JPH0311471B2 - - Google Patents
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- JPH0311471B2 JPH0311471B2 JP58128023A JP12802383A JPH0311471B2 JP H0311471 B2 JPH0311471 B2 JP H0311471B2 JP 58128023 A JP58128023 A JP 58128023A JP 12802383 A JP12802383 A JP 12802383A JP H0311471 B2 JPH0311471 B2 JP H0311471B2
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/22—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
- G03G15/32—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the charge pattern is formed dotwise, e.g. by a thermal head
- G03G15/326—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the charge pattern is formed dotwise, e.g. by a thermal head by application of light, e.g. using a LED array
-
- G—PHYSICS
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- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G15/04036—Details of illuminating systems, e.g. lamps, reflectors
- G03G15/04045—Details of illuminating systems, e.g. lamps, reflectors for exposing image information provided otherwise than by directly projecting the original image onto the photoconductive recording material, e.g. digital copiers
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-
- G—PHYSICS
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、光ビームプリンターに係り、特に、
レーザービームなどにより光導電性感光体表面を
走査露光して静電潜像を形成し、この静電潜像を
微粉トナーで現像する光ビームプリンターに関す
るものである。
レーザービームなどにより光導電性感光体表面を
走査露光して静電潜像を形成し、この静電潜像を
微粉トナーで現像する光ビームプリンターに関す
るものである。
光ビームプリンターの一つであるレーザービー
ムプリンターは、一様に帯電された光導電性感光
ドラムの表面をレーザービームで走査露光するた
めに、支軸を中心に回転あるいは揺動する偏向ミ
ラー、Fθレンズ、偏向ミラー面倒れ補正光学系
などを備えている。
ムプリンターは、一様に帯電された光導電性感光
ドラムの表面をレーザービームで走査露光するた
めに、支軸を中心に回転あるいは揺動する偏向ミ
ラー、Fθレンズ、偏向ミラー面倒れ補正光学系
などを備えている。
その偏向ミラー面倒れ補正光学系は、偏向ミラ
ーによる偏向走査精度の悪さによる記録画像の解
像度低下を補うもので、偏向ミラーで反射したレ
ーザービームをFθレンズを介して光導電性感光
体ドラム表面を走査露光する露光系では、Fθレ
ンズと光導電性感光ドラムとの間に配置される。
ーによる偏向走査精度の悪さによる記録画像の解
像度低下を補うもので、偏向ミラーで反射したレ
ーザービームをFθレンズを介して光導電性感光
体ドラム表面を走査露光する露光系では、Fθレ
ンズと光導電性感光ドラムとの間に配置される。
この面倒れ補正光学系としては、シリンドリカ
ルレンズを用いる場合が多く、短焦点距離のシリ
ンドリカルレンズほど補正効果が大きいことか
ら、このシリンドリカルレンズは、短焦点距離の
ものを光導電性感光ドラムの表面に接近して配設
するようにしている。
ルレンズを用いる場合が多く、短焦点距離のシリ
ンドリカルレンズほど補正効果が大きいことか
ら、このシリンドリカルレンズは、短焦点距離の
ものを光導電性感光ドラムの表面に接近して配設
するようにしている。
一方、静電記録機構の一構成要素である光導電
性感光ドラム表面には、前記露光系の走査露光に
よつて静電潜像が形成され、この静電潜像は微粉
トナーによつて現像される。
性感光ドラム表面には、前記露光系の走査露光に
よつて静電潜像が形成され、この静電潜像は微粉
トナーによつて現像される。
一般に、静電潜像の乾式現像剤としては、1成
分現像剤や2成分現像剤があり、現像法として
は、カスケード法や磁気ブラシ法がある。
分現像剤や2成分現像剤があり、現像法として
は、カスケード法や磁気ブラシ法がある。
しかして、何れの現像法を用いても、現像剤の
成分である微粉トナーの気中への飛散を避けるこ
とはできず、したがつて光導電性感光ドラム表面
に接近して配設したシリンドリカルレンズに、微
粉トナーが付着してこれを汚損し、レーザービー
ム透過効率を低下させる問題があつた。
成分である微粉トナーの気中への飛散を避けるこ
とはできず、したがつて光導電性感光ドラム表面
に接近して配設したシリンドリカルレンズに、微
粉トナーが付着してこれを汚損し、レーザービー
ム透過効率を低下させる問題があつた。
特に、半導体レーザービーム発生器(レーザー
ダイオード)を使用した場合には、大きなレーザ
ービーム出力が得られないことから、シリンドリ
