JP 25434989 A JP25434989 A JP 25434989A JP H03118361 A JPH03118361 A JP H03118361A
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Motosuke Yamanaka
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Shinji Suda
須田 眞次
Naoki Yoneda
直樹 米田
Nobuyuki Mori
信行 森
Mitsumasa Shino
篠 光正
Hiroki Ishihara
浩樹 石原
Mamoru Saito
守 斉藤
Toshiyuki Matsuoka
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、医薬として優れた作用を有するピロリジン誘
導体及びその薬理学的に許容できる塩に関する。
〔発明の背景及び先行技術〕
高血圧症は日本人全体の約20%、即ち約2.000万
Å以上が羅患しており、各種脳疾患、心疾患などの重要
なリスクファクターとなっている。
高血圧症の薬物治療としては現在降圧利尿剤、β遮断薬
、Ca拮抗剤、ACE阻害剤などが実際に臨床上使用さ
れている。
しかしながら、高血圧の成因・病態は極めて多種多様で
あり、少なくとも一剤であらゆるタイプの高血圧を有意
にコントロールすることは困難である。更に、安全性の
面から言えば、例えばβ遮断薬には心抑制、気管支彎縮
があり、利尿薬には高尿酸血症、糖代謝異常、脂質代謝
異常などの副作用がある。
このような状況から、種々のメカニズムによる異なった
タイプのよりよい降圧剤が依然として求められている。
そこで本発明者等は、特に腎血流増加作用を有する降圧
剤を開発するため、特にドパミン作用物質について長年
にわたって鋭意研究を行ってきたが、後記する如く、ピ
ロリジン誘導体が優れた作用を有することを見出した。
降圧作用を有するピロリジン誘導体は殆ど知られていな
い。
米国特許第2.852.526号は、ピロリジン誘導体
が開示されているが、本発明化合物とは構造を異にして
いる上、気管支拡張作用、抗ヒスタミン作用、抗コリン
作用を有しているという記載があるのみで、本発明化合
物の薬効とは著しく異なる。
また、腎血流増加作用を有する化合物としてフェノール
ドパム(Fenoldopam) (SKF−8252
6)が提案されているが、この化合物はベンズアゼピン
系化合物であり、本発明化合物とはその構造を異にする
〔発明の構成及び効果〕
本発明化合物は次の一般式(I)で表されるピロリジン
誘導体及びその薬理学的に許容できる塩である。
■ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
基を意味する。Yは式−(CH2)、−(式中nは1又
は2の整数を意味する)で示される基、印)。
II 式−5−(式中pはO又は1〜2の整数を意味する)で
示される基、式−〇−で示される基又は式− NH−で示される基を意味する。Rは置換若しくは無置
換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル基又は
ヘテロアリール基を意味する。〕Rの定義中、置換若し
くは無置換のフェニル基とは、具体的には次の式(If
)に示される基をいう。
〔式中、R1,R2,R3は同−又は相異なる水素原子
、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、
水酸基、トリフルオロメチル基、又は式原子又は低級ア
ルキル基を意味する)で示される基を意味する〕 本発明化合物(1)の定義中のx1上記(II)で表さ
れる基の定義中のR1,R2,R3,R4,R5にみら
れる低級アルキル基とは、炭素数1〜6の直鎮若しくは
分枝状のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロ
ピル、n−プチノペイソプロピノペイソブチル、1−メ
チルプロピル、tertブチノペn−ペンチル、1−エ
チルプロピル、イソアミル、n−ヘキシルなどを意味す
るが、最も好ましい例としては、メチル基、エチル基な
どをあげることができる。
また式(I)の定義中のX、式(II)の定義中のR’
、 R2,R3にみられるハロゲン原子とは、塩素、ヨ
ウ素、臭素、フッ素を意味する。
更にR’、 R2,R3の定義中にみられる低級アルコ
キシ基とは、上記低級アルキル基から誘導された低級ア
ルコキシ基を意味するが、好ましい低級アルコキシ基と
しては、例えばメトキシ基、エトキシ基をあげることが
できる。
Rの定義中の置換されたナフチル基とは、好ましくはメ
チル基、エチル基などで代表される低級アルキル基、メ
トキシ、エトキシ基などで代表される低級アルコキシ基
、ハロゲン原子、水酸基、トリフルオロメチル基などで
置換されたナフチル基をいう。
Rの定義にみられるヘテロアリール基とは、=10 置換若しくは無置換の複素環基を意味する。複素環は1
つ又はそれ以上の窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含ん
でもよい。具体例をあげれば、1−イミダゾリル基、2
−イミダゾリル基などのイミダゾリル基、3−ピリジル
基、4−ピリジル基などのピリジル基、1−ピロリル基
、3ピロリル基などのピロリル基、ピラゾリル基、イン
ドリル基、イミダゾリル基、イソキノリル基、キノリル
基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、イミダゾピリ
ジル基などの窒素原子を含んだヘテロアリール基、オキ
サシリル基、インオキサシリル基など窒素原子のほかに
酸素原子を含んだヘテロアリール基、チオフェン、ベン
ゾチオフェンから誘導される基である硫黄原子を含んだ
ヘテロアリール基などをあげることができるが、最も好
ましいヘテロアリール基としては、ピリジル基、イミダ
ゾリル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基など
をあげることができる。
これらのへテロアリール基は、例えばメチル基、エチル
基などの低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基など
の低級アルコキシ基、ハロゲン原子などで置換されてい
てもよい。
本発明化合物(I)において好ましい化合物群としては
、Rが式(n)で表される基である場合である。即ち、
下記の一般式(III)で表すことができる。
1(’ (式中、X、 Y、 R’、 R2,R3Li前記の意
味を有する。)上記−船人(I[I)において、Xとし
ては水素原子である場合が最も好ましく 、R’、 R
2,R’は水酸基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で
ある場合が好ましい。
更に好ましくはハロゲン原子、水酸基の2置換体をあげ
ることができ、その場合m位に水酸2 基、0位に塩素原子などのハロゲン原子が置換されてい
る場合が最も好ましい。
更に好ましい化合物群としては、Rがへテロアリール基
である場合である。
本発明において、薬理学的に許容できる塩とは、例えば
塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩、燐酸塩などの無機酸塩
