JPH0311348A

JPH0311348A - ネガ型感光性樹脂

Info

Publication number: JPH0311348A
Application number: JP1145280A
Authority: JP
Inventors: Yoshitaka Tsutsumi; 堤　義高; Tetsuo Tanaka; 哲夫田中; Masato Fukamachi; 正人深町; Masazumi Hasegawa; 正積長谷川
Original assignee: Tosoh Corp
Current assignee: Tosoh Corp
Priority date: 1989-06-09
Filing date: 1989-06-09
Publication date: 1991-01-18

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線
に感応するレジスト機能を有し、４００ｎｍ以上の光に
対して透明なコーテイング材及び平滑用樹脂として用い
ることのできるネガ型感光性樹脂に関するものである。

［従来の技術］近年、撮像素子を使用したカラービデオカメラの背反に
伴い高画質撮像素子の需要が高まりつつある。この固体
撮像素子には基本型としてＣＣＤ型とＭＯＳ型がある。

これらの素子を製造する時ＣＣＤ或いはＭＯＳチップ上
にカラーフィルターを設ける必要がある。このフィルタ
ーを設ける方法に以下の２つの方法がある。！＋１ち。

（ＩＩＣＣＤ或いはＭＯＳチップ上へガラス板に形成し
たカラーフィルターを貼り合わせる方法。

（貼り合わせ法）（２１ＣＣＤ或いはＭＯＳチップ上に染色法でカラーフ
ィルターを直接形成し頂み重ねる方法、（オンチップ法
ン貼り合わせ法はカラーフィルターとＣＣＤ或いはＭＯＳ
チップとの合わせ精度を２μｍ以下にする必要が有り、
高画質化への対応が困難である。

更に、貼り合わせ面に泡が残るとの問題が多々発生する
ため、歩留まりがそれほど向上しないという問題点を抱
えており、最近はオンチップ法へと移行しつつある。

［発明が解決しようとするＨＭコ一方、オンチップ法は貼り合わせ法に比べて精度良く製
造出来るメリットはあるが、チップ上に積み重ねていく
ため段差が生じ均一な厚みのカラー層を作りにくいとの
問題点がある。従って５平坦化のため、カラー層とカラ
ー層とのインターミキシングを避けるために中間層を設
ける必要があり、ポリグリシジルメタクリレート（ＰＧ
ＭＡ）タイプ或いは変性ＰＧＭＡタイプが使用されてい
る。これらの材料は可視光域で透明であり、加熱するこ
とにより溶剤不溶化を起こし、遠紫外光の照射でポジレ
ジストとしての特性を示すため、現在一般に保護膜、平
滑膜として使用されているが、感度が悪い、耐ドライエ
ツチング性も悪い、平滑性もそれほど良くない、更に露
光部にレジストの現像残が発生しやすいとの問題点を抱
えている。

さらに、ＰＧＭＡの側鎖にシンナモイル基を導入したタ
イプは遠紫外線に対して硬化し、同様に保護膜、平滑膜
に使用できるが、耐ドライエツチング性が悪い、また、
撮像素子の表皮の保護膜には、可視光域での透明性が高
く、高感度、高ドライエ・Ｉチング耐性を有した材料が
要求されているが、いまだ満足のいく材料は見出だされ
ていない。

本発明の目的はＥ記した従来技術の問題点を克服し、可
視光域で透明で、耐ドライエツチング性を有し、高感度
かつ解像性に優れたレジスト機能を有したコーテイング
材及び平滑用樹脂を提供することにある。

［課題を解決するための手段］本発明者らは、このような背景をもとに鋭意研究を重ね
た結果、ベースポリマーに芳香環を有したポリマーを用
い、その芳香環に不飽和基を持った置換基をつけ、かつ
ビスアジド系の添加剤を用いることにより上述の問題点
を解決できることを見出だし本発明に到達した。

即ち、該樹脂が下記（１）式においてＲが不飽和二重結
合を含む基からなる構造単位を含有することを特徴とす
る樹脂と添加剤とからなるネガ型感光性樹脂を提供する
ことにある。