カルレンズの汚損によるレーザービームの減衰
は、光導電性感光ドラム表面の露光不足を招来し
て記録画像の品質を低下させる。
ダイオード)を使用した場合には、大きなレーザ
ービーム出力が得られないことから、シリンドリ
カルレンズの汚損によるレーザービームの減衰
は、光導電性感光ドラム表面の露光不足を招来し
て記録画像の品質を低下させる。
この問題を解決するには、シリンドリカルレン
ズを頻繁に清掃すればよいが、清掃時にシリンド
リカルレンズに傷を付けたりする恐れがあり、ま
たシリンドリカルレンズを着脱自在に構成する場
合でも、着脱が容易であり、かつ着脱による位置
ずれを生じたりしない方策を講ずる必要がある。
ズを頻繁に清掃すればよいが、清掃時にシリンド
リカルレンズに傷を付けたりする恐れがあり、ま
たシリンドリカルレンズを着脱自在に構成する場
合でも、着脱が容易であり、かつ着脱による位置
ずれを生じたりしない方策を講ずる必要がある。
何れにしても、この部分はメンテナンス期間を
非常に長くして、その頻度を極力減らす工夫をす
べきであり、レンズの汚損を防止する手段が求め
られる。また、上記シリンドリカルレンズの汚損
によるレーザービームの減衰を少なくするために
は、シリンドリカルレンズを含む露光光学機構
を、微粉トナーを含む静電記録機構から隔離すべ
く、たとえば特開昭58−102260号公報に示される
ごとく、光学ボツクスに内包することが考えられ
るが、浮遊トナーによる悪影響を防止する一方
で、実機製作上における許容組立調整誤差の裕度
を増すことも、製品の生産性を向上させる上で見
逃せない非常に重要な事項である。
非常に長くして、その頻度を極力減らす工夫をす
べきであり、レンズの汚損を防止する手段が求め
られる。また、上記シリンドリカルレンズの汚損
によるレーザービームの減衰を少なくするために
は、シリンドリカルレンズを含む露光光学機構
を、微粉トナーを含む静電記録機構から隔離すべ
く、たとえば特開昭58−102260号公報に示される
ごとく、光学ボツクスに内包することが考えられ
るが、浮遊トナーによる悪影響を防止する一方
で、実機製作上における許容組立調整誤差の裕度
を増すことも、製品の生産性を向上させる上で見
逃せない非常に重要な事項である。
なお、以上の点は、面倒れ補正光学系を持たな
い露光光学機構にあつては、Fθレンズなどに対
して当てはまることである。
い露光光学機構にあつては、Fθレンズなどに対
して当てはまることである。
本発明は、上記に鑑み、露光光学機構における
面倒れ補正光学系、Fθレンズなどの微粉トナー
による汚損を防止して、長期間にわたつて高品質
の記録画像を得るとともに、仮に汚損が進行して
も、メンテナンスが容易であり、これに加えて、
実機製作上における許容組立調整誤差の裕度を増
し、製品の生産性向上を同時に達成することので
きる。光ビームプリンターの提供を、その目的と
するものである。
面倒れ補正光学系、Fθレンズなどの微粉トナー
による汚損を防止して、長期間にわたつて高品質
の記録画像を得るとともに、仮に汚損が進行して
も、メンテナンスが容易であり、これに加えて、
実機製作上における許容組立調整誤差の裕度を増
し、製品の生産性向上を同時に達成することので
きる。光ビームプリンターの提供を、その目的と
するものである。
上記目的を達成するため、本発明は、一様に帯
電された光導電性感光体表面の電荷を選択的に放
出して静電潜像を形成し、この静電潜像を微粉ト
ナーで現像する静電記録機構と、光ビーム出射口
部を有する光学ボツクスに内包され、かつ上記静
電記録機構に対して隔離され、光源からの光ビー
ムを偏向することにより上記光導電性感光体の表
面を走査露光して電荷を選択的に放出させる光ビ
ーム光路保有の露光光学機構とを備える光ビーム
プリンターにおいて、光ビーム光路を形成するス
リツトを有しかつ、そのスリツトの幅を、光導電
性感光体側で最も狭く、光導電性感光体から離れ
るにしたがつて順次広くした複数の仕切壁と、上
記複数の仕切壁間に形成された塵埃沈降空間とを
有する塵埃除去箱を備えるとともに、上記塵埃除
去箱の入光用開口部に凹部を形成して、この凹部
に、偏向ミラー面倒れ補正光学系を、クツシヨン
を介し弾性レンズホルダーで弾着して、上記塵埃
除去箱と偏向ミラー面倒れ補正光学系とを一個の
ユニツトとし、かつ上記塵埃除去箱と偏向ミラー
面倒れ補正光学系とからなるユニツトを、上記光
学ボツクスの光ビーム射出口部に着脱自在に装着
し、その偏向ミラー面倒れ補正光学系を保持する
弾性レンズホルダーを、当該弾性レンズホルダー
の背部に位置するクツシヨンにより上記光学ボツ
クスの接触面に押し付けて、その光学ボツクス内
に閉鎖空間を形成したことを特徴とするものであ
る。
電された光導電性感光体表面の電荷を選択的に放
出して静電潜像を形成し、この静電潜像を微粉ト
ナーで現像する静電記録機構と、光ビーム出射口
部を有する光学ボツクスに内包され、かつ上記静
電記録機構に対して隔離され、光源からの光ビー
ムを偏向することにより上記光導電性感光体の表
面を走査露光して電荷を選択的に放出させる光ビ
ーム光路保有の露光光学機構とを備える光ビーム
プリンターにおいて、光ビーム光路を形成するス
リツトを有しかつ、そのスリツトの幅を、光導電
性感光体側で最も狭く、光導電性感光体から離れ
るにしたがつて順次広くした複数の仕切壁と、上
記複数の仕切壁間に形成された塵埃沈降空間とを
有する塵埃除去箱を備えるとともに、上記塵埃除
去箱の入光用開口部に凹部を形成して、この凹部
に、偏向ミラー面倒れ補正光学系を、クツシヨン
を介し弾性レンズホルダーで弾着して、上記塵埃
除去箱と偏向ミラー面倒れ補正光学系とを一個の
ユニツトとし、かつ上記塵埃除去箱と偏向ミラー
面倒れ補正光学系とからなるユニツトを、上記光
学ボツクスの光ビーム射出口部に着脱自在に装着
し、その偏向ミラー面倒れ補正光学系を保持する
弾性レンズホルダーを、当該弾性レンズホルダー
の背部に位置するクツシヨンにより上記光学ボツ
クスの接触面に押し付けて、その光学ボツクス内
に閉鎖空間を形成したことを特徴とするものであ
る。
本発明に係る光ビームプリンターの一実施例を
