JPH0311350A - ネガ型感光性塗膜材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、紫外線、遠紫外線、電子線、ＸＩＩ等の放射
線に感応するレジスト機能を有し、４００ｎｍ以上の光
に対して透明なコーテイング材及び平滑用樹脂として用
いることのできるネガ型感光性塗膜材に関するものであ
る。

［従来の技術］ 近年、撮像素子を使用したカラービデオカメラの普及に
伴い高画質撮像素子の需要が高まりつつある。この固体
撮像素子には基本型としてＣＣＤ型とＭＯＳ型がある。

これらの素子を製造する時ＣＣＤ或いはＭＯＳチップ上
にカラーフィルター？設ける必要がある。このフィルタ
ーを設ける方法に以下の２つの方法がある。即ち。

Ｎ）ＣＣＤ或いはＭＯＳチップ上へガラス板に形成した
カラーフィルターを貼り合わせる方法。

（貼り合わせ法） （２１ＣＣＤ或いはＭＯＳチップ上に染色法でカラーフ
ィルターを直接形成し積み重ねる方法、（オンチップ法
） 貼り合わせ法はカラーフィルターとＣＣＤ或いはＭＯＳ
チップとの合わせ精度を２μｍ以下にする必要が有り、
高画質化への対応が困難である。

更に、貼り合わせ面に泡が残るとのｒ：ＩＭが多々発生
するため、歩留まりがそれほど向上しないという問題点
を抱えており、最近はオンチップ法へと移行しつつある
。

Ｃ発明が解決しようとする課題］ 一方、オンチップ法は貼り合わせ法に比べて精度良く製
造出来るメリ・ｌトはあるが、チップ上に覆み重ねてい
くため段差が生じ均一な厚みのカラー層を作りにくいと
の問題点がある。従って、平坦化のため、カラー層とカ
ラー層とのインターミキシングを避けるために中間層を
設ける必要があり、ポリグリシジルメタクリレート（Ｐ
ＧＭＡ）タイグ或いは変性Ｐ　Ｇ　Ｍ　Ａタイプが使用
されている。これらの材料は可視光域で透明であり、加
熱することにより溶剤不溶化を起こし５遠紫外光の照射
でポジレジストとしての特性を示すなめ２現在一般に保
護膜、平滑膜として使用されているが、５度が悪い、耐
ドライエツチング性も悪い、平滑性もそれほど良くない
、更に露光部にレジストの現像残が発生しやすいとの問
題点を抱えている。

さらに、ＰＧＭＡの側鎖にシンナモイル基を導入したタ
イプは遠紫外線に対して硬化し、同様に保護膜、平滑膜
に使用できるが、耐ドライエツチング性が悪い、また、
撮像素子の表皮の保Ｍ膜には、可視光域での透明性が高
く、高感度、高ドライエツチング耐性を有した材料が要
求されているが、いまだ満足のいく材料は見出だされて
いない。

本発明の目的は上記した従来技術の問題点を克服し、可
視光域で透明で、耐ドライエツチング性を有し、高恐度
かつ解像性に優れたレジストＩｆ！！能と有したコーテ
イング材及び平滑用樹脂を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは、このような背景をもとに鋭意研究を重ね
た結果、ベースポリマーに芳香環を有したポリマーを用
い、その芳香環に不飽和基を持った置換基をつけ、かつ
添加剤を用いることにより上述の問題点を解決できるこ
とを見出だし本発明に到達した。

即ち、該樹脂が下記（１）式においてＲが不飽和二重結
合を含む基からなる構造単位を含有することを特徴とす
る樹脂と添加剤とからなるネガ型感光性塗膜材を提供す
ることにある。

−ＣＨ，−Ｃ− （１） （Ａはベンゼン環及び／又はナフタレン環　ＢはＨ，Ｃ
１〜４のアルキル基を示す、） 特に、下式（２）に示すような不飽和二重結合を基本と
する骨格であり、添加剤を加えることを特徴とするもの
である。