ＣＨｚ　　　Ｃ− （１）（Ａはベンゼン環及び／又はナフタレン環、ＢはＨ，Ｃ
１〜４のアルキル基を示す、）特に、下式（２）に示すような不飽和二重桔会２基本と
する骨格であり、添加剤としてビスアジド系化合物を用
いることを特徴とするものである。

（ＣＨ，−Ｃ）、−（ＣＨ，−Ｃ）。

〈２）Ａ。

２ＲＩ　　　　　　　　　　　　Ｒ２（Ａ＋、Ａｘはベンゼン環及び／又はナフタレン環、Ｂ
、　、Ｂ、はＨ，Ｃ１〜４のアルキル基を示し、Ｒ８は −ＣＨｘ１ｏｃｃｘ　冨ＣＹ及び／又は ■ −ｃｃｘ＝ｃｙ３、Ｒ２はＨ，ＣＨ，Ｚを示す、ＸはＨ，Ｃ１〜Ｃ４の
アルキル基、シアン基、ハロゲンを示し、Ｙはｌ（、Ｃ
１〜Ｃ４のアルキル５１示し、Ｚはハロゲンを示す、ｍ
／　（ｍ＋ｎ　）＝Ｏ，Ｏ１〜ｌ　Ｏである。）なお、Ｅ式におけるＢ、、Ｂ２　、Ｘ、）′のアルキル
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等を、Ｘ、Ｚのハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素
、ヨウ素等を挙げることができる。

本発明における芳香環に不飽和基を有する樹脂の合成方
法には、特に限定はないが、例えば以下の方法で合成で
きる。

ハロゲノメチル化ポリスチレンあるいはハロゲノメチル
化スチレン／′スチレン共重合体と一般式（３）％式％（３）（ＸはＨ，０１〜Ｃ４のアルキル基、シアノ基。

ハロゲンを示し、ＹはＨ，（１〜Ｃ４のアルキル基を示
す６ＭはＮａ、にのアルカリ金属塩、アンモニウム塩を
示す、）とをジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドのよ
うな非プロトン性極性溶媒中にて、３０〜１００℃で２
〜２０時間反応した後、メタノール／水中にてポリマー
を沈澱させることによって得られる。

また、ポリスチレン及び／又はポリα−メチルスチレン
と一般式（４）％式％（４）（ＸはＨ−Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、シアノ基、ハロゲ
ンを示し、ＹはＨ，Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基を示す、Ｚ
はハロゲンを示す、）とを二く化炭素、ニトロベンゼン、クロロホルム等の溶
媒中にて塩化アルミニウム、塩化第二鉄等を触媒として
、フリーデルクラフッ反応を行うことによっても合成で
きる。

本発明における二重結合の導入率には特に限定はないが
、スチレンに対して１〜１００ｍｏ１％、好ましくは５
〜５０ｍｏ　１％の導入の場合、特性が優れている。ま
た５分子量に関しても、特に限定はないが、重重平均分
子量が５０００〜１００００００　（ポリスチレン換算
）が好ましい、さらに１反応の原料になるポリスチレン
、ポリα−メチルスチレン、ハロゲノメチル化ポリスチ
レンの重合方法は公知のラジカル重合、イオン重合の手
法によって得られる。特に、リビングアニオン重合によ
って、原料ポリマーを合成した場合には、本発明の最終
生成物の特性が一段と向上する。

本発明の添加剤としてのビスアジドは本発明の樹脂と均
一に溶解し、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘｉ等の放射
線に対して感応し、４００ｎｍ以上の可視光域で透明で
あれば、特に限定はないが、例えば、４．４−一ジアジ
ドベンゾフェノン、４゜４゛−ジアジドジフェニルメタ
ン、４，４−一ジアジドスチルベン、４．４−−ジアジ
ドカルコン、２．６−ビス（４゛−アジドベンザル）シ
クロヘキサノン、２．６−ビス（４”−アジドベンザル
）〜４−メチルシクロヘキサノン、１．３−ビス３−ビ
ス（４゛−アジドシンナミリデン）−２−プロパノン、
４，４゛−ジアジドフェニルスルホン、３．３゛−ジア
ジドフェニルスルホン、４゜４゛−ジアジドフェニルス
ルフィド等を挙げることができる。ビスアジドの添加量
は特に限定はないが、樹脂１００重量部に対して、０．
１〜３０重量部が好ましい。