各図を参照して説明する。
各図を参照して説明する。
第1図は、本発明の実施例に供せられるレーザ
ービームプリンターの概略構成斜視図、第2図
は、その面倒れ補正機能説明図、第3図は、本発
明の一実施例に係るレーザービームプリンターの
露光光学機構拡大縦断面図、第4図は、その塵埃
除去箱の拡大詳細縦断面図、第5図のイ〜ニは、
その塵埃除去箱の平面および各側面図、第6図
は、その関連部分をあわせ示す塵埃除去箱の拡大
横断面図である。
ービームプリンターの概略構成斜視図、第2図
は、その面倒れ補正機能説明図、第3図は、本発
明の一実施例に係るレーザービームプリンターの
露光光学機構拡大縦断面図、第4図は、その塵埃
除去箱の拡大詳細縦断面図、第5図のイ〜ニは、
その塵埃除去箱の平面および各側面図、第6図
は、その関連部分をあわせ示す塵埃除去箱の拡大
横断面図である。
まず、第1図において、1はレーザーダイオー
ド、2はレーザー駆動回路、3はコリメーターレ
ンズ、4はビーム整形器、5は回転多面鏡、6は
Fθレンズ、7は感光ドラム、8はシリンドリカ
ルレンズ、9は帯電器、10は現像器、11は静
電転写器、12は記録紙、13は反射鏡、14は
光検出器であり、15は同期信号発生回路、16
は印字信号制御回路、17は、回転多面鏡駆動モ
ータの制御回路である。
ド、2はレーザー駆動回路、3はコリメーターレ
ンズ、4はビーム整形器、5は回転多面鏡、6は
Fθレンズ、7は感光ドラム、8はシリンドリカ
ルレンズ、9は帯電器、10は現像器、11は静
電転写器、12は記録紙、13は反射鏡、14は
光検出器であり、15は同期信号発生回路、16
は印字信号制御回路、17は、回転多面鏡駆動モ
ータの制御回路である。
しかして、上記の感光ドラム7、帯電器9、現
像器10および静電転写器11などは、静電記録
機構を構成し、また、レーザーダイオード1、コ
リメータレンズ3、ビーム整形器4、回転多面鏡
5、Fθレンズ6およびシリンドリカルレンズ8
などは、露光光学機構を構成するものである。
像器10および静電転写器11などは、静電記録
機構を構成し、また、レーザーダイオード1、コ
リメータレンズ3、ビーム整形器4、回転多面鏡
5、Fθレンズ6およびシリンドリカルレンズ8
などは、露光光学機構を構成するものである。
すなわち、レーザーダイオード1は、レーザー
駆動回路2によつてパルス変調制御されたレーザ
ービームを発生する。
駆動回路2によつてパルス変調制御されたレーザ
ービームを発生する。
このレーザーダイオード1から発生したレーザ
ービームは、コリメーターレンズ3によつて平行
ビームにされ、ビーム整形器4によつて所定の断
面形状に整形される。整形後のレーザービーム
は、回転多面鏡5で偏向走査され、Fθレンズ6
によつて絞られて光導電性の感光ドラム7の被照
射面上に結像し、微小なビームスポツトを形成す
る。
ービームは、コリメーターレンズ3によつて平行
ビームにされ、ビーム整形器4によつて所定の断
面形状に整形される。整形後のレーザービーム
は、回転多面鏡5で偏向走査され、Fθレンズ6
によつて絞られて光導電性の感光ドラム7の被照
射面上に結像し、微小なビームスポツトを形成す
る。
また、Fθレンズ6と感光ドラム7の間には、
回転多面鏡5の面倒れ補正を目的としてシリンド
リカルレンズ8が配置される。
回転多面鏡5の面倒れ補正を目的としてシリンド
リカルレンズ8が配置される。
電子写真記録方式のレーザービームプリンター
においては、感光ドラム7の周囲に、電子写真プ
ロセスに必要な帯電器9、現像器10、静電転写
器11等が配置される。
においては、感光ドラム7の周囲に、電子写真プ
ロセスに必要な帯電器9、現像器10、静電転写
器11等が配置される。
すなわち、図示省略の駆動源によつて矢印方向
に回転させられる感光ドラム7の表面は、帯電器
9によつて均一に帯電され、次に前述の走査露光
光学系に係る露光光学機構によりレーザービーム
で走査露光されて静電潜像が形成される。
に回転させられる感光ドラム7の表面は、帯電器
9によつて均一に帯電され、次に前述の走査露光
光学系に係る露光光学機構によりレーザービーム
で走査露光されて静電潜像が形成される。
現像器10は、磁性微粉トナーによる1成分現
像剤または、磁性キヤリアと微粉トナーとを混合
した2成分現像剤を磁気ロールに吸着した磁気ブ
ラシにより、前記光導電性の感光ドラム7を摺擦
して静電潜像を現像し、トナー像を形成する。
像剤または、磁性キヤリアと微粉トナーとを混合
した2成分現像剤を磁気ロールに吸着した磁気ブ
ラシにより、前記光導電性の感光ドラム7を摺擦
して静電潜像を現像し、トナー像を形成する。
一方、図示省略の給紙機構によつて搬送される
記録紙12は、感光ドラム7と接触し、静電転写
器11によつて感光ドラム7表面のトナー像を転
写される。
記録紙12は、感光ドラム7と接触し、静電転写
器11によつて感光ドラム7表面のトナー像を転
写される。
以上のプロセスによつて、レーザービームプリ
ンターは、所定の情報を記録紙12に記録するこ
とができるものである。
ンターは、所定の情報を記録紙12に記録するこ
とができるものである。
さらに、これらの機能を制御するものとして、
変調信号の同期をとるための反射鏡13、光検出
器14、同期信号発生回路15、印字信号制御回
路16、回転多面鏡駆動モータの制御回路17な
どが配設されるものである。
変調信号の同期をとるための反射鏡13、光検出
器14、同期信号発生回路15、印字信号制御回
路16、回転多面鏡駆動モータの制御回路17な
どが配設されるものである。
以上において、レーザービームは集束性が良い
ことから微小なビームスポツトを形成することが
でき、したがつて高解像度の画像記録を期待する
ことができる。
ことから微小なビームスポツトを形成することが
でき、したがつて高解像度の画像記録を期待する
ことができる。
しかし、そのためには、レーザービームを正確
に偏向走査しなければならない。
に偏向走査しなければならない。
レーザービームを偏向走査する回転多面鏡5
は、定速回転しながら各反射面でレーザービーム
を偏向走査するが、各反射面の法線と回転軸の角