Ｂｔ　　　　　　　　　Ｂｉ ■ −（ＣＨＩ−Ｃ）、−（ＣＨｉ−Ｃ）。

（２） Ａ＋ ２ Ｒ＋　　　　　　　　　　　　Ｒｘ （Ａ＋、Ａｚはベンゼン環及び／又はナフタレン環、Ｂ
ｒ、ＢｘはＨ，Ｃ１〜４のアルキル基と示し、Ｒ１は １ ＣＨｚ　　−○ｃｃｘ＝ｃｙ 及び／又は ＣＣＸ＝ＣＹ と、Ｒ２はＨ，ＣＨ，Ｚを示す、ＸはＨ，Ｃ，１〜Ｃ４
のアルキル基、シアノ基、ハロゲンを示し、ＹはＨ，Ｃ
１〜Ｃ４のアルキル基を示し、Ｚは）１０ゲンを示す、
ｍ／　（ｍ＋ｎ＞＝０．０１〜１゜０である。） なお２上式における３　ｇ　、９　ｚ　、ｘ、Ｙのアル
キル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基等を、Ｘ、Ｚのハロゲンとしてはフッ素、塩素、
臭素、ヨウ素等を挙げることができる。

本発明における芳香環に不飽和基を有する樹脂の合成方
法には、特に限定はないが、例えば以下の方法で合成で
きる。

ハロゲノメチル化ポリスチレンあるいはノ１０ゲノメチ
ル化スチレン／スチレン共重合体と一般式（３） ％式％（３） （Ｘは）（，０１〜Ｃ４のアルキル基、シアノ基、ハロ
ゲンを示し、ＹはＨ，Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基３示す、
Ｍｌ、ｔＮａ、にのアルカリ金属塩、アンモニウム塩を
示す、） とをジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドのよ
うな非プロトン性極性溶媒中にて、３０〜１００℃で２
〜２０時間反応した後、メタノール／水中にてポリマー
を沈澱させることによって得られる。

また、ポリスチレン及び／又はポリα−メチルスチレン
と一般式（４） ％式％（４） （ＸはＨ，Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、シアン基、ハロゲ
ンを示し、ＹはＨ，Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基を示す、Ｚ
はハロゲンを示す、） とを二硫化炭素、ニトロベンゼン、クロロポルム等の溶
媒中にて塩化アルミニウム、塩化第二＃等を触媒として
、フリーデルクラフッ反応を行うことによっても合成で
きる。

本発明における二重結合の導入率には特に限定はないが
、スチレンに対して１〜１００ｍｏ１％、好ましくは５
〜５０ｍｏ１％の導入の場合、特性が優れている。また
、分子量に関しても、特に限定はないが、１１量平均分
子量が５０００〜１００ｏｏｏｏ　＜ポリスチレン換算
）が好ましい、さらに、反応の原料になるポリスチレン
、ポリα−メチルスチレン、ハロゲノメチル化ポリスチ
レンの重合方法は公知のラジカル重合、イオン重合の手
法によって得られる。特に、リビングアニオン重合によ
って２．ＩＷ料ポリマーを合成した場合には、本発明の
最終生成物の特性が一段と向上する。

本発明の添加剤は本発明のｆＭ脂と均一に溶解し、紫外
線、遠紫外線、を子線、Ｘ線等の放射線に対して感応し
、４００ｎｍ以上の可視光域で透明である必要があり、
例えば、ジメチルアニリン、Ｏ−ニトロジメチル−ｌニ
リン５ｍ−二トロジメチルアニリン、ｐ−二トロジメチ
ルアニリン、ビクラミド、２−クロロ−４−二トロジメ
チルアニリン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４
．４゛〜テトラメチルジアミノベンゾフエノン。

４．４゛−テトラエチルジアミノベンゾフェノン、２−
ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安
息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安
息香酸イソアミル、４−ジメヂルアミノ安息＃酸２−エ
チルヘキシルのうち少なくともＩＮ以上含有しているこ
とが望ましい、また、上記の添加剤に増感剤等の他の添
加剤を加えてもよい０水添加削の特徴は酸素障害の影響
が極めて小さいことにあり、酸素雰囲気での露光に適し
ている。特に、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４
，４−−テトラメチルジアミノベンゾフェノン、４．４
−ジエチルアミノベンゾフェノンは、現夜露光装置の中
で最も一般的に使用されている縮小投影露光装置で露光
する際に、極めて優れた効果を発揮する。また、これら
の添加剤とベンゾフェノンとの組み合わせも非常に効果
的な添加剤である。添加剤の添加量は特に限定はないが
、４００ｎｍ以上の可視光に対して透明な範囲内で添加
する必要があり、樹脂ｌ１００ｔ部に対して、０．１〜
３０重量部が好ましい。

