JPH0311670A - 受光素子の電極設計方法およびその受光素子 - Google Patents
受光素子の電極設計方法およびその受光素子Info
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- JPH0311670A JPH0311670A JP1145751A JP14575189A JPH0311670A JP H0311670 A JPH0311670 A JP H0311670A JP 1145751 A JP1145751 A JP 1145751A JP 14575189 A JP14575189 A JP 14575189A JP H0311670 A JPH0311670 A JP H0311670A
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000969 carrier Substances 0.000 abstract description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、櫛形電極構造を有する、平面形、かつ対称形
の整流性接合をもつ受光素子、特に、その電極設計方法
に関するものである。
の整流性接合をもつ受光素子、特に、その電極設計方法
に関するものである。
従来のこの種の受光素子の電極構造は、実験等によって
試行錯誤的に設計されていた。
試行錯誤的に設計されていた。
そのため、電極構造は必ずしも正しい設計ではなく、こ
の電極構造を有する受光素子の性能は、充分に引き出さ
れていなかった。
の電極構造を有する受光素子の性能は、充分に引き出さ
れていなかった。
本発明の課題は、このような問題点を解消することにあ
る。
る。
本発明の受光素子の電極設計方法は、基板に用いられる
半導体の等価的な厚みの項を含んだ誘電率をε、電極に
用いられる金属膜の等価的な厚みの項を含んだ抵抗率を
ρ、半導体内のキャリアの飽和走行速度をV、櫛形電極
の長さをΩとしたときに、櫛形電極の幅w1およびギャ
ップの幅dが実質的に dw=ερv!2 の関係を満足するように電極の寸法を設計するものであ
り、さらに、櫛形電極の幅W、およびギャップの幅dが
実質的にそれぞれ w = −(2ερv、2)1/3 d−(2ερvrI2)1/3 となるように電極を設計するものである。
半導体の等価的な厚みの項を含んだ誘電率をε、電極に
用いられる金属膜の等価的な厚みの項を含んだ抵抗率を
ρ、半導体内のキャリアの飽和走行速度をV、櫛形電極
の長さをΩとしたときに、櫛形電極の幅w1およびギャ
ップの幅dが実質的に dw=ερv!2 の関係を満足するように電極の寸法を設計するものであ
り、さらに、櫛形電極の幅W、およびギャップの幅dが
実質的にそれぞれ w = −(2ερv、2)1/3 d−(2ερvrI2)1/3 となるように電極を設計するものである。
左右対称な櫛形電極構造を有する、プレーナ形の整流性
接合をもつ受光素子における理論上の最適寸法が与えら
れるので、ある定められた大きさの上記の受光素子によ
る、高速の光パルスの受光において、最大の感度効率を
保ちつつ、最高の応答速度が得られることが可能になる
。
接合をもつ受光素子における理論上の最適寸法が与えら
れるので、ある定められた大きさの上記の受光素子によ
る、高速の光パルスの受光において、最大の感度効率を
保ちつつ、最高の応答速度が得られることが可能になる
。
第1図は本発明の一実施例を示す平面図である。
同図において、荀号]はSiあるいはGaAs等の半導
体基板、符号2は金属膜による電極、符号3は絶縁膜を
示している。同図に示すように、櫛形電極の長さρが与
えられ、この中で櫛形電極の幅W、およびギャップの幅
dを変化させて、最高の特性か得られるj;うに電極構
造を設計することを考える。櫛形のピッチ単位aは a = w + d =
(1)て与えられる。ここで
、hは受光部全体の幅、nは櫛形構造の分割数で正の整
数である。
体基板、符号2は金属膜による電極、符号3は絶縁膜を
示している。同図に示すように、櫛形電極の長さρが与
えられ、この中で櫛形電極の幅W、およびギャップの幅
dを変化させて、最高の特性か得られるj;うに電極構
造を設計することを考える。櫛形のピッチ単位aは a = w + d =
(1)て与えられる。ここで
、hは受光部全体の幅、nは櫛形構造の分割数で正の整
数である。
まず、キャリアが半導体内を走行する時間ttrは、
ttr=
(2)で表される。ここで、■は半導体内
を走行するキャリアの速度である。一方、電極間容量C
1および電極の直列抵抗Rは、それぞれ次のように表さ
れる。
(2)で表される。ここで、■は半導体内
を走行するキャリアの速度である。一方、電極間容量C
1および電極の直列抵抗Rは、それぞれ次のように表さ
れる。
n
ここて、εおよびρは、それぞれ等価的な厚みの項を含
んだ半導体基板の誘電率、および電極に用いられる金属
膜の抵抗率である。よってCR時定一般に、走行時間と
CR時定数か等しくなる点を最良妥協点として選ぶこと
にすると、ttr−tel?により d2w=εpvD 2 (6)か
11iられる。よって、(6)を満足するようなW。
んだ半導体基板の誘電率、および電極に用いられる金属
膜の抵抗率である。よってCR時定一般に、走行時間と
CR時定数か等しくなる点を最良妥協点として選ぶこと
にすると、ttr−tel?により d2w=εpvD 2 (6)か
11iられる。よって、(6)を満足するようなW。
dの組合せを選ぶことにより、J5えられたgにおける
最高応答速度を有する受光素子が得られることになる。
最高応答速度を有する受光素子が得られることになる。
ここで、櫛形電極構造では、受光部の一部は電極の金属
膜で覆われているので、これらwdの組合せの中で最大
感度効率か得られる点を選ぶことが好ましい。この開口
率rは、 r =
(7)で表される。(1)より、(7
)は となり、最大の開口率rを得るために分割数nを大きく
すればよいことかわかる。
膜で覆われているので、これらwdの組合せの中で最大
感度効率か得られる点を選ぶことが好ましい。この開口
率rは、 r =
(7)で表される。(1)より、(7
)は となり、最大の開口率rを得るために分割数nを大きく
すればよいことかわかる。
ここで、(6)に(1)よりa = w 十dを代入す
ると、 2h d(−d)=ερVΩ2 (9)が得られる。こ
れをnについて解くと、となり、これの分母を最小にす
るような、ギャップ幅dの値を求めればよいことがわか
る。すなわち、 d−(2ερVρ2)1/3 (11,)と
なる。さらに(1)、(10)、(11)より電極幅W
を求めると、 w= (2ερVρ2)”” (12)と
なる。よって、櫛形構造を(11)、(12)で求めら
れる櫛形電極の幅、およびギャップの幅で構成した場合
に、最大感度効率で最高応答速度を有する受光素子が得
られることになる。
ると、 2h d(−d)=ερVΩ2 (9)が得られる。こ
れをnについて解くと、となり、これの分母を最小にす
るような、ギャップ幅dの値を求めればよいことがわか
る。すなわち、 d−(2ερVρ2)1/3 (11,)と
なる。さらに(1)、(10)、(11)より電極幅W