本発明のネガ型感光性樹脂は、樹脂及びビスアジド系化
合物を固形分が５〜３０重量部になるように適当な溶剤
に溶解して得られる。溶剤としては、例えば、エチレン
グリコールモノアルキルエーテル及びそのアセテート類
、プロピレングリコールモノアルキルエーテル及びその
アセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテ
ル煩、メチルエチルケトン、メチルインプチルゲトン、
シクロヘキサノン等のケトン票、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等の酢酸エステル類、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムア
ミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。これらの
溶剤は単独あるいは２？１以−り混合して用いることが
できる。また、必要に応じて、塗布性を改良するなめに
、ノニオン系、フッ素系、シリコン系等の界面活性剤を
添加することができる。さらに、必！があれば増感剤、
安定剤等、相溶性のある添加物を配合することができる
。

〔作用〕

本発明の芳香環に不＃！和基を有するＩＩ！脂とビスア
ジド系化合物からなるネガ型感光性樹脂は、可視光域で
透明であり、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等による
レジストパターン形成のために用いることができ、感度
、解像度、耐ドライエツチング性に優れている。

本発明の芳香環に不飽和基を有する樹脂とビスアジド系
化合物とからなるネガ型感光性樹脂を用いて放射線照射
によるレジストパターンを形成する際の使用法には格別
の限定はなく慣用の方法に従って行うことができる。

例えば、本発明のネガ型感光性樹脂は、芳香環に不飽和
基を有する樹脂とビスアジド系化合物及び添加物とを溶
剤に溶解し、Ｏ１２７１ｍのフィルターで濾過すること
により調整される。感光性樹脂溶液をシリコンウェハー
等の基板上あるいはシリコンウェハー上にハードベーク
した樹脂上にスピンコードし、プレベークすることによ
って感光性樹脂膜が得られる。その後、プロキシミテイ
ーアライナー、ミラープロジェクシシン、電子線露光装
置等にて露光を行い、現像することによってレジストパ
ターンを形成できる。現像液としては、エチレングリコ
ールモノアルキルエーテル及びそのアセテート類、プロ
ピレングリコールモノアルキルエーテル及びそのアセテ
ート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル票、
メチルエチルゲトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン等のケトン票、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
酢酸エステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類及びエタノール、イン１０パノール等のアルコール
票の単独あるいは２種以上の混合溶媒を用いることがで
きる。塗布、アレベーク、露光、現像等その池の手法は
常法に従うことができる。

［実施ＦＡ］以下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。

合成鋼重３００ｍ１の４ツロフラスコに、クロロメチルｆヒポリ
スチレン（重量平均分子量２．４Ｘ１０’分散度（重量
平均分子量／数平均分子量）＝１２０５クロロメチル化
率４０％）５．０ｇ、メタクリル酸カリウム２．０ｇ及
びジメチルスルホキシド１００ｍ１を仕込み、５０℃に
て、４時間撹拌しな１反応後、沈澱物をＰ別し、Ｐ液を
水／メタノール（１／１重量比）中に添加し、樹脂を沈
澱させ、濾過、水洗を行った。その後、再度、樹脂をテ
トラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈澱させ、
？過、洗浄、乾燥を行った。収量は４７ｇであった。Ｇ
ＰＣによる分析を行うと、ｔｉ平均分子量は２．９Ｘ１
０’　、分散度１．３８であった、また、ゲル成分に由
来するピークは検出出来なかった０元素分析値はＣ：８
３．６％、Ｈ；７．２％、Ｃ１，１，０％であった。