、蟻酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩
、フマル酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼ
ンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩などの有機酸塩
をあげることができる。
化合物によっては水和物を形成する場合もあるが、それ
らが本発明の範囲に属することはいうまでもない。
また、本発明化合物は、化学構造式から明らかな如く、
各種異性体が存在しうる。即ち、シス、トランスの位置
異性体のほかに、d、1光学活性体が存在する。これら
の異性体が本発明の範囲に属することはいうまでもない
本発明においては、立体異性体の中ではトランス体が好
ましい。
次に本発明化合物の代表的な製造方法について述べる。
〈製造方法1〉 本発明化合物は、前述の如くトランス体とシス体が存在
するが、トランス体の製造方法を述べれば以下の通りで
ある。
R−Y−CII2COOR6(IV )+ 賀  4− 5 (一連の式において、X、Y、Rは前記と同様の意味を
有し、R6は低級アルキル基を意味し、R7は水酸基の
保護基を意味する。) (工程1) 一般式(IV)で表される化合物と、一般式(V)で表
されるβ−ニトロアリールエテン誘導体とを反応せしめ
て、一般式(VI)で表6 される化合物を製造する工程である。
本反応は常法によるが、例えばジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジグライムなどのエーテル系溶媒、ベ
ンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶媒、N、 N’−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイドなどの
溶媒を用い、塩基の存在下で反応を行う。
具体的に好ましい一例をあげれば、テトラヒドロフラン
中、低温下にn−ブチルリチウムとジイソプロピルアミ
ンによってリチウムジイソプロピルアミドを生成させ、
これに−般式(TV)で表される化合物のテトラヒドロ
フラン溶液を加え、次いで一般式(V)で表される化合
物のテトラヒドロフラン溶液を作用させて反応を行う。
一般式(V)において、R7は水酸基の保護基を意味す
る。水酸基を保護しうる基であればいかなる基でもよい
が、代表的なものとしては、メチル、エチル、プロピル
、ブチルなどの低級アルキル基、ベンジル、フェネチル
7 などのアラル牛ル基、アセチル、プロピオニル、プチロ
イノペピバロイルなどのアシル基、テトラヒドロピラニ
ル基、更に2つのR7が一緒になってメチレン基などの
アルキレン基を形成してもよい。
これらのうち最も好ましいものは、メチル基、エチル基
などの低級アルキル基、或いは2つのR7が一緒になっ
てメチレン基を形成する(結果としてメチレンジオキシ
基となる)場合である。
(工程2) 一般式(VI)で示されるニトロ化合物を、金属・金属
塩を用いた還元或いは接触還元により一般式(■)で示
されるアミノ化合物を製造する工程である。用いる金属
・金属塩としては亜鉛、鉄、塩化第一スズ等が、接触還
元に用いる触媒としてはパラジウム・炭素、酸化白金、
ラネーニッケル等が用いられる。
(工程3) 一般式(■)で示される化合物を無溶媒或8 いは通゛1:5の有機溶媒中、加熱、加温することによ
り閉環し、一般式(■)で示される5員環ラクタムを製
造する工程である。本反応は通常、メタノール、エタノ
ール、ブタノール等のアルコール系溶媒、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、ジブロモエタン、ジクロロエタン等
のハロゲン化アルキル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジグ
ライム等のエーテル系溶媒、N、N−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキサイド等の溶媒中で行われる。
なお、高温下、或いはオートクレーブ中高温下に工程2
のニトロ基の還元反応を行えば、(■)を単離すること
なく閉環体(■)を製造することができる。
(工程4) 一般式(■)で示されるシス、トランスの5員環ラクタ
ムの混合物を、塩基の存在下或いは非存在下に有機溶媒
中に加温することにより含まれるシス体を異性化し、一
般式(IX)で示されるトランス体のみを得る工程であ
る。
具体的に好ましい例をあげると、カリウム−t−ブトキ
シドの存在下エタノール或いはエフノール−キシレンの
混合溶媒中、或いはボタシウムトリメチルシラルイトの
存在下キシレン中で加熱して反応を行う。
(工程5) 一般式(IX)で示されるトランス5員環ラクタムを、
ジボラン、金属水素錯化合物により還元し、一般式(X
)で示されるピロリジン誘導体を製造する工程である。
金属水素錯化合物としては、水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
ナトリウムが好ましく、エーテル、テトラヒドロフラン
、ジグライム等のエーテル系溶媒、或いはベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒中で行われ
る。
(工程6) 一般式(X)で示される化合物を、三臭化ホウ素、三塩
化ホウ素、臭化水素酸、ヨウ化0 水素酸又は他のニーデル開裂剤で処理して保護基を除去
し、一般式(XI)で示される化合物を製造する工程で
ある。
く製造方法2〉 本発明化合物のシス体を製造するには、例えば製造方法
1の工程1で得られる一般式(VI)で表される付加体
、或いは製造方法1の工程2で得られるアミンエステル
体(■)を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで処
理し、所望の異性体を単離し、製造方法1の方法に準じ
てシス体を得ることができる(但し工程4は除く)〈製
造方法3〉 一般式(1)の化合物は、シス、トランスの位置異性体
のほかに、d、β光学活性体を含む。
光学異性体分割は通常の方法によるが、例えばキラルカ
ラムなどの光学異性体分離用カラムに付す方法、(十)
−酒石酸、(+)−ショウノウ酸、(+)−ジベンゾイ
ル酒石酸、(+)−10−ショウノウスルホン酸、(十
)−マンデル酸などの光学活性酸との塩を適当な溶媒か
ら分別結晶する方91 法などがあげられる。
また、一般式(X)で表される化合物の段階又はその誘
導体で、上記と同様な方法で光学分割し、工程6に付し
て一般式(1)で表される化合物の光学活性体を得るこ
とができる。
〈製造方法4〉 一般式(I)において、Yが式−CH2−で示される基
(nが1である場合)である場合は、例えば次のような
方法によっても製造することができる。
2 3 24 (一連の式において、X、 R7,Rは前記と同様な意
味を有し、Gはアミドの窒素原子の保護基である。) (工程7) 一般式(XII)で示される化合物のアミドの窒素原子
を保護する工程である。アミドの窒素原子の保護基とし
ては、例えば置換基を有してもよいベンジル基、アシル
基、アルコキシアルキル基などをあげることができる。
これらのうち好ましい基としては、ベンジル基、3.4