本発明のネガ型感光性塗膜材は、樹脂及び添加剤を固形
分が５〜３０重量部になるように適当な溶剤に溶解して
得られる。溶剤としては、例えば、エチレングリコール
モノアルキルエーテル及びそのアセテート類、プロピレ
ングリコールモノアルキルエーテル及びそのアセテート
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル票、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン蔑、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸
エステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−
メチルピロリドン等が挙げられる。これらの溶剤は単独
あるいは２Ｎ以上混合して用いることができる。また、
必要に応じて、塗布性を改良するために、ノニオン系、
フッ素系、ンリコン系等の界面活性剤を添加することが
できる。さらに、必要があれば他の相溶性のある添加物
を配合することができる。

［作用］ 本発明の芳香環に不飽和基を有する樹脂と添加剤とから
なるネガ型感光性塗膜材は、可視光域で透明であり、紫
外線、遠紫外線、電子線、ｘｌｌ等によるレジストパタ
ーン形成のために用いることができ、感度、解像度、耐
ドライエツチング性に優れている。特に、酸素障害の影
響が極めて小さく、縮小投影露光装置の露光に適してい
る。

本発明の芳香環に不飽和基を有する樹脂と添加剤とから
なるネガ型感光性塗膜材を用いて放射線照射によるレジ
ストパターンを形成する際の使用法には格別の限定はな
く慣泪の方法に従って行うことができる。

例えば、本発明のネガ型感光性塗膜材は、芳香環に不飽
和基を有する樹脂と添加剤とを溶剤に溶解し、０．２μ
ｍのフィルターでＰ通することにより調整される。感光
性樹脂溶液をシリコンウエバー等の基板上あるいはシリ
コンウェハー上にハードベークした樹脂上にスピンコー
ドし、プレベークすることによって感光性樹脂膜が得ら
れる。

その後、縮小投影露光装置、１０キシミテイーアライナ
ー、ミラープロジェクション、電子線露光装置等にて露
光を行い、現像することによってレジストパターンを形
成できる。現像液としては。

エチレングリコールモノアルキルエーテル及びそのアセ
テート蔑５プロピレングリコールモノアルキルエーテル
及びそのアセテート類、ジエチレングリコールジアルキ
ルエーテル類、メチルエチルクトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、
酢酸ブチル等の酢酸エステル類、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水ｇ類及びエタノール、インプロパツール
等のアルコール類の単独あるいは２種以上の混合溶媒を
用いることができる。塗布、プレベーク、露光、現像等
その池の手法は常法に従うことができる。

［実施例］ Ｕ下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本
発明はこれｔ）に限定されるものではない。

合成例１ ３００　ｍｌの４ツロフラスコに、クロロメチル化ポリ
スチレン（１量平均分子量２．４Ｘ１０’分散度（重量
平均分子量／数平均分子量）＝１２０、クロロメチル化
率４０％＞５．０ｇ、メタクリル酸カリウム２．０ｇ及
びジメチルスルホキシド１００＋＋＋１を仕込み、５０
℃にて、４時間撹拌した８反応後、沈澱物をＰ別し、Ｐ
液を水／メタノール（１／１重量比）中に添加し、樹脂
２沈澱させ、濾過、水洗を行った。その後、再度、樹脂
をテトラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈澱さ
せ、濾過、洗浄、乾燥を行った。収量は４゜７ｇであっ
た。ＧＰＣによる分析を行うと、重量平均分子量は２．
９Ｘ１０’　、分散度１．３８であった。また、ゲル成
分に由来するピークは検出出来なかった０元素分析値は
Ｃ：８３．６％、Ｈ，７，２％、Ｃｌ；１．０％であっ
た。

合成例２ ３００ｍ１の４ツロフラスコに、クロロメチル化ポリス
チレン（重量平均分子量２．４ＸＩＯ’分散度（重量平
均分子量／Ｔ＆平均分子量）＝１゜２０、クロロメチル
化率４０％）５．０ｇ、メタクリル酸カリウム１．０ｇ
及びジメチルスルホキシド１００ｍ１を仕込み、５０℃
にて、４時間撹拌した０反応後、沈澱物をＰ別し、Ｐ液
を水／メタノール（１／１重量比）中に添加し、樹脂を
沈澱させ、濾過、水洗を行った。その擾、再度、樹脂を
テトラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈澱させ
、濾過５洗浄、乾燥を行った。収量は４゜４ｇであった
。ＧＰＣによる分析を行うと、重量平均分子量は２．６
Ｘ１０う、分散度１．２９であった。また、ゲル成分に
由来するピークは検出出来なかった０元素分析値はＣ，
８２，７％、Ｈ，７，０％、Ｃｊ、６．２％であった。