度とが一定でない、いわゆる面倒れがあると、ビ
ームスポツトの走査位置が感光ドラム7の回転方
向にずれて、走査線ピツチむらが生ずる。
は、定速回転しながら各反射面でレーザービーム
を偏向走査するが、各反射面の法線と回転軸の角
度とが一定でない、いわゆる面倒れがあると、ビ
ームスポツトの走査位置が感光ドラム7の回転方
向にずれて、走査線ピツチむらが生ずる。
この走査線ピツチむらの発生を防止するために
は、回転多面鏡5を高精度で加工しなければなら
ない。
は、回転多面鏡5を高精度で加工しなければなら
ない。
たとえば、回転多面鏡5と感光ドラム7の被照
射面間の距離が500mm、被照射面上で許容される
走査線ピツチむらを±0.01mmとすると、回転多面
鏡5の面倒れ許容角は、次のようになる。
射面間の距離が500mm、被照射面上で許容される
走査線ピツチむらを±0.01mmとすると、回転多面
鏡5の面倒れ許容角は、次のようになる。
±(1/2×0.01/500)
=±1×10-5(ラジアン)=±2(秒)
しかし、この許容角は、回転多面鏡加工精度の
限界に近く、得られる回転多面鏡5は極めて高価
となる。
限界に近く、得られる回転多面鏡5は極めて高価
となる。
前記したシリンドリカルレンズ8は、このよう
な回転多面鏡5の面倒れによるレーザービームの
偏向走査位置ずれを光学的に補正するものであ
り、その面倒れ補正機能を第2図を用いて詳述す
る。
な回転多面鏡5の面倒れによるレーザービームの
偏向走査位置ずれを光学的に補正するものであ
り、その面倒れ補正機能を第2図を用いて詳述す
る。
第2図において、回転多面鏡5の面倒れ角
y/2に対応する偏向走査位置ずれ量は、シリ
ンドリカルレンズ8を用いない場合をδ、シリン
ドリカルレンズ8を用いた場合をδcとすると、次
の関係になる。
y/2に対応する偏向走査位置ずれ量は、シリ
ンドリカルレンズ8を用いない場合をδ、シリン
ドリカルレンズ8を用いた場合をδcとすると、次
の関係になる。
δc/δ=fψy/f〓y
但し、
f〓;Fθレンズ6の焦点距離。
f;シリンドリカルレンズ8の焦点距離。
したがつて、面倒れ補正効果は、シリンドリカ
ルレンズ8の焦点距離fが、Fθレンズ6の焦点
距離f〓に対して短い程大きくなる。
ルレンズ8の焦点距離fが、Fθレンズ6の焦点
距離f〓に対して短い程大きくなる。
以上の結果から、面倒れ補正用のシリンドリカ
ルレンズ8は、感光ドラム7の表面近傍に配設さ
れることになる。
ルレンズ8は、感光ドラム7の表面近傍に配設さ
れることになる。
一方、現像器10も、光導電性感光体表面電位
の暗減衰特性を考慮すると、極力、露光光学系に
接近して配置し、露光から現像に至るプロセス時
間を短縮することが望まれる。
の暗減衰特性を考慮すると、極力、露光光学系に
接近して配置し、露光から現像に至るプロセス時
間を短縮することが望まれる。
したがつて、前述したように現像プロセスで発
生する浮遊微粉トナーによるシリンドリカルレン
ズ8の汚損を防止することは、面倒れ補正光学系
を有するレーザービームプリンターの必須課題と
なり、その対策が望まれることになる。
生する浮遊微粉トナーによるシリンドリカルレン
ズ8の汚損を防止することは、面倒れ補正光学系
を有するレーザービームプリンターの必須課題と
なり、その対策が望まれることになる。
次に、本発明の一実施例に係るレーザービーム
プリンターを第3図ないし第6図により説明す
る。
プリンターを第3図ないし第6図により説明す
る。
しかして、本実施例に係るものは、第3図に示
す走査露光光学機構の構成を除くほかは、第1図
に示す構成と同様のものである。
す走査露光光学機構の構成を除くほかは、第1図
に示す構成と同様のものである。
すなわち、第3図において、露光光学機構に係
る走査露光光学機構18は、光学ボツクス19内
に取着収納されて外部の塵埃から保護される構造
をとり、走査ビームは回転多面鏡5A、Fθレン
ズ6A、反射ミラー20および21、シリンドリ
カルレンズ8Aを経て感光ドラム7Aの表面を走
査露光する。
る走査露光光学機構18は、光学ボツクス19内
に取着収納されて外部の塵埃から保護される構造
をとり、走査ビームは回転多面鏡5A、Fθレン
ズ6A、反射ミラー20および21、シリンドリ
カルレンズ8Aを経て感光ドラム7Aの表面を走
査露光する。
光学ボツクス19のレーザービーム出射口部1
9aには、スリツト状の開口部19bが形成され
てレーザービームを導出するとともに、この光学
ボツクス19は、シリンドリカルレンズ8Aを含
んだユニツトとして着脱可能な塵埃除去箱22と
接合して閉鎖空間を構成するようにしたものであ
る。
9aには、スリツト状の開口部19bが形成され
てレーザービームを導出するとともに、この光学
ボツクス19は、シリンドリカルレンズ8Aを含
んだユニツトとして着脱可能な塵埃除去箱22と
接合して閉鎖空間を構成するようにしたものであ
る。
以下、第4図を用いて上記塵埃除去箱22の構
成を詳述する。
成を詳述する。
第4図は、前記塵埃除去箱22の拡大詳細縦断
面図である。
面図である。
図において、ホルダー23は、アルミニユーム
機の押出成形などで製作される導電性部材で構成
され、光学ボツクス19に対し着脱自在に装着さ
れて、装着時点で光学ボツクス19を介して電気
的に接地されるものとする。
機の押出成形などで製作される導電性部材で構成
され、光学ボツクス19に対し着脱自在に装着さ
れて、装着時点で光学ボツクス19を介して電気
的に接地されるものとする。
このホルダー23の光学ボツクス19側には、
シリンドリカルレンズ8Aを支持する凹部23a
およびシリンドリカルレンズ8Aを出射したレー
ザービームを導出するスリツト状の開口部23b
が形成される。
シリンドリカルレンズ8Aを支持する凹部23a
およびシリンドリカルレンズ8Aを出射したレー
ザービームを導出するスリツト状の開口部23b
が形成される。
またホルダー23の感光ドラム7A側には、複
数の防塵スリツト板24a〜24cを挾持する凹
部23cが形成される。
数の防塵スリツト板24a〜24cを挾持する凹
部23cが形成される。
さらに、ホルダー23が押出成形品である場合