−ジメトキシベンジル基、3−メトキシメチル基をあげ
ることができる。
本工程は通常の方法によるが、好ましくは、例えば上記
の置換基を有してもよいベンジル基、アシル基などのハ
ロゲン化物を、化合物(X[I)と反応せしめることに
より、化合物(■)を得ることができる。本反応は塩基
の存在下に行うことが望ましい。塩基としては、例えば
水酸化テトラブチルアンモニウムなどの水酸化アルキル
アンモニウム、3級アミン、9 弓 水素化ナトリウムなどの水素化金属などが用いられる。
この際溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エー
テル、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが好ましく用
いられる。
(工程8) 一般式(■)で示される化合物のカルボニル基のα位に
置換基を導入する工程である。
具体的に好ましい例をあげると、テトラヒドロフラン中
リチウムジイソプロピルアミドや水素化ナトリウムの存
在下、−船人(刈)で示される化合物に、−船人R−C
)12−Z (式中Zはハロゲン、トルエンスルホニル
オキシ基又はメタンスルホニルオキシ基などの脱離基を
意味する)で表される化合物を加えて反応を行う。
(工程9) 製造方法1で詳述した工程4の方法に準じて反応を行う
即ち、−船人(店)で示されるシス、トランスの5員環
ラクタムの混合物を、塩基の存6 在下或いは非存在下に有機溶媒中に加温することにより
含まれるシス体を異性化し、一般式(XV)で示される
トランス体のみを得る工程である。具体的に好ましい例
をあげると、カリウ1.−t−ブトキシドの存在下エタ
ノール或いはエタノール−キシレンの混合溶媒中、或い
はカリウムトリメチルシラルイトの存在下キシレン中で
加熱して反応を行う。
(工程10) 製造方法1で詳述した工程5の方法に準じて反応を行う
即ち、一般式(XV)で示されるトランス5員環ラクク
ムを、ジボラン、金属水素錯化合物により還元し、一般
式(XVI)で示されるピロリジン誘導体を製造する工
程である。金属水素錯化合物としては、水素化アルミニ
ウムリチウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウムナトリウムが好ましく、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジクライム等のエーテル系溶媒、或いはベ
ンゼン、トルエ7 ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒中で行われる。
(工程11) 工程7で導入した保護基を除去する工程である。工程7
で用いた反応試剤により、内容は異なるが、例えば工程
7でハロゲン化ベンジルを用いた場合は、パラジウム・
炭素、ラネーニッケル等の金属触媒下水素添加を行う。
また、この工程は場合によっては、次の工程12と共に
同時に行うことができる。
(工程12) 製造方法1で詳述した工程6の方法に準じて反応を行う
即ち、一般式(XVII)で示される化合物を、三臭化
ホウ素、三塩化ホウ素、臭化水素酸、ヨウ化水素酸又は
他のエーテル開裂剤で処理して保護基を除去し、一般式
(罵)で示される化合物を製造する工程である。
く薬理実験例〉 実験例1 8 ラット脳線状体における01. D2受容体結合試験ラ
ット脳線状体を摘出し、0.05M Tris Buf
ferでホモジナイズした後、20000Xgで遠心分
離してシナブトシーム画分を分取した。この沈渣を0.
25M Tris Bufferで数回洗浄し、0.0
5M TrisBuffer(120mM NaC]、
 5mM KCI、 2mM CaCl2.1mMMg
CI2を含む)に溶解し、分注して一80℃で凍結保存
した。Dlでは’H−3ch23390 (最終濃度0
.3nM) 、D2では’)I−3piperone(
最終濃度0.2nM)を検体と共に加えて37℃、15
分インキニベーションし、ワットマンGF/Bフィルタ
ーで濾過し、液体シンチレーションカウンターで測定し
た。
非特異結合の測定には5KP−82526と5pipe
roneそれぞれを使用した。
ICs。は特異的な量、即ち放射性同位元素により標識
された5ch23390.5piperoneとそれぞ
れ50%置き換えられる試験物質の濃度として決定した
結果を表1に示す。
表1において、試験化合物A−Eは下記に示q す化合物である。
化合物A;トランス−3−(3−クロロ−6ヒトロキシ
フエニル)メチル−4 (3,4−ジヒドロキシフェニル)ピロリジン 化合物B;3−(2,6−ジヒドロキシフェニル)メチ
ル−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ピロリジン 化合物C;3−(3−クロロ−2,6−ジヒドロキシフ
ェニル)メチル−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル
)ピロリジン 化合物D;3−(3,5−ジフルオロ−2−ヒドロキシ
フェニル)メチル−4−(3,4 ジヒドロキシフエニル)ピロリジン 化合物E;3−(3−フルオロ−2−ヒドロキシフェニ
ル)メチル−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ピ
ロリジン 0 表 1 体重10kg前後の雑種をチオペンタ−ルナ) +Jウ
ム20mg/kg、 i、 V、により麻酔導入後、気
管内チューブを挿入し、酸素−笑気−エンフルランで人
工呼吸及び麻酔の維持を行った(Acoma人工呼吸器
ARP−850B、 Acoma anesthesi
a apparatusεM−A)。
大動脈圧及び左心室内圧は大腿動脈から挿入したカテ先
型圧トランスデユーサ−(MPC−500゜1 Mlller) により測定した。腎血流は側腹切開に
より腎動脈を露出し、電磁血流計(MFV−2100,
日本光電)のプローブを装着し測定した。以上の測定値
はいずれもポリグラフシステム(RM−6000゜日本
光電)を用いて記録した。
検体は0.9%食塩水に溶解し、肘動脈に挿入したカテ
ーテルから投与した。また十二指腸内投与の実験におい
ては、腹部正中切開により十二指腸を露出し、微小な切
開を加え、挿入したカテーテルから検体を投与した。
検体化合物A−Eは実験例1に示した化合物と同一であ
る。
以下に、上記の方法で行って、本発明化合物からなる試
験化合物の投与前対照に対する腎血流の増加又は平均血
圧の減少を変化率にて示す。
化合物Aは3μg/kgの静脈内投与で15%の平均血
圧の減少と20%の腎血流の増加を、化合物Bは3μg
/kgの投与で29%の平均血圧の減少と25%の腎血
流の増加を、化合物Cは1μg/kgの投与で22%の
平均血圧の減少と33%の腎血流の2 増加を、化合物りは1μg/kgの投与で17%の平均
血圧の減少と15%の腎血流の増加を、化合物Eは3μ
g/kgの静脈内投与で21%の平均血圧の減少で26
%の腎血流の増加を示した。また化合物りは1. On
g/kgの十二指腸内投与で11%の平均血圧の減少と
16%の腎血流の増加を示した。
上記の薬理実験例の結果より、明確な降圧作用、腎血流
増加作用を示すことが明らかである。
本発明化合物は、ドーパミン1受容体への高い親和性を
有し、ドーパミン受容体を刺戟する作用を有しているの