合成例３ ３００　ｍｌの４ツロフラスコに、クロロメチル化ボリ
スチ１ノン（重量平均分子量２．４ＸＩＯ’分散度（重
量平均分子量／数平均分子量）＝１２０、クロロメチル
化率４０％）５０ｇ、クロトン酸カリウム２．０ｇ及び
ジメチルスルホキシド１００ａｌを仕込み、５０℃にて
、６時間攪拌した０反応後、沈澱物をＰ別し、Ｐ液を水
／メタノール（１／１重量比）中に添加し、樹脂を沈澱
させ、濾過、水洗を行った。その後、再度、樹脂をテト
ラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈澱させ、濾
過、洗浄、乾燥を行った。収量は４゜９ｇであった。Ｇ
ＰＣによる分析を行うと、重量平均分子量は３．０ＸＩ
Ｏ’　、分散度１．４０であった。また、ゲル成分に由
来するピークは検出出来なかった０元素分析値はＣ；８
３．３％、Ｈ，７，１％、（１，１，４％であった。

合成例４ ３００　ｍｌの４ツロフラスコに、クロロメチル化ポリ
スチレン（重量平均分子量２．４ＸＩＯ’分散度（重量
平均分子量／数平均分子量）＝１゜２０、クロロメチル
化率４０％＞５．０ｇ、クロトン酸カリウム１．０ｇ及
びジメチｌレスルホキシド１．　ＯＯｍｌを仕込み、５
０℃にて、・１時間攪拌した０反応後、沈澱物を枦別し
、枦液を水／メタノール（１／１重量比）中に添加し、
樹脂を沈澱させ、濾過２水洗を行った。その後、再度、
樹脂をテトラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈
澱させ、濾過、洗浄、乾燥を行った。収量は４゜１ｇで
あった。ＧＰＣによる分析を行うと、重量平均分子量は
２．６Ｘ１０’　、分散度１．３５であった。また、ゲ
ル成分に由来するピークは検出出来なかった１元素分析
値はＣ，８２，５％。

Ｈ：６．９％、Ｃｊｌ、６．５％であった。

合成例５ ３００ｍｌの４ツロフラスコに、クロロメチル化ポリス
チレン（重量平均分子量２．４Ｘ１０’分散度（重量平
均分子量／数平均分子量）＝１゜２０、クロロメチル化
率４０％＞５．０ｇ、α−クロロアクリル酸カリウム１
．５ｇ及びジメチルスルホキシド１００ｍ１を仕込み、
５０℃にて、４時間攪拌した２反応後、沈澱物をｒ別し
、ｒ液を水／メタノール（１／１重量比）中に添加し、
樹脂を沈澱させ、濾過、水洗を行った。その後、再度、
樹脂をテトラヒドロフランに溶解し、メタノール中に沈
澱させ、濾過、洗浄、乾燥を行った。

収量は４．３ｇであった。ＧＰＣによる分析を行うと、
重量平均分子量は２．５Ｘ１０’　、分散度１．１５で
あった。また、ゲル成分に由来するピークは検出出来な
かった０元素分析値はＣニア７．９％、Ｈ；６．３％、
ＣＪＩ：１０．１％であった。

合成例６ ５００ｍ１の４ツロフラスコに、ポリスチレン（重量平
均分子量９．６Ｘ１０’　、分散度（重量平均分子量／
数平均分子量）＝１．０６）２０゜０ｇ、クロトン酸ク
ロライド６．５ｇ、塩化アルミニウム８．０ｇ及び二硫
化炭素３００　ｍｌを仕込み、１５℃にて、２５時間攪
拌した０反応後、溶液を水／メタノール（１／１重量比
）中に添加し、樹脂を沈澱させ、濾過、水洗を行った。

その後、再度、ｔＭ脂をテトラしドロフランに溶解し、
メタノール中に沈澱（溶解／沈澱を２度繰り返す）させ
、濾過、洗浄、乾燥を行った。収量は１７．５ｇであっ
た。ＧＰＣによる分析を行うと２重量平均分子量は１．
２Ｘ１０’　、分散度１．２２であった。また、ゲル成
分に由来するピークは検出出来なかった０元素分析値は
Ｃ，９１，６％、Ｈニア、４％であった。