合成例２３００ｍ１の４ツロフラスコに、クロロメチル化ポリス
チレン（重量平均分子量２．４ＸＩＯ’分散度（重量平
均分子量／数平均分子量）＝１゜２０、クロロメチル化
率４０％＞５．０ｇ、メタクリル酸カリウム１．Ｏｇ及
びジメチルスルホキシドｌ　ＯＯＩｌｒを仕込み、５０
℃にて、４時間撹拌した０反応後、沈澱物をｒ別し、Ｐ
液を水／メタノール（１／１重量比）中に添加し、樹脂
を沈澱させ、濾過、水洗を行った。その後、再度、樹脂
をテトラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈澱さ
せ、−過、洗浄、乾燥を行った。収量は４゜４ｇであっ
た。ＧＰＣによる分析を行うと、重量平均分子量は２．
６・ＸＩＯ’、分散度１．２９であった。また、ゲル成
分に由来するピークは検出出来なかった０元素分析値は
Ｃ：８２．７％、Ｈニア、０％、ＣＪｌ、６．２％であ
った。

合成例３３００ｍｌの４ツロフラスコに、クロロメチル化ポリス
チレン（Ｍ量子均分子ｆｆ１２．４ＸＩＯ’分散度（重
量平均分子量／数平均分子量）＝１゜２０、クロロメチ
ル化率４０％）５．０ｇ、クロトン酸カリウム２．０ｇ
及びジメチルスルホキシド１００ｍ１を仕込み、５０℃
にて、６時間攪拌した１反応後、沈澱物をＰ別し、Ｐ液
を水／メタノール（１／１ｍ！量比）中に添加し、樹脂
を沈澱させ、Ｐ通、水洗を行った。その陵、再度、樹脂
をテトラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈澱さ
せ、−過、洗浄、乾燥を行った。収■は４６９ｇであっ
た。ＧＰＣによる分析を行うと、重量平均分子量は３．
０ＸＩＯ’　、分散度１．４０であった。また、ゲル成
分に由来するピークは検出出来なかった０元素分析値は
Ｃ；８３．３％、Ｈ，７，１％、Ｃｊ：１．４％であっ
た。

合成Ｐｓ４３００ｍｌの４ツロフラスコに、クロロメチル化ポリス
チレン（重量平均分子量２．４ＸＩＯ’分散度（！！重
量平均分子量／数平均分子量＝１２０、クロロメチル化
ｌＸ４０％＞５．０ｇ、クロトン酸カリウム１．Ｏｇ及
びジメチルスルホキシド１００ｍ１を仕込み、５０℃に
て、４時間撹拌した０反応後、沈１ｊ１１＠をＰ別し、
Ｐ液を水／メタノール（１／１重量比）中に添加し、樹
脂を沈澱させ、濾過、水洗を行った。その後、再度、樹
脂をテトラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈澱
させ、濾過、洗浄、乾燥を行った。収量は４゜１ｇであ
った。ＧＰＣによる分析を行うと、重量平均分子量は２
．６Ｘ１０’　＋分散度１．３５であった。また、ゲル
成分に由来するピークは検出出来なかった０元素分析値
はＣ；８２．５％。

Ｈ二６．９％、Ｃｊ　；６．５％であった。

合成例５３００ｍｌの４ツロフラスコに、クロロメチル化ポリス
チレン（重量平均分子量２．４ＸＩＯ’分散度（重量平
均分子量／数平均分子量）＝１゜２０、クロロメチル化
率４０％）５．０ｇ、α−アクリル酸カリウム１．５ｇ
及びジメチルスルホキシド１００ｍ１を仕込み、５０℃
にて、４時間撹拌した０反応後、沈澱物をＰ別１−１ｐ
液を水／メタノール（１７１重量比）中に添加し、樹脂
を沈澱させ、濾過、水洗を行った。その決、再度、樹脂
をテトラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈澱さ
せ、濾過、洗浄、乾燥を行った。収量は４．３ｇであっ
た。　、Ｇ　Ｐ　Ｃによる分析を行うと、重量平均分子
量は２．５Ｘ１０’　、分散度１．】５であった。また
、ゲル成分に由来するピークは検出出来なかっな０元素
分析値はＣ，７７，９％、Ｈ；６．３％、ＣＪｌ、１０
．１％であった。