には、両端部が開口となるため、これを閉塞する
ための側壁25を設け、これらをネジ26を用い
て固定する。
には、両端部が開口となるため、これを閉塞する
ための側壁25を設け、これらをネジ26を用い
て固定する。
前記の防塵スリツト板24a〜24cには、レ
ーザービームを導出するスリツト状開口部24a
−1〜24c−1を設ける。
ーザービームを導出するスリツト状開口部24a
−1〜24c−1を設ける。
シリンドリカルレンズ8Aは、ホルダー23の
凹部23aに所要精度の嵌合間隙を持つて装着さ
れたのち、クツシヨン27を介して、レンズホル
ダー28で固定されるものである。
凹部23aに所要精度の嵌合間隙を持つて装着さ
れたのち、クツシヨン27を介して、レンズホル
ダー28で固定されるものである。
レンズホルダー28は、板バネ材等の弾性部材
で製作され、レーザービームの導出用開口に係る
スリツト状開口部28aを有するものである。
で製作され、レーザービームの導出用開口に係る
スリツト状開口部28aを有するものである。
また、レンズホルダー28は、その弾性を利用
し、クツシヨン27を介してシリンドリカルレン
ズ8Aを固定するとともに、光学ボツクス19の
レーザービーム出射口部19aの平面と接して閉
塞空間を構成するものである。
し、クツシヨン27を介してシリンドリカルレン
ズ8Aを固定するとともに、光学ボツクス19の
レーザービーム出射口部19aの平面と接して閉
塞空間を構成するものである。
以上に述べた構造の塵埃除去箱22は、その防
塵スリツト板24a,24b,24cにスリツト
状開口部24a−1,24b−1,24c−1を
有し、各防塵スリツト板24a,24b,24c
間には、比較的容積の大きい塵埃沈降空間を有
し、いわゆるラビリンス状の構造となる。
塵スリツト板24a,24b,24cにスリツト
状開口部24a−1,24b−1,24c−1を
有し、各防塵スリツト板24a,24b,24c
間には、比較的容積の大きい塵埃沈降空間を有
し、いわゆるラビリンス状の構造となる。
したがつて、さきの現像器10から発生し、感
光ドラム7Aの表面近傍に浮遊する微粉トナーが
シリンドリカルレンズ8Aの表面に付着するに
は、塵埃除去箱22の防塵スリツト板24c,2
4b,24aのスリツト状開口部24c−1,2
4b−1,24a−1を順次通過しなければなら
ない。
光ドラム7Aの表面近傍に浮遊する微粉トナーが
シリンドリカルレンズ8Aの表面に付着するに
は、塵埃除去箱22の防塵スリツト板24c,2
4b,24aのスリツト状開口部24c−1,2
4b−1,24a−1を順次通過しなければなら
ない。
しかしながら、防塵スリツト板24a〜24c
の開口部24a−1〜24c−1に対して、スリ
ツト間に設けられた塵埃除去箱22の内部空間が
大きいので、その箱内の気流速は極端に弱められ
て、浮遊微粉トナーは自重により沈降する。
の開口部24a−1〜24c−1に対して、スリ
ツト間に設けられた塵埃除去箱22の内部空間が
大きいので、その箱内の気流速は極端に弱められ
て、浮遊微粉トナーは自重により沈降する。
また沈降空間は、複数の防塵スリツト24a〜
24cによつて多段に区切られているため、狭い
スリツト状開口部24c−1,24b−1,24
a−1から流入した微粉トナーは、広い沈降空間
で拡散して希薄になる。
24cによつて多段に区切られているため、狭い
スリツト状開口部24c−1,24b−1,24
a−1から流入した微粉トナーは、広い沈降空間
で拡散して希薄になる。
すなわち、第4図に示す例示のものでは、3段
の拡散過程を経てシリンドリカルレンズ8Aの表
面に到達する微粉トナーの量は、極く微少量にな
る。
の拡散過程を経てシリンドリカルレンズ8Aの表
面に到達する微粉トナーの量は、極く微少量にな
る。
さらに、図示実施例の場合、塵埃除去箱22は
導電性であり、光学ボツクス19を介して接地さ
れているので、帯電している微粉トナーが静電付
着しても、付着したトナーは電荷を放出して付着
力を失い、底面に落下堆積する。
導電性であり、光学ボツクス19を介して接地さ
れているので、帯電している微粉トナーが静電付
着しても、付着したトナーは電荷を放出して付着
力を失い、底面に落下堆積する。
この結果、本実施例にける塵埃除去箱22は、
シリンドリカルレンズ8Aの汚損を防止して、長
期間の使用を可能とするものである。
シリンドリカルレンズ8Aの汚損を防止して、長
期間の使用を可能とするものである。
またさらに、塵埃除去箱22の入光用開口部に
凹部23aを形成して、この凹部23aに、シリ
ンドリカルレンズ8Aを、クツシヨン27を介し
弾性レンズホルダー28で弾着し、そのシリンド
リカルレンズ8aを保持する弾性レンズホルダー
28を、当該弾性レンズホルダー28の背面に位
置するクツシヨン27によつて光学ボツクス19
の接触面に押し付けることにより、上記シリンド
リカルレンズ8Aを単に光学ボツクス19に押し
付ける場合に比較してその光学ボツクス19内を
密閉状態に閉鎖することができ、したがつてこの
光学ボツクス19に内包されているFθレンズ6
a、反射ミラー20および21などの走査露光光
学機構18を、非常に微細な浮遊トナーから有効
に保護することができる。
凹部23aを形成して、この凹部23aに、シリ
ンドリカルレンズ8Aを、クツシヨン27を介し
弾性レンズホルダー28で弾着し、そのシリンド
リカルレンズ8aを保持する弾性レンズホルダー
28を、当該弾性レンズホルダー28の背面に位
置するクツシヨン27によつて光学ボツクス19
の接触面に押し付けることにより、上記シリンド
リカルレンズ8Aを単に光学ボツクス19に押し
付ける場合に比較してその光学ボツクス19内を
密閉状態に閉鎖することができ、したがつてこの
光学ボツクス19に内包されているFθレンズ6
a、反射ミラー20および21などの走査露光光
学機構18を、非常に微細な浮遊トナーから有効
に保護することができる。
しかしながら、塵埃除去箱22の内部に堆積し
たトナーの除去あるいは、シリンドリカルレンズ
8Aの清掃作業は、極めて長期間の間隔とはい
え、必要なメンテナンス項目である。
たトナーの除去あるいは、シリンドリカルレンズ