合成例７ ３００ｍ１の４ツロフラスコに、常法に従い合成したク
ロロメチル化ポリビニル−１−ナフタレン（重量平均分
子量１．５Ｘ１０’　、分散度（重量平均分子量／数平
均分子量）＝１．２５、クロロメチル化率４０％）５．
０ｇ、クロトン酸カリウム１．３５ｇ及びジメチルスル
ホキシド１００１１１１を仕込み、５０℃にて、５時間
攪拌した１反応後、沈澱物をＰ別し、Ｐ液を水／メタノ
ール（１／１重量比）中に添加し、樹脂を沈澱させ、−
過、水洗を行った。その後、再度、樹脂をテトラヒドロ
フランに溶解し、メタノール中に沈澱させ、濾過、洗浄
、乾燥を行った。収量は４．５ｇであった。

ＧＰＣによる分析を行うと、重量平均分子量は１’、９
Ｘ１０’、分散度１，３０であった。また、ゲル成分に
由来するピークは検出出来なかった。

元素分析値はＣ；８６．６９≦、Ｈ；６．３ン≦、ＣＮ
：１．５％であった。

実施例１ 合成例１で得られた樹脂３．０ｇ、ベンゾフェノン０．
０９ｇ、４．４　’−テトラエチルジアミノベンゾフェ
ノン０．０９ｇをキシレン２０ｇに溶解し、０，２μｍ
のミクロフィルターにてＰ通を行い、感光性樹脂溶液と
した。この感光性樹脂溶液を用いてスピナーで４インチ
ウェファ−上に塗布し、８０℃、２５分間循環恒温槽に
てプリベークを行い１，０μｍ膜厚のレジスト膜を得た
。

次に５対１１線縮小投影露光装置（Ｎ、Ａ、＝０゜４２
）を用いて、レチクルを通して露光した。現像液として
、酢酸イソアミルを用いて、２５℃、１分間振とう現像
を行った。３．０μｍライン／スペースを１対１に現像
する露光量は７０ｍＪ／Ｃｍ’であった。また、解像度
は２．５μｍライン／スペースまで解像できた。

また、１μｍ厚で、塗布、ベーク、露光後の４００ｎｍ
における透過率は９６．０％であった。

さらに、ドライエツチング装置ＤＥＭ−４５１望（日電
アネルバ社製）を用いてＣＦ４ガスによる反応性スパッ
タリングに対するドライエツチング耐性試験を行ったと
ころ、エツチング速度６５０Ａ／ｍｉｎ、であった、比
較として、クロロメチル化ポリスチレンについて、同様
の試験を行ったところ、そのエツチング速度は５５０Ａ
／ｍｉｎ、であった。

実！ＩＳ２ 合成例２で得られた樹ｆｆ１３．０ｇ、ベンゾフェノン
０．０９ｇ、４．４−−テトラメチルジアミノベンゾフ
ェノン０．０９ｇをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μ
ｍのミクロフィルターにて一過を行い、感光性樹脂溶液
とした。実施鋼重に従い、レジスト機能評価を行ったと
ころ、３．０μｍライン／スペースを１対１に現像する
露光量は１３０　ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　２であった３丈
な、解像度は２．５μｍライン／スペースまで解像でき
た。

実ＲＰ！、例３ 合成例３で得られた樹脂３．０ｇと４，４テトラメチル
ジアミノベンゾフエノン０．０９ｇとをキシレン２０ｇ
に溶解し、０．２μｍのミクロフィルターにて濾過を行
い、感光性（支）脂溶液とした。実施例１に従い、レジ
スト機能評価と行ったところ、３．０μｍライン／スペ
ースを１対１に現像する露光量は５００　ｍ　Ｊ　／　
ｃ　ｍ　”であった。

また、解像度は２．０μｍライン／スペースまで解像で
きた。

実施例４ 合成例４で得られた樹脂３．０ｇ、ベンゾフェノン０．
０９ｇ、４，４−−テトラエチルジアミノベンゾフェノ
ン０．０９ｇをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μｍの
ミクロフィルターにて濾過を行い、感光性樹脂溶液とし
た。実施例１に従い、レジストｍ能評価を行ったところ
、３．０μｍライン／スペースを１対１に現像する露光
量は１８０　ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　”であった、また、
解像度は２．０μｍライン／スペースまで解像できた。

実施例５ 合成例５で得られた樹脂３．０ｇ、ベンゾフェノン０．
０９ｇ、４．４　’−テトラエナルジアミノベンゾフェ
ノン０．０９ｇをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μｍ
のミクロフィルターにて一過を行い、感光性樹脂溶液と
した。実施例１に従い、レジスト８！練評ｇＩを行った
ところ、３．０μｍライン／スペースを１対１に現像す
る露光量は７゜ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　”であった、また
、解像度は２．５μｍライン／スペースまで解像できた
。