で、抗高血圧剤として望ましい血管拡張作用に基づく降
圧作用、腎血流増加作用、利尿作用を有し、更に安全性
も高いので、降圧剤又は心不全治療剤として好ましい化
合物である。
従って、本発明化合物は、本態性高血圧症、腎性高血圧
症など各種高血圧症の治療・予防剤、更に心不全治療・
予防剤として有用である。
本発明化合物をこれら医薬として使用する場合は、経口
投与若しくは非経口投与により投与33 される。投与量は、症状の程度;患者の年令、性別、体
重、感受性差;投与方法;投与の時期、間隔、医薬製剤
の性質、副剤、種類;有効成分の種類などによって異な
り、特に限定されない。
経口投与の場合は、通常成人1日あたり約1〜1,00
0mg 、好ましくは約50〜600mgであり、更に
好ましくは約150〜400mgであり、更により好ま
しくは約300〜400mgであり、これを通常1日1
〜4回にわけて投与する。注射の場合は、通常線0.3
μg/kg〜100μg/kgであり、好ましくは約1
μg/kg〜10μg/kgである。
即ち、経口用固形製剤を調製する場合は、生薬に賦形剤
、更に必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、
矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被覆錠剤
、顆粒剤、散剤、カプセル剤などとする。
賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスターチ、白糖、
ブドウ糖、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素
などが、結合剤としては、例えばポリビニルアルコール
、ポリビニルニー4− チル、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビア
ゴム、トラガント、ゼラチン、シェラツク、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース、クエン酸カルシウム、デキストリン、ペクチン等
が、滑沢剤としては、例えばステアリン酸マグネシウム
、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ、硬化植物
油等が、着色剤としては医薬品に添加することが許可さ
れているものが、矯味矯臭剤としては、ココア末、ハツ
カ脳、芳香酸、ノ\ツカ油、龍脳、桂皮末等が用いられ
る。これらの錠剤、顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その
他必要により適宜コーティングすることは勿論差し支え
ない。
注射剤を調製する場合には、生薬に必要によりpH調整
剤、緩衝剤、懸濁化剤、溶解補助剤、安定化剤、等張化
剤、保存剤などを添加し、常法により静脈、皮下、筋肉
内注射剤とする。その際必要により、常法により凍結乾
燥物とすることも可能である。
5 懸濁剤としての例をあげれば、例えばメチルセルロース
、ポリソルベート80、ヒドロキシエチルセルロース、
アラビアゴム、トラガント末、カルボキシメチルセルロ
ースナトリウム、ポリオキシエヂレンソルビクンモノラ
ウレートなどをあげることができる。
溶解補助剤としては、例えばポリオキシエチレン硬化ヒ
マシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸アミド、ポリ
オキシエチレンソルビクンモノラウレート、マグロゴー
ル、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどをあげることが
でキル。
また安定化剤としては、例えば亜硫酸ナトリウム、メタ
亜硫酸ナトリウム、エーテル等が、保存剤としては、例
えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸エ
チノペソルビン酸、フェノール、クレゾール、クロロク
レゾールなどをあげることができる。
〔実 施 例〕
次に本発明の実施例を以下に掲げるが、本発明がそれら
のみに限定されることがないことは6 言うまでもない。
ジイソプロピルアミン9.04m(64,5mmol)
及び1.6Mn−ブチルリチウム38.6艷(64,5
mmol)より調製したリチウムジイソプロピルアミド
にTHF300rn!中−78℃でフェニルプロピオン
酸エチル10 g (56,1mmo+)を滴下した。
同温度で15分間攪拌し、2− (3,4−ジメトキシ
フェニル)ニトロエテン11.74 g (56,1m
mol)のTHF溶液200mj!を滴下した後、30
分間攪拌を続ける。反応液に水20dを加え、反応を停
′17 止した後、THFを減圧下留去した。残渣に3N塩酸1
00−を加え、塩化メチレン300mI!で2回抽出し
た後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:
n−へキサン=1:2)に付すと、16.55 gの目
的物が得られた(収率80%)。この時最初に溶出する
のはスレオ体であり、次に溶出するのはエリスロ体であ
った(スレオ:エリスロ=8:6)。また、エリスロ体
は結晶として得られたが、スレオ体は油状であった。
スレオ体 ・NMR(90MH2,CDCl2)  δ;1.02
(3H,t、J=7Hz)、 2.48〜3.08(3
H,m)3.48〜3.70(Ift、m)、 3.7
6(3H,s)、 3.78(3H,s)、 3.95
(2H,q、J=7Hz)、 4.52〜4.72(2
H,m)、 6.60〜6.76(3H,m)、 6.
84〜7.20(5H,m) 8 エリスロ体 ・NMR(90MH2,CDCl5)  δ;0.96
(3H,d J=7Hz>、  2.76〜3.20(
3H,m)3.50〜3.80(IH,m)、  3.
82(611,s)、  3.83(21iq、J=7
Hz)、  4.67−4.82(211,m)、  
6.57〜6.72(3N、m)、  6.92〜7.
24(511,m)・融点(t);94〜96 スレオー2−ベンジル−3−(3,4−ジメトキシフェ
ニル)−4−二トロ酪酸エチル8.1g (20,9m
mol)をエタノール38dに溶解し、濃塩酸12.5
−を加える。水浴上5.47 gの亜鉛末(84mmo
l)を少量ずつ添加し、添加終了後2時間加熱還流する
。反応液を濃縮し、10%水酸化ナトリウム水溶液を加
え塩基性とした後、塩化メチレンで3回抽出する。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
する。減圧下溶媒を留去すると、目的物の粗生成物が得
られた。粗生成物は単離精製す9 ることなく次段階に用いた。
スレオ−4−アミノ−2−ベンジル−3(3,4−ジメ
トキシフェニル)酪酸エチルの粗生成物をそのままキシ
レン200−に溶解し、6時間加熱還流する。減圧下キ
シレンを留去すると、目的物の粗生成物が得られた。こ
れをエタノールより再結晶すると、目的物が2.55g
(収率39%)得られた。
・融点(t)  ;116〜118 ・NMR(90’MHz、 CDCl、)  δ;2、
88 (1)1. ddd、 J=5Hz、 6tlz
、 9Hz> 、 2.99 (ltl。
dd、 J=5Hz、 14Hz)、 3.07(lf
t、 dd、 J=6flz、 1411z)、 3.