8Aの清掃作業は、極めて長期間の間隔とはい
え、必要なメンテナンス項目である。
したがつて、塵埃除去箱22は、もう一つの機
能としてメンテナンスが容易であることが求めら
れる。
能としてメンテナンスが容易であることが求めら
れる。
本実施例に係るものでは、この点を考慮して、
塵埃除去箱22とシリンドリカルレンズ8Aと
を、一体のユニツトとし、このユニツトを光学ボ
ツクス19に対して着脱可能としたものである。
塵埃除去箱22とシリンドリカルレンズ8Aと
を、一体のユニツトとし、このユニツトを光学ボ
ツクス19に対して着脱可能としたものである。
以下、第4図を含め、第5図、第6図を用いて
この点を詳述する。
この点を詳述する。
前記塵埃除去箱22の外観図である第5図にお
いて、前記レンズホルダー28は、左右の側壁2
5a,25bに対し、ネジ29で固定されてい
る。
いて、前記レンズホルダー28は、左右の側壁2
5a,25bに対し、ネジ29で固定されてい
る。
また、左右の側壁25a,25bには、それぞ
れ係合ピン30が固設されている。
れ係合ピン30が固設されている。
以上の構成からなる塵埃除去箱22は、さきの
第4図に示すように、光学ボツクス19に固設さ
れた案内板31とホルダー23の案内溝23dの
係合関係を持つて挿入され、横断面図である第6
図に示す位置で、係合ピン30と、これと係合す
る光学ボツクス19の係合穴19cとの嵌合関係
で正しい位置にセツトされ、しかるのちに固定ネ
ジ32で光学ボツクス19に固定されるものであ
る。
第4図に示すように、光学ボツクス19に固設さ
れた案内板31とホルダー23の案内溝23dの
係合関係を持つて挿入され、横断面図である第6
図に示す位置で、係合ピン30と、これと係合す
る光学ボツクス19の係合穴19cとの嵌合関係
で正しい位置にセツトされ、しかるのちに固定ネ
ジ32で光学ボツクス19に固定されるものであ
る。
上述した構成において、塵埃除去箱22のメン
テナンスを行う手順は、まず固定ネジ32を外し
て、塵埃除去箱22をレーザービームプリンター
本体から取り外し、作業し易い机の上等に移動し
たのち、ネジ29を外してレンズホルダー28を
取り去ると、シリンドリカルレンズ8Aを取り外
すことが可能となる。
テナンスを行う手順は、まず固定ネジ32を外し
て、塵埃除去箱22をレーザービームプリンター
本体から取り外し、作業し易い机の上等に移動し
たのち、ネジ29を外してレンズホルダー28を
取り去ると、シリンドリカルレンズ8Aを取り外
すことが可能となる。
次に、左側壁25aを取り外すことによつて内
部の防塵スリツト板24a〜24cを引出し、堆
積した微粉トナーを除去する。
部の防塵スリツト板24a〜24cを引出し、堆
積した微粉トナーを除去する。
以上の手順で分解したのち、逆の手順で、清掃
した部品を組み立てることによつてメンテナンス
が完了するものである。
した部品を組み立てることによつてメンテナンス
が完了するものである。
以上に述べたように、本実施例によれば、露光
光学機構18のレーザービーム出射口部19aに
レーザービームの光路を形成するスリツト状開口
部24a−1,24b−1,24c−1をそれぞ
れ有する複数の防塵スリツト板24a,24b,
24cと、この防塵スリツト板24a,24b,
24cの間に形成された塵埃沈降空間とを備えた
塵埃除去箱22を設けたことにより、塵埃沈降空
間内での気流の流速が弱められて、気中に浮遊す
る微粉トナーが沈降除去され、したがつて、露光
光学機構18の汚れを防止して、長期間にわたり
高品質の記録画像を得られる光ビームプリンター
を提供できるものである。
光学機構18のレーザービーム出射口部19aに
レーザービームの光路を形成するスリツト状開口
部24a−1,24b−1,24c−1をそれぞ
れ有する複数の防塵スリツト板24a,24b,
24cと、この防塵スリツト板24a,24b,
24cの間に形成された塵埃沈降空間とを備えた
塵埃除去箱22を設けたことにより、塵埃沈降空
間内での気流の流速が弱められて、気中に浮遊す
る微粉トナーが沈降除去され、したがつて、露光
光学機構18の汚れを防止して、長期間にわたり
高品質の記録画像を得られる光ビームプリンター
を提供できるものである。
また、前記塵埃除去箱22とシリンドリカルレ
ンズ8Aとを一体としてユニツト化し、光学ボツ
クス19に対して着脱自在に構成することによつ
て、露光光学機構18が汚損した場合であつて
も、メンテナンス作業を容易になしうるものであ
る。すなわち、光ビームプリンターの感光ドラム
7Aおよび露光光学機構18のレーザービーム出
射口部19aは、装置の中央部に位置するため、
シリンドリカルレンズ8Aを固定した場合には、
装置中央部の見えにくい位置で清掃作業を行うこ
とになり、作業性が悪いうえに、その結果を確認
することが非常に困難である。本実施例によれ
ば、これらを、装置外にユニツトで取り出して、
作業性の良い場所に随意移動できるため、作業性
が良く、さらにその結果を明瞭に確認することが
できることになる。
ンズ8Aとを一体としてユニツト化し、光学ボツ
クス19に対して着脱自在に構成することによつ
て、露光光学機構18が汚損した場合であつて
も、メンテナンス作業を容易になしうるものであ
る。すなわち、光ビームプリンターの感光ドラム
7Aおよび露光光学機構18のレーザービーム出
射口部19aは、装置の中央部に位置するため、
シリンドリカルレンズ8Aを固定した場合には、
装置中央部の見えにくい位置で清掃作業を行うこ
とになり、作業性が悪いうえに、その結果を確認
することが非常に困難である。本実施例によれ
ば、これらを、装置外にユニツトで取り出して、
作業性の良い場所に随意移動できるため、作業性
が良く、さらにその結果を明瞭に確認することが
できることになる。
さらに、光学系の部品は通常高い取付位置精度
を必要とするものであるが、本実施例によれば、
位置決めに高精度の係合ピン30を使用している
ため、取付け、取外しの再現性を確保することが
可能である。
を必要とするものであるが、本実施例によれば、
位置決めに高精度の係合ピン30を使用している