実施例６ 合成例６で得られた樹脂３．０ｇ、ベンゾフェノン０．
０９ｇ、４，４゛−テトラメチルジアミノベンゾフェノ
ン０．０９ｇをキシレン２０ｇに溶解し、０．２μｍの
ミクロフィルターにて濾過を行い、感光性樹脂溶液とし
た。実施例１に従い。

レジスト機能評価を行ったところ、３．０μｍライン／
スペースを１対１は現像する露光量は３５０　ｍ　Ｊ　
／　ｃ　ｍ　”であった、また、解像度は２．５μｍラ
イン／スペースまで解像できた。

実施例７ 合成例７で得られた樹脂３．０ｇ、ベンゾフェノン０．
０９ｇ、４．４−デ１〜ラエチルジアミノベンゾフェノ
ン０．０９ｇをキシレン２０ｇに溶解し、０２μｍのミ
クロフィルターにて濾過を行い、感光性樹脂溶液とした
。実施例１に従い、レジスト機能評価を行ったところ１
．３．０μｍライン／スペースを１対１に現像する露光
量は１５０　ｍ　Ｊ　２／　ｃ　ｍ　”であった、また
、解像度は２．０μｍライン／スペースまで解像できた
。

［発明の効果］ 本発明の芳香環に不飽和基を有する樹脂と添加剤とから
なるネガ型感光性塗膜材は、可視光域で透明で、露光時
の酸素障害の影響が極めて小さく、耐ドライエツチング
性を有し、高感度かつ解像性に優れたレジスト機能を有
するため、固体撮像素子及び半導体集積回路素子等に使
用されるコーテイング材及び乎滑用樹脂として好適であ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 〔１〕ポリマーと添加剤とからなるネガ型感光性塗膜材
   において該ポリマーが下記（１）式においてＲが不飽和
   二重結合を含む基からなる構造単位を含有することを特
   徴とするネガ型感光性塗膜材。 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （Ａはベンゼン環及び／又はナフタレン環、ＢはＨ、Ｃ
   １〜４のアルキル基を示す。） 〔２〕請求項１記載の該ポリマーが下記（２）式に示さ
   れる不飽和二重結合からなる構造単位を含有することを
   特徴とするネガ型感光性塗膜材。 ▲数式、化学式、表等があります▼（２） （Ａ＿１、Ａ＿２はベンゼン環及び／又はナフタレン環
   、Ｂ＿１、Ｂ＿２はＨ、Ｃ１〜４のアルキル基を示し、
   Ｒ＿１は ▲数式、化学式、表等があります▼ 及び／又は ▲数式、化学式、表等があります▼ を、Ｒ＿２はＨ、ＣＨ＿２Ｚを示す、ＸはＨ、Ｃ１〜Ｃ
   ４のアルキル基、シアノ基、ハロゲンを示し、ＹはＨ、
   Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基を示し、Ｚはハロゲンを示す。 ｍ／（ｍ＋ｎ）＝０．０１〜１．０である。） 〔３〕添加剤が下記に示される化合物を少なくとも１種
   以上含むことを特徴とする請求項１記載のネガ型感光性
   塗膜材。 ジメチルアニリン、ｏ−ニトロジメチルアニリン、ｍ−
   ニトロジメチルアニリン、ｐ−ニトロジメチルアニリン
   、ピクラミド、２−クロロ−４−ニトロジメチルアニリ
   ン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４、４′−テ
   トラメチルジアミノベンゾフェノン、４、４′−テトラ
   エチルジアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ安
   息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブト
   キシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル
   、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル。 〔４〕添加剤が４−ジメチルアミノベンゾフェノン及び
   ／又は４、４′−テトラメチルジアミノベンゾフェノン
   及び／又は４、４′−テトラエチルジアミノベンゾフェ
   ノンであることを特徴とする請求項１記載のネガ型感光
   性塗膜材。 〔５〕添加剤が４−ジメチルアミノベンゾフェノン及び
   ／又は４、４′−テトラメチルジアミノベンゾフェノン
   及び／又は４、４′−テトラエチルジアミノベンゾフェ
   ノンとベンゾフェノンとの組み合わせからなることを特
   徴とする請求項１記載のネガ型感光性塗膜材。