20(IH,dt、J=8Hz、9Hz>、 3.23
(LH。
t、J=8flz)、 3.51(1N、t、J=8H
z>、 3.81(3fl。
s>、 3.86(3H,s)、 6.24(IH,b
s)、 6.55(IH。
d、J=2flz)、 6.69(IH,dd、J=2
Hz、8Hz)、 6.79(IH,d、J=8Hz)
、 7.13〜7.24(5)l、m)(4)トランス
−3−ベンジル−4−(3,4−ジメ0 トキシフェニル)ピロリジン トランス−3−ベンジル−4−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)−2−ピロリドン0.81g(2,60mmo
l)のTHF溶液10艷に1Mボラン・THF錯体10
m12を加え6時間加熱還流する。冷却後、室温で6N
塩酸10rdを注意深く滴下し、60℃で30分間攪拌
する。減圧下THFを留去した後、10%水酸化ナトリ
ウム水溶液で塩基性にし、塩化メチレンで2回抽出する
。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧下
溶媒を留去すると、粗生成物が得られた。
これを−旦シリカゲルに吸着させ不純物を溶出(塩化メ
チレン:メタノール−95:5)した後、再びメタノー
ルで溶出すると、目的物がOJ7g(収率48%)得ら
れた。
酸塩 トランス−3−ベンジル−4−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)ピロリジン0.37 g (1,24mmol
)を塩化メチレンに溶解し、1M三臭化ホウ素の塩化メ
チレン溶液を10rd加える。室温で3時間攪拌した後
、反応液を減圧下濃縮する。さらに塩化メチレンを加え
メタノールを1滴ずつ滴下しく3mI!、)、再び減圧
下濃縮する。この操作を数回繰り返し、析出する結晶を
濾取すると、目的物の臭化水素酸塩が70mg (収率
16%)得られた。
・融点(’C)  ;182〜184(分解)・元素分
析値; Cl7819NO2・HBrとしてHN 理論値(%)58.30 5.76 4.00実測値(
%’>  58.56 5.86 3.79・NMR(
D20)δ: 2.76〜2.83(2H,m>、 2.85〜2.9
3(IH,m)。
3.17〜3.28(IH,m)、 3.37(lft
、t、J=12Hz)。
3.66(LH,dd、J=7Hz、12)1z)、 
3.82(IH,dd。
J=8)1z、 12Hz)、 6.90(ltl、 
dd、 J=2Hz、 8Hz)。
6、93 (LH,d、 J・2Hz) 、 6.99
 (IH,d、 J=8Hz) 。
7.27(2B、d、J=8Hz)、 7.32〜7.
42(3H,m)2 実 施 例 フェニル) ピロリジン・臭化水素酸塩 ■ エリスロー2−ベンジル−3−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)−4−二トロ醋酸エチル6、01 g (15
,51mmol)、亜鉛末4.06 g (62,1m
mol)、エタノール28−1濃塩酸9.3mlを用い
てスレオ体と同様に処理し、目的化合物を得た。
・融点(t);74〜80 エリスロー4−アミノ−2−ベンジル−3(3,4−ジ
メトキシフェニル)醋酸エチルの3− 粗生成物を用いてスレオ体と同様にして合成したが、反
応時間は12時間とした。収率3.18g(66%、2
段階) ・融点(t:)  ;137〜139 ONMR(CDCl2)δ; 2、30(IH,dd、 J=11Hz、 14Hz)
、 3.1HIH,dddJ=4Hz、 8Hz、 1
1Hz>、 3.17 (IH,dd、 J=4)1z
、 14Hz>、 3.42(IH,d、J=1(Ez
)、 3.5HLH,dd。
J=7Hz、8flz)、 3.73(3H,s)、 
3.76(LH,dd。
J=7Hz、10Hz)、 3.88(311,s)、
 6.45(ltl、d。
J=2Hz)、 6.70(Ift、dd、J=2Hz
、8t(z)、 6.79(IH,d、J=8tlz)
、 6.901)1.d、J=9flz)、 7.12
〜7.22 (3H,m) シス−3−ベンジル−4−(3,4−ジメトキシフェニ
ル)−2−ピロリドン0.84 g (2,70mmo
l)を用いてトランス体の合成と同様にして目的物0.
45g(収率56%)を得た。
(4)  シス−3−ベンジル−4−<3.4−ジヒド
ロ4 キシフェニル)ピロリジン・臭化水素酸塩シス−3−ベ
ンジル−4−(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリジ
ン0.45 g (1,51mmol)を用いてトラン
ス体の合成と同様の操作を行い、目的物の臭化水素酸塩
0.10g(収率22%)を得た。
C,−HとC,−Hとの間でNOE (7,45%)が
観測された。
・融点(tl:)  ;209〜210(分解)・元素
分析値; C+tL9NO2HllBr 1820とし
てHN 理論値(%)  55.45 5.02 3.80実測
値(%)  55.65 5.65 3.76・NMR
(020)δ; 2.32(18,dd、J=11Hz、14Hz)、 
2.77(LH,dd。
J=6Hz、14Hz)、 3.00〜3.07(lt
l、m)、 3.31(IH,dd、 J=7)1z、
 12tlz)、 3.49(LH,dd、 J=7H
z12Hz)、 3.70〜3.82(2H,m)、 
3.88(LH,dd。
J=7Hz、11)1z)、 6.8H1)1.dd、
J=2Hz、8Hz)。
6.85(ltl、d、J=211z)、 7.03(
LH,d、J=8Hz)。
A へ 7、19 (2H,d、 J=7flz)m−クロロ−
〇−メトキシトルエン20.36g (0,13mol
)、N−プロモシクシンイミド23.2g(0,13m
ol) 、ベンゾイルパーオキシド0.6g (2,4
7mmo+)、テトラクロロメタン200−の混合物を
パイレックスフィルターを用い高圧水銀灯(400W)
で5時間光照射(≧300nm)する。
不溶物を濾去し、濾液を減圧下濃縮後、残漬を塩化メチ
レンに溶解させ水洗する。塩化メチレン層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、6 溶媒を減圧下留去して、油状の目的物を29.2g得た
水素化ナトリウム4.75 g (0,118mol)
のTHE懸濁液100−を氷−ドライアイス−メタノー
ルで冷却、攪拌しながらマロン酸ジエチル20、64 
g (0,]、28mo+)のTHF溶液50蛇を少量
ずつ滴下した。次いで(1)で得られたハロゲン化物2
9.2 g (0,124mol)のTHF溶液50m
1!を加え、室温で3時間攪拌した。溶媒を減圧下留去
し、残渣を塩化メチレンで希釈して、水、塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾灯した。溶媒を減圧下留去
し、残渣を減圧蒸留に付し、沸点144〜155℃の目
的物を18.8 g得た。
(3)3−(3−クロロ−2−メトキシフェニル)プロ
ピオン酸 (2)で得られたマロン酸誘導体18.8 g (59
,7mmol) 、81J塩酸142mgの混合物を一
夜加熱還流7 流する。反応液を冷却し、析出する結晶を濾取し、水洗
、乾燥後、目的物を11.14g得た。
(4)  3−クロロ−2−メトキシフェニルプロピオ
ン酸エチル (3)で得られたプロピオン酸誘導体11.14g(5
1,9mmo l)、濃硫酸0.96蛇、エタノール4
0艷の混合物を2,5時間加熱還流する。溶媒を減圧下
留去し、残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン:酢酸エチル5:1.■/v)に付し、油
状物として目的物を7、37 g得た。
ジイソプロピルアミン2.5−(17,8mmol)の
THF溶液20rdをドライアイス−アセトンで冷却下
攪拌しながら1.6Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液11.1mf!(17,8mmol)を少量ずつ滴下
する。15分後(4)で得られたエステル4、13g(