合成例６５００　ｍｌの４ツロフラスコに、ポリスチレン（重量
平均分子量９．６Ｘ１０’　、分散度（重量平均分子量
／数平均分子量）＝１．０６）２０゜０ｇ、クロトン酸
クロライド６．５ｇ、塩化アルミニウム８．０ｇ及び二
硫化炭素３００　ｍｌを仕込み、１５℃にて、２５時間
撹拌した１反応後、沈澱物をＰ別し、Ｐ液を水、／メタ
ノール（１／１重量比）中に添加し、樹脂を沈澱させ、
濾過、水洗と行った。その後、再度、樹脂をテトラヒド
ロフランに溶解し、メタノール中に沈澱（溶解／沈澱と
２度縁り返す）させ、−過、洗浄、乾燥を行った。収量
は１７．５ｇであった。ＧＰＣによる分析を行うと１重
ｌ平均分子量は１．２Ｘ１０５分敢度１２２であった。

また、ゲル成分に由来するピークは検出出来なかった０
元素分析値はＣ：９１．６％、Ｈニア、４％であった。

合成例７３００ｍ１の４ツロフラスコに、常法に従い合成したク
ロロメチル化ポリビニル−１−ナフタレン（重量平均分
子量ｉ、５Ｘ１０’　、分散度（重量平均分子量／数平
均分子量）＝１．２５、クロロメチル化率４０％）５．
０ｇ、クロトン酸カリウム１．３５ｇ及びジメチルスル
ホキシド１００ｍ１分仕込み、５０℃にて、５時間撹拌
した３反応後、沈ａ物をＰ別し、ｐ液を水／メタノール
（１、／　１重量比）中に添加し、樹脂を沈澱させ、濾
過、水洗を行った。その後、再度、樹脂をテトラヒドロ
フランに溶解し、メタノール中に沈澱させ、濾過、洗浄
、乾燥を行った。収量は４．５ｇであった。

Ｇ　Ｐ　Ｃによる分析を行うと１重ｌ平均分子量は１．
９Ｘ１．Ｏ’、分散度１．３０であった。また。

ゲル成分に由来するピークは検出出来なかった。

元素分析値はＣ；８６．６％、Ｈ＋６．３％、Ｃｊ：１
．５％であった。

実施例１合成Ｐｉ４１で得られた樹脂３．０ｇと２．６−ビス（
４゛−アジドベンザル）−４−メチルシクロへキサノン
０．０１５ｇとをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μｍ
のミクロフィルターにて濾過を行い、感光性樹脂溶液と
した。この感光性樹脂溶液を用いてスピナーで４インチ
ウェファ−上に塗布し、８０℃、２５分間循環恒温槽に
てプリベークを行い１．０μｍ膜厚のレジスト膜を得た
０次にＰＬＡ５０１　（キャノン）を用いて、マスクを
通してソフトコンタクト露光した。現像液として、酢酸
イソアミルを用いて、２５℃、１分間振どう現像を行っ
た。３．０重１ｍライン／スペースを１灯１に現像する
露光量は１４０　ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　”で゛あった。

丈な、解像度は２．５μｍライン／スペースまで解像で
きた。

また、１μｍｙＬで、塗布、ベーク、露光後の４００ｎ
ｍにおける透過率は９８．０％であった。

さらに、ドライエツチング装置ＤＥＭ−４５１型（Ｂ！
アネルバ社製）を用いてＣＦ、ガスによる反応性スパッ
タリングに対するドライエツチング耐性試験を行ったと
ころ、エツチング速度６５０Ａ／ｍｉｎ、であった、比
較として、クロロメチル化ポリスチレンについて、同様
の試験を行ったところ、そのエツチング速度は５５０Ａ
／ｍｉｎ　であった。

実施例２合成例２で得られた樹脂３．０ｇと２，６−ビス（４゛
−アジドベンザル）−４−メチルシクロへキサノン０．
０１５ｇとをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μｍのミ
クロフィルターにて濾過を行い、感光性樹脂溶液とした
。実施例１に従い、レジスト機能評価を行ったところ、
３．０μｍライン／スペースを１対１に現像する露光量
は２０Ｏｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　”であった、また、解像
度は２０μロ１ライン／スペースまで解像できた。