ため、取付け、取外しの再現性を確保することが
可能である。
上記に加え、防塵スリツト板24a,24b,
24cのスリツト状開口部24a−1,24b−
1,24c−1の開口幅を、第4図に示すごとく
シリンドリカルレンズ8Aから感光ドラム7Aに
沿つて順次狭くすることによつて走査誤差による
ビームのけられを効果的に防止し、実機製作上に
おける許容組立調整誤差の裕度を増すことができ
ることに加えて、上記スリツト状の開口部24a
−1,24b−1,24c−1の開口幅は、感光
ドラム7A側、すなわち浮遊トナー濃度の高い側
24c−1で最も狭く、この第1のスリツト状開
口部24c−1を通過したトナーは、拡散によつ
て濃度が極端に低下するため、第2、第3のスリ
ツト状開口部24b−1,24a−1が順次広く
なることによる汚損量の増大は、ほとんど無視し
うる値になる。
24cのスリツト状開口部24a−1,24b−
1,24c−1の開口幅を、第4図に示すごとく
シリンドリカルレンズ8Aから感光ドラム7Aに
沿つて順次狭くすることによつて走査誤差による
ビームのけられを効果的に防止し、実機製作上に
おける許容組立調整誤差の裕度を増すことができ
ることに加えて、上記スリツト状の開口部24a
−1,24b−1,24c−1の開口幅は、感光
ドラム7A側、すなわち浮遊トナー濃度の高い側
24c−1で最も狭く、この第1のスリツト状開
口部24c−1を通過したトナーは、拡散によつ
て濃度が極端に低下するため、第2、第3のスリ
ツト状開口部24b−1,24a−1が順次広く
なることによる汚損量の増大は、ほとんど無視し
うる値になる。
しかして、上記実施例に係るものにおいては、
塵埃除去箱22を導電性のものとしたが、これ
は、帯電浮遊トナーが無視できるような場合、す
なわち径路が長く、その径路中で自重により落下
堆積するような場合、非導電性のものとすること
ができる。
塵埃除去箱22を導電性のものとしたが、これ
は、帯電浮遊トナーが無視できるような場合、す
なわち径路が長く、その径路中で自重により落下
堆積するような場合、非導電性のものとすること
ができる。
また、上記実施例は、レーザービームプリンタ
ーに関するものであるが、本発明は、レーザー光
のみでなく、他の光源を用いることができる汎用
的なものである。
ーに関するものであるが、本発明は、レーザー光
のみでなく、他の光源を用いることができる汎用
的なものである。
本発明によれば、露光光学機構における面倒れ
補正光学系、Fθレンズなどの微分トナーによる
汚損を防止して、長期間にわたつて高品質の記録
画像を得るとともに、仮に汚損が進行しても、メ
ンテナンスが容易であり、これに加えて、実機製
作上における許容組立調整誤差の裕度を増し、製
品の生産性向上を同時に達成できる光ビームプリ
ンターを提供することができるものであり、すぐ
れた実用的効果を奏する発明ということができ
る。
補正光学系、Fθレンズなどの微分トナーによる
汚損を防止して、長期間にわたつて高品質の記録
画像を得るとともに、仮に汚損が進行しても、メ
ンテナンスが容易であり、これに加えて、実機製
作上における許容組立調整誤差の裕度を増し、製
品の生産性向上を同時に達成できる光ビームプリ
ンターを提供することができるものであり、すぐ
れた実用的効果を奏する発明ということができ
る。
第1図は、本発明の実施例に供せられるレーザ
ービームプリンターの概略構成斜視図、第2図
は、その面倒れ補正機能説明図、第3図は、本発
明の一実施例に係るレーザービームプリンターの
露光光学機構拡大縦断面図、第4図は、その塵埃
除去箱の拡大詳細断面図、第5図のイ〜ニは、そ
の塵埃除去箱の平面および各側面図、第6図は、
その関連部分をあわせて示す塵埃除去箱の拡大横
断面図である。 1……レーザーダイオード、2……レーザー駆
動回路、3……コリメーターレンズ、4……ビー
ム整形器、5A……回転多面鏡、6A……Fθレ
ンズ、7A……感光ドラム、8A……シリンドリ
カルレンズ、9……帯電器、10……現像器、1
1……静電転写器、12……記録紙、13……反
射鏡、14……光検出器、15……同期信号発生
回路、16……印字信号制御回路、17……回転
多面鏡駆動モータの制御回路、18……走査露光
光学機構、19……光学ボツクス、19a……レ
ーザービーム出射口部、19b……スリツト状開
口部、19c……係合穴、20,21……反射ミ
ラー、22……塵埃除去箱、23……ホルダー、
23a……凹部、23b……スリツト状開口部、
23c……スリツト挾持用凹部、23d……案内
溝、24a,24b,24c……防塵スリツト
板、24a−1,24b−1,24c−1……ス
リツト状の開口部、25……側壁、25a……左
側壁、25b……右側壁、26,29……ネジ、
27……クツシヨン、28……レンズホルダー、
28a……スリツト状開口部、30……係合ピ
ン、31……案内板、32……固定ネジ。
ービームプリンターの概略構成斜視図、第2図
は、その面倒れ補正機能説明図、第3図は、本発
明の一実施例に係るレーザービームプリンターの
露光光学機構拡大縦断面図、第4図は、その塵埃
除去箱の拡大詳細断面図、第5図のイ〜ニは、そ
の塵埃除去箱の平面および各側面図、第6図は、
その関連部分をあわせて示す塵埃除去箱の拡大横
断面図である。 1……レーザーダイオード、2……レーザー駆
動回路、3……コリメーターレンズ、4……ビー
ム整形器、5A……回転多面鏡、6A……Fθレ
ンズ、7A……感光ドラム、8A……シリンドリ
カルレンズ、9……帯電器、10……現像器、1
1……静電転写器、12……記録紙、13……反
射鏡、14……光検出器、15……同期信号発生
回路、16……印字信号制御回路、17……回転
多面鏡駆動モータの制御回路、18……走査露光
光学機構、19……光学ボツクス、19a……レ
ーザービーム出射口部、19b……スリツト状開
口部、19c……係合穴、20,21……反射ミ
ラー、22……塵埃除去箱、23……ホルダー、
23a……凹部、23b……スリツト状開口部、
23c……スリツト挾持用凹部、23d……案内
溝、24a,24b,24c……防塵スリツト
板、24a−1,24b−1,24c−1……ス