17mmol)のTHF溶液30−を−50℃以48− 下で少量ずつ滴下する。同温度で10分間攪拌後、ニト
ロオレフィン3.55 g (17mmol)のTHE
溶液1(1(ldを少量ずつ滴下する。30分子IIJ
攪拌後、反応液に水を加え、2N塩酸で酸性として塩化
メチレンで抽出する。塩化メチレン層を塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し
、残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘ
キサン:酢酸エチル−3: 1. v/v)に付し、油
状物として目的物を3.8g得た。
(5)で得られたニトロエステル3.73g (8,2
5mmol) 、濃塩酸5.2−、エタノール35艷の
混合物を氷水冷却下に攪拌しながら亜鉛2.73 g(
41,7mmol)を少量ずつ加え、次いで3時間加熱
還流する。過剰の亜鉛を濾去し、濾液を減圧下に濃縮す
る。残渣に塩化メチレンを加え、10%水酸化す) I
Jウムで塩基性とする。析出Q する不溶物をセライトを通して濾去する。塩化メチレン
層を分取し、水、塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を減圧下留去し、油状物として目的物
を3g得た。
ピロリドン ω〕で得られたアミノエステル3 g (7,1mmo
l )のキシレン溶液30m1を4時間加熱還流する。
溶媒を減圧下留去し、残渣を中圧シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(クロロホルム:メタノール−99: 
1. v/v)に付し、油状物として目的物を1.87
 g得た。
(7)で得られたラクタム1.85g (4,92mm
ol)、t −BuOK  2.76 g (24,6
mmo+)、エタノール3〇−、キシレン30−の混合
物を一夜加熱還流する。溶媒を減圧下留去し、残渣に塩
化メチレ0 ンを加え、2N塩酸で酸性とする。塩化メチレン層を分
取し、水、塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を減圧下留去し、残渣を中圧シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール−9
9:1、ν/V)に付し、油状物として目的物を1.0
6g得た。
ジン IMBH,−THF錯体のTHF溶液10誦(10mm
ol)を窒素気流中氷水冷却下に攪拌しながら(8)で
得られたトランス・ピロリドン1.06g(2,82m
m0+)のTHF溶液30誦を加え、次いて一夜加熱還
流する。反応液を氷水冷却子攪拌しながら6N塩酸を注
意深く発泡が収まるまで加え、次いで2時間加熱還流す
る。溶媒を減圧下留去し、残渣に塩化メチレンを加え、
10%水酸化ナトリウムで塩基性とする。塩化メチレン
層を分取し、塩水で洗浄後、無水硫酸51〜 マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し、残渣を
中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す。初め
クロロホルム:メタノール−97: 3. v/vで溶
出し、次いでメタノールで溶出する。メタノール溶出分
画より油状物として目的物を510mg得た。
塩 (9)で得られたピロリジン510mg(1,41mm
ol)の塩化メチレン溶液30m1を窒素気流中水水冷
却下攪拌しながら1M三臭化ホウ素の塩化メチレン溶液
6.5 mf!(6,5mmol)を少量ずつ加える。
次いで室温で4.5時間攪拌する。溶媒を減圧下留去し
、残渣を氷水冷却子攪拌しながらメタノールを少量ずつ
加える。メタノールを減圧下留去し、残渣にエタノール
ーヘキザンを加え、室温に放置する。析出した結晶をア
セトニトリル−ベンゼンから再結晶して、標題2 の目的物質を250mg得た。
・融点(t)  ;207〜209 ・元素分析値;自J+5NO3C1・110「H 50,754,79 51,024,70 理論値(%) 実測値(%) ・NMR(020)δ; 2、77〜2.83 (IH,m) 。
3、13〜3.3H3H,m)。
6.72〜6.76(2H,m)。
7、09 (IH,d、 J=8Hz) 。
8i1z) として 3.49 3.32 2.94〜3.03 (21(、m) 。
3.74〜3.82(2H,m)。
6、83〜6.87 (2H,m) 。
7、23 (III、 dd、 J=2tlz。
キシフェニル) ピD IJジン・臭化水素酸塩 2.4−ジフルオロフェノール51.72 g (0,
40mol)を46m1のエタノールに溶かし、50%
ジメチルアミン水溶液91d及び37%ホルマリン4〇
−を加え、3時間加熱還流する。冷却後、酢酸エチルで
抽出し、抽出液は水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥する。
減圧下溶媒を留去すると、標題の目的物が76g(定量
的)得られた。
・融点(t);63〜64 (EtOH)・NMR(9
0Mtlz、 CDCl 3)  δ;2.27(6H
,s)、 3.55(2H,s)、 6.23〜6.7
8(2H,m)、 10.79(lft、s)シト 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシ−N、Nジメチル
ベンジルアミン74 g (0,40mol)を300
mEのクロロホル12に溶解し、ヨー化メチル200−
を加える。3時間加熱還流すると、黄色沈殿が析出し、
これを濾取すると、目的物114g (収率87%)が
得られた。
・融点(t)  :170〜173 (3)  3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシベンズ
アルデヒド 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシ−N、 N、 N
トリメチルアンモニウム ヨーシト114g(0,35
mol)を714−の50%酢酸に溶解し、ヘキサメチ
レンテトラミン214g (1,53mol)を1部ず
つ加える。添加後、反応液を3時間加熱還流し、3N塩
酸を加え5分間加温する。エーテルで抽出し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去すると、粗
生成物が得られる。一部分は十分乾燥したが、大部分は
そのまま次段階の反応に用いた。
・融点(t);89〜90 ・NMR(90MHz、 CDCl5)  δ;7.0
7(LH,s)、 7.15(IH,s)、 9.87
(LH,d、Jl、811z)、 10.70(Ill
、 bs)5 3.5−ジフルオロ−2−メトキシベンズアルデヒド 3.5−ジフルオロ−2−ヒドロキシベンズアルデヒド
の粗生成物(0,35mol相当)を800m1のアセ
トニトリルに溶かし、炭酸カリウム110g (0,3
mol)及びヨウ化メチル61m!!(0,96mol
)を加え、5時間加熱還流する。冷却後、不溶物を濾別
し、母液を濃縮する。濃縮物に1.31のエーテルを加
え、これを水500mf!で2回洗浄する。さらに飽和
食塩水で洗浄し、エーテル層を無水硫酸マグネシウム上
で乾燥する。
減圧下溶媒を留去すると、目的物39.6g(収率66
%)が得られた(2段階)。
・融点(t);37〜39 ・NMR(90MHz、 CDCl5)  δ;4、1
)2(3)1. d、 J=2)1z>、 6.78〜
7.29(3)1. m>。
10、23 (IN、 4Hz> (5)  3.5−’;フルオロー2−メトキシベンジ
ル(4) アルコ −ル 3.5−ジフルオロ−2−メトキシベンズア6一 ルデヒド39.6g (0,23mo+)を80mf!
のエタノールに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム4.3
5g(0,115mol>のエタノール溶液35m1を
5分間かけて0℃で滴下する。室温で1時間攪拌した後
、水115mfを加えて反応を停止し、エーテル115
−で4回抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥する。