実施例３合成１１Ｎ３で得られた樹脂３．０ｇと２，６−ビス（
４−−アジドベンザル）−４−メチルシクロへキサノン
０．０１５ｇとをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μｍ
のミクロフィルターにて濾過を行い、感光性樹脂溶液と
した。実施例１に従い、レジスト機能評価を行ったとこ
ろ、３．０μｍライン／スペースを１対１に現像する露
光量は１５０　ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　”であった、また
、解像度は２．５μｍライン／スペースまで解像できた
。

実施例４合成例４で得られた樹脂３．０ｇと２，６−ビス〈４−
−アジドベンザル）−４−メチルシクロへキサノン０．
０１５ｇとをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μｍのミ
クロフィルターにて濾過を行い、感光性樹脂溶液とした
。実施例ｌに従い、レジスト機能評価を行ったところ、
３．０μｍライン／スペースをｌ対ｌに現像する露光量
は２３Ｏｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　”であった、また、解像
度は２．５μｍライン／スペースまで解像できた。

実施例５合成ｙ４５で得られた樹脂３．０ｇと２．６−ビス（４
゛−アジドベンザル）−４−メチルシクロへキサノン０
．０１５ｇとをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μｍの
ミクロフィルターにて濾過を行い、感光性樹脂溶液とし
た。実施例１に従い、レジスト機能評価を行ったところ
、３．０７ｔｍライン／スペースを１対１に現像する露
光量は１００　ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　”であった、また
、解像度は２．５μｍライン／スペースまで解像できた
。

実施例６合成ＦＮ６で得られた樹脂３．０ｇと２．６−ビス（４
゛−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノンＯ
，０１５ｇとをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μｍの
ミクロフィルターにて一過を行い、感光性樹脂溶液とし
た。実施例１に従い。

レジスト機能評価を行ったところ、３．０μｍライン／
スペースを１対１に現像する露光量は４５Ｏｍ　Ｊ　／
’　ｃ　ｍ　”であった、また、解像度は２．５μｍ口
ライン／スペースまで解像できた。

実１ｉ１例７合成例７で得られた樹脂３．Ｏｇと２．６−ビス（４“
−アジドベンザル）−４−メチルシクロへキサノン０．
０１５ｇとをキシレン２０ｇに溶解し、０２μｍのミク
ロフィルターにて濾過を行い、感光性樹脂溶液とした。

実施例１に従い、レジスト機能評価を行ったところ、３
．０μｍライン／スペースを１対１に現像する露光量は
１８０　ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　２であった。また、解像
度は２．５μｍライン／スペースまで解像できた。

〔発明の効果コ本発明の芳香環に不飽和基を有する樹脂とビスアジド系
化合物からなるネガ型感光性樹脂は、可視光域で透明で
、耐ドライエツチ性を有し、高感度かつ解像性に優れた
レジスト機能ご有しており、固体ｌｊｌ像素子及び半導
体Ｓ積回路素子等に使用されるコーテイング材及び平滑
用樹脂ζして好適である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ポリマーと添加剤とからなるネガ型感光性樹脂に
おいて該ポリマーが下記（１）式においてＲが不飽和二
重結合を含む基からなる構造単位を含有することを特徴
とするネガ型感光性樹脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼（１）（Ａはベンゼン環及び／又はナフタレン環、ＢはＨ、Ｃ
１〜４のアルキル基を示す。）
（２）請求項１記載の該ポリマーが下記（２）式に示さ
れる不飽和二重結合からなる構造単位を含有することを
特徴とするネガ型感光性樹脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼（２）（Ａ＿１、Ａ＿２はベンゼン環及び／又はナフタレン環
、Ｂ＿１、Ｂ＿２はＨ、Ｃ１〜４のアルキル基を示し、
Ｒ＿１は ▲数式、化学式、表等があります▼ 及び／又は ▲数式、化学式、表等があります▼ を、Ｒ＿２はＨ、ＣＨ＿２Ｚを示す、ＸはＨ、Ｃ１〜Ｃ
４のアルキル基、シアノ基、ハロゲンを示し、ＹはＨ、
Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基を示し、Ｚはハロゲンを示す、
　ｍ／（ｍ＋ｎ）＝０．０１〜１．０である。）
（３）添加剤がビスアジド系化合物であることを特徴と
する請求項１記載のネガ型感光性樹脂。