リツト状の開口部、25……側壁、25a……左
側壁、25b……右側壁、26,29……ネジ、
27……クツシヨン、28……レンズホルダー、
28a……スリツト状開口部、30……係合ピ
ン、31……案内板、32……固定ネジ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一様に帯電された光導電性感光体表面の電荷
を選択的に放出して静電潜像を形成し、この静電
潜像を微粉トナーで現像する静電記録機構と、 光ビーム出射口部を有する光学ボツクスに内包
され、かつ上記静電記録機構に対して隔離され、
光源からの光ビームを偏向することにより上記光
導電性感光体の表面を走査露光して電荷を選択的
に放出させる光ビーム光路保有の露光光学機構と を備える光ビームプリンターにおいて、 光ビーム光路を形成するスリツトを有しかつ、
そのスリツトの幅を、光導電性感光体側で最も狭
く、光導電性感光体から離れるにしたがつて順次
広くした複数の仕切壁と、 上記複数の仕切壁間に形成された塵埃沈降空間
と を有する塵埃除去箱を備えるとともに、 上記塵埃除去箱の入光用開口部に凹部を形成し
て、この凹部に、偏向ミラー面倒れ補正光学系
を、クツシヨンを介し弾性レンズホルダーで弾着
して、上記塵埃除去箱と偏向ミラー面倒れ補正光
学系とを一個のユニツトとし、 かつ上記塵埃除去箱と偏向ミラー面倒れ補正光
学系とからなるユニツトを、上記光学ボツクスの
光ビーム射出口部に着脱自在に装着し、 その偏向ミラー面倒れ補正光学系を保持する弾
性レンズホルダーを、当該弾性レンズホルダーの
背部に位置するクツシヨンにより上記光学ボツク
スの接触面に押し付けて、その光学ボツクス内に
閉鎖空間を形成した ことを特徴とする光ビームプリンター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12802383A JPS6021066A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 光ビ−ムプリンタ− |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12802383A JPS6021066A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 光ビ−ムプリンタ− |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6021066A JPS6021066A (ja) | 1985-02-02 |
JPH0311471B2 true JPH0311471B2 (ja) | 1991-02-18 |
Family
ID=14974572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12802383A Granted JPS6021066A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 光ビ−ムプリンタ− |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6021066A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0743465B2 (ja) * | 1985-05-31 | 1995-05-15 | 京セラ株式会社 | レ−ザプリンタ |
JPS6227323U (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-19 | ||
JPH0799410B2 (ja) * | 1987-04-06 | 1995-10-25 | 旭光学工業株式会社 | 偏向走査光学系 |
JP2695782B2 (ja) * | 1987-05-01 | 1998-01-14 | 株式会社東芝 | 光学装置 |
US4970552A (en) * | 1987-05-29 | 1990-11-13 | Ricoh Company, Ltd. | Toner contamination preventive means |
US5574493A (en) * | 1994-03-11 | 1996-11-12 | Eastman Kodak Company | Vacuum collection system for dye-ablation printing process |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5687056A (en) * | 1979-12-18 | 1981-07-15 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Electrostatic recorder |
JPS58102260A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-17 | Hitachi Ltd | 光ビ−ムプリンタ |
-
1983
- 1983-07-15 JP JP12802383A patent/JPS6021066A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5687056A (en) * | 1979-12-18 | 1981-07-15 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Electrostatic recorder |
JPS58102260A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-17 | Hitachi Ltd | 光ビ−ムプリンタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6021066A (ja) | 1985-02-02 |
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