減圧下エーテルを留去し、粗生成物を蒸留すると、目的
物21.2g (収率53%)が得られた(沸点108
〜110℃/2mm1g)。
・NMR(90MH2,CDCl5)  δ;2.60
(Iff、br)、 3.88(3t(、d、J=2t
(z)、 3.63(2H,s)、 6.57〜6.9
2(211,m)(6)塩化3.5−ジフルオロ−2−
メトキシベンジル 3、S−ジフルオロ−5−メトキシベンジルアルコール
10g (57,4mmol)を100艷の塩化メチレ
ンに溶解し、塩化チオニル25mI!、(287mmo
l)とジメチルホルムアミド7滴を添加し、1時間加熱
還流する。反応液を冷却後減圧下濃縮(7 し、ベンゼンで2回共沸する。残渣をエーテルに溶解し
、2回水洗した後、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧下溶媒を留去し、油状物を蒸溜す
ると、目的物9.72g (収率88%)が得られたく
97〜b/24−25mmHg)。
・旧NMR(90MIIz、 CDCl5)  δ;3
.95(3H,d、J=2Hz>、 4.58(2H,
s>、 6.60〜6、90 (2)1. m) ・m/z ; 192 (7)  2−(3,4−ジメトキシベンジリデン)マ
ロン酸ジエチル ベラトルアルデヒド200g (1,2mol)、マロ
ン酸ジエチル220m1!(1,4mol)をベンゼン
400m1中ピロリジン12−、ベラトル酸6.6gの
存在下6時間加熱還流する。反応液を冷却後、酢酸エチ
ル700蛇を加え水洗する。有機層をさらに希塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した後、無
水硫酸マグネシウム上で乾燥する。減圧下溶媒を留去し
、残渣を8 蒸留すると、目的物360.0g (収率97%)が得
られた(沸点193℃〜200℃10.5〜2.On+
ml1g)。
ジエステル180.0g(0,58mol)の1−り/
 −ル溶液1.44 Aに青酸カリウム40.4g(0
,61mol)の水72mff溶液を加え、70℃で1
0時間攪拌する。
冷却後、反応液を濃縮し、水0.51及び酢酸エチル1
.5 fを加え、有機層を分離する。有機層を水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥する。
溶媒を減圧下留去すると、目的物201 g (0,7
6mol) (収率66%)が得られた。
(9)  4−(3,4−ジメトキシフェニル)−2−
ピロリドン シアノエステル100.5 gをエタノールll中うネ
ーコバルト約50mffの存在下50kg/cm2の水
素雰囲気下1ΩO℃で一昼夜水素添加する。
触媒を除去した後、減圧下溶媒を留去し、残渣をエタノ
ールから再結晶すると、目的物9− 53.5g(収率64%)が得られた。
トン ピペリドン30 g (0,13614>にベンゼン4
00m(!中トリトンB(40%メタノール溶液’io
me) を作用させる。減圧下ベンゼンを留去し、残渣
にベンゼン400誦を再び加える。この操作を3回繰り
返し、塩化 3.4−ジメトキシベンジル25.31 
gを室温で加える。60℃で6時間攪拌し、反応液に水
を加える。有機層を分離し、水で2回、飽和食塩水で1
回洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧下溶媒を留去する。残渣をエタノールから再結晶す
ると、目的物41.54g (収率82%)が得られた
・融点(t)  ;117〜118 ・NMR(90MHz、 CDC1,)  δ;2.4
0〜2.80(21,m)、 2.80〜3.60(3
H,m)。
3.74〜3.82(12)1.m)、 4.40(2
14,s)  6.5460 〜6.76 (6)1. m> ピロリドン 窒素雰囲気下ジイソプロピルアミン2、lrd(15m
mol)を30−のTHFに溶かし、−78℃で1.6
M n−ブチルリチウム9.4mf(15mmol)を
滴下し、10分間同温度で放置する。この溶液にN −
(3,4−ジメトキシベンジル)−4−(3゜4−ジメ
トキシフェニル)−2−ピロリドン3、71g (10
mmo1)のT)IP溶液100−を−78℃で滴下す
る。30分間攪拌した後、水10−を加え反応を停止す
る。反応液を濃縮し、残渣に塩化メチレンを加え、水、
食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥
する。
減圧下溶媒を留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル:n−ヘキサン
−3:1)に付すと、目的物4.65g(収率88%)
が得られた。
 1− ・融点(℃ン ;94〜96 ジン 窒素雰囲気下0℃で3−(3,5−ジフルオロ2−メト
キシベンジル)−N−(3,4−ジメトキシベンジル)
−4−(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリドン17
.78g (33,7mmol)のTHF溶液200−
をボラン・THF錯体IMTHF溶液150m1に滴下
する。2時間加熱還流し、冷却後、6N塩酸50−を加
え、60℃に加温する。
2時間攪拌後、減圧下THFを濃縮し、塩化メチレンで
2回抽出する。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した後、減圧下溶媒を留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n
ヘキサン−4:1)に付すと、目的物12.46g(収
率72%)が得られた。
α■ 3− (3,5−ジフルオロ−2−メトキシベン
2 ジル)−1f−(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリ
ジン 3− (3,5−ジフルオロ−2−メトキシベンジル)
−N−(3,4−ジメトキシベンジル)4−(3,4−
ジメトキシフェニル)ピロリジン2.5g(5、Qmm
ol) をエタノールに溶かし、0.4gの10%パラ
ジウム・炭素上、水素雰囲下10時間加熱還流する。粗
生成物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(はじめ
メタノール:塩化メチレン−5:95、次いでメタノー
ルで溶出)に付すと、目的物1.07g(収率63%)
が得られた。
水素酸塩 3− (3,5−ジフルオロ−2−メト二1′シ)4−
(3,4−ジメトキシフェニル)ピロリジン1、06 
gに濃臭化水素酸を加え、油浴100℃で12時間攪拌
する。減圧下溶媒を留去し、ベン3 ゼンを加えて2回共沸する。残渣にアセトニトリルを加
え結晶化し濾取すると、目的物0.76g (収率63
%)が得られた。
・融点(t)  ;217〜219 ・NMR(020)δ; 2、79 (IH,ddd、 J=5Hz、 1叶z、
10Hz)、 2.95〜3.02(2H,m)、 3
.16〜3.23(LH,m)、 3.29(2H,d
d、J=12Hz、23Hz)、 3.77〜3.83
 (2H。
m)、 6.71〜6.89(58,m)・元素分析値
: C+ 7817P2N03’ HBrとしてHN 理論値(%’)  50.76 4,51 3.48実
測値(%)  50.57 4.45 3.36− m
/z (El)  :321 4 4−ジメトキシフェニルンビロリジン 実施例4の側で得られるトランス−3−(3゜5−ジフ
ルオロ−2−メトキシベンジル)4−(3,4−ジメト
キシフェニル)ピロリジン2、17 g (6,17m
mol)をクロロホルム30−に溶解し、トリエチルア
ミン0.75g (7,4mmol)を加える。氷冷下
塩化アセチル0.5−(7、Qmmol)のクロロホル
ム溶液10−を滴下し、室温で3時間撹拌する。水1m
f!を加え、反応を停止した後、水、2N塩酸、飽和炭
酸水素ナトリウムで洗浄し、無水硫酸す)IJウム上で
乾燥する。
減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(塩化メチレン:メタノール−97:3)に
付すと、目的物2.5g(定量的)が得られた。
(2)上記アセチルピロリジン誘導体2.5gを光学異
性体分離用カラム(Chiralcel flD、  
ダイセル化学工業製)に付し、n−へキ勺ンーイソブ口
ピルアルコールージエチルアミン(5:2:0.005
)の混合溶媒を溶出液として分離5 精製し、 (十)体1.06g(図ε8+20.2゜(
C=1.05.MeOH) )及び(−)体1.09g
 ([α〕P20.1°(C4,05,MeOH) )
を得た。
(3)上記(−)体1.09 gを47%臭化水素酸中
20時間加熱還流する。減圧下臭化水素酸を留去し、ベ
ンゼンを加え、さらに2回共沸させる。
残渣をエタノールに溶解し、活性炭で処理し、濾別後、
減圧下溶媒を留去すると、1.05 gの(=)−トラ
ンス−3−(35−ジフルオロ2−ヒドロキシベンジル
)−4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ピロリジン
・臭化水素酸塩が得られた。
・[(rlE6−18.5°(C=1.05. MeO
H)実施例5の(2)で得られた(+)体を上記の(3
)と同様に処理し、 (+) −)ランス−3−(3,
5ジフルオロ−2−ヒドロキシベンジル14(3,4−
ジヒドロキシフェニル)ピロリジン・臭化水素酸塩を得
た。
・(α〕P + 16.6°(C=1.01. Mer
it)6 実 施 例 6〜30 上記の方法に準じて、 下記の表2に示ずピロ リジン誘導体を得た。
7 特開平3 118361 (27)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
    基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
    1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
    化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
    数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
    は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
    は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
    基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
    リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩。 2 置換若しくは無置換のフェニル基が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2、R^3は同一又は相異なる水
    素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
    原子、水酸基、トリフルオロメチル基、又は式▲数式、
    化学式、表等があります▼(式中R^4、R^5は同一
    又は相異なる水素原子又は低級アルキル基を意味する)
    で示される基を意味する〕 で示される基である請求項1記載のピロリジン誘導体及
    びその薬理学的に許容できる塩。3 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
    基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
    1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
    化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
    数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
    は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
    は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
    基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
    リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩を有効成
    分とするドーパミン1アゴニスト作用が有効な疾患の治
    療・予防剤。 4 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
    基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
    1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
    化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
    数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
    は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
    は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
    基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
    リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩を有効成
    分とするドーパミン1アゴニスト。 5 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
    基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
    1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
    化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
    数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
    は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
    は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
    基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
    リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩を有効成
    分とする高血圧症治療・予防剤。 6 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル
    基を意味する。Yは式−(CH_2)_n−(式中nは
    1又は2の整数を意味する)で示される基、式▲数式、
    化学式、表等があります▼(式中pは0又は1〜2の整
    数を意味する)で示される基、式−O−で示される基又
    は式−NH−で示される基を意味する。Rは置換若しく
    は無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル
    基又はヘテロアリール基を意味する。〕で表されるピロ
    リジン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩を有効成
    分とする心不全治療・予防剤。
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