を求めると、 w= (2ερVρ2)”” (12)と
なる。よって、櫛形構造を(11)、(12)で求めら
れる櫛形電極の幅、およびギャップの幅で構成した場合
に、最大感度効率で最高応答速度を有する受光素子が得
られることになる。
またこのときの開口率rは
となる。
ここで対象となっている受光素子はプレーナ構造である
ため、集積化に適しており、また通常の縦形のホトダイ
オードに比べて、単位面積当りの容量が小さいため、超
測速応答特性を有していることを特長としている。この
ためには前述のような最適段3−1を行う必要かあり、
これによってこの受光素子のもつ特性を最大限に引き出
すことができる。
ため、集積化に適しており、また通常の縦形のホトダイ
オードに比べて、単位面積当りの容量が小さいため、超
測速応答特性を有していることを特長としている。この
ためには前述のような最適段3−1を行う必要かあり、
これによってこの受光素子のもつ特性を最大限に引き出
すことができる。
以上説明したように、本発明の受光素子の電極膜51方
法によれば、櫛形電極構造の平面的、かつ対称的な整流
性接合を有する受光素子の、最高の特性を引き出すため
の設計が容易になる。したがって、本発明の受光素子に
よれば、高速の光パルスのml+定を、より効率的に行
うことができる。
法によれば、櫛形電極構造の平面的、かつ対称的な整流
性接合を有する受光素子の、最高の特性を引き出すため
の設計が容易になる。したがって、本発明の受光素子に
よれば、高速の光パルスのml+定を、より効率的に行
うことができる。
第1図は本発明の一実施例である受光素子を示す平面図
である。 1・・・半導体基板、2・・・電極、3・・・絶縁膜。
である。 1・・・半導体基板、2・・・電極、3・・・絶縁膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、櫛形電極構造を有する、平面形、かつ対称形の整流
性接合をもつ受光素子の電極設計方法において、 基板に用いられる半導体の等価的な厚みの項を含んだ誘
電率をε、電極に用いられる金属膜の等価的な厚みの項
を含んだ抵抗率をρ、半導体内のキャリアの飽和走行速
度をv、櫛形電極の長さをlとしたときに、櫛形電極の
幅w、およびギャップの幅dが実質的に d^2w=ερvl^2 の関係を満足するように電極の寸法を設計することを特
徴とする受光素子の電極設計方法。 2、請求項1において、特に櫛形電極の幅w、およびギ
ャップの幅dが実質的にそれぞれ w=1/2(2ερvl^2)^1^/^3d=(2ε
ρvl^2)^1^/^3 となるように電極を設計することを特徴とする受光素子
の電極設計方法。 3、請求項1または2の受光素子の電極設計方法を用い
て設計された電極を有する受光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1145751A JPH0758801B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 受光素子の電極設計方法およびその受光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1145751A JPH0758801B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 受光素子の電極設計方法およびその受光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0311670A true JPH0311670A (ja) | 1991-01-18 |
JPH0758801B2 JPH0758801B2 (ja) | 1995-06-21 |
Family
ID=15392314
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1145751A Expired - Lifetime JPH0758801B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 受光素子の電極設計方法およびその受光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0758801B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5495100A (en) * | 1993-07-27 | 1996-02-27 | Hamamatsu Photonics, K.K. | Phase difference detecting method, circuit and apparatus |
US5614708A (en) * | 1995-01-26 | 1997-03-25 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical feedback photodetection apparatus |
CN100447975C (zh) * | 2003-03-04 | 2008-12-31 | 东京毅力科创株式会社 | 衬底处理系统以及半导体器件的制造方法 |
CN111033760A (zh) * | 2017-08-09 | 2020-04-17 | 株式会社钟化 | 光电转换元件和光电转换装置 |
-
1989
- 1989-06-08 JP JP1145751A patent/JPH0758801B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5495100A (en) * | 1993-07-27 | 1996-02-27 | Hamamatsu Photonics, K.K. | Phase difference detecting method, circuit and apparatus |
US5614708A (en) * | 1995-01-26 | 1997-03-25 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical feedback photodetection apparatus |
CN100447975C (zh) * | 2003-03-04 | 2008-12-31 | 东京毅力科创株式会社 | 衬底处理系统以及半导体器件的制造方法 |
CN111033760A (zh) * | 2017-08-09 | 2020-04-17 | 株式会社钟化 | 光电转换元件和光电转换装置 |
CN111033760B (zh) * | 2017-08-09 | 2023-01-03 | 株式会社钟化 | 光电转换元件和光电转换装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0758801B2 (ja) | 1995-06-21 |
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Legal